TWM630754U - 沉浸式投影支架 - Google Patents
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Abstract
本創作係關於一種沉浸式投影支架,係至少包含:二腳架、一反射單元以及一投影雲台,該各腳架係具有一升降單元,該等腳架間係設有一距離調整單元,該反射單元係設於一腳架之升降單元上,該反射單元係至少為一凸面鏡,該投影雲台係設於另一腳架之升降單元上,該投影雲台係可供一投影機裝設固定,並使該投影機朝該反射單元照射投影,利用該反射單元凸面鏡之曲率,將該投影機投影之影像反射至一圓球形屏幕上,進而顯示一全景投影之影像,藉此達到提供一沉浸體驗使用之投影支架結構者。
Description
本創作係關於一種投影支架,尤指一種可調整投影高度及遠近距離,並供沉浸理論投影使用之支架結構者。
人們主要是藉由視覺以及聽覺作為主要感官,用以接收外在環境的事務及資訊,現今在藝術、影音、遊戲、教學或其他等多種領域中,為使人們完全投入吸收感受,不受其他部相關的外在因素干擾,故會以沉浸理論(又稱沉浸式體驗)引導人們進入沉浸狀態,該沉浸理論主要係藉由臨場感,讓人們感覺身入其境,誘發人們的興趣及好奇心,並使人們自主提高專注力,該沉浸理論除了採用VR技術(虛擬實境)之外,最常見地即是於一圓球形屏幕S上投影呈現,令使用者可藉由觀看投影於該圓球形屏幕S上的360度全景畫面,體會猶如身臨其境的感受。
但因一般投影機P所投影之畫面皆係為矩形或梯形(圖中未示),故在投影於該圓球形屏幕S上時,係必須搭配設有多台投影機P使用(如第1圖所示),並依該圓球形屏幕S的規模架設4至12台甚至更多之投影機P始能投影覆蓋該該圓球形屏幕S,並且必須利用一影像拼接技術軟體,將該等投影機P之投影影像拼接融合,消除重疊影像,始能完整呈現一360度全景的投影畫面,而若要轉移至另一圓球形屏幕S投影使用時,即必須再次架設
多台之投影機P,並以該影像拼接技術軟體重新測試運算,將該等投影機P之投影影像拼接融合(圖中未示),需要複雜且昂貴的軟體及硬體設備才能達到。
是以,如何改善上述問題,提供一種毋須使用影像拼接技術軟體,並減少投影機使用數量,供沉浸理論投影使用之結構或裝置,即為本創作之創作人所亟欲研究改善之方向所在。
故,本創作之創作人有鑑於上述缺失,乃搜集相關資料,經由多方評估及考量,並以從事於此行業累積之多年經驗,經由不斷試作及修改,始設計出此種新型專利者。
本創作之主要目的,係在提供一種沉浸式投影支架,係於兩腳架上各別設有一反射單元、一投影雲台,該反射單元係至少為一凸面鏡,該投影雲台係可供一投影機裝設固定,並使該投影機朝該反射單元照射投影,利用該反射單元凸面鏡之曲率,將該投影機之投影影像反射至一圓球形屏幕上,顯示出一全景投影之影像,藉此達到提供一沉浸體驗使用之投影支架結構者。
為達上述目的,本創作提供一種沉浸式投影支架,係至少包含:二腳架,各腳架係具有一升降單元,用以升降調整該腳架之高度,該等腳架之間係設有一距離調整單元,用以調整該等腳架之間距;一反射單元,該反射單元係設於一腳架之升降單元上,該反射單元係至少為一凸面鏡;以及,一投影雲台,該投影雲台係設於另一腳架之升降單元上,該投影雲台係可供一投影機裝設固定,並令該投影機朝該反射單元照射投影。
依據前述之主要特徵,其中該投影雲台更包含有至少一旋轉單元,該旋轉單元係設於該投影雲台底部,並樞接於其腳架之升降單元上。
依據前述之主要特徵,其中該升降單元及該距離調整單元係為伸縮桿體結構。
10:腳架
11:升降單元
12:距離調整單元
20:反射單元
21:凸面鏡
30:投影雲台
31:旋轉單元
P:投影機
S:圓球形屏幕
第1圖係為習知的沉浸式投影結構示意圖;
第2圖係為本創作之一種沉浸式投影支架的結構示意圖;
第3圖係為本創作之一種沉浸式投影支架的調整樣態結構示意圖;
第4圖係為本創作之一種沉浸式投影支架的實施示意圖一;
第5圖係為本創作之一種沉浸式投影支架的實施示意圖二。
為達成上述或其他目的及功效,本創作所採用之技術手段及構造,茲繪圖就本創作較佳實施例詳加說明其特徵與功能如下,俾利完全了解。
請參閱第2至5圖,第2圖係為本創作之一種沉浸式投影支架的結構示意圖;第3圖係為本創作之一種沉浸式投影支架的調整樣態結構示意圖;第4圖係為本創作之一種沉浸式投影支架的實施示意圖一;第5圖係為本創作之一種沉浸式投影支架的實施示意圖二。
如該等圖所示,本創作係提供一種沉浸式投影支架,該投影支架係至少包含:二腳架10、一反射單元20以及一投影雲台30,該反射單元20係設於一腳架10上,該反射單元20係至少為一凸面鏡21,該投影雲台
30係設於另一腳架10上,該投影雲台30係可供一投影機P以鎖附或夾固方式裝設固定,並使該投影機P朝向該反射單元20照射投影(如第2及3圖所示),藉由該反射單元20凸面鏡21之曲率,將該投影機P投影之影像反射至一圓球形屏幕S上(如第4及5圖所示),進而顯示出一全景投影之影像,藉此達到提供一沉浸體驗使用之投影支架結構者。
更詳細地說,該等腳架10係分別具有一升降單元11,該升降單元11係可用以升降調整該腳架10之高度,該反射單元20係設於一腳架10之升降單元11上,該投影雲台30係設於另一腳架10之升降單元11上,利用該等升降單元11可分別升降調整該反射單元20以及該投影雲台30之高度,且該等腳架10之間係設有一距離調整單元12,該距離調整單元12係用以調整該等腳架10之間距,可調整該反射單元20與該投影雲台30間之相對距離(如第2及3圖所示),藉此令使用者可依現場的使用需求,調整該反射單元20及該投影雲台30之高度或遠近距離(如第4及5圖所示),以提供最佳之投影焦距及其投影效果,且較佳地,該升降單元11及/或該距離調整單元12係採用伸縮桿體結構(如第2及3圖所示),但亦可採用其他可達同等功效之結構,於此敘明。
而在本創作一較佳實施例中,該投影雲台30更可包含有至少一旋轉單元31,該旋轉單元31係設於該投影雲台30底部,並係樞接於該腳架10之升降單元11上,令使用者可該旋轉單元31調整該投影雲台30之角度(如第2及3圖所示),藉此改變投影機P之投影角度,以此配合不同屏幕的投影角度需求。
綜上所述,本創作提供之沉浸式投影支架使用時,僅需將依
投影機P置於該投影雲台30上固定,並將該反射單元20對準該圓球形屏幕S後,藉由該升降單元11、該距離調整單元12及該旋轉單元31,調整為所需投影之高度、角度及遠近距離即可投影出全景影像,提供沉浸理論使用,具有結構簡單、架設方便等優點,可依使用需求即時搭建使用或撤收。
惟,以上所述僅為本創作之較佳實施例而已,非因此即拘限本創作之專利範圍,故舉凡運用本創作說明書及圖式內容所為之簡易修飾及等效結構變化,均應同理包含於本創作之專利範圍內,合予陳明。
10:腳架
11:升降單元
12:距離調整單元
20:反射單元
21:凸面鏡
30:投影雲台
31:旋轉單元
P:投影機
Claims (3)
- 一種沉浸式投影支架,係至少包含:二腳架,各腳架係具有一升降單元,用以升降調整該腳架之高度,該等腳架之間係設有一距離調整單元,用以調整該等腳架之間距;一反射單元,該反射單元係設於一腳架之升降單元上,該反射單元係至少為一凸面鏡;以及,一投影雲台,該投影雲台係設於另一腳架之升降單元上,該投影雲台係可供一投影機裝設固定,並令該投影機朝該反射單元照射投影。
- 如申請專利範圍第1項所述之沉浸式投影支架,其中該投影雲台更包含有至少一旋轉單元,該旋轉單元係設於該投影雲台底部,並樞接於其腳架之升降單元上。
- 如申請專利範圍第1項所述之沉浸式投影支架,其中該升降單元及該距離調整單元係為伸縮桿體結構。
Priority Applications (2)
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---|---|---|---|
TW111203551U TWM630754U (zh) | 2022-04-08 | 2022-04-08 | 沉浸式投影支架 |
CN202221986698.5U CN218630491U (zh) | 2022-04-08 | 2022-07-29 | 沉浸式投影支架 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111203551U TWM630754U (zh) | 2022-04-08 | 2022-04-08 | 沉浸式投影支架 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWM630754U true TWM630754U (zh) | 2022-08-11 |
Family
ID=83783118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW111203551U TWM630754U (zh) | 2022-04-08 | 2022-04-08 | 沉浸式投影支架 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN218630491U (zh) |
TW (1) | TWM630754U (zh) |
-
2022
- 2022-04-08 TW TW111203551U patent/TWM630754U/zh unknown
- 2022-07-29 CN CN202221986698.5U patent/CN218630491U/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN218630491U (zh) | 2023-03-14 |
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