TWM629143U

TWM629143U - 修補設備

Info

Publication number: TWM629143U
Application number: TW111202365U
Authority: TW
Inventors: 陳贊仁; 李孟霖; 林祈廷; 楊勝閔
Original assignee: 東捷科技股份有限公司
Priority date: 2022-03-09
Filing date: 2022-03-09
Publication date: 2022-07-01

Abstract

本創作的修補設備包括一基座、一第一承載裝置、第二承載裝置及一雷射修補裝置。基座包括一第一安裝區、一第二安裝區、一第一軌道、一第二軌道及一第三軌道。第二安裝區自第一安裝區向上延伸，第一軌道及第二軌道固定設置在第一安裝區。第三軌道設置在第二安裝區。第一承載裝置連接第一軌道，並用以承載一料盤。料盤包括一半導體元件。第二承載裝置連接第二軌道，並用以承載一電路基板。雷射修補裝置連接第三軌道，而可在第一承載裝置及第二承載裝置上方移動，雷射修補裝置用以將半導體元件電性連接至電路基板。

Description

修補設備

本創作與修補設備有關，特別是指一種半導體元件的修補設備。

光電元件所組成的面板需要使用巨量的發光二極體(LED)，這些發光二極體是矩陣密集地排列，因此，電性測試面板的功能後雖然可發現功能異常地發光二極體及其位置，但目前電性測試及修補需要透過不同的設備來進行，因此，輸送、取料及修補會浪費較多移動的製程時間。

再者，發光二極體的尺寸微小外，且各發光二極體也是緊密排列在一起，因此在維修上是非常困難的。

有鑑於上述缺失，本創作的修補設備將電路基板及料盤放置於同一設備上，並透過可移動的雷射修補裝置在電路基板及料盤上移動來實現修補電路基板上功能異常或缺漏半導體元件的位置。

為了解決上述缺失，本創作的修補設備包括一基座、一第一承載裝置、第二承載裝置及一雷射修補裝置。基座包括一第一安裝區、一第二安裝區、一第一軌道、一第二軌道及一第三軌道。第二安裝區自第一安裝區向上延伸，第一軌道及第二軌道固定設置在第一安裝區。第三軌道設置在第二安裝區。第一承載裝置連接第一軌道，並用以承載一料盤。料盤包括一半導體元件。第二承載裝置連接第二軌道，並用以承載一電路基板。雷射修補裝置連接第三軌道，而可在第一承載裝置及第二承載裝置上方移動，雷射修補裝置用以將半導體元件電性連接至電路基板。

如此，本創作的修補設備將料盤及電路基板同步放在相同設備上，來縮短移動所耗費的時間，進而提高修補的效率。

為了詳細說明本創作的技術特點所在，茲舉以下的實施例並配合圖式說明如後，其中：

如圖1所示，修補設備10包括一基座11、一第一承載裝置13、一第二承載裝置15及一雷射修補裝置17。基座11包括一第一安裝區111、一第二安裝區113、一第一軌道115、一第二軌道117及一第三軌道119。第二安裝區113自第一安裝區111向上延伸。第一軌道115及第二軌道117固定設置在第一安裝區111。第三軌道119固定設置在第二安裝區113。

第一承載裝置13連接基座11，且連接第一軌道115，並可沿著第一軌道115移動。第一承載裝置13用以承載料盤30，料盤30上包括多個陣列排列的半導體元件，例如光電元件或積體電路等，料盤30可以是晶圓。半導體元件是微型元件，也就是說半導體元件的其中一尺寸是小於150微米(um)。

第二承載裝置15連接第二軌道117，並可沿著第二軌道117移動。第二承載裝置15用以承載及測試電路基板50。測試是透過電源或信號來檢查電路基板50的功能。其他實施例中，測試功能也可以透過其他設備進行。

電路基板50包括基板本體、導電線路及多個半導體元件。基板本體的材料例如玻璃、聚亞醯胺(Polyimide, PI)等。導電線路形成於基板本體上。半導體元件電性連接導電線路。

雷射修補裝置17連接基座11，且連接第三軌道119，並可沿著第三軌道119移動，而在第一承載裝置13及第二承載裝置15上移動。雷射修補裝置17移動在第一承載裝置13上方以取得半導體元件，雷射修補裝置移動在第二承載裝置上方可選擇移除電路基板的半導體元件或重新連接半導體元件。

如此，第一承載裝置13及第二承載裝置15可在承載對應的料盤30及電路基板50後，透過第一軌道115及第二軌道117移動雷射修補裝置17下方，接著，雷射修補裝置17只需在料盤30及電路基板50上方進行短行程的移動即可實現有效率的運行。再者，第一承載裝置13及第二承載裝置15可獨立運行，來重新承載料盤30及電路基板50。其中，上述各軌道的數量可以更多，而不以本實施例每一裝置配合一軌道為限。

如圖2所示，雷射修補裝置17包括安裝座171、雷射系統173及取料系統175。雷射系統173及取料系統175連接安裝座171。

雷射系統173用以投射雷射光束，雷射光束的光斑較佳是矩形形狀，以提供均勻的能量。

取料系統175包括一膠帶176、一輸送模組177及一推動模組179。輸送模組177連接膠帶176，且用以輸送膠帶176。本實施例中，輸送模組177包括一第一滾筒1771、一第二滾筒1773、一第三滾筒1775及二定位滾筒1777。膠帶176的一端連接第一滾筒1771，膠帶176的另一端連接第二滾筒1773，第一滾筒1771及第二滾筒1773是透過滾動來輸送膠帶176。

本實施例中，第一滾筒1771用以供應膠帶176，第二滾筒1773用以回收膠帶176。第三滾筒1775接觸膠帶176，且用以調整膠帶176的輸送方向。二定位滾筒1777是接觸膠帶176，以使膠帶176在二定位滾筒1777之間形成一平整區。其他實施例中，輸送模組177可以有更多滾筒或較少滾筒，且平整區的範圍可透過二定位滾筒1777來調整。

膠帶176包括一基材及一黏膠層，膠帶176例如聚醯亞胺(PI)膠帶或熱解膠膠帶(Thermal Release Tape)等。黏膠層連接本體層，且面對第一安裝區。

推動模組179用以推動輸送模組177所輸送的膠帶176，推動模組179包括一升降單元1791及一按壓件1793。按壓件1793連接升降單元1791，且隨著升降單元1791向上或向下移動，以使按壓件1793向下移動來推動膠帶176，及按壓件1793向上移動以放開膠帶176。按壓件1793位在平整區上，且用以按壓膠帶176。推動模組179用以由上向下移動來推動膠帶176，以使膠帶176向下變形來黏取半導體元件。雷射光束穿過推動模組179及膠帶176。

如圖3及圖4所示，按壓件1793包括一結合塊1795及一接觸塊1797。結合塊1795連接升降單元1791。接觸塊1797連接結合塊1795。接觸塊1797自結合塊1795的側邊徑向突伸，且包括一頭部1798及一窗口1799，頭部1798形成於接觸塊1797的突伸末段，窗口1799形成於頭部1798。雷射光束投射路徑是穿過窗口。頭部1798包括一頂斜面17981、一底面17983及二凸部17985。窗口1799是貫穿頂斜面17981及底面17983。二凸部17985自底面向下凸出，且鄰近窗口1799周圍。二凸部17985之間的距離略大於半導體元件，以在按壓膠帶過程中利用膠帶下壓的力量讓半導體元件接觸電路基板的導電線路，並可避免二凸部17985下壓損壞半導體元件。

本實施例中，頭部1798略呈錐狀，窗口1799除了讓雷射系統173能有效的投射雷射光束外，更可讓雷射系統173有效的對焦來實現有效率的修補作業。

以上說明本創作的修補設備的組成，隨後透過圖5至圖13說明修補設備的運作。為了更容易理解本創作，圖5至圖13是簡化圖1中第一承載裝置13、第二承載裝置15及雷射修補裝置17的結構，並放大部分零件的尺寸。

當透過測試得到電路基板上的不良品的半導體元件的位置來進行修補程序時，表示需先將電路基板上的不良品的半導體元件移除，再重新連接良品半導體元件，不良品半導體元件位置被定義為修補位置。

雷射修補裝置進行移除作業，如圖5-7所示，圖5中雷射修補裝置17是先移動至第二承載裝置15上方，且對準修補位置，即電路基板50的不良品半導體元件51，然後，如圖6所示，按壓件1793被向下移動以推動膠帶176來黏貼修補位置中不良品半導體元件51，並透過雷射光束1731加熱不良品半導體元件51，以使不良品半導體元件51與電路基板50的導電線路解焊而被膠帶移除。如圖7所示，按壓件1793向上移動，而讓電路基板50的修補位置留下導電線路，且不良品半導體元件51被黏走。

接著，取料系統175重新取料作業，以取得良品半導體元件31，如圖8-10所示。如圖8所示，雷射修補裝置17移動至第一承載裝置13上，並隨著取料系統175的二定位滾筒1777滾動而讓膠帶176位移，來讓未被使用的膠帶176對準良品半導體元件31，接著，如圖9所示，按壓件1793再次向下移動以推動膠帶176黏取第一承載裝置13所承載的良品半導體元件31，隨後，如圖10所示，雷射修補裝置17向上移動而讓膠帶176取走良品半導體元件31。

最後，雷射修補裝置17進行修補作業，如圖11-13所示。如圖11所示，取料系統175重回修補位置，如圖12所示，透過雷射修補裝置17向下移動以使黏在膠帶176上的良品半導體元件31接觸導電線路，並藉由雷射光束1731加熱良品半導體元件31，來實現良品半導體元件31焊接在導電線路。焊接完成後，如圖13所示，按壓件1793向上移動，而使膠帶176與良品半導體元件31分離，修補作業後可再透過測試來確認是否修復完成。其中，圖9至圖12中按壓件1793的位置保持不變，以便於隨後的雷射焊接作業。

膠帶與良品半導體元件分離可藉由雷射光束的熱解膠來實現，或良品半導體元件焊接在導電線路的結合力量大於膠帶的黏著力來做分離。

透過上述實施例說明本領域技術人員可理解本創作的修補設備的技術及目的，因此，上述關於修補設備的配置亦能在硬體中透過數量或邏輯元件安排來改變來達成相同的技術及目的，因此，實施例中所說明的修補設備只是以本實施例中的說明，並非作為限制主張範圍的用意。

10:修補設備 11:基座 111:第一安裝區 113:第二安裝區 115:第一軌道 117:第二軌道 119:第三軌道 13:第一承載裝置 15:第二承載裝置 17:雷射修補裝置 171:安裝座 173:雷射系統 1731:雷射光束 175:取料系統 176:膠帶 177:輸送模組 1771:第一滾筒 1773:第二滾筒 1775:第三滾筒 1777:定位滾筒 179:推動模組 1791:升降單元 1793:按壓件 1795:結合塊 1797:接觸塊 1798:頭部 17981:頂斜面 17983:底面 17985:凸部 1799:窗口 30:料盤 50:電路基板 51:不良品半導體元件 31:良品半導體元件

有關修補設備的詳細構造、特點與其製作方法將於以下的實施例予以說明，然而，應能理解的是，以下將說明的實施例以及圖式僅只作為示例性地說明，其不應用來限制本創作的申請專利範圍，其中：

圖1是本創作的修補設備的立體圖。圖2是圖1中修補設備的雷射修補裝置的放大圖。圖3是圖2中雷射修補裝置的按壓件的立體圖。圖4是圖3中按壓件的頭部的圓圈處放大示意圖。圖5至圖7是圖1中第一承載裝置、第二承載裝置及雷射修補裝置的簡化示意，且表示執行移除作業的示意圖。圖8至圖10是圖1中第一承載裝置、第二承載裝置及雷射修補裝置的簡化示意，且表示執行取料作業的示意圖。圖11至圖13是圖1中第一承載裝置、第二承載裝置及雷射修補裝置的簡化示意，且表示執行修補作業的示意圖。

10:修補設備

11:基座

111:第一安裝區

113:第二安裝區

115:第一軌道

117:第二軌道

119:第三軌道

13:第一承載裝置

15:第二承載裝置

17:雷射修補裝置

171:安裝座

173:雷射系統

175:取料系統

30:料盤

50:電路基板

Claims

一種修補設備，包括：一基座，包括一第一安裝區、一第二安裝區、一第一軌道、一第二軌道及一第三軌道，該第二安裝區自該第一安裝區向上延伸，該第一軌道及該第二軌道固定設置在該第一安裝區，該第三軌道固定設置在該第二安裝區；一第一承載裝置，連接該第一軌道，並用以承載一料盤，該料盤包括一半導體元件；一第二承載裝置，連接該第二軌道，並用以承載一電路基板；及一雷射修補裝置，連接該第三軌道，而可在該第一承載裝置及該第二承載裝置上方移動，該雷射修補裝置用以將該半導體元件電性連接至該電路基板。
如請求項1所述的修補設備，其中，該雷射修補裝置包括一安裝座、一雷射系統及一取料系統，該安裝座連接該第三軌道，該雷射系統連接安裝座，且用以投射一雷射光束，該取料系統連接該安裝座，且包括一膠帶、一輸送模組及一推動模組，該膠帶用以黏取該半導體元件，該輸送模組連接該膠帶，且用以輸送該膠帶，該推動模組用以推擠該輸送模組上的該膠帶，該雷射光束穿過該推動模組及該膠帶，以將該半導體元件焊接在該電路基板。
如請求項2所述的修補設備，其中，該膠帶包括一平整區，該半導體元件被黏貼在該平整區，該推動模組包括一升降單元及一按壓件，該按壓件連接該升降單元，且面對該平整區，並用以向下推擠該膠帶。
如請求項3所述的修補設備，其中，該按壓件包括一結合塊及一接觸塊，該結合塊連接該升降單元，該接觸塊連接該結合塊，且自該結合塊的側邊突伸，且包括一頭部及一窗口，該頭部形成於該接觸塊的突伸末端，該窗口形成於該頭部，以供該雷射光束穿過。
如請求項4所述的修補設備，其中，該頭部包括一頂斜面、一底面及至少一凸部，該窗口貫穿該頂斜面及該底面，該至少一凸部自該底面向下凸出，且鄰近該窗口。
如請求項3所述的修補設備，其中，該輸送模組包括二定位滾輪，該平整區位在該二定位滾輪之間。
如請求項1所述的修補設備，其中，該第二承載裝置用以測試該電路基板。