TWM625422U - 具離子液體保護層之文物自潔結構 - Google Patents

具離子液體保護層之文物自潔結構 Download PDF

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TWM625422U
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Taiwan
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ionic liquid
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self
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TW110211903U
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吳漢鐘
李益成
朱戊杉
黃玟霖
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正修學校財團法人正修科技大學
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Abstract

一種具離子液體保護層之文物自潔結構,包含:一基材層;一地仗層,形成於該基材層上方;一彩繪層,形成於該地仗層上方;一塗佈層,形成於該彩繪層上方;及一保護層,形成於該塗佈層上方,該保護層的成分包含一離子液體。

Description

具離子液體保護層之文物自潔結構
本創作主要為一種具離子液體保護層之文物自潔結構,特別是有關於一種具有塗設離子液體的保護層的文物自潔結構。
按,在許多廟宇之中,具有大量以傳統民間故事或忠孝結義為事蹟題材的木器彩繪,使信眾進入廟宇內祭拜之餘,還可以沉浸在瑰麗堂皇的彩繪藝術當中。在祭拜過程中,信眾習慣以焚香馨祝來表示對神明或先祖的敬意,然而,線香燃燒時所產生的煙垢、來自空氣中的粉塵、線香中所包含的焦油與灰塵結合所形成的汙塵,或是其他不明原因造成的汙漬,皆會造成在木器彩繪上留下不易清除的汙漬。
習知清潔方式,係透過軟毛刷搭配吸塵器做刷除的動作,以針對附著於木器彩繪上的灰塵進行清潔;此外,針對附著於木器彩繪上的汙塵,則可以透過刮刀或手術刀等器具進行乾式清潔,或以化學有機溶劑進行溼式清潔;再者,對由線香中的碳粒及焦油等有害物質於木器彩繪的表面上所產生的煙垢,以濕式直接清潔或是濕式間接清潔等方式進行清潔。
然而,年代久遠的木器彩繪極為脆弱,上述清潔方式稍有不慎,即可能導致木器彩繪的顏料斑駁脫落,反而造成木器彩繪的毀損。
有鑑於此,有必要提供一種具離子液體保護層之文物自潔結構,以解決上述之問題。
本創作的目的在於提供一種具離子液體保護層之文物自潔結構,係可以透過塗設離子液體的保護層,以減少灰塵、汙塵等汙染物吸附於該具離子液體保護層之文物自潔結構者。
為達成上述目的,本創作提供一種具離子液體保護層之文物自潔結構,包含:一基材層;一地仗層,形成於該基材層上方;一彩繪層,形成於該地仗層上方;一塗佈層,形成於該彩繪層上方;及一保護層,形成於該塗佈層上方,該保護層的成分包含一離子液體。
在一些實施例中,本創作的具離子液體保護層之文物自潔結構還可以另包含一光觸媒層,該光觸媒層形成於該保護層上方。如此,係可以產生光觸媒作用,具有除汙、抑菌及抗菌之功效。
在一些實施例中,該光觸媒層的成分包含奈米氧化鋅。
在一些實施例中,該塗佈層的材質包含聚氨酯漆、天然樹漆或環氧樹脂。如此,具有避免彩繪層被刮傷損壞之功效。
在一些實施例中,該塗佈層的成分包含該離子液體。如此,具有使塗佈層較不易附著灰塵之功效。
在一些實施例中,該離子液體為1-正丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽。如此,具有防止灰塵附著於具離子液體保護層之文物自潔結構之功效。
本創作的具離子液體保護層之文物自潔結構具有下列特點:係可以透過塗裝包含離子液體成分的保護層,使灰塵不會附著於該具離子液體保護層之文物自潔結構。如此,本創作的具離子液體保護層之文物自潔結構係可以達到自我清潔之功效。
〔本創作〕
1:基材層
2:地仗層
3:彩繪層
4:塗佈層
5:保護層
6:光觸媒層
[圖1]為本創作之具離子液體保護層之文物自潔結構之第一實施例的剖面圖;
[圖2]為本創作之具離子液體保護層之文物自潔結構之第二實施例的剖面圖;
[圖3]為本創作之具離子液體保護層之文物自潔結構之第三實施例的剖面圖。
茲配合圖式將本創作實施例詳細說明如下,其所附圖式主要為簡化之示意圖,僅以示意方式說明本創作之基本結構,因此在該等圖式中僅標示與本創作有關之元件,且所顯示之元件並非以實施時之數目、形狀、尺寸比例等加以繪製,其實際實施時之規格尺寸實為一種選擇性之設計,且其元件佈局形態有可能更為複雜。
以下各實施例的說明是參考附加的圖式,用以例示本創作可據以實施的特定實施例。本創作所提到的方向用語,例如「上」、「下」、「前」、「後」、等,僅是參考附加圖式的方向。因此,使用的方向用語是用以說明及理解本申請,而非用以限制本申請。另外,在說明書中,除非明確地描述為相反的,否則詞語“包含”將被理解為意指包含所述元件,但是不排除任何其它元件。
請參照圖1所示,其係本創作具離子液體保護層之文物自潔結構的第一實施例,係包含:一基材層1、一地仗層2、一彩繪層3、一塗佈層4及一保護層5,該基材層1、該地仗層2、該彩繪層3、該塗佈層4及該保護層5依序推疊。
該基材層1的外觀態樣在本創作中不加以限制,在本實施例中,該基材層1以矩形予以說明,且該基材層1可以由木頭材質所製成,並作為該具離子液體保護層之文物自潔結構的基板。
該地仗層2的外觀態樣較佳為與該基材層1相同,且形成於該基材層1上方。詳言之,該地仗層2可以為彩繪師以斬砍見木、撕縫、下竹釘、汁漿、捉縫灰、掃蕩灰、披麻、磨麻、壓麻灰、批中灰、批細灰及鑽生等手法,在該基材層1上執行地仗處理所形成,係屬於本創作所屬技術領域中的通常知識,且為本創作所屬技術領域中具有通常知識者可以理解。
該彩繪層3的外觀態樣較佳為與該基材層1相同,且形成於該地仗層2上方。詳言之,該彩繪層3可以為彩繪師根據所需顏色或圖案直接塗裝於該地仗層2上所形成,而具有美觀裝飾之功能的結構設計。
該塗佈層4的外觀態樣較佳為與該基材層1相同,且形成於該彩繪層3上方。在本實施例中,該塗佈層4的成分可以包含環氧樹脂(Epoxy)、聚氨酯漆(Polyurethane)、或天然樹漆(Lacquer)等透明材料。
該保護層5的外觀態樣較佳為與該基材層1相同,且形成於該塗佈層4上方。在本實施例中,該保護層5的成分可以包含一離子液體(Ionic liquid,IL),在本實施例中,該離子液體可以為1-正丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽,別名為BMIM-PF6,係為一種黏稠、無色、疏水且不溶於水的離子液體。
請參照圖2所示,其係本創作具離子液體保護層之文物自潔結構的第二實施例,在本實施例中,該塗佈層4的成分中,亦可以具有上述離子液體。
請參照圖3所示,其係本創作具離子液體保護層之文物自潔結構的第三實施例,相較於第一實施例而言,還可以另包含一光觸媒層6。該光觸媒層6的外觀態樣較佳為與該基材層1相同,且形成於該保護層5上方。在本實施例中,該光觸媒層6的成分可以包含奈米氧化鋅,以避免紫外光對於該彩繪層3的損害。
承上所述,本創作的具離子液體保護層之文物自潔結構,係可以透過塗裝包含離子液體成分的保護層,使灰塵不會附著於該具離子液體保護層之文物自潔結構。如此,本創作的具離子液體保護層之文物自潔結構係可以達到自我清潔之功效。
上述揭示的實施形態僅例示性說明本創作之原理、特點及其功效,並非用以限制本創作之可實施範疇,任何熟習此項技藝之人士均可在不違背本創作之精神及範疇下,對上述實施形態進行修飾與改變。任何運用本創作所揭示內容而完成之等效改變及修飾,均仍應為下述之申請專利範圍所涵蓋。
1:基材層
2:地仗層
3:彩繪層
4:塗佈層
5:保護層

Claims (6)

  1. 一種具離子液體保護層之文物自潔結構,包含:
    一基材層;
    一地仗層,形成於該基材層上方;
    一彩繪層,形成於該地仗層上方;
    一塗佈層,形成於該彩繪層上方;及
    一保護層,形成於該塗佈層上方,該保護層的成分包含一離子液體。
  2. 如請求項1所述之具離子液體保護層之文物自潔結構,另包含一光觸媒層,該光觸媒層形成於該保護層上方。
  3. 如請求項2所述之具離子液體保護層之文物自潔結構,其中,該光觸媒層的成分包含奈米氧化鋅。
  4. 如請求項1所述之具離子液體保護層之文物自潔結構,其中,該塗佈層的材質包含聚氨酯漆、天然樹漆或環氧樹脂。
  5. 如請求項4所述之具離子液體保護層之文物自潔結構,其中,該塗佈層的成分包含該離子液體。
  6. 如請求項1或5所述之具離子液體保護層之文物自潔結構,其中,該離子液體為1-正丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽。
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