KR101273148B1 - 디스플레이용 기판 부재 및 이의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재는, 기판; 및 상기 기판에 형성되는 오염방지층을 포함하고, 상기 오염방지층은 플루오르계 화합물을 포함한다.

Description

디스플레이용 기판 부재 및 이의 제조 방법{DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 기재는 디스플레이용 기판 부재 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
최근 터치형 디스플레이 장치 및 외부에 노출된 상태로 사용되는 디스플레이 장치가 증가함에 따라 그 표면에 내지문, 먼지, 각종 물기 등으로 인해 디스플레이 표면이 오염되는 경우가 많다. 이런 경우에는 디스플레이 장치의 시인성이 저하되고 기능에 있어서 결함이 발생할 수 있다.
이를 방지하기 위해 오염방지 기능을 하는 필름을 디스플레이 장치의 표면에 부착하기도 하는데, 이렇게 필름을 부착함에 따라 공정 비용이 추가되고, 추후에 접착에 따른 불량품이 발생할 수 있다.
또는 오염방지 기능을 위해 기재의 표면에 특수한 형상을 구현하기도 하는데 이 경우 특수한 형상을 구현하기 위한 몰드가 필요하여 공정비용이 상승하고 대면적에 적용하기 어렵다는 문제점이 있다.
실시예는 디스플레이 기재에 오염방지층이 직접 코팅되어 별도의 필름을 부착하는 공정이 필요 없어 공정 비용을 저감할 수 있는 디스플레이용 기판 부재를 제공하고자 한다. 또한 기재의 표면에 특수한 형상을 부여하는 방식이 아니기 때문에 공정이 단순하며, 증착 방식의 건식 코팅 방법이 아닌 습식 코팅 방법을 사용하여 대면적에도 적용 가능한 디스플레이용 기판 부재를 제공하고자 한다.
실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재는, 기판; 및 상기 기판에 형성되는 오염방지층을 포함하고, 상기 오염방지층은 플루오르계 화합물을 포함한다.
실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재 제조 방법은, 기판 상에 퍼플루오르화카본(perfluorocarbon, PFC), 하이드로플루오르에테르(hydrofluoroether, HFEs) 및 퍼플루오르헥산(perfluorohexane, PFH) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 오염방지 용액을 형성하는 단계; 상기 오염방지 용액을 코팅하는 단계; 및 상기 오염방지 용액을 건조하는 단계를 포함하고, 상기 오염방지 용액을 코팅하는 단계는 스핀(spin) 코팅, 플로우(flow) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 딥(dip) 코팅, 슬릿 다이(slit die) 코팅 및 롤(roll) 코팅의 습식코팅방법으로 이루어진 군에서 선택되는 코팅방법으로 형성된다.
실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재에서는 디스플레이 기재에 직접 오염방지층을 형성하므로 기존에 오염방지 기능을 가지는 필름을 따로 부착할 필요가 없다. 또한 기재의 표면에 특수한 형상을 부여하는 방식이 아니기 때문에 공정이 단순하고 공정 비용을 저감할 수 있다.
실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재의 제조 방법은, 증착 방식의 건식 코팅 방법이 아닌 습식 코팅 방법을 사용하여 저비용으로 대면적의 제품 제작이 가능하다.
도 1은 실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재의 단면도이다.
도 2는 오염방지층의 구조를 확대하여 도시한 단면도이다.
도 3은 실시예와 비교예에 따른 디스플레이용 기판 부재의 반사율에 대한 그래프이다.
도 4는 실시예와 비교예에 따른 디스플레이용 기판 부재의 투과율에 대한 그래프이다.
실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.
도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 1 및 도 2를 참조하여 실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재를 상세하게 설명한다.
도 1은 실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재의 단면도이고 도 2는 오염방지층의 구조를 확대하여 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재는, 기판(10)과 이 기판(10)에 형성되는 오염방지층(20)을 포함한다.
오염방지층(20)은, 기판(10) 상에 위치하며 플루오르계 화합물을 포함할 수 있다.
오염방지층(20)이 외부로부터의 오염을 방지하거나 먼지 등의 오염을 제거하기 위해서는 발수성이 요구된다. 이러한 오염방지층(20)이 발수성을 가지기 위해서는 물에 대한 접촉각이 90 o 이상일 것이 요구된다.
일반적인 발수성을 가지는 발수제로는 탄화수소계 화합물, 실리콘계 화합물, 염소화합물 및 플루오르계 화합물 등이 쓰이고 있다. 그 중에서 플루오르화 알킬기를 포함하는 플루오르계 화합물은 임계 표면 장력이 20 dyn/㎝ 이하가 되어 물 또는 기름도 발하는 성질을 가지고 있다. 따라서 이러한 오염방지층에 수성 또는 유성 오염물이 묻었을 때 화학약품을 사용하지 않고도 오염물을 쉽게 제거할 수 있다.
특히, 플루오르화 알킬기에 가장 낮은 표면에너지를 부여하는 성분인 -CF2- 또는 -CF3 를 100개 이하로 포함하는 경우 발수도의 조밀도를 증가시킬 수 있다. 따라서, 도 2에 도시한 바와 같이 제2 층(20b)은 -CF2- 또는 -CF3 를 풍부하게 포함하여 구조적으로 직선형 구조를 가질 수 있다.
구체적으로, 이러한 오염방지층(20)은 퍼플루오르화카본(perfluorocarbon, PFC), 하이드로플루오르에테르(hydrofluoroether, HFEs) 및 퍼플루오르헥산(perfluorohexane, PFH) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니므로 우수한 발수 특성을 가지는 상용화된 플루오르계 화합물을 사용할 수 있다.
오염방지층(20)이 코팅되기 전 기판(10)의 물에 대한 접촉각이 30 o 내지 40 o 를 가지고 오염방지층(20)이 코팅된 후 디스플레이용 기판 부재의 물에 대한 접촉각이 105 o 내지 115 o 로 측정되어 오염방지층(20)을 통해 발수성이 크게 향상됨을 알 수 있다.
실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 도 2를 참조하면, 오염방지층(20)은 실리콘 산화물을 포함하는 제1 층(20a) 및 제1 층(20a) 상에 위치하고 플루오르계 화합물을 포함하는 제2 층(20b)으로 이루어질 수 있다.
제1 층(20a)은 유리로 형성되는 기판(10)과의 접착력을 부여하기 위해 같은 물질인 실리콘 산화물을 포함할 수 있다. 이러한 실리콘 산화물은 기판(10)과의 접착력을 부여할 뿐만 아니라 오염방지층(20)의 내구성을 견고하게 하는 기능을 할 수 있다. 구체적으로, 실리콘 산화물을 포함하는 제1 층(20a)을 통해 마모 및 스크래치에 대한 저항성, 비와 바람 및 화학적 성분에 대한 저항성, 햇빛 등 자외선에 대한 저항성, 사계절에 대한 온도 저항성을 가질 수 있다. 이러한 내구성을 가져야 디스플레이 장치의 발수 기능이 오래 지속될 수 있다.
이어서, 오염방지층(20)의 두께가 2 nm 내지 50 nm 일 수 있다. 2 nm 보다 얇은 두께를 가질 경우 물리적인 경도가 약해질 수 있다. 따라서 그 이상의 두께를 가지는 것이 바람직하다. 그러나 그 두께가 50 nm 보다 두꺼울 경우 오염방지 기능의 효과 대비 재료 비용이 많이 들고, 전체적인 디스플레이용 기판 부재가 두꺼워질 수 있다.
오염방지층(20)이 디스플레이 본연의 광학 특성에 영향을 주지 않기 위해, 오염방지층(20)이 적용된 디스플레이용 기판 부재의 CIE(Commossion international de l'Eclairage) 색좌표가 x는 0.2 내지 0.4 이고 y는 0.2 내지 0.4 로 나타난다. 따라서 오염방지층(20)의 코팅후에도 색 왜곡 현상이 거의 없어 디스플레이 고유의 색을 구현할 수 있다.
이하, 실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재의 제조 방법을 상세하게 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 이미 설명한 내용에 대해서는 상세한 설명을 생략한다.
먼저, 기판 상에 퍼플루오르화카본, 하이드로플루오르에테르 및 퍼플루오르헥산 중 적어도 어느 하나를 포함하는 오염방지 용액을 형성한다.
구체적으로, 오염방지 용액은 퍼플루오르화카본 또는 하이드로플루오르에테르를 98 중량 % 이상 포함할 수 있다. 또한, 오염방지 용액은 퍼플루오르헥산을 1 중량 % 이하 포함할 수 있다.
이어서, 오염방지 용액을 코팅한다. 오염방지 용액을 코팅 시, 스핀(spin) 코팅, 플로우(flow) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 딥(dip) 코팅, 슬릿 다이(slit die) 코팅 및 롤(roll) 코팅의 습식코팅방법으로 할 수 있다. 이러한 습식코팅방법은 건식코팅방법에 비해 대량 생산에 용이하고 설비 비용이 적다는 장점이 있어 유리하다.
일례로, 오염방지 용액을 스핀 코팅으로 형성하는 경우, 기판을 스핀 코터에 장착하고 오염방지 용액을 기판에 뿌린 후 500 rpm 내지 3000 rpm의 속도로 5 내지 30 초간 실시하여 코팅할 수 있다.
또한, 오염방지 용액을 코팅하는 단계는 습식코팅방법을 적어도 두 가지 이상 사용할 수 있다. 일례로, 스핀 코팅과 스프레이 코팅을 복합적으로 사용할 수 있는데, 기판을 스핀 코터 장착하고 오염방지 용액을 스프레이를 이용하여 기판에 뿌리면서 코팅할 수 있다.
이어서, 기판 상에 코팅된 오염방지 용액을 건조하는 단계를 포함한다. 오염방지 용액을 건조하는 단계는 오븐(oven)에서 25 oC 내지 200 oC 의 온도에서 건조할 수 있다. 이러한 건조하는 단계를 통해 오염방지 용액에 포함된 액체 상이 증발하고 실리콘 산화물 입자 및 플루오르계 화합물 입자가 기판 상에 균일하게 형성될 수 있다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 좀더 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것에 불과하며, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
실시예
60 mm X 60 mm 크기의 투명 유리 기판을 유기 용제를 사용하여 깨끗하게 세정한다. 그리고, 퍼플루오르화카본(perfluorocarbon, PFC) 99.3 중량 % 및 퍼플루오르헥산(perfluorohexane, PFH) 0.7 중량 %를 혼합한 오염방지 용액을 준비한다. 유리 기판을 스핀 코터에 장착하고 오염방지 용액을 1 ml 내지 2 ml를 유리 기판에 떨어뜨린다. 그 후 스핀 코터를 500 rpm 내지 3000 rpm 의 속도로 5 초 내지 30 초간 유지하여 스핀 코팅을 실시한다. 다음 코팅된 용액을 건조한다.
비교예
오염방지 용액이 코팅되지 않은 투명 유리 기판을 준비한다.
실시예와 비교예에 대하여, 물에 대한 접촉각, 유성펜 마킹을 화학약품을 사용하지 않고 거즈만 사용하여 지울 수 있는지에 대한 실험(지우기 실험), 반사색(x), 반사색(y)을 비교하여 표 1에 그 결과를 나타내었다.
접촉각( o) 지우기 실험 반사색(x) 반사색(y)
실시예 113.5 지워짐 0.32 0.33
비교예 38.7 지워지지 않음 0.32 0.33
표 1을 참조하면, 오염방지 용액이 코팅된 실시예에서는 물에 대한 접촉각이 100 o 이상으로 매우 우수하다. 따라서, 유성펜 마킹을 화학약품을 사용하지 않고 거즈만을 사용하여 지울 때 실시예는 지워지는 반면, 오염방지 용액이 코팅되지 않은 유리 기판은 지워지지 않는다. 또한, 오염방지층을 코팅하기 전인 비교예와 오염방지 용액을 코팅한 후의 실시예에 있어서 반사색에 차이가 없어 유리 기판 고유의 색을 구현할 수 있다.
이하, 도 3 및 도 4를 참조하여, 실시예와 비교예의 반사율 및 투과율에 대해 설명한다. 도 3은 실시예와 비교예에 따른 디스플레이용 기판 부재의 반사율에 대한 그래프이고, 도 4는 실시예와 비교예에 따른 디스플레이용 기판 부재의 투과율에 대한 그래프이다.
도 3을 참조하면, 실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재로 입사한 파장 380 nm 내지 780 nm 에서의 평균 반사율이 4.8 % 이다. 파장 550 nm 에서 실시예의 반사율은 4.7 % 이다. 비교예에 따른 디스플레이용 기판 부재로 입사한 파장 380 nm 내지 780 nm 에서의 평균 반사율은 5.0 % 이다. 파장 550 nm 에서 비교예의 반사율은 4.9 % 이다. 위의 결과로 볼 때, 오염방지 용액의 코팅으로 디스플레이용 기판 부재의 평균 반사율이 감소하는 효과가 있음을 알 수 있다.
도 4를 참조하면, 실시예에 따른 디스플레이용 기판 부재로 입사한 파장 380 nm 내지 780 nm 에서의 평균 투과율이 90.9 % 이다. 파장 550 nm 에서의 투과율은 91.5 % 이다. 비교예에 따른 디스플레이용 기판 부재로 입사한 파장 380 nm 내지 780 nm 에서의 평균 투과율이 90.8 % 이다. 파장 550 nm 에서의 투과율은 91.4 % 이다. 위의 결과로 볼 때, 오염방지 용액의 코팅이 투과율에 악영향을 미치지 않을 뿐만 아니라, 작게나마 투과율을 증가시킴을 알 수 있다.
상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
10: 기판
20: 오염방지층
20a: 제1 층
20b: 제2 층

Claims (14)

  1. 기판; 및
    상기 기판에 형성되는 오염방지층을 포함하고,
    상기 오염방지층은
    상기 기판과 접촉하고, 실리콘 산화물을 포함하는 제1 층; 및
    상기 제1 층 상에 배치되고, 플루오르계 화합물을 포함하는 제2 층을 포함하고,
    상기 플루오르계 화합물은 -CF2- 또는 -CF3 를 20 내지 100개로 포함하는 디스플레이용 기판 부재.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 플루오르계 화합물은 플루오르화 알킬기를 포함하는 디플레이용 기판 부재.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 오염방지층의 두께가 2 nm 내지 50 nm 인 디플레이용 기판 부재.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 오염방지층은 퍼플루오르화카본(perfluorocarbon, PFC), 하이드로플루오르에테르(hydrofluoroether, HFEs) 및 퍼플루오르헥산(perfluorohexane, PFH) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 디스플레이용 기판 부재.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 기판은 유리인 디플레이용 기판 부재.
  8. 기판 상에 실리콘 산화물을 포함하는 용액을 형성하는 단계;
    상기 기판 상에 퍼플루오르화카본(perfluorocarbon, PFC), 하이드로플루오르에테르(hydrofluoroether, HFEs) 및 퍼플루오르헥산(perfluorohexane, PFH) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 오염방지 용액을 형성하는 단계;
    상기 오염방지 용액을 코팅하는 단계; 및
    상기 오염방지 용액을 건조하는 단계를 포함하고,
    상기 오염방지 용액을 코팅하는 단계는 스핀(spin) 코팅, 플로우(flow) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 딥(dip) 코팅, 슬릿 다이(slit die) 코팅 및 롤(roll) 코팅의 습식코팅방법으로 이루어진 군에서 선택되는 코팅방법으로 형성되고,
    상기 오염방지 용액은 -CF2- 또는 -CF3 를 20 내지 100개로 포함하는 디스플레이용 기판 부재 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 오염방지 용액을 건조하는 단계는 25 oC 내지 200 oC 의 온도에서 건조하는 디스플레이용 기판 부재 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 오염방지 용액을 코팅하는 단계에서 스핀 코팅으로 형성 시,
    상기 기판을 스핀 코터에 장착하고 상기 오염방지 용액을 상기 기판에 뿌린 후 500 rpm 내지 3000 rpm의 속도로 5 내지 30 초간 실시하는 디스플레이용 기판 부재 제조 방법.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 오염방지 용액을 코팅하는 단계는 상기 습식코팅방법을 적어도 두 가지 이상 사용하여 형성하는 디스플레이용 기판 부재 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 오염방지 용액을 코팅하는 단계에서,
    상기 기판을 스핀 코터 장착하고 상기 오염방지 용액을 스프레이를 이용하여 뿌리면서 코팅하는 디스플레이용 기판 부재 제조 방법.
  13. 제8항에 있어서,
    상기 오염방지 용액은,
    상기 퍼플루오르화카본 또는 상기 하이드로플루오르에테르를 98 중량 % 이상 포함하는 디스플레이용 기판 부재 제조 방법.
  14. 제8항에 있어서,
    상기 오염방지 용액은,
    퍼플루오르헥산을 1 중량 % 이하 포함하는 디스플레이용 기판 부재 제조 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030019910A (ko) * 2000-08-07 2003-03-07 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 오염방지 경질코팅
KR100689110B1 (ko) * 2006-07-13 2007-03-08 (주) 개마텍 저 표면에너지를 갖는 렌즈 코팅용 조성물 및 이를 이용한렌즈 코팅 방법 및 렌즈 옥형 가공 방법
KR20070098156A (ko) * 2006-03-31 2007-10-05 삼성코닝 주식회사 비발광성 무기 복합막, 이의 형성 방법, 면광원 장치 및 백라이트 유닛
KR20070101602A (ko) * 2006-04-11 2007-10-17 엘지전자 주식회사 평판 디스플레이 장치 및 그 제조방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030019910A (ko) * 2000-08-07 2003-03-07 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 오염방지 경질코팅
KR20070098156A (ko) * 2006-03-31 2007-10-05 삼성코닝 주식회사 비발광성 무기 복합막, 이의 형성 방법, 면광원 장치 및 백라이트 유닛
KR20070101602A (ko) * 2006-04-11 2007-10-17 엘지전자 주식회사 평판 디스플레이 장치 및 그 제조방법
KR100689110B1 (ko) * 2006-07-13 2007-03-08 (주) 개마텍 저 표면에너지를 갖는 렌즈 코팅용 조성물 및 이를 이용한렌즈 코팅 방법 및 렌즈 옥형 가공 방법

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