TWM619407U - 二折平口式之口罩結構 - Google Patents

Abstract

本新型為有關一種二折平口式之口罩結構，主要結構包括一平面部，平面部之上端處彎折形成一第一上彎折部，第一上彎折部一側延伸形成一第一上延伸部，第一上延伸部端處彎折形成一第二上彎折部，第二上彎折部一側延伸形成一第二上延伸部，且平面部之下端處亦相對形成有一第一下彎折部、一第一下延伸部、一第二下彎折部、及一第二下延伸部。又第一上摺料寬度等於第二上摺料寬度，第一下摺料寬度等於第二下摺料寬度，且第二上摺料寬度與第二下摺料寬度之總和小於或等於平面寬度之二分之一，藉此，將摺料收攏於口罩上下兩端，使口罩外側為整面無摺痕的平面部，以完整呈現圖文樣式並提升整體透氣度。

Description

二折平口式之口罩結構

本新型為提供一種二折平口式之口罩結構，尤指一種口罩外側整面無摺痕、可完整呈現圖文樣式，且具有提升整體透氣度功效的二折平口式之口罩結構。

按，傳統口罩大部分為平面狀態以供展開使用，當使用者展開或撐開使用時，較不具立體感而緊貼於使用者之口鼻處，且於交談過程中，唾液容易沾黏於口罩上，亦可能過度緊貼於口鼻上而造成呼吸不順暢，為減輕此困擾，係於口罩上設計有多個折疊，或有立體口罩之產生，但因立體口罩售價相對較高，多數使用者仍選擇使用平面口罩。

平面口罩因大量的摺疊，導致表面圖樣印製時產生段差、摺疊收納後造成部分圖樣被遮蔽、或延伸展開後導致圖樣分裂，而無法完整的呈現印製時的圖樣完整性。若配戴時不將平面口罩的摺疊處完全展開，則即使本來透氣性良好的材質，也會因為不當的層層堆疊，而嚴重影響其透氣性。

原本大量的摺疊係用以使平面口罩展開後可與臉型密合，但口罩配戴後，常有過度貼合導致呼吸不順暢，或口罩未能有效密合導致影響防護性等問題，雖然可為了透氣性刻意調整成口鼻前方保有一定空間，但口罩摺疊方式導致該調整動作不易，且調整動作可能會把手上的細菌沾染至口罩上。

另有部分平面口罩設計成將摺疊處完全隱藏於內側，如此一來，雖然可解決圖樣問題，但兩側熔接固定後，摺疊處不易展開，也導致兩側與臉部的貼合度降低。

是以，要如何解決上述習用之問題與缺失，即為本新型之申請人與從事此行業之相關廠商所亟欲研究改善之方向所在者。

故，本新型之申請人有鑑於上述缺失，乃蒐集相關資料，經由多方評估及考量，並以從事於此行業累積之多年經驗，經由不斷試作及修改，始設計出此種口罩外側整面無摺痕、可完整呈現圖文樣式，且具有提升整體透氣度功效的二折平口式之口罩結構的新型專利者。

本新型之主要目的在於：將摺疊數量減少，並使摺料集中於口罩內側的上下緣位置，使口罩外側具有整面無摺痕的圖文印製空間，且利用摺料的寬度設計，使口罩展開後具有良好的包覆效果及透性度。

為達成上述目的，本新型之主要結構包括：一平面部、一第一上彎折部、一第一上延伸部、一第二上彎折部、一第二上延伸部、一第一下彎折部、一第一下延伸部、一第二下彎折部、及一第二下延伸部，該第一上彎折部係彎折形成於平面部之上端處，該第一上延伸部係延伸形成於第一上彎折部一側，該第二上彎折部係彎折形成於第一上延伸部端處，該第二上延伸部係延伸形成於第二上彎折部一側，該第一下彎折部係彎折形成於平面部之下端處，該第一下延伸部係延伸形成於第一下彎折部一側，該第二下彎折部係彎折形成該第一下延伸部端處，該第二下延伸部係延伸形成於第二下彎折部一側，且該平面部之寬度界定為平面寬度，該第一上延伸部之寬度界定為第一上摺料寬度，該第二上延伸部之寬度界定為第二上摺料寬度，該第一下延伸部之寬度界定為第一下摺料寬度，該第二下延伸部之寬度界定為第二下摺料寬度，又該第一上摺料寬度等於該第二上摺料寬度，該第一下摺料寬度等於該第二下摺料寬度，及該第二上摺料寬度與該第二下摺料寬度之總和小於或等於該平面寬度之二分之一。

藉上述設計，除了可使口罩外側只能觀看到平面部，讓印製圖樣的呈現更完整、更美觀，也因平面部內側無摺料摺痕，更能幫助透氣，加上第一上延伸部、第二上延伸部、第一下延伸部及第二下延伸部皆位於口罩上下緣，並設計其總寬度小於平面寬度，對於口罩配戴後上下拉伸的動作，可輕易使平面部正對口鼻處，也有助於呼吸順暢度的提升，也因僅具有少量的摺疊，不但容易伸展，包覆度及舒適度也可確實兼顧。

藉由上述技術，可針對習用平面口罩所存在之摺疊數量多導致平整面面積較小、圖樣呈現不完整、透氣性不佳、及包覆度不完整等問題點加以 突破，達到上述優點之實用進步性。

1:平面部

11:圖樣

21:第一上彎折部

22、22a:第一上延伸部

23、23a:第二上彎折部

24、24a:第二上延伸部

241a:鼻線端

2411a:鼻壓條

31:第一下彎折部

32、32a:第一下延伸部

33、33a:第二下彎折部

34、34a:第二下延伸部

341a:收邊部

A:平面寬度

B:第一上摺料寬度

C:第二上摺料寬度

D:第一下摺料寬度

E:第二下摺料寬度

第一圖 係為本新型較佳實施例之立體透視圖。

第二圖 係為本新型較佳實施例之第一圖A-A線剖視圖。

第三圖 係為本新型較佳實施例之展開示意圖。

第四圖 係為本新型較佳實施例之配戴示意圖(一)。

第五圖 係為本新型較佳實施例之配戴示意圖(二)。

第六圖 係為本新型再一較佳實施例之剖視圖。

第七圖 係為本新型又一較佳實施例之剖視圖。

為達成上述目的及功效，本新型所採用之技術手段及構造，茲繪圖就本新型較佳實施例詳加說明其特徵與功能如下，俾利完全了解。

請參閱第一圖至第三圖所示，係為本新型較佳實施例之立體透視圖至展開示意圖，由圖中可清楚看出本新型係包括：

一平面部1，該平面部1之寬度界定為平面寬度A；

一第一上彎折部21，係彎折形成於該平面部1之上端處；

一第一上延伸部22，係延伸形成於該第一上彎折部21一側，且該第一上延伸部22之寬度界定為第一上摺料寬度B；

一第二上彎折部23，係彎折形成於該第一上延伸部22端處；

一第二上延伸部24，係延伸形成於該第二上彎折部23一側，且該第二上延伸部24之寬度界定為第二上摺料寬度C；

一第一下彎折部31，係彎折形成於該平面部1之下端處；

一第一下延伸部32，係延伸形成於該第一下彎折部31一側，且該第一下延伸部32之寬度界定為第一下摺料寬度D；

一第二下彎折部33，係彎折形成於該第一下延伸部32端處；

一第二下延伸部34，係延伸形成於該第二下彎折部33一側，且該第二下延伸部34之寬度界定為第二下摺料寬度E；及

其中，該第一上摺料寬度B等於該第二上摺料寬度C，該第一下摺料寬度D等於該第二下摺料寬度E，及該第二上摺料寬度C與該第二下摺料寬度E之總和小於或等於該平面寬度A之二分之一。

藉由上述之說明，已可了解本技術之結構，而依據這個結構之對應配合，更可達到口罩外側整面無摺痕、可完整呈現圖文樣式、及提升整體透氣度功效等優勢，而詳細之解說將於下述說明。

請同時配合參閱第一圖至第五圖所示，係為本新型較佳實施例之立體透視圖至配戴示意圖(二)，藉由上述構件組構時，由圖中可清楚看出，本案之口罩從上到下係由第二上延伸部24、第二上彎折部23、第一上延伸部22、第一上彎折部21、平面部1、第一下彎折部31、第一下延伸部32、第二下彎折部33、至第二下延伸部34一體成形摺疊而成，且口罩本身可為單層、或多層材質的平面口罩，故具體而言只會在第一上彎折部21、第二上彎折部23、第一下彎折部31、及第二下彎折部33處留有摺痕，且因第二上摺料寬度C與第二下摺料寬度E之總和小於或等於平面寬度A之二分之一，故摺痕幾乎都在上下緣處，除了上下兩端的熔接部分，正面部分幾乎都是平面部1，故乃最大化的利用了口罩正面的面積。如此一來，結合於平面部1上的圖形、LOGO、廣告內容等圖樣11，完全不會被摺疊處影響，可大幅提升圖樣11的完整性及視覺美觀。

再者，因第一上摺料寬度B等於第二上摺料寬度C，第一下摺料寬度D等於第二下摺料寬度E，使得第一上彎折部21與第二上延伸部24的端處呈現齊平狀態，同理第一下彎折部31與第二下延伸部34的端處亦呈現齊平狀態，而使口罩在展開前只能看到平面部1，而平面部1上不存在任何摺痕，故而使本新型達成外側整面無摺痕之態樣。又因第二上摺料寬度C與第二下摺料寬度E之總和小於或等於平面寬度A之二分之一，使口罩在展開配戴時，第一上延伸部22與第二上延伸部24即可包覆鼻子部分，第一下延伸部32及第二下延伸部34則可包覆下巴部分，加上摺疊部分只有第一上彎折部21、第二上彎折部23、第一下彎折部31、及第二下彎折部33，上下各二折，故即使經熔接固定，展開時受限制的範圍也被控制得很小，因此口罩展開時，可有效提升整體貼合度及包覆效果，配合無摺痕的平面部1，更可最大化的發揮口罩的透氣性，而提升整體舒適度。本實施例係以平面寬度A為86毫米 (mm)、第二上摺料寬度C為18毫米(mm)、第二下摺料寬度E為20毫米(mm)作為舉例。

再請同時配合參閱第六圖所示，係為本新型再一較佳實施例之剖視圖，由圖中可清楚看出，本實施例與上述實施例為大同小異，僅於該第二上延伸部24a背離該第二上彎折部23a一端向內翻摺形成一鼻線端241a，該鼻線端241a係位於該第一上延伸部22a與該第二上延伸部24a之間，及於該第二下延伸部34a背離該第二下彎折部33a一端向內翻摺形成一收邊部341a，該收邊部341a係位於該第一下延伸部32a與該第二下延伸部34a之間。其中鼻線端241a及收邊部341a分別為口罩上下兩端的翻折收邊結構，除了可避免口罩邊緣毛躁、脫線，也可增加美觀性，鼻線端241a處的翻折則可同時將鼻壓條藏納於內部，且鼻線端241a係向內收折於第一上延伸部22a與第二上延伸部24a，故即使從口罩內側觀看，也可確實隱藏鼻線端241a末端，鼻壓條2411a則設置於鼻線端241a鄰近第二上延伸部24a的一側。同理，收邊部341a亦向內收折於第一下延伸部32a與第二下延伸部34a間，藉此提升整體美觀度，配戴上也更為舒適。另外本實施例中，該第二上摺料寬度C等於該第二下摺料寬度E，且該平面寬度A以92毫米(mm)至98毫米(mm)作為舉例，該第二上摺料寬度C及該第二下摺料寬度E以20毫米(mm)至23毫米(mm)作為舉例，藉此說明本新型尺寸的多變性。

又請同時配合參閱第七圖所示，係為本新型又一較佳實施例之剖視圖，由圖中可清楚看出，本實施例與上述實施例為大同小異，僅為口罩之平面寬度A、第二上摺料寬度C及第二下摺料寬度E不同尺寸之說明。本實施例中，該第二上摺料寬度C等於該第二下摺料寬度E，且該平面寬度A以98毫米(mm)至103毫米(mm)作為舉例，該第二上摺料寬度C及該第二下摺料寬度E以18毫米(mm)至20毫米(mm)作為舉例，藉此說明本新型尺寸的多變性。

惟，以上所述僅為本新型之較佳實施例而已，非因此即侷限本新型之專利範圍，故舉凡運用本新型說明書及圖式內容所為之簡易修飾及等效結構變化，均應同理包含於本新型之專利範圍內，合予陳明。

綜上所述，本新型之二折平口式之口罩結構於使用時，為確實能達到其功效及目的，故本新型誠為一實用性優異之新型，為符合新型專利之申 請要件，爰依法提出申請，盼 審委早日賜准本新型，以保障申請人之辛苦創作，倘若 鈞局審委有任何稽疑，請不吝來函指示，申請人定當竭力配合，實感德便。

1:平面部

21:第一上彎折部

22:第一上延伸部

23:第二上彎折部

24:第二上延伸部

31:第一下彎折部

32:第一下延伸部

33:第二下彎折部

34:第二下延伸部

A:平面寬度

B:第一上摺料寬度

C:第二上摺料寬度

D:第一下摺料寬度

E:第二下摺料寬度

Claims (6)

1. 一種二折平口式之口罩結構，其主要包括：

   一平面部，該平面部之寬度界定為平面寬度；

   一第一上彎折部，係彎折形成於該平面部之上端處；

   一第一上延伸部，係延伸形成於該第一上彎折部一側，且該第一上延伸部之寬度界定為第一上摺料寬度；

   一第二上彎折部，係彎折形成於該第一上延伸部端處；

   一第二上延伸部，係延伸形成於該第二上彎折部一側，且該第二上延伸部之寬度界定為第二上摺料寬度；

   一第一下彎折部，係彎折形成於該平面部之下端處；

   一第一下延伸部，係延伸形成於該第一下彎折部一側，且該第一下延伸部之寬度界定為第一下摺料寬度；

   一第二下彎折部，係彎折形成於該第一下延伸部端處；

   一第二下延伸部，係延伸形成於該第二下彎折部一側，且該第二下延伸部之寬度界定為第二下摺料寬度；及

   其中，該第一上摺料寬度等於該第二上摺料寬度，該第一下摺料寬度等於該第二下摺料寬度，及該第二上摺料寬度與該第二下摺料寬度之總和小於或等於該平面寬度之二分之一。
2. 如申請專利範圍第1項所述之二折平口式之口罩結構，其中該第二上延伸部背離該第二上彎折部一端向內翻摺形成一鼻線端，該鼻線端係位於該第一上延伸部與該第二上延伸部之間。
3. 如申請專利範圍第1項所述之二折平口式之口罩結構，其中該第二下延伸部背離該第二下彎折部一端向內翻摺形成一收邊部，該收邊部係位於該第一下延伸部與該第二下延伸部之間。
4. 如申請專利範圍第1項所述之二折平口式之口罩結構，其中該第二上摺料寬度及該第二下摺料寬度為18毫米(mm)至23毫米(mm)。
5. 如申請專利範圍第1項所述之二折平口式之口罩結構，其中該平面寬度為86毫米(mm)至103毫米(mm)。
6. 如申請專利範圍第1項所述之二折平口式之口罩結構，其中該第二上摺料寬度等於該第二下摺料寬度。

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