TWM617745U - 口罩之結構（一） - Google Patents

Abstract

本新型為有關一種口罩之結構，主要結構包括一平面部，平面部之上端處彎折形成一第一上彎折部，第一上彎折部一側延伸形成一第一上延伸部，第一上延伸部端處彎折形成一第二上彎折部，第二上彎折部一側延伸形成一第二上延伸部，且平面部之下端處亦相對形成有一第一下彎折部、一第一下延伸部、一第二下彎折部、及一第二下延伸部。又平面部的寬度、第二上延伸部的寬度及第二下延伸部的寬度分別為口罩總面寬的42%~64%、42%~48%及31%~39%，且平面部中心位置相對整個口罩而言呈向下偏移狀，偏移寬度為口罩總面寬的2%至10%。藉此，利用大面積無摺料的平面部，提升透氣性、圖面完整性，也兼顧延伸性及包覆性。

Description

口罩之結構(一)

本新型為提供一種口罩之結構，尤指一種具有較佳之透氣性、延伸性、包覆性及圖面完整性的口罩之結構。

按，傳統口罩大部分為平面狀態以供展開使用，當使用者展開或撐開使用時，較不具立體感而緊貼於使用者之口鼻處，且於交談過程中，唾液容易沾黏於口罩上，亦可能過度緊貼於口鼻上而造成呼吸不順暢，為減輕此困擾，係於口罩上設計有多個折疊，或有立體口罩之產生，但因立體口罩售價相對較高，多數使用者仍選擇使用平面口罩。

平面口罩因大量的摺疊，導致表面圖樣印製時產生段差、摺疊收納後造成部分圖樣被遮蔽、或延伸展開後導致圖樣分裂，而無法完整的呈現印製時的圖樣完整性。若配戴時不將平面口罩的摺疊處完全展開，則即使本來透氣性良好的材質，也會因為不當的層層堆疊，而嚴重影響其透氣性。

原本大量的摺疊係用以使平面口罩展開後可與臉型密合，但口罩配戴後，常有過度貼合導致呼吸不順暢，或口罩未能有效密合導致影響防護性等問題，雖然可為了透氣性刻意調整成口鼻前方保有一定空間，但口罩摺疊方式導致該調整動作不易，且調整動作可能會把手上的細菌沾染至口罩上。

另有部分平面口罩設計成將摺疊處完全隱藏於內側，如此一來，雖然可解決圖樣問題，但兩側熔接固定後，摺疊處不易展開，也導致兩側與臉部的貼合度降低。

是以，要如何解決上述習用之問題與缺失，即為本新型之創作人與從事此行業之相關廠商所亟欲研究改善之方向所在者。

故，本新型之創作人有鑑於上述缺失，乃蒐集相關資料，經由多方評估及考量，並以從事於此行業累積之多年經驗，經由不斷試作及修改，始設計出此種具有較佳之透氣性、延伸性、包覆性及圖面完整性的口罩之結構的新型專利者。

本新型之主要目的在於：將平面部面積放大、減少摺疊數量，使圖樣可完整呈現，並利用第二上延伸部與第二下延伸部的比例設計、及使平面部中心位置偏下的設計，大幅提升口罩整體的透氣性，同時兼顧配戴的包覆性及舒適性。

為達成上述目的，本新型之主要結構包括：一平面部、一第一上彎折部、一第一上延伸部、一第二上彎折部、一第二上延伸部、一第一下彎折部、一第一下延伸部、一第二下彎折部、及一第二下延伸部，該第一上彎折部係彎折形成於平面部之上端處，該第一上延伸部係延伸形成於第一上彎折部一側，該第二上彎折部係彎折形成於第一上延伸部端處，該第二上延伸部係延伸形成於第二上彎折部一側，該第一下彎折部係彎折形成於平面部之下端處，該第一下延伸部係延伸形成於第一下彎折部一側，該第二下彎折部係彎折形成該第一下延伸部端處，該第二下延伸部係延伸形成於第二下彎折部一側，且該平面部之寬度界定為平面寬度，該平面部中央界定有一平面中心線，該第二上延伸部之寬度界定為上摺料寬度，該第二下延伸部之寬度界定為下摺料寬度，第二上延伸部與第二下延伸部之最遠距離界定為口罩總面寬，該口罩總面寬中央界定有一口罩中心線，平面中心線與口罩中心線之距離長度則界定為偏移寬度，又平面寬度相對口罩總面寬的百分比範圍為42%至64%，上摺料寬度相對口罩總面寬的百分比範圍為42%至48%，下摺料寬度相對口罩總面寬的百分比範圍為31%至39%，平面中心線位置低於口罩中心線且偏移寬度相對口罩總面寬的百分比範圍為2%至10%。

藉上述設計，除了可大幅增加平面部的面積，使印製圖樣的呈現更完整、更美觀，也因平面部內側無摺料摺痕，更能幫助透氣，加上平面中心線低於口罩中心線，對於口罩配戴後上下拉伸的動作，可輕易使平面部正對口鼻處，也有助於呼吸順暢度的提升，而第二上延伸部與第二下延伸部的寬度差異，使口罩成為上寬下窄的不對稱設計，較寬的上摺料寬度可幫助平面部正對 口鼻，較窄的下摺料寬度可在拉伸後完整包覆下巴，不但容易伸展，包覆度及舒適度也可確實兼顧。

藉由上述技術，可針對習用平面口罩所存在之摺疊數量多導致平整面面積較小、圖樣呈現不完整、透氣性不佳、及包覆度不完整等問題點加以突破，達到上述優點之實用進步性。

1:平面部

11:平面中心線

12:圖樣

13a、13b:間隔段

21:第一上彎折部

22:第一上延伸部

23、23a:第二上彎折部

24、24a:第二上延伸部

241a:鼻線端

31:第一下彎折部

32:第一下延伸部

33、33a:第二下彎折部

34、34a:第二下延伸部

341a:收邊部

4:呼氣空間

A:平面寬度

B:上摺料寬度

C:下摺料寬度

D:偏移寬度

L:口罩中心線

T:口罩總面寬

第一圖 係為本新型較佳實施例之立體圖。

第二圖 係為本新型較佳實施例之第一圖之A-A線剖視圖。

第三圖 係為本新型較佳實施例之偏心示意圖。

第四圖 係為本新型較佳實施例之配戴示意圖(一)。

第五圖 係為本新型較佳實施例之配戴示意圖(二)。

第六圖 係為本新型再一較佳實施例之剖視圖。

第七圖 係為本新型又一較佳實施例之剖視圖。

第八圖 係為本新型另一較佳實施例之剖視圖。

為達成上述目的及功效，本新型所採用之技術手段及構造，茲繪圖就本新型較佳實施例詳加說明其特徵與功能如下，俾利完全了解。

請參閱第一圖至第三圖所示，係為本新型較佳實施例之立體圖至偏心示意圖，由圖中可清楚看出本新型係包括：

一平面部1，該平面部1之寬度界定為平面寬度A，並於該平面部1中央界定有一平面中心線11；

一第一上彎折部21，係彎折形成於該平面部1之上端處；

一第一上延伸部22，係延伸形成於該第一上彎折部21一側；

一第二上彎折部23，係彎折形成於該第一上延伸部22端處；

一第二上延伸部24，係延伸形成於該第二上彎折部23一側，且該第二上延伸部24之寬度界定為上摺料寬度B；

一第一下彎折部31，係彎折形成於該平面部1之下端處；

一第一下延伸部32，係延伸形成於該第一下彎折部31一側；

一第二下彎折部33，係彎折形成於該第一下延伸部32端處；

一第二下延伸部34，係延伸形成於該第二下彎折部33一側，該第二下延伸部34之寬度界定為下摺料寬度C，且該第二上延伸部24與該第二下延伸部34之最遠距離界定為口罩總面寬T，並於該口罩總面寬T中央界定有一口罩中心線L，該平面中心線11與該口罩中心線L之距離長度則界定為偏移寬度D；及

其中，該平面寬度A相對該口罩總面寬T的百分比範圍為42%至64%，該上摺料寬度B相對該口罩總面寬T的百分比範圍為42%至48%，該下摺料寬度C相對該口罩總面寬T的百分比範圍為31%至39%，該平面中心線11位置低於該口罩中心線L，且該偏移寬度D相對該口罩總面寬T的百分比範圍為2%至10%。

藉由上述之說明，已可了解本技術之結構，而依據這個結構之對應配合，更可達到較佳之透氣性、延伸性、包覆性及圖面完整性等優勢，而詳細之解說將於下述說明。

請同時配合參閱第一圖至第五圖所示，係為本新型較佳實施例之立體圖至配戴示意圖(二)，藉由上述構件組構時，由圖中可清楚看出，本案之口罩從上到下係由第二上延伸部24、第二上彎折部23、第一上延伸部22、第一上彎折部21、平面部1、第一下彎折部31、第一下延伸部32、第二下彎折部33、至第二下延伸部34一體成形摺疊而成，且口罩本身可為單層、或多層材質的平面口罩，故具體而言只會在第二上彎折部23、第一上彎折部21、第一下彎折部31、及第二下彎折部33處留有摺痕，且平面部1的平面寬度A為口罩總面寬T的42%~64%，意即除了上下兩端的熔接部分，正面部分幾乎都是平面部1，故乃最大化的利用了口罩正面的面積。如此一來，結合於平面部1上的圖形、LOGO、廣告內容等圖樣12，完全不會被摺疊處影響，可大幅提升圖樣12的完整性及視覺美觀，且摺疊後實際上只能算有平面部1及第二上延伸部24(或第二下延伸部34)兩層，故在左右兩側熔接固定後，展開動作幾乎不受熔接效果侷限，不但可輕易撐開第一上延伸部22及第二上延伸部24(或第一下延伸部32及第二下延伸部34)，且可利用第一上延伸部22、第二上延伸部24、第一下延伸部32及第二下延伸部34支撐平面部 1，使其與平面部1間形成一較大的呼氣空間4，而有助於呼吸順暢度的提升。

再者，由於口鼻位置關係，不論由鼻子呼吸或嘴巴呼吸，最需要透氣性的位置應落在口罩偏下的位置，故將第二上延伸部24的上摺料寬度B設計為相對口罩總面寬T的百分比範圍為42%至48%，及將第二下延伸部34的下摺料寬度C相對口罩總面寬T的百分比範圍為31%至39%，使上摺料寬度B大於下摺料寬度C，以藉此上下寬度不對稱之設計，在第一上延伸部22及第二上延伸部24拉伸展開後，讓平面部1能更正對於口鼻的呼氣位置，而第一下延伸部32及第二下延伸部34拉伸展開後，則可適當的包覆下巴，既可確實貼合，也不會影響舒適度。同時配合將平面部1的位置配置相對於整體口罩略為偏下之設計，更確實讓口罩展開後的平面部1直接正對口鼻的呼氣位置，具體而言，平面部1的平面中心線11會低於口罩總面寬T的口罩中心線L，且該偏移寬度D相對口罩總面寬T的百分比範圍為2%至10%，換言之，從口罩的最上端(第二上延伸部24的端處)到平面中心線11的長度相對口罩總面寬T的百分比範圍為52%至60%，且因口鼻處對應的平面部1沒有任何的皺褶，可最大化的發揮口罩的透氣性。

再請同時配合參閱第六圖所示，係為本新型再一較佳實施例之剖視圖，由圖中可清楚看出，本實施例與上述實施例為大同小異，僅於該第二上延伸部24a背離該第二上彎折部23a一端向外翻摺形成一鼻線端241a，該第二下延伸部34a背離該第二下彎折部33a一端向外翻摺形成一收邊部341a，該第二上彎折部23a與該第二下彎折部33a間形成一間隔段13a，其中鼻線端241a及收邊部341a分別為口罩上下兩端的翻折收邊結構，除了可避免口罩邊緣毛躁、脫線，也可增加美觀性，鼻線端241a處的翻折則可同時將鼻壓條藏納於內部，而間隔段13a之寬度相對該口罩總面寬T的百分比範圍為15%至27%，故間隔段13a的寬度大約為平面寬度A的20%~40%，藉此使口罩的拉伸動作較為輕鬆。另外，本實施例中，平面寬度A相對口罩總面寬T的百分比範圍較佳值為62%至64%，上摺料寬度B相對口罩總面寬T的百分比範圍為42%至43%，且下摺料寬度C相對口罩總面寬T的百分比範圍為36%至37%。

又請同時配合參閱第七圖所示，係為本新型又一較佳實施例之剖 視圖，由圖中可清楚看出，本實施例與上述實施例為大同小異，僅將該間隔段13b之寬度調整成相對於口罩總面寬T的百分比範圍較佳值為19%至21%，上摺料寬度B調整成相對口罩總面寬T的百分比範圍為47%至48%，且下摺料寬度C調整成相對口罩總面寬T的百分比範圍為31%至32%，藉此說明本新型尺寸的多變性。

另請同時配合參閱第八圖所示，係為本新型另一較佳實施例之剖視圖，由圖中可清楚看出，本實施例與上述實施例為大同小異，僅將該平面寬度A調整成相對口罩總面寬T的百分比範圍較佳值為52%至64%、上摺料寬度B調整成相對口罩總面寬T的百分比範圍為45%至46%，且下摺料寬度C調整成相對口罩總面寬T的百分比範圍為38%至39%，藉此說明本新型尺寸的多變性。

惟，以上所述僅為本新型之較佳實施例而已，非因此即侷限本新型之專利範圍，故舉凡運用本新型說明書及圖式內容所為之簡易修飾及等效結構變化，均應同理包含於本新型之專利範圍內，合予陳明。

綜上所述，本新型之口罩之結構於使用時，為確實能達到其功效及目的，故本新型誠為一實用性優異之新型，為符合新型專利之申請要件，爰依法提出申請，盼 審委早日賜准本新型，以保障創作人之辛苦創作，倘若 鈞局審委有任何稽疑，請不吝來函指示，創作人定當竭力配合，實感德便。

1:平面部

21:第一上彎折部

22:第一上延伸部

23:第二上彎折部

24:第二上延伸部

31:第一下彎折部

32:第一下延伸部

33:第二下彎折部

34:第二下延伸部

A:平面寬度

B:上摺料寬度

C:下摺料寬度

T:口罩總面寬

Claims (10)

1. 一種口罩之結構，並主要包括：

   一平面部，該平面部之寬度界定為平面寬度，並於該平面部中央界定有一平面中心線；

   一第一上彎折部，係彎折形成於該平面部之上端處；

   一第一上延伸部，係延伸形成於該第一上彎折部一側；

   一第二上彎折部，係彎折形成於該第一上延伸部端處；

   一第二上延伸部，係延伸形成於該第二上彎折部一側，且該第二上延伸部之寬度界定為上摺料寬度；

   一第一下彎折部，係彎折形成於該平面部之下端處；

   一第一下延伸部，係延伸形成於該第一下彎折部一側；

   一第二下彎折部，係彎折形成於該第一下延伸部端處；

   一第二下延伸部，係延伸形成於該第二下彎折部一側，該第二下延伸部之寬度界定為下摺料寬度，且該第二上延伸部與該第二下延伸部之最遠距離界定為口罩總面寬，並於該口罩總面寬中央界定有一口罩中心線，該平面中心線與該口罩中心線之距離長度則界定為偏移寬度；

   及

   其中，該平面寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為42%至64%，該上摺料寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為42%至48%，該下摺料寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為31%至39%，該平面中心線位置低於該口罩中心線，且該偏移寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為2%至10%。
2. 如申請專利範圍第1項所述之口罩之結構，其中該第二上彎折部與該第二下彎折部間形成一間隔段，且該間隔段之寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為15%至27%。
3. 如申請專利範圍第2項所述之口罩之結構，其中該間隔段之寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍較佳值為19%至21%。
4. 如申請專利範圍第1項所述之口罩之結構，其中該平面寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍較佳值為52%至64%。
5. 如申請專利範圍第4項所述之口罩之結構，其中該平面寬度相對該口 罩總面寬的百分比範圍較佳值為62%至64%。
6. 如申請專利範圍第1項所述之口罩之結構，其中該上摺料寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為42%至43%，且該下摺料寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為36%至37%。
7. 如申請專利範圍第1項所述之口罩之結構，其中該上摺料寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為47%至48%，且該下摺料寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為31%至32%。
8. 如申請專利範圍第1項所述之口罩之結構，其中該上摺料寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為45%至46%，且該下摺料寬度相對該口罩總面寬的百分比範圍為38%至39%。
9. 如申請專利範圍第1項所述之口罩之結構，其中該第二上延伸部背離該第二上彎折部一端向外翻摺形成一鼻線端。
10. 如申請專利範圍第1項所述之口罩之結構，其中該第二下延伸部背離該第二下彎折部一端向外翻摺形成一收邊部。

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