TWM609759U - 浮動連接器 - Google Patents
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Abstract
本創作提供一種浮動連接器包含一第一殼體、一第二殼體、一限位件與一端子。第一殼體形成一容置空間、一浮動空間與一狹縫。第二殼體具有一插入導引部、一舌板與一浮動塊。第二殼體形成一連接空間以設置舌板並顯露於具有內斜面的插入導引部。在第二殼體之二側邊分別地形成具有擋牆的凹陷部,浮動塊分別地形成在該第二殼體的二側邊並且分別地設置在浮動空間。限位件係分別地設置於狹縫。限位件與擋牆能夠決定浮動塊於浮動空間的浮動距離,以限制浮動塊在浮動空間移動。端子設置在容置空間與連接空間。
Description
本創作為一種浮動連接器的技術領域,特別是一種小尺寸的浮動連接器。
傳統的連接器,為了能夠避免在使用者組裝過程中,因為例如過度施加外力而造成連接器的損壞,遂發展出可以浮動的連接器。
傳統的做法是,連接器採用多個元件的組成,例如插入導引件、浮動距離及浮動擋牆等,藉由在元件與元件之間提供空間,以達到浮動的目的;然而,傳統的做法是,在原有元件的結構之外直接增加可供浮動的空間,但是缺點是使得原有的元件的尺寸變得更大,導致於擠壓到其他元件的設置。
有鑑於此,本創作提出一種浮動連接器,其用以解決傳統端子因插入導引件、浮動距離及浮動擋牆所累加空間所造成的問題。
本創作之第一目的係提供一種浮動連接器,係能夠在殼體上
形成凹陷部以重疊插入導引部與浮動距離,以解決傳統插入導引部受限於浮動擋牆與限位件所需要增加額外空間,進而達到縮減連接器的整體體積的目的。
本創作之第二目的係根據前述的浮動連接器,係藉由投影重疊插入導引部的內斜面與浮動塊,而達到縮減連接器的體積的目的。
本創作之第三目的係根據前述的浮動連接器,係藉由擋牆與限位件而決定移動的浮動距離。
本創作之第四目的係根據前述的浮動連接器,係提供狹縫供限位件以一方向插入,而不致因體積減縮而產生元件彼此干涉的問題。
本創作之第五目的係根據前述的浮動連接器,係可應用在直立式連接器與橫向式連接器的場域。
本創作之第六目的係根據前述的浮動連接器,係在第一端子與第二端子之間形成具有非固定長度的電極距離,以隨浮動塊在浮動空間移動而產生形變且相互不接觸。
本創作之第七目的係提供一種浮動連接器製作方法,以製作體積縮化的浮動連接器。
為達到上述目的與其他目的,本創作提供一種浮動連接器,係包含一第一殼體、一第二殼體、一限位件與一端子。第一殼體形成一容置空間、一浮動空間與一狹縫。浮動空間分別地以一第一方向形成在容置空間的二側邊,且狹縫分別地形成在浮動空間的一第二方向的二側邊。其中,第一方向垂直於第二方向。第二殼體設置在容置空間。第二殼體具有一插入導引部、一舌板與一浮動塊。第二殼體形成一連接空間以設置舌板
並顯露於插入導引部。在第二殼體之二側邊分別地形成具有擋牆的凹陷部。浮動塊分別地形成在第二殼體的二側邊並且分別地設置在浮動空間。限位件係分別地設置於狹縫。限位件與擋牆決定浮動塊於浮動空間的浮動距離,以限制浮動塊在浮動空間在第一方向與第二方向之至少一者的移動。端子係設置在容置空間與連接空間。
為達到上述目的與其他目的,本創作提供一種浮動連接器製作方法,係包含步驟(a)形成具有一容置空間、一浮動空間與一狹縫的一第一殼體;(b)形成具有一插入導引部、一舌板與一浮動塊的一第二殼體,其中第二殼體在插入導引部的二側邊分別地形成具有一擋牆的一凹陷部,而浮動塊之一部分位於凹陷部;(c)結合第一殼體與第二殼體,以讓浮動塊設置於浮動空間;(d)將一限位件插入狹縫以將浮動塊限位在浮動空間;以及(e)擋牆與限位件決定一浮動距離。
相較於習知的技術,本創作提供浮動連接器,藉由在殼體上形成凹陷部以重疊插入導引部與浮動距離,且特別是仍可以維持傳統原有的插入導引,進而製作出相較於傳統浮動連接器更小體積的浮動連接器,即是本創作維持了傳統插入導引部的完整及解決了傳統插入導引部與浮動檔牆所累加的空間所造成體積增加的問題。
4:端子
10、10’:浮動連接器
12、12’:第一殼體
122:狹縫
124:第一電極導引槽
126:浮動擋牆
14、14’:第二殼體
142:插入導引部
1422:凹陷部
1424:內斜面
1426:外斜面
1428:擋牆
1430:缺口
144:舌板
1442:第二電極導引槽
146、146’:浮動塊
16、16’:限位件
18、18’:端子
SP:容置空間
FSP:浮動空間
CSP:連接空間
圖1係本創作第一實施例之浮動連接器的結構示意圖。
圖2係說明本創作圖1之浮動連接器的詳細結構示意圖。
圖3(a)係說明本創作圖1之浮動連接器尚未產生浮動的剖面局部示意圖。
圖3(b)係說明本創作圖1之浮動連接器產生浮動的剖面局部示意圖。
圖4係說明本創作圖1之浮動連接器與另一連接器的連接示意圖。
圖5係本創作第二實施例之浮動連接器的結構示意圖。
圖6係說明本創作圖5之端子的結構示意圖。
圖7係本創作第三實施例之浮動連接器的結構示意圖。
圖8係本創作第四實施例之動連接器製作方法的流程示意圖。
為充分瞭解本創作之目的、特徵及功效,茲藉由下述具體之實施例,並配合所附之圖式,對本創作做一詳細說明,說明如後。
於本創作中,係使用「一」或「一個」來描述本文所述的單元、元件和組件。此舉只是為了方便說明,並且對本創作之範疇提供一般性的意義。因此,除非很明顯地另指他意,否則此種描述應理解為包括一個、至少一個,且單數也同時包括複數。
於本創作中,用語「包含」、「包括」、「具有」、「含有」或其他任何類似用語意欲涵蓋非排他性的包括物。舉例而言,含有複數要件的一元件、結構、製品或裝置不僅限於本文所列出的此等要件而已,而是可以包括未明確列出但卻是該元件、結構、製品或裝置通常固有的其他要件。除此之外,除非有相反的明確說明,用語「或」是指涵括性的「或」,而不是指排他性的「或」。
請參考圖1,係本創作第一實施例之浮動連接器的結構示意
圖。在圖1中,浮動連接器10係為一個公端(或稱插頭)結構,其用來與母座(或稱插座)(圖未示)結構進行電性連接。
浮動連接器10包含一第一殼體12、一第二殼體14、一限位件16與一端子18。一併參考圖2,係說明本創作圖1之浮動連接器的詳細結構示意圖。
在圖2中,第一殼體12形成一容置空間SP、一浮動空間FSP與一狹縫122。浮動空間FSP分別地以一第一方向(圖中的X方向)形成在容置空間SP的二側邊,且狹縫122分別地形成在浮動空間FSP的一第二方向(圖中的Y方向)的二側邊。第一方向垂直於第二方向。
於此,第一殼體12更包含第一電極導引槽124。第一電極導引槽124分別地形成在容置空間SP的二內壁,以限位端子18之一部分。
第二殼體14具有一插入導引部142、一舌板144與一浮動塊146。
第二殼體14設置在容置空間SP,使得第二殼體14形成一連接空間CSP以設置舌板144並顯露於插入導引部142。其中,舌板144更包含第二電極導引槽1442。第二電極導引槽1442分別地形成在舌板144的二外壁,以限位端子18之另一部分。
於此,插入導引部142更為了能夠容易耦合母座,係在插入導引部142之內壁形成內斜面1424,以供母座容易滑入連接空間CSP。此外,由於插入導引部142形成內斜面1424,使得在插入導引部142之外壁形成外斜面1426。
在第二殼體14的二側邊分別地形成具有擋牆1428的一凹陷
部1422。於此,凹陷部1422指的是從插入導引部142之外斜面1426到第二殼體14之底部所形成的空間。其中,擋牆1428是在第二殼體14的外表面且位於凹陷部1422的位置。
浮動塊146分別地形成在第二殼體14的二側邊並且分別地設置在浮動空間FSP。其中,浮動塊146之一部分位於凹陷部1422,即是浮動塊146部分是重疊在凹陷部1422。
限位件16分別地設置於狹縫122。於此,限位件16與擋牆1428決定浮動塊146於浮動空間FSP的浮動距離d(參考圖3(a)與(b)的說明),以限制浮動塊146在浮動空間FSP在X方向、Y方向、Z方向或其任二者方向的移動。於此,限位件16更包含板體162與底部164。其中,板體162連接底部164。板體162與底部164以X方向插入狹縫122。其中,板體162與底部164構成C型體。
一併參考圖3(a)與圖3(b),係說明本創作圖2之第一殼體、第二殼體與限位件的狀態示意圖。在圖3(a)中,係說明本創作圖1之浮動連接器尚未產生浮動的剖面局部示意圖;以及,在圖3(b)中,係說明本創作圖1之浮動連接器產生浮動的剖面局部示意圖。
在圖3(a)中,第二殼體14在不受到外力的施加之下,呈現靜止的狀態,浮動塊146受到板體162的限制而被限位於浮動空間FSP,使得第二殼體14不會從容置空間SP脫落,又,擋牆1428與板體162的邊緣相距浮動距離d。
在圖3(b)中,第二殼體14在受到外力的施加之下,使得第二殼體14在第一殼體12的朝移動方向位移,使得浮動塊146雖仍受到板體162
的限制而被限位於浮動空間FSP;但是,由於擋牆1428與板體162的邊緣之間的浮動距離d,使得擋牆1428朝板體162的邊緣相移動而讓浮動距離d越來越短,直到擋牆1428觸碰到板體162的邊緣時,則第二殼體14受到擋牆1428與板體162的限位而無法再朝原本的移動方向繼續移動。值得注意的是,浮動空間FSP可形成浮動擋牆126與浮動塊146可形成缺口1430。浮動擋牆126對應缺口1430,使得浮動塊146移動且觸及浮動擋牆126時,缺口1430接合浮動擋牆126。其中,浮動擋牆126的厚度是小於或等於缺口1430的高度,使得浮動連接器10的整體體積可以獲得縮減。
端子18係設置在容置空間SP與連接空間CSP,以連接電路板的電性接點或母座上的端子(圖未示)。
一併參考圖4,係說明本創作圖1之浮動連接器與另一連接器的連接示意圖。於圖4中,另一連接器2係以直下方式插入浮動連接器10,使得另一連接器2的另一端子4電性連接浮動連接器10的端子18。
一併參考圖5,係本創作第二實施例之浮動連接器的結構示意圖。於圖5中,浮動連接器10’包含第一殼體12’、第二殼體14’、限位件16’與端子18’,與一實施例不同的是,在本實施例中,第二殼體14’為L體結構。
第一殼體12’、第二殼體14’、限位件16’與端子18’的描述可以對應第一實施例中的第一殼體12、第二殼體14、限位件16與端子18,於此不贅述。
值得注意的是,一併參考圖6,係說明圖5之端子的結構示意圖。在圖6中,端子18’是由第一電極182與第二電極184所組成。第一電極182與第二電極184受浮動塊146’在浮動空間FSP移動而產生形變且相互不接
觸。其中,第一電極182與第二電極184之間具有非固定長度的電極距離D。
參考圖7,係本創作第三實施例之浮動連接器的結構示意圖。於圖7中,係由兩個浮動連接器10透過電路板6進行連接的示意圖。值得注意的是,每一浮動連接器10,在連接空間CSP的二內壁可以另外形成卡扣塊(圖未示)用以卡扣位於電路板6二側邊的缺口(圖未示),藉由卡扣塊卡扣缺口,使得兩個浮動連接器10與電路板6穩固地連接。
參考圖8,係本創作第四實施例之動連接器製作方法的流程示意圖。在圖8中,浮動連接器製作方法的步驟起始於步驟S81,係形成具有容置空間、浮動空間與狹縫的第一殼體。
步驟S82,係形成具有插入導引部、舌板與浮動塊的第二殼體。其中,第二殼體在插入導引部的二側邊分別地形成具有擋牆的凹陷部,而浮動塊之一部分位於凹陷部。其中,第二殼體是由射出成型、模具成型或切割成型所形成。
步驟S83,係結合第一殼體與第二殼體,以讓浮動塊設置於浮動空間。
步驟S84,係將限位件插入狹縫以將浮動塊限位在浮動空間。
步驟S85,係擋牆與限位件決定浮動距離。
本創作在上文中已以較佳實施例揭露,然熟習本項技術者應理解的是,實施例僅用於描繪本創作,而不應解讀為限制本創作之範圍。應注意的是,舉凡與實施例等效之變化與置換,均應設為涵蓋於本創作之範疇內。因此,本創作之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。
10:浮動連接器
12:第一殼體
14:第二殼體
16:限位件
18:端子
Claims (9)
- 一種浮動連接器,係包含:第一殼體,係形成容置空間、浮動空間與狹縫,該浮動空間分別地以第一方向形成在該容置空間的二側邊,且該狹縫分別地形成在該浮動空間的第二方向的二側邊,其中該第一方向垂直於該第二方向;第二殼體,係設置在該容置空間,該第二殼體具有插入導引部、舌板與浮動塊,且該第二殼體形成連接空間以設置該舌板並顯露於該插入導引部,在第二殼體之二側邊分別地形成具有擋牆的凹陷部,該浮動塊分別地形成在該第二殼體的二側邊並且分別地設置在該浮動空間;限位件,係分別地設置於該狹縫,該限位件與該擋牆決定該浮動塊於該浮動空間的浮動距離,以限制該浮動塊在該浮動空間在該第一方向與該第二方向之至少一者的移動;以及端子,係設置在該容置空間與該連接空間。
- 如申請專利範圍第1項所述之浮動連接器,其中該第一殼體更包含第一電極導引槽,係分別地形成在該容置空間的二內壁,以限位在該端子之一部分。
- 如申請專利範圍第1項所述之浮動連接器,其中該舌板更包含第二電極導引槽,係分別地形成在該舌板的二外壁,以限位該端子之另一部分。
- 如申請專利範圍第1項所述之浮動連接器,其中插入導引部之內壁形成內斜面。
- 如申請專利範圍第1項所述之浮動連接器,其中該浮動空間形成浮動擋牆與該浮動塊形成缺口,該浮動擋牆對應該缺口,使得該浮動塊移動且觸 及該浮動擋牆時,該缺口接合該浮動擋牆,其中該浮動擋牆的厚度是不大於該缺口的高度。
- 如申請專利範圍第1項所述之浮動連接器,其中該限位件更包含板體與底部,該板體連接該底部,該板體與該底部以該第一方向插入該狹縫,其中該板體與該底部構成C型體。
- 如申請專利範圍第1項所述之浮動連接器,其中該第二殼體為L體結構。
- 如申請專利範圍第1項所述之浮動連接器,其中該端子由第一電極與第二電極所組成,該第一電極與該第二電極受該浮動塊在該浮動空間移動而產生形變且相互不接觸,其中該第一電極與該第二電極之間具有非固定長度的電極距離。
- 如申請專利範圍第1項所述之浮動連接器,其中該第二殼體之該連接空間的內壁更包含卡扣塊,以供卡扣位於外部之電路板之側邊的缺口,藉由該卡扣塊卡扣該缺口,使得該第二殼體穩固地連接該電路板。
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Family Applications (1)
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TW109213016U TWM609759U (zh) | 2020-09-29 | 2020-09-29 | 浮動連接器 |
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