TWM580878U - Hydrogen water bubble treatment device - Google Patents

Abstract

本創作係提供一種氫水氣泡的處理裝置，其包含：一消泡單元，其依序連通有一第一氫水入口、一第一氫水混合空間、一消泡通道、一第二氫水混合空間及一第一氫水出口，該第一氫水入口位於該第一氫水出口的上方，該消泡通道內設置有複數螺旋片體。藉此，本創作之氫水氣泡的處理裝置可破壞氫水中的氫氣氣泡以提高氫氣溶於水的含量。

Description

氫水氣泡的處理裝置

本創作係關於一種氫水氣泡的處理裝置，尤指一種可破壞氫水中的氫氣氣泡以提高氫氣溶於水的含量者。

目前市面上已流通有氫水產生裝置，然而一般的氫水產生裝置中氫氣溶於水的含量普遍不高。因此，如何創作出一種氫水氣泡的處理裝置，以使其可破壞氫水中的氫氣氣泡以提高氫氣溶於水的含量，將是本創作所欲積極揭露之處。

有鑑於上述習知技術之缺憾，創作人有感其未臻於完善，遂竭其心智悉心研究克服，進而研發出一種氫水氣泡的處理裝置，以期達到可破壞氫水中的氫氣氣泡以提高氫氣溶於水的含量的目的。

為達上述目的及其他目的，本創作係提供一種氫水氣泡的處理裝置，其包含：一消泡單元，其依序連通有一第一氫水入口、一第一氫水混合空間、一消泡通道、一第二氫水混合空間及一第一氫水出口，該第一氫水入口位於該第一氫水出口的上方，該消泡通道內設置有複數螺旋片體。

本創作之另一實施例中，該第一氫水入口進入該第一氫水混合空間後的流通面積變大，該第一氫水混合空間進入該消泡通道後的流通面積變小，該消泡通道進入該第二氫水混合空間後的流通面積變大，該第二氫水混合空間進入該第一氫水出口後的流通面積變小。

本創作之另一實施例中，該消泡單元具有一第一蓋體、一消泡管體及一第二蓋體，該第一蓋體及該第二蓋體分別蓋合於該消泡管體的二端，該第一氫水入口位於該第一蓋體，該第一氫水出口位於該第二蓋體，該第一氫水混合空間、該消泡通道及該第二氫水混合空間位於該消泡管體。

本創作之另一實施例中，更包含一起泡單元，該起泡單元具有一節流器及至少一蓄壓單元，該蓄壓單元依序連通有一第二氫水入口、一蓄壓空間及一第二氫水出口，該第二氫水入口位於該第二氫水出口的上方，該第二氫水入口進入該蓄壓空間後的流通面積變大，該蓄壓空間進入該第二氫水出口後的流通面積變小，該節流器連接於該第二氫水出口與該第一氫水入口之間。

本創作之另一實施例中，該蓄壓單元具有一第三蓋體及一蓄壓瓶體，該第三蓋體蓋合於該蓄壓瓶體，該第二氫水入口位於該第三蓋體，該蓄壓空間及該第二氫水出口位於該蓄壓瓶體。

本創作之另一實施例中，該蓄壓單元為複數時，更包含一分流管及一集流管，該分流管連接該等第二氫水入口，該集流管連接於該等第二氫水出口與該節流器之間。

藉此，本創作之氫水氣泡的處理裝置可破壞氫水中的氫氣氣泡以提高氫氣溶於水的含量。

1‧‧‧消泡單元

11‧‧‧第一蓋體

111‧‧‧第一氫水入口

12‧‧‧第二蓋體

121‧‧‧第一氫水出口

13‧‧‧消泡管體

131‧‧‧第一氫水混合空間

132‧‧‧第二氫水混合空間

133‧‧‧消泡通道

1331‧‧‧螺旋片體

2‧‧‧蓄壓單元

21‧‧‧第三蓋體

211‧‧‧第二氫水入口

22‧‧‧蓄壓瓶體

221‧‧‧蓄壓空間

222‧‧‧第二氫水出口

3‧‧‧節流器

4‧‧‧起泡單元

5‧‧‧分流管

51‧‧‧氫水入口

6‧‧‧集流管

61‧‧‧氫水出口

7‧‧‧氫水產生裝置

71‧‧‧氫氧氣產生單元

72‧‧‧供水單元

73‧‧‧加熱單元

74‧‧‧流體驅動單元

[圖1]係本創作較佳實施例消泡單元之分解示意圖。

[圖2]係本創作較佳實施例消泡單元之組合示意圖。

[圖3]係本創作較佳實施例消泡單元之剖面示意圖。

[圖4]係本創作較佳實施例蓄壓單元之分解示意圖。

[圖5]係本創作較佳實施例蓄壓單元之組合示意圖。

[圖6]係本創作較佳實施例蓄壓單元之剖面示意圖。

[圖7]係本創作較佳實施例二蓄壓單元之組合示意圖。

[圖8]係本創作較佳實施例消泡單元、起泡單元及氫水產生裝置之方塊示意圖。

為充分瞭解本創作之目的、特徵及功效，茲藉由下述具體之實施例，並配合所附之圖式，對本創作做一詳細說明，說明如後：請參考圖1至圖3，如圖所示，本創作係提供一種氫水氣泡的處理裝置，其包含一消泡單元1，該消泡單元1依序連通有一第一氫水入口111、一第一氫水混合空間131、一消泡通道133、一第二氫水混合空間132及一第一氫水出口121，該第一氫水入口111位於該第一氫水出口121的上方，該消泡通道133內設置有複數螺旋片體1331。

如上所述，氫水由該第一氫水入口111進入該第一氫水混合空間131後先蓄壓，之後蓄壓後的氫水進入該消泡通道133後經由該消泡通道133內的該等螺旋片體1331破壞氫水中的氫氣氣泡，以使氫氣氣泡微小化後增加表面積而易於溶於水，接著氫水進入該第二氫水混合空間132後再蓄壓以進一步提高氫氣溶於水的含量，最後氫水便由該第一氫水出口121流出以供人飲用。藉此，本創作之氫水氣泡的處理裝置可破壞氫水中的氫氣氣泡以提高氫氣溶於水的含量。

請參考圖3，如圖所示，本創作之另一實施例中，該第一氫水入口111進入該第一氫水混合空間131後的流通面積可變大，該第一氫水混合空間131進入該消泡通道133後的流通面積可變小，該消泡通道133進入該第二氫水混合空間132後的流通面積可變大，該第二氫水混合空間132進入該第一氫水出口121後的流通面積可變小。藉此，氫水可充分在該第一氫水混合空間131及該第二氫水混合空間132中蓄壓。

請參考圖1至圖3，如圖所示，本創作之另一實施例中，該消泡單元1可具有一第一蓋體11、一消泡管體13及一第二蓋體12，該第一蓋體11及該第二蓋體12分別蓋合於該消泡管體13的二端開口，該第一氫水入口111位於該第一蓋體11，該第一氫水出口121位於該第二蓋體12，該第一氫水混合空間131、該消泡通道133及該第二氫水混合空間132位於該消泡管體13。藉此，該消泡單元1可易於製作及組裝。

請參考圖4至圖6及圖8，如圖所示，本創作之另一實施例中，更可包含一起泡單元4，該起泡單元4可具有一節流器3及至少一蓄壓單元2，該節流器3可為調節流體流量或壓力的裝置，該蓄壓單元2依序連通有一第二氫水入口211、一蓄壓空間221及一第二氫水出口222，該第二氫水入口211位於該第二氫水出口222的上方，該第二氫水入口211進入該蓄壓空間221後的流通面積變大，該蓄壓空間221進入該第二氫水出口222後的流通面積變小，該節流器3連接於該第二氫水出口222與該第一氫水入口111之間。藉此，氫水可由該第二氫水入口211進入該蓄壓空間221後蓄壓，之後蓄壓後的氫水可經由該第二氫水出口222進入該節流器3後使氫水中的氫氣氣泡增加，進而使氫氣與水的接觸面積增加，接著氫水便可經由該第一氫水入口111進入該消泡單元1。

請參考圖4至圖6，如圖所示，本創作之另一實施例中，該蓄壓單元2可具有一第三蓋體21及一蓄壓瓶體22，該第三蓋體21蓋合於該蓄壓瓶體22的瓶口，該第二氫水入口211位於該第三蓋體21，該蓄壓空間221及該第二氫水出口222位於該蓄壓瓶體22。藉此，該蓄壓單元2可易於製作及組裝。

請參考圖7及圖8，如圖所示，本創作之另一實施例中，該蓄壓單元2為複數時，該氫水氣泡的處理裝置更可包含一分流管5及一集流管6，該分流管5可連接該等第二氫水入口211，該分流管5的氫水入口51可連接一氫水產生裝置7的流體驅動單元74，該集流管6可連接該等第二氫水出口222，該集流管6的氫水出口61可連接該節流器3。

請參考圖1至圖8，如圖所示，本創作之氫水氣泡的處理裝置可應用於一氫水產生裝置7，該氫水產生裝置7可包含一氫氧氣產生單元71、一供水單元72、一加熱單元73及一流體驅動單元74。該氫氧氣產生單元71可為產氫原件或固態電解槽且具有一質子交換膜(圖未示)，該氫氧氣產生單元7可經由該質子交換膜將水電解成氫及氧，該供水單元72可為水箱，該加熱單元73可為電子式，該流體驅動單元74可為幫浦。該供水單元72所提供的水可經由該加熱單元73加熱，該氫氧氣產生單元71所產生的氫氣與該加熱單元73所加熱的水匯集後可經由該流體驅動單元74的驅動而流動至該起泡單元4的蓄壓單元2，或直接流動至該消泡單元1。藉此，本創作之氫水氣泡的處理裝置可協助該氫水產生裝置7破壞氫水中的氫氣氣泡以提高氫氣溶於水的含量。

本創作在上文中已以較佳實施例揭露，然熟習本項技術者應理解的是，該實施例僅用於描繪本創作，而不應解讀為限制本創作之範圍。應注 意的是，舉凡與該實施例等效之變化與置換，均應設為涵蓋於本創作之範疇內。因此，本創作之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。

Claims (6)

1. 一種氫水氣泡的處理裝置，其包含：一消泡單元，其依序連通有一第一氫水入口、一第一氫水混合空間、一消泡通道、一第二氫水混合空間及一第一氫水出口，該第一氫水入口位於該第一氫水出口的上方，該消泡通道內設置有複數螺旋片體。
2. 如申請專利範圍第1項所述之氫水氣泡的處理裝置，其中該第一氫水入口進入該第一氫水混合空間後的流通面積變大，該第一氫水混合空間進入該消泡通道後的流通面積變小，該消泡通道進入該第二氫水混合空間後的流通面積變大，該第二氫水混合空間進入該第一氫水出口後的流通面積變小。
3. 如申請專利範圍第1項所述之氫水氣泡的處理裝置，其中該消泡單元具有一第一蓋體、一消泡管體及一第二蓋體，該第一蓋體及該第二蓋體分別蓋合於該消泡管體的二端，該第一氫水入口位於該第一蓋體，該第一氫水出口位於該第二蓋體，該第一氫水混合空間、該消泡通道及該第二氫水混合空間位於該消泡管體。
4. 如申請專利範圍第1項所述之氫水氣泡的處理裝置，其中更包含一起泡單元，該起泡單元具有一節流器及至少一蓄壓單元，該蓄壓單元依序連通有一第二氫水入口、一蓄壓空間及一第二氫水出口，該第二氫水入口位於該第二氫水出口的上方，該第二氫水入口進入該蓄壓空間後的流通面積變大，該蓄壓空間進入該第二氫水出 口後的流通面積變小，該節流器連接於該第二氫水出口與該第一氫水入口之間。
5. 如申請專利範圍第4項所述之氫水氣泡的處理裝置，其中該蓄壓單元具有一第三蓋體及一蓄壓瓶體，該第三蓋體蓋合於該蓄壓瓶體，該第二氫水入口位於該第三蓋體，該蓄壓空間及該第二氫水出口位於該蓄壓瓶體。
6. 如申請專利範圍第4項所述之氫水氣泡的處理裝置，其中該蓄壓單元為複數時，更包含一分流管及一集流管，該分流管連接該等第二氫水入口，該集流管連接於該等第二氫水出口與該節流器之間。