TWM574939U - Greenhouse negative ion rotary spray device - Google Patents

Abstract

本創作係指一種溫室的負離子旋轉噴霧裝置，其中，該溫室內份佈有栽培支撐架，且該溫室配置有負離子旋轉噴霧裝置，該負離子旋轉噴霧裝置具有空氣加壓元件，該空氣加壓元件銜接有負離子產生元件，該負離子產生元件內部納置有薄片化之鋁鎂合金製作的負離子振盪體，且該負離子產生器銜接有出氣管，該出氣管銜接有氣體噴頭，該氣體噴頭銜接有混合元件，該混合元件內設有液體容室，該液體容室內可容納有該氣體噴頭及水，而後，該負離子旋轉噴霧裝置設置有抽取該液體容室內之該水的抽水元件，該抽水元件連接有對應該栽培支撐架分佈之旋轉座定向管，該旋轉座定向管末端導接可旋轉的噴霧旋轉座，該噴霧旋轉座固接有噴霧頭。

Description

溫室的負離子旋轉噴霧裝置

本創作係為一種溫室的負離子旋轉噴霧裝置，其中，該溫室配置有負離子旋轉噴霧裝置，該負離子旋轉噴霧裝置具有連接對應栽培支撐架分佈之可旋轉的噴霧旋轉座，該噴霧旋轉座設有噴霧頭的技術領域者。

首按，係指一運用於溫室灌溉之造霧。其造霧在使用上，就是要細化水分子，讓細微之水分子至少達成對溫室內之環境降溫與植物的噴灑灌溉。惟，其目前溫室灌溉之造霧至少具有：

一、旋轉離心造霧，一般係利用在空壓機驅動之旋轉器和霧粒噴散裝置作用下，利用離心力將水轉換成微小的霧滴造霧，並成為溫室噴灑灌溉之標的。而後，旋轉離心造霧也有其缺點，其缺點為：旋轉離心造霧只要在運作中，其空壓機就無法停止運轉，而運轉中之空壓機會產生極大噪音干擾環境安寧，而且噴灑灌溉之位置緊止於旋轉離心造霧的組裝處，致無法均勻至溫室內之整體植栽空間(如證書號：第M316491號案與第456176號案所示)。

二、高壓造霧，一般係利用將水據超高壓驅送後，再由霧化噴嘴噴出成霧化水珠，霧化水珠除可針對溫室內之空氣執行熱交換吸收及除塵外，也有益於溫室內之植栽噴灑灌溉，並可令溫室內具有保濕功能。然而，其高壓造霧之噴嘴無法任意調整方向及造霧角度有限，以至需要於不同角度需使用時，即需再裝接合適角度之噴嘴，以致常影響整場之噴嘴 與配管數額必須大量增加，但使用上之死角依舊無法完全排除，以致於溫室灌溉仍然有植栽枯萎之處(如證書號：第M487777號案與第M553101號案所示)。

然而，無論是旋轉離心造霧與高壓造霧在使用上，都有一定之死角，因此在溫室灌溉仍然有植栽枯萎之處，故可知，無論是旋轉離心造霧或高壓造霧實施都尚有效率不彰之處。

鑑於以上所述，得知習知旋轉離心造霧與高壓造霧在使用上都有噴灑死角的問題，因此，促使本案創作人朝向針對零死角噴灑之方向研發，並經由本案創作人多方思考，遂而思及，利用可旋轉之噴霧旋轉座是為最佳。

本創作之該溫室內份佈有栽培支撐架，且該溫室至少配置有一負離子旋轉噴霧裝置，該負離子旋轉噴霧裝置至少具有一空氣加壓元件，該空氣加壓元件至少銜接有一負離子產生元件，該負離子產生元件內部連通有該空氣加壓元件，並該負離子產生元件內部納置有薄片化之鋁鎂合金製作的負離子振盪體，且該負離子產生元件至少銜接有一互通內部之出氣管，該出氣管至少銜接有一氣體噴頭，該氣體噴頭至少銜接有一混合元件，該混合元件至少設有一液體容室，該液體容室內可容納有該氣體噴頭及水，而後，該負離子旋轉噴霧裝置設置有一抽取該液體容室內之該水的抽水元件，該抽水元件連接有對應該栽培支撐架分佈之旋轉座定向管，該旋轉座定向管末端導接一可360°旋轉的噴霧旋轉座，該噴霧旋轉座至少固接有一噴霧頭。

本創作之該噴霧旋轉座增設有相對之轉輪，該轉輪邊緣另等距分佈有翹曲之噴霧導板，且該噴霧旋轉座增設有對應該轉輪邊緣之噴襲該噴霧導板之噴霧頭。而後，該氣體噴頭另分佈有貫穿及導通該出氣管之微氣體噴孔。

A‧‧‧水

A1‧‧‧微氣泡

A2‧‧‧水霧

B‧‧‧植物

C‧‧‧菌類

1‧‧‧溫室

11‧‧‧栽培支撐架

2‧‧‧負離子旋轉噴霧裝置

21‧‧‧空氣加壓元件

22‧‧‧負離子產生元件

23‧‧‧負離子振盪體

24‧‧‧出氣管

25‧‧‧氣體噴頭

251‧‧‧微氣體噴孔

26‧‧‧混合元件

261‧‧‧液體容室

27‧‧‧抽水元件

28‧‧‧旋轉座定向管

29‧‧‧噴霧旋轉座

291‧‧‧噴霧頭

292‧‧‧轉輪

293‧‧‧噴霧導板

第1圖 係為本創作之溫室的負離子旋轉噴霧裝置配設示意圖。

第2圖 係為本創作之噴霧旋轉座示意圖。

第3圖 係為本創作之氣體噴頭示意圖。

今為使 貴審查委員對本創作有更進一步之瞭解，茲佐以下列實施例說明之。

本創作係為提供一種溫室的負離子旋轉噴霧裝置，其中，該溫室1內份佈有栽培支撐架11，且該溫室1至少配置有一負離子旋轉噴霧裝置2，該負離子旋轉噴霧裝置2至少具有一空氣加壓元件21，該空氣加壓元件21至少銜接有一負離子產生元件22，該負離子產生元件22內部導通有該空氣加壓元件21，並該負離子產生元件22內部納置有薄片化之鋁鎂合金製作的負離子振盪體23，且該負離子產生元件22至少銜接有一互通內部之該出氣管24，該出氣管24至少銜接有一氣體噴頭25，該氣體噴頭25至少銜接有一混合元件26，該混合元件26至少設有一液體容室261，該液體容室261內可容納有該氣體噴頭25及水A，而後，該負離子旋轉噴霧裝置2設置有一抽取該液體容室261內之該水A的抽水元件27，該抽水元件27連接有對應該栽培支撐架11分佈之旋轉座定向管28，該旋轉座定向管28末端導接一可360°旋轉的噴霧旋轉座29，該噴霧旋轉座29至少固接有一噴霧頭291(如：第1圖所示)。

是之，本創作之該負離子產生元件22係以薄片化之負離子振盪體23對空氣增加接觸面積，同時，據負離子振盪體23內含的鎂與氧氣結合成氧化鎂過程會產生燃爆振盪，由此燃爆振盪對空氣中水分子執行分裂成氫氣與負離子，再以該氣體噴頭25噴出及融入液體容室261之該水A中形成乳化狀之微氣泡A1，並透過該噴霧旋轉座29之該噴霧頭291將該水A與該微氣泡A1以 360°零死角旋轉噴灑水霧A2至該栽培支撐架11。再者，該水A中含有氫氣與負離子之該微氣泡A1，其含氫氣之該微氣泡A1恰可作為該溫室1內部所有物體接觸位置之微燃爆消毒及殺菌，而含有負離子之該微氣泡A1又可用於中和或消弭對活體細胞有十足破壞性之自由基。俾此，令該栽培支撐架11上所培養之植物B或菌類C無虞遭受污染及病毒與細菌的侵害，且令該栽培支撐架11上所培養之植物B或菌類C無虞遭受自由基之攻擊(如：第1圖所示；負離子即為：帶負電之單氧；自由基即為：帶正電之單氧)。

本創作之該噴霧旋轉座29增設有相對之轉輪292，該轉輪292邊緣另等距分佈有翹曲之噴霧導板293，且該噴霧旋轉座29增設有對應該轉輪292邊緣之噴襲該噴霧導板293之該噴霧頭291。而該轉輪292邊緣之該噴霧導板293可令該噴霧頭291的噴襲之水霧A2擾動至擴大噴灑範圍(如：第2圖所示)。

本創作之該氣體噴頭25另分佈有貫穿及導通該出氣管24之微氣體噴孔251，該微氣體噴孔251恰好迫使含有氫氣與負離子之空氣以該微氣泡A1化融入該水A中(如：第3圖所示)。

經由以上敘述可知：本創作係以薄片化之負離子振盪體23利用內含的鎂與氧氣結合的燃爆振盪來對空氣中水分子執行分裂成氫氣與負離子，而後以該氣體噴頭25噴出融入該水A中形成乳化狀之微氣泡A1，並透過該噴霧旋轉座29之該噴霧頭291將該水A與該微氣泡A1以360°零死角旋轉噴灑水霧A2至該栽培支撐架11，令該溫室1可具此零死角旋轉噴灑用以徹底摒除習用缺失。再者，該水A中含有氫氣與負離子之該微氣泡A1，其含氫氣之該微氣泡A1恰可作為該溫室1內部所有物體接觸位置之微燃爆消毒及殺菌，而含有負離子之該微氣泡A1又可用於中和或消弭對活體細胞 有十足破壞性之自由基。俾此，令該栽培支撐架11上所培養之植物B或菌類C無虞遭受污染及病毒與細菌的侵害，且令該栽培支撐架11上所培養之植物B或菌類C無虞遭受自由基之攻擊的首要優異特點，據此可知，本創作確實具符合新穎性、進步性及產業利用性之新型專利要件。

本創作之技術內容及技術特點已揭示如上，然而熟悉本項技術之人士仍可能基於本創作之揭示而作各種不背離本案創作精神之替換及修飾。因此，本創作之保護範圍應不限於實施例所揭示者，而應包括各種不背離本創作之替換及修飾，並為本創作申請專利範圍所涵蓋。

Claims (3)

1. 一種溫室的負離子旋轉噴霧裝置，其中，該溫室內份佈有栽培支撐架，且該溫室至少配置有一負離子旋轉噴霧裝置，該負離子旋轉噴霧裝置至少具有一空氣加壓元件，該空氣加壓元件至少銜接有一負離子產生元件，該負離子產生元件內部連通有該空氣加壓元件，並該負離子產生元件內部納置有薄片化之鋁鎂合金製作的負離子振盪體，且該負離子產生元件至少銜接有一互通內部之出氣管，該出氣管至少銜接有一氣體噴頭，該氣體噴頭至少銜接有一混合元件，該混合元件至少設有一液體容室，該液體容室內可容納有該氣體噴頭及水，而後，該負離子旋轉噴霧裝置設置有一抽取該液體容室內之該水的抽水元件，該抽水元件連接有對應該栽培支撐架分佈之旋轉座定向管，該旋轉座定向管末端導接一可360°旋轉的噴霧旋轉座，該噴霧旋轉座至少固接有一噴霧頭。
2. 如請求項1所述之溫室的負離子旋轉噴霧裝置，其中，該噴霧旋轉座增設有相對之轉輪，該轉輪邊緣另等距分佈有翹曲之噴霧導板，且該噴霧旋轉座增設有對應該轉輪邊緣之噴襲該噴霧導板之該噴霧頭。
3. 如請求項1所述之溫室的負離子旋轉噴霧裝置，其中，該氣體噴頭另分佈有貫穿及導通該出氣管之微氣體噴孔者。