TWM570314U - Monitoring device for fermentation system - Google Patents

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TWM570314U
TWM570314U TW107208505U TW107208505U TWM570314U TW M570314 U TWM570314 U TW M570314U TW 107208505 U TW107208505 U TW 107208505U TW 107208505 U TW107208505 U TW 107208505U TW M570314 U TWM570314 U TW M570314U
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TW
Taiwan
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cleaning
flow channel
fermentation system
flow
monitoring device
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TW107208505U
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English (en)
Inventor
卓金星
王志猛
王錦燕
Original Assignee
卓金星
王志猛
王錦燕
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Abstract

本創作關於一種發酵系統用之監控裝置,其係供設於一發酵系統,該發酵系統用之監控裝置包括一流道、一檢測模組及一清洗系統。該發酵系統內之一待檢測流體係供流通於該流道。該檢測模組設於該流道並包括一顯微模組。該清洗系統包括一清洗裝置,以選擇性地控制該清洗裝置連通於該流道。

Description

發酵系統用之監控裝置
本創作係有關於一種發酵系統用之監控裝置。
按,一般於檢測一發酵物(如細菌培養槽或是食物殺菌槽)之含菌量時,係取一小部分為採集樣本並放置於一顯微裝置進行檢測,當發酵物係為密封於一密封裝置時,為了避免打開密封裝置時發酵物受到外界汙染,業界便會在密封裝置外接一流道,並在流道中裝設顯微模組,以在不受到外界污染的情形下觀察發酵物之含菌量。
然而,當該顯微模組及流道使用一段時間後,難免會發生發酵物堆積之問題,而導致顯微模組之顯微鏡頭或是載玻片之表面堆積髒汙,而滋生細菌,如此會導致檢測含菌量之準度下降,更嚴重地會導致鏡頭模糊而失去觀察畫面,而將流道及顯微模組拆卸進行清洗之過程又極為繁瑣,且容易導致流道及顯微模組受到外界汙染,存在亟待改善之缺弊。
因此,有必要提供一種新穎且具有進步性之發酵系統用之監控裝置,以解決上述之問題。
本創作之主要目的在於提供一種發酵系統用之監控裝置,具有一清洗系統,該清洗系統無須將流道及顯微模組拆卸即可有效地清洗流道,另外可防止流道內部與外界接觸而受到汙染。
為達成上述目的,本創作提供一種發酵系統用之監控裝置,其係供設於一發酵系統,該發酵系統用之監控裝置包括一流道、一檢測模組及一清洗系統。該發酵系統內之一待檢測流體係供流通於該流道,該流道與該發酵系統之間設有至少一第一閥體,以選擇性地控制該流道連通該發酵系統。該檢測模組設於該流道並包括一顯微模組,透過該顯微模組即可觀察到該待檢測流體。該清洗系統包括一清洗裝置及至少一設於該流道之第二閥體,以選擇性地控制該清洗裝置連通於該流道。
以下將藉由較佳實施例說明本創作之結構特徵及其預期達成之功效,惟非用以限制本創作所欲保護之範疇,合先敘明。
請參考圖1至圖6,其顯示本創作之一較佳實施例,本創作之發酵系統用之監控裝置係供設於一發酵系統9,該發酵系統用之監控裝置包括一流道1、一檢測模組2及一清洗系統3。
該發酵系統9內之一待檢測流體係供流通於該流道1,該流道1與該發酵系統9之間設有至少一第一閥體11,以選擇性地控制該流道1連通該發酵系統9。於本實施例中該流道1之兩端係連接於該發酵系統9並設有二該第一閥體11,該檢測模組2係位於該二第一閥體11之間。
該檢測模組2設於該流道1並包括一顯微模組21,透過該顯微模組21即可觀察到該待檢測流體,以有效觀察到該待檢測流體內之微生物。詳細的說,如圖4至5所示),於本實施例中該檢測模組2另包括二玻片22,當該二玻片22相互靠近貼合時,透過該顯微模組21即可觀察到該二玻片22之縫隙內的該待檢測流體。因此,無需進行將該發酵系統9打開連通外界及取出部分該待檢測流體,本創作即可準確地檢測出該發酵系統9之待檢測流體,並且可有效防止該發酵系統9內之待檢測流體連通外界而遭到外界之汙染。
該清洗系統3包括一清洗裝置31及至少一設於該流道1之第二閥體32,以選擇性地控制該清洗裝置31連通於該流道1。進一步的說,該清洗裝置31包括一清洗源311及至少一連通該流道1與該清洗源311之輸送管312,該清洗源311之一清洗流體係經由該輸送管312連通於該流道1,各該輸送管312設有一該第二閥體32。
具體而言,於本實施例中該清洗裝置31包括二個該輸送管312,該二輸送管312分別設有一該第二閥體32,該清洗源311之該清洗流體係自其中一該輸送管312輸送至該流道1內,並經由另一該輸送管312排出該流道1。如圖6所示,當欲進行清洗時,先將該二第一閥體11進行關閉,再開啟該二第二閥體32,該清洗流體即可流至該流道1內,以進行清洗流道1、該檢測模組2之過程,因此無須將該流道1及該顯微模組21拆卸,該清洗裝置31即可有效地清洗該流道1,避免該顯微模組21及該二玻片22之表面堆積污垢而無法有效觀察到該待檢測流體,另外可防止清洗過程中該流道1內部與外界接觸而受到汙染。
要說明的是,該清洗流體係可為無菌水、酸性水、鹼性水及乾燥空氣等至少其中之一,以根據不同之待檢測流體的酸鹼性、黏稠度而交叉使用不同之清洗流體。該流道1及該至少一輸送管312其中一者另設有一第三閥體41,該第三閥體41係可選擇性地連通至外界,因此該第三閥體41即可將使用過後之該清洗流體直接排至外界,以避免該清洗流體流回該清洗源311而污染該清洗源311。
較佳地,於本實施例中其中一該流道1或一該輸送管312另設有一幫浦42,以強制性地帶動該清洗流體流動,進而提高清洗效率,於本實施例中該幫浦42係設於該流道1,另外可帶動該待檢測流體流動。
另外,本創作另包括至少一致動件43,該至少一致動件43至少設於一該玻片22,以致動該二玻片22相互靠近移動,於本實施例中係為一該致動件43,該檢測模組2另包括至少一伸縮機構23,各該伸縮機構23連接於一該玻片22與該流道1,該二玻片22設於該流道1之相對二側,至少一該玻片22為可透光,該顯微模組21設於可透光之該玻片22遠離另一該玻片22之一側。
值得一提的是,於本實施例中該伸縮機構23係為蛇腹管體,該蛇腹管體係連接於該玻片22與該流道1,如此可順利地移動該玻片22,且可有效封閉該流道1以防止該待檢測流體流出至外界。
綜上,本創作之發酵系統用之監控裝置,無須將該流道及該顯微模組拆卸,該清洗裝置即可有效地清洗該流道,避免該顯微模組及該二玻片之表面堆積污垢而無法有效觀察到該待檢測流體,另外可防止清洗過程中該流道內部與外界接觸而受到汙染。
1‧‧‧流道
2‧‧‧檢測模組
3‧‧‧清洗系統
9‧‧‧發酵系統
11‧‧‧第一閥體
21‧‧‧顯微模組
22‧‧‧玻片
23‧‧‧伸縮機構
31‧‧‧清洗裝置
32‧‧‧第二閥體
311‧‧‧清洗源
312‧‧‧輸送管
41‧‧‧第三閥體
42‧‧‧幫浦
43‧‧‧致動件
圖1為本創作一較佳實施例之結構示意圖。 圖2為本創作一較佳實施例之局部立體圖。 圖3為本創作一較佳實施例之監控示意圖。 圖4至圖5為本創作一較佳實施例之操作示意圖。 圖6為本創作一較佳實施例之清洗示意圖。

Claims (10)

  1. 一種發酵系統用之監控裝置,係供設於一發酵系統,包括: 一流道,該發酵系統內之一待檢測流體係供流通於該流道,該流道與該發酵系統之間設有至少一第一閥體,以選擇性地控制該流道連通該發酵系統; 一檢測模組,設於該流道並包括一顯微模組,透過該顯微模組即可觀察到該待檢測流體; 一清洗系統,包括一清洗裝置及至少一設於該流道之第二閥體,以選擇性地控制該清洗裝置連通於該流道。
  2. 如請求項1所述的發酵系統用之監控裝置,其中該檢測模組另包括二玻片,當該二玻片相互靠近貼合時,透過該顯微模組即可觀察到該二玻片之縫隙內的該待檢測流體。
  3. 如請求項2所述的發酵系統用之監控裝置,其中另包括至少一致動件,該至少一致動件至少設於一該玻片,以致動該二玻片相互靠近移動,該檢測模組另包括至少一伸縮機構,各該伸縮機構連接於一該玻片與該流道,該二玻片設於該流道之相對二側,至少一該玻片為可透光,該顯微模組設於可透光之該玻片遠離另一該玻片之一側。
  4. 如請求項1所述的發酵系統用之監控裝置,其中該流道之兩端係連接於該發酵系統並設有二該第一閥體,該檢測模組係位於該二第一閥體之間。
  5. 如請求項1所述的發酵系統用之監控裝置,其中該清洗裝置包括一清洗源及至少一連通該流道與該清洗源之輸送管,該清洗源之一清洗流體係經由該輸送管連通於該流道,各該輸送管設有一該第二閥體。
  6. 如請求項5所述的發酵系統用之監控裝置,其中該清洗裝置包括二個該輸送管,該二輸送管分別設有一該第二閥體,該清洗源之該清洗流體係自其中一該輸送管輸送至該流道內,並經由另一該輸送管排出該流道。
  7. 如請求項5所述的發酵系統用之監控裝置,其中該清洗流體係為無菌水、酸性水、鹼性水及乾燥空氣等至少其中之一。
  8. 如請求項5所述的發酵系統用之監控裝置,其中該流道及該至少一輸送管其中一者另設有一第三閥體,該第三閥體係可選擇性地連通至外界。
  9. 如請求項5所述的發酵系統用之監控裝置,其中一該流道或一該輸送管另設有一幫浦,以強制性地帶動該清洗流體流動。
  10. 如請求項3所述的發酵系統用之監控裝置,其中該流道之兩端係連接於該發酵系統並設有二該第一閥體,該檢測模組係位於該二第一閥體之間;該清洗裝置包括一清洗源及至少一連通該流道與該清洗源之輸送管,該清洗源之一清洗流體係經由該輸送管連通於該流道,各該輸送管設有一該第二閥體;該清洗裝置包括二個該輸送管,該二輸送管分別設有一該第二閥體,該清洗源之該清洗流體係自其中一該輸送管輸送至該流道內,並經由另一該輸送管排出該流道;該清洗流體係為無菌水、酸性水、鹼性水及乾燥空氣等至少其中之一;該流道及該至少一輸送管其中一者另設有一第三閥體,該第三閥體係可選擇性地連通至外界;其中一該流道或一該輸送管另設有一幫浦,以強制性地帶動該清洗流體流動。
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