TWM560696U

TWM560696U - 用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置

Info

Publication number: TWM560696U
Application number: TW106216503U
Authority: TW
Inventors: Jian-Lin Li; Wei-Ting Zeng; Hao-Xin Gao; Wei-Min Hong
Original assignee: Wholetech System Hitech Ltd
Priority date: 2017-11-07
Filing date: 2017-11-07
Publication date: 2018-05-21

Abstract

一種用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，適用於處理來自濕式蝕刻清洗台的排氣中的醇類，並包含入口部及過濾部。所述入口部做為所述來自濕式蝕刻清洗台的排氣的入口。所述過濾部銜接於所述入口部的出口，並包括化學濾材。所述化學濾材用於吸附來自所述入口部的排氣中的醇類，例如異丙醇(IPA)等。

Description

用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置

本新型是有關於一種洗滌裝置，特別是指一種用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置。

濕式蝕刻清洗台廣泛用於半導體等製程。以半導體濕式蝕刻清洗台為例，其會產生包括例如異丙醇(IPA)等有機溶劑氣體的排氣。這些含有異丙醇氣體的排氣必須以洗滌裝置加以洗滌去除，以避免造成空汙問題。

一般洗滌裝置是利用至少兩個水洗部中的噴頭噴灑水液，而將排氣中的異丙醇氣體洗滌去除。然而，被水洗去除的異丙醇落至貯水槽中，再排至環境中，反而造成水汙染問題。因此，有必要尋求解決方案。

因此，本新型之目的，即在提供一種用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置。

於是，本新型用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，適用於處理來自濕式蝕刻清洗台的排氣中的醇類，並包含：入口部，做為所述來自濕式蝕刻清洗台的排氣的入口，並包括至少一條入口管；及過濾部，銜接於所述入口部的入口管的出口，並包括化學濾材，所述化學濾材用於吸附來自所述入口部的排氣中的醇類。

本新型之功效在於：藉由使用過濾部的化學濾材，可將來自濕式蝕刻清洗台的排氣中的絕大部分醇類予以吸附過濾，因而水資源被多量的醇類嚴重汙染的環保問題。

參閱圖1、2，本新型用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置的實施例，適用於處理來自濕式蝕刻清洗台(圖未示)的排氣9中的醇類，例如異丙醇(IPA)等。在本實施例中，該用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置包含一殼體1，以及安裝於該殼體1的一入口部2、一過濾部3、一水洗部4、一除霧器5、一風車6與一水槽7。需特別提出的是，在本實施例的變化例中，不限於僅使用一個水洗部4，而是可取決於機台的大小規模而也可使用數個水洗部4。

如圖2所示，在本實施例中，該入口部2是做為來自濕式蝕刻清洗台的排氣9的入口，並包括數條入口管21。在本實施例的變化例中，該入口部2所包括的入口管21的數量也可僅為一條，而也仍在本新型的保護範圍內。

該過濾部3銜接於所述入口部2的入口管21的出口，並包括用於過濾吸附來自入口部2的排氣9中的醇類的化學濾材31，以及一用於鉛直地安裝所述化學濾材31的安裝架32。在本實施例中，該化學濾材31為經改質過後的活性碳，且形狀為矩形體。

在本實施例中，該水洗部4位於所述過濾部3下游處且包括數個噴頭41。所述噴頭41是利用水泵82從水槽7所抽取的水液來洗滌來自所述過濾部3的排氣中的殘餘醇類。其中，該水槽7是位於所述水洗部4下方，並用於貯存來自自來水管路81的自來水，以及盛接所述噴頭41噴出的水液。在本實施例的變化例中，所述噴頭41的數量也可僅為一個，而也仍在本新型的保護範圍內。此外，由於水洗部4的噴頭41噴出的水液經洗滌排氣中的微量殘餘醇類後仍會落入水槽7中，所以在本實施例中，可選擇性地以來自化學藥劑管路83的化學藥劑對水槽7中的貯水進行酸鹼中和等處理。再者，在本實施例中，還可藉由排水管路84來調節該水槽7中的貯水量。

該除霧器5位於所述水洗部4下游處，並用於對來自所述水洗部4的乾淨氣體進行除霧。

該風車6位於所述除霧器5下游處，並用於將來自所述除霧器5的乾淨氣體排放至大氣中(如乾淨氣體排放方向61所示)。

在本實施例中，當對本新型用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置的入口部2通入IPA及壓縮乾燥空氣(CDA)並以傅立葉轉換紅外光譜儀(FTIR)檢測後，可得以下表1所示的測試結果。如表1所示，當入口部2的IPA入口濃度為約40ppm以下時，該化學濾材31出口濃度為ND，且DRE＞99%。其中，ND表示濃度低於1.7ppm(FTIR對於IPA的檢測下限)，且DRE表示破壞去除效率。

表1 <TABLE border="1" borderColor="#000000" width="85%"><TBODY><tr><td> 測試編號 </td><td> 測試條件 </td><td> IPA濃度 </td></tr><tr><td> 入口CDA (立方米/小時) </td><td> 入口 (ppm) </td><td> 化學濾材出口(ppm) </td><td> 機台出口 (ppm) </td><td> DRE (%) </td></tr><tr><td> #1 </td><td> 1580 </td><td> 438 </td><td> 56 </td><td> ND </td><td> 95.1 </td></tr><tr><td> #2 </td><td> 1540 </td><td> 461 </td><td> 31 </td><td> ND </td><td> 97.5 </td></tr><tr><td> #3 </td><td> 1560 </td><td> 51 </td><td> ND </td><td> ND </td><td> ＞99 </td></tr><tr><td> #4 </td><td> 1526 </td><td> 328 </td><td> 21 </td><td> ND </td><td> ＞99 </td></tr><tr><td> #5 </td><td> 1526 </td><td> 97 </td><td> 7 </td><td> ND </td><td> ＞99 </td></tr><tr><td> #6 </td><td> 1616 </td><td> 45 </td><td> ND </td><td> ND </td><td> ＞99 </td></tr><tr><td> #7 </td><td> 1616 </td><td> 45 </td><td> ND </td><td> ND </td><td> ＞99 </td></tr><tr><td> #8 </td><td> 1718 </td><td> 42 </td><td> ND </td><td> ND </td><td> ＞99 </td></tr><tr><td> #9 </td><td> 1718 </td><td> 29 </td><td> ND </td><td> ND </td><td> ＞99 </td></tr><tr><td> #10 </td><td> 1808 </td><td> 34 </td><td> ND </td><td> ND </td><td> ＞99 </td></tr><tr><td> #11 </td><td> 1808 </td><td> 41 </td><td> ND </td><td> ND </td><td> ＞99 </td></tr></TBODY></TABLE>

綜上所述，本新型用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，藉由使用過濾部3的化學濾材(例如經改質過後的活性碳)，可將來自濕式蝕刻清洗台的排氣9中的絕大部分醇類(例如異丙醇等)予以吸附過濾，因而可避免水槽9中的水液被多量的醇類嚴重汙染的環保問題，所以確實能達成本新型的目的。

惟以上所述者，僅為本新型的實施例而已，當不能以此限定本新型實施的範圍，凡是依本新型申請專利範圍及專利說明書內容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本新型專利涵蓋的範圍內。

1‧‧‧殼體
2‧‧‧入口部
21‧‧‧入口管
3‧‧‧過濾部
31‧‧‧化學濾材
32‧‧‧安裝架
4‧‧‧水洗部
41‧‧‧噴頭
5‧‧‧除霧器
6‧‧‧風車
61‧‧‧乾淨氣體排放方向
7‧‧‧水槽
81‧‧‧自來水管路
82‧‧‧水泵
83‧‧‧化學藥劑管路
84‧‧‧排水管路
9‧‧‧排氣

本新型的其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一立體圖，說明本新型用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置的實施例；及圖2是一裝置配置示意圖，說明該實施例。

Claims

一種用於濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，適用於處理來自濕式蝕刻清洗台的排氣中的醇類，並包含：入口部，做為所述來自濕式蝕刻清洗台的排氣的入口；及過濾部，銜接於所述入口部的出口，並包括化學濾材，所述化學濾材用於吸附來自所述入口部的排氣中的醇類。
如請求項1所述的濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，其中，所述化學濾材為經改質過後的活性碳。
如請求項1所述的濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，其中，所述化學濾材的形狀為矩形體，且所述過濾部還包括用於鉛直地安裝所述化學濾材的安裝架。
如請求項1所述的濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，還包含位於所述過濾部下游處且包括至少一個噴頭的水洗部，所述噴頭是利用水液洗滌來自所述過濾部的排氣中的殘餘醇類。
如請求項4所述的濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，其中，該水洗部包括數個噴頭。
如請求項4所述的濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，還包含位於所述水洗部下方並用於盛接所述噴頭噴出的水液的水槽。
如請求項4所述的濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，還包含位於所述水洗部下游處並用於對來自所述水洗部的乾淨氣體進行除霧的除霧器。
如請求項7所述的濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，還包含位於所述除霧器下游處的風車，所述風車用於將來自所述除霧器的乾淨氣體排放至大氣中。
如請求項8所述的濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，還包含一用於安裝所述入口部、過濾部、水洗部、除霧器與風車的殼體。
如請求項1所述的濕式蝕刻清洗台的排氣的高吸附洗滌裝置，其中，該入口部包括數條入口管。