TWM552926U - 應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備 - Google Patents
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Description
本創作係為一種用於將氣體及液體混合之生成設備,特別是一種應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備。
在日常生活中,隨著生活水平的日益提升,人們更加注重生活的品質。尤其是隨著水源中的污染物質越來越多,使人們更加重視水質安全的問題,繼而想方設法尋找各種除去水中對人體有害物質的方法。
氫氣是很好的還原劑。同樣,氫氣在人體內的作用機制也是充當還原劑的角色。在物理和化學的領域中,氫這個元素在元素周期表中為1號元素;在宇宙中含量最多;由兩個氫原子組成的氫氣(H2)是自然界最輕、最小的氣體分子,其密度只有空氣的1/14。氫氣有諸多用途,它燃燒後只生成水,不排放任何污染物,是一種高能清潔燃料。大部分抗氧化劑是大分子結構,較難吸收,而氫氣體小勢優,容易為身體所用。氫氣具有抗發炎的作用,且氫氣與羥自由基直接反應是治療炎症損傷的基礎,而大部分的水溶性抗氧化劑會留在隔膜裡,無法進入細胞液。大部分的脂溶性抗氧化劑如果沒有特殊介質就無法進入生物膜,但氫氣卻可以迅速擴散到細胞液和細胞器裡。因此,加入氫氣的水就能夠有效清除水中部分的有害物質。
然而,雖然水是由氫和氧兩種元素而組成,但氫氣和氧氣都難溶於水,氫氣尤甚。氫氣的水溶性很差,20℃時,1升水最多只能溶解18毫升氫
氣,按質量濃度算相當於1.62ppm(1ppm為百萬分之一)。溶解氫氣的方法有很多,最簡單的是直接給水通入氫氣氣泡,依靠物理擴散原理製備氫氣水溶液。但如果受到震盪,氫氣水溶液中的氫氣會像氣泡般冒出,不易保存。
因此,本創作人基於數年的相關工作經驗,提出一種應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備,以期進一步解決前述現有技術的問題。
本段文字提取和編譯本創作的某些特點。其它特點將被揭露於後續段落中。其目的在涵蓋附加的申請專利範圍之精神和範圍中,各式的修改和類似的排列。
為了解決前述問題,本創作提出一種應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備。該生成設備包括:一進液管,用於引入一液體:一水泵,用以增加液體之壓力,使加壓過的液體產生推進力,該水泵包含一第一進液口及一第一出液口,該第一進液口與進液管連接;一製氫機,用於製造氫氣;一奈米氣液混合泵,與該製氫機連接,用於將液體及氫氣混合攪拌,該奈米氣液混合泵包含一第二進液口及一第二出液口,該第二進液口與該水泵之第一出液口連接;及一出液管,與奈米氣液混合泵之第二出液口連接,用於輸出該液體。
較佳的,該應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備,進一步包含一殺菌裝置,用於殺除液體中之細菌,該殺菌裝置包含一第三進液口及一第三出液口,該第三進液口與奈米氣液混合泵之第二出液口連接。
較佳的,該殺菌裝置之第三出液口與出液管連接。
較佳的,該液體為水。
較佳的,該水泵為容積式水泵、動力式水泵或電磁水泵。
較佳的,該殺菌裝置為臭氧殺菌器或紫外線殺菌器。
與現有的技術相比,本創作利用奈米技術將氫氣溶解於水中,氫氣水溶液中的氫氣不易冒出,可穩定地保存氫氣,在各產業中有諸多的優勢。例如水污染的處理、養殖漁業、醫療業、畜牧業、餐飲業等,在各領域的市場上都能更加容易使用。
1‧‧‧應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備
10‧‧‧進液管
20‧‧‧水泵
200‧‧‧第一進液口
210‧‧‧第一出液口
30‧‧‧製氫機
40‧‧‧奈米氣液混合泵
400‧‧‧第二進液口
410‧‧‧第二出液口
50‧‧‧殺菌裝置
500‧‧‧第三進液口
510‧‧‧第三出液口
60‧‧‧出液管
圖1為本創作應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備之示意圖。
以下結合圖式對本創作作進一步詳細說明。
請參閱圖1,該圖為本創作提出的一種應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備1的示意圖。該應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫液體之生成設備1包括一進液管10、一水泵20、一製氫機30、一奈米氣液混合泵40、一殺菌裝置50與一出液管60。以上物件的功能及連接方式於下方說明。
進液管10是用於引入液體。實作上,該液體可以是水,尤其是飲用水。水泵20是用以增加液體之壓力,使加壓過的液體產生推進力,該水泵20包含第一進液口200及第一出液口210,而該第一進液口200與進液管10連接。液體經過第一進液口200進入水泵20之後,水泵20會增加液體的壓力,使加壓
過的液體產生比平常狀況下更巨大的推進力量。其中該水泵20可為容積式水泵、動力式水泵或電磁水泵,本創作不限定之。
水泵20連接著奈米氣液混合泵40。該奈米氣液混合泵40包含一第二進液口400及一第二出液口410,該第二進液口400與該水泵之第一出液口210連接。當水泵20將液體加壓後經過第一出液口210及第二進液口400進入奈米氣液混合泵40,奈米氣液混合泵40便可進行氣液混合的作業。該奈米氣液混合泵40連接製氫機30。製氫機30用於製造氫氣,奈米氣液混合泵40可利用製氫機30取得欲混合的氫氣。奈米氣液混合泵40利用奈米技術生成的高速流體與物理撞擊作用,使氫氣在奈米氣液混合泵40中可快速且有效的進行混合,再藉由循環方式產生大量而細小的氫氣氣泡。此時,氫氣在水中的最高飽合濃度可以是1.8ppm,最好是1.6ppm,本創作不限定之。
請繼續參閱圖1,前述之奈米氣液混合泵40連接殺菌裝置50。該殺菌裝置50用於殺除液體中之細菌,其包含一第三進液口500及一第三出液口510。該第三進液口500與奈米氣液混合泵40之第二出液口410連接;當奈米氣液混合泵40完成氣液混合後,便可得到一氫水混合液。奈米氣液混合泵40之第二出液口410會藉由經過殺菌裝置50之第三進液口500,將氫水混合液流入殺菌裝置50。該殺菌裝置50可用於殺除奈米氣液混合泵40所混合出的氫水混合液中的細菌,而該殺菌裝置50可為臭氧殺菌器或紫外線殺菌器,本創作不限定之。在該殺菌裝置50完成殺除氫水混合液中的細菌作業後,可透過殺菌裝置50的第三出液口510,連接於出液管60,經殺菌後的氫水混合液便可藉由出液管60流出應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備1。使用者藉由該應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備1,可將水中的有害
物質,包含細菌除去。該殺菌裝置50用於殺除奈米氣液混合泵40所混合出的氫水混合液中的細菌,而該殺菌裝置可為RO純水器、電解離子器、活性碳濾心器、離子交換樹脂軟水器、臭氧殺菌器或紫外線殺菌器,本創作不限定之。在該殺菌裝置50完成殺除氫水混合液中的細菌作業後,可透過殺菌裝置50的第三出液口510,連接於出液管60,便可使用乾淨的氫水混合液。
在其他的實施例中,也可以不用加入該殺菌裝置50,僅依靠混合液體中之氫氣進行殺菌。此時,第二出液口410可直接連接出液管60。
雖然本創作已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本創作,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本創作之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本創作之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1‧‧‧應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備
10‧‧‧進液管
20‧‧‧水泵
200‧‧‧第一進液口
210‧‧‧第一出液口
30‧‧‧製氫機
40‧‧‧奈米氣液混合泵
400‧‧‧第二進液口
410‧‧‧第二出液口
50‧‧‧殺菌裝置
500‧‧‧第三進液口
510‧‧‧第三出液口
60‧‧‧出液管
Claims (6)
- 一種應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備,其包括:一進液管,用於引入一液體;一水泵,用以增加液體之壓力,使加壓過的液體產生推進力,該水泵包含一第一進液口及一第一出液口,該第一進液口與進液管連接;一製氫機,用於製造氫氣;一奈米氣液混合泵,與該製氫機連接,用於將液體及氫氣混合攪拌,該奈米氣液混合泵包含一第二進液口及一第二出液口,該第二進液口與該水泵之第一出液口連接;及一出液管,與奈米氣液混合泵之第二出液口連接,用於輸出液體。
- 如申請專利範圍第1項所述之應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備,進一步包含一殺菌裝置,用於殺除液體中之細菌,該殺菌裝置包含一第三進液口及一第三出液口,該第三進液口與奈米氣液混合泵之第二出液口連接。
- 如申請專利範圍第2項所述之應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備,其中該殺菌裝置之出液口與出液管連接。
- 如申請專利範圍第1項所述之應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備,其中該液體為水。
- 如申請專利範圍第1項所述之應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備,其中該水泵為容積式水泵、動力式水泵或電磁水泵。
- 如申請專利範圍第2項所述之應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備,其中該殺菌裝置為臭氧殺菌器或紫外線殺菌器。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW106212727U TWM552926U (zh) | 2017-08-28 | 2017-08-28 | 應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備 |
CN201821172154.9U CN208786186U (zh) | 2017-08-28 | 2018-07-24 | 应用纳米气液混合技术产生饱和溶氢液体的生成设备 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW106212727U TWM552926U (zh) | 2017-08-28 | 2017-08-28 | 應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備 |
Publications (1)
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TWM552926U true TWM552926U (zh) | 2017-12-11 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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TW106212727U TWM552926U (zh) | 2017-08-28 | 2017-08-28 | 應用奈米氣液混合技術產生飽和溶氫量之生成設備 |
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Country | Link |
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CN (1) | CN208786186U (zh) |
TW (1) | TWM552926U (zh) |
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- 2017-08-28 TW TW106212727U patent/TWM552926U/zh not_active IP Right Cessation
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2018
- 2018-07-24 CN CN201821172154.9U patent/CN208786186U/zh not_active Expired - Fee Related
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