TWM531663U - 具移相作用的碟型天線 - Google Patents

Description

具移相作用的碟型天線

本創作係涉及一種碟型天線；特別是指一種具移相作用的碟型天線創新結構型態揭示者。

按，本創作主要係針對碟型天線結構之問題加以探討；碟型天線通常應用於點對點之衛星通訊型態(如衛星電視等)，因其信號來自大氣層外的人造衛星，信號能量射回地球後由於距離遙遠，信號能量不斷衰減損耗，到地面時已相當微弱，為了能清晰接收微弱信號，碟型天線結構設計上能夠利用其類似碗狀的聚焦型態將微弱信號聚集，此為其特色及優點。

習知碟型天線實際運作上請參第11圖所示，其中天線饋源05與碟盤06之間係為固定相對間隔配置關係(註：其天線饋源05通常位於碟盤06的中央垂直角度對應處)，碟盤06係設成拋物面狀碟型，所構成之輻射場型為束狀波，僅適合作為點對點之應用，且其訊號波傳遞時所形成的等相位面L7為固定狀態，其應用狀態頗受侷限，實屬可惜，亦為其缺憾之處。

是以，針對上述習知碟型天線技術所存在之問題點， 如何研發出一種能夠更具理想實用性之創新碟型天線構造，實有待相關業界再加以思索突破之目標及方向。

有鑑於此，創作人本於多年從事相關產品之製造開發 與設計經驗，針對上述之目標，詳加設計與審慎評估後，終得一確具實用性之本創作。

本創作之主要目的，係在提供一種具移相作用的碟型天線，其所欲解決之技術問題，係針對如何研發出一種能再增進碟型天線功能性與實用性，以期令碟型天線的輻射場涵蓋範圍能指向設定區域，使碟型天線應用面更加廣泛多元、更具理想實用性之新式碟型天線結構為目標加以思索創新突破。

本創作解決問題之技術特點，主要在於該碟型天線係包括：一碟型反射板，設有一反射面，該反射面之一拋物面對稱軸路徑上具一訊號聚焦區域範圍；至少一天線饋源，設置於該碟型反射板的反射面前側位置處，該天線饋源得藉該反射面的反射收發訊號；一支撐架，用以將該天線饋源架設定位；且其中，該天線饋源與該碟型反射板所設反射面之間的相對配置關係，須使該天線饋源相對於該訊號聚焦區域範圍呈立向偏移關係，所述立向偏移關係，須使該天線饋源相對於該拋物面對稱軸具有一立向偏移向量，令碟型天線之訊號波傳遞時所形成的等相位面與拋物面對稱軸呈現角度傾斜偏移狀態。

本創作之主要效果與優點，係能夠令碟型天線的天線饋源相對於訊號聚焦區域範圍的位置呈立向偏移關係，以改變碟型天線之等相位面及輻射場狀態，從而達到增進碟型天線功能以滿足更多元使用需求、應用面更加廣泛等實用進步性。

請參閱第1、2、3圖所示，係本創作具移相作用的碟型天線之較佳實施例，惟此等實施例僅供說明之用，在專利申請上並不受此結構之限制；所述碟型天線A係包括下述構成：一碟型( dish ) 反射板10，設有一反射面11，該反射面11之一拋物面對稱軸12 ( the symmetry axis of Parabola )路徑上具有一訊號聚焦區域範圍32     (如第7圖所示)；至少一天線饋源20 ( 本例為單一個實施型態 )，設置於該碟型反射板10的反射面11前側位置處，該天線饋源20得藉該反射面11的反射收發訊號；一支撐架30，用以將該天線饋源20架設定位；且其中，該天線饋源20與碟型反射板10所設反射面11之間的相對配置關係，須使該天線饋源20相對於該拋物面對稱軸12及該訊號聚焦區域範圍32呈立向偏移關係(如第8圖所示)，所述立向偏移關係，須使該天線饋源20相對於該拋物面對稱軸12具有一立向偏移向量，令碟型天線A之訊號波50傳遞時所形成的等相位面與拋物面對稱軸12呈現角度傾斜偏移狀態。

如第1、2圖所示，其中該支撐架30係可設有一立向位移調整定位部40，用以調整改變天線饋源20的立向位置，使該天線饋源20與所述訊號聚焦區域範圍32呈立向偏移關係 (如第7、8圖所示)，得令碟型天線A之訊號波50傳遞時所形成的等相位面改變，以達到移相調整碟型天線A輻射場狀態之作用；此部份可參照第2圖所示，即為可透過該立向位移調整定位部40對天線饋源20進行立向維度位移調整(如圖中之箭號L1所示)之狀態示意。因為該天線饋源20的立向維度位移調整動作相對於碟型反射板10而言，能夠讓其訊號波50傳遞時所形成的等相位面產生改變，此部份可參第7、8圖，假設當該天線饋源20調整至碟型反射板10的中央垂直角度對應位置時(即第7圖所示)，其訊號波50傳遞形成的等相位面L4於圖中係為角度垂直於該拋物面對稱軸12之狀態；當該天線饋源20調整至碟型反射板10的偏離中央對應位置時(如第8圖所示)，其訊號波50傳遞形成的等相位面L5相對於第7圖所揭會改變為傾斜角度狀態，藉此俾可達到移相調整效果。（註: 所述等相位面L4、L5，係指波源發出的電磁波於介質中傳遞經相同時間所到達的各點組成的面）

如第1、5圖所示，其中該天線饋源20更可組配有一X軸橫向位移調整定位部21，藉此得以選擇性地對該天線饋源20進行X軸之橫向位移調整(如第5圖之箭號L3所示)。本例中所提X軸橫向位移調整定位部21，主要是能夠調整天線發射訊號輻射場的橫向側偏角度。

如第1、3圖所示，其中該支撐架30更可包括一Y軸橫向位移調整定位部33，以對該天線饋源20進行Y軸之橫向位移調整(如第3圖之箭號L2所示)，以調整天線饋源20之聚散焦狀態。

其中，該碟型反射板10的斷面係可呈拋物面形狀；該碟型反射板10的輪廓係呈幾何形狀；此部份如第1圖所示之碟型反射板10，其輪廓係呈圓形，其斷面則呈拋物面形狀；另如第4圖所示之碟型反射板10B，其輪廓係呈矩形之幾何形狀，其斷面則呈拋物面形狀。本例所揭反射面11B型態與第1圖所揭反射面11不同，本例之反射面11B由於係呈拋物面形狀，因此其上下延伸方向對於天線輻射場的收斂幅度較大，而左右延伸方向對於天線輻射場的收斂幅度相對較小，而能獲得橫向輻射涵蓋範圍比較開闊的面狀天線輻射場型。

其中，該支撐架30、碟型反射板10任至少其中一者更可設有一饋入源入射角度調整部31，該饋入源入射角度調整部31係用以調整天線饋源20與碟型反射板10二者之間的對位精準度；此部份如第2圖所示，本例中該饋入源入射角度調整部31係為分設於該支撐架30與碟型反射板10之間以及支撐架30與天線饋源20之間的實施型態；如第6圖所示則是該饋入源入射角度調整部31設於該支撐架30與天線饋源20之間的型態，令天線饋源20可進行擺動調整(如箭號L6所示)；所述饋入源入射角度調整部31，其調整之目的並非達到移相作用，而僅是針對天線饋源20與碟型反射板10的聚焦範圍對位關係進行微調校正之功用。

其中，該天線饋源20為複數個設置型態時，不同天線饋源20與碟型反射板10所設反射面11之間的角度配置關係可為相同或不同任一者。

其中，該天線饋源20為複數個設置型態時，不同天線饋源20所發射的訊號頻率可為相同或不同任一者。

此外，本創作碟型天線A中的碟型反射板10實際設置型態除了可如第2圖所示與壁面之間具有一夾角與間隔關係的配置型態外，亦可如第9圖所示之碟型反射板10，其係為直接組靠於壁面的另一種實施型態者；另一方面，本創作中的支撐架30具體實施型態亦無侷限，除了可為第2圖所示之支撐架30型態外，亦可如第10圖所揭之支撐架30B，其係為向下斜伸之實施型態者；又第10圖所揭實施例中，其碟型反射板10、支撐架30B係共同藉由一可調整角度的固定座34組設於一壁面，構成該碟型反射板10及支撐架30B係可一同調整組裝角度之狀態者。

功效說明： 本創作所揭「具移相作用的碟型天線」主要藉由前述創新獨特結構型態與技術特徵，使本創作對照先前技術所提習知結構而言，能夠令碟型天線的天線饋源相對於訊號聚焦區域範圍的位置呈立向偏移狀態以改變碟型天線之等相位面及輻射場狀態，從而達到增進碟型天線功能以滿足更多元使用需求、應用面更加廣泛等實用進步性。

[習知部份]
０５‧‧‧天線饋源
０６‧‧‧碟盤
Ｌ７‧‧‧等相位面
[本創作部份]
Ａ‧‧‧碟型天線
１０、１０Ｂ‧‧‧碟型反射板
１１、１１Ｂ‧‧‧反射面
１２‧‧‧拋物面對稱軸
２０‧‧‧天線饋源
２１‧‧‧Ｘ軸橫向位移調整定位部
３０、３０Ｂ‧‧‧支撐架
３１‧‧‧饋入源入射角度調整部
３２‧‧‧訊號聚焦區域範圍
３３‧‧‧Y軸橫向位移調整定位部
３４‧‧‧固定座
４０‧‧‧立向位移調整定位部
５０‧‧‧訊號波
Ｌ４、Ｌ５‧‧‧等相位面

第1圖係本創作碟型天線較佳實施例之立體圖。 第2圖係本創作碟型天線之平面側視圖及其立向位移調整定位部之  調整狀態示意圖。 第3圖係本創作之天線饋源進行Y軸橫向位移調整狀態示意圖。 第4圖係本創作之碟型反射板設成幾何輪廓形狀弧彎板面型態之實            施例圖。 第5圖係本創作之X軸橫向位移調整定位部之調整狀態示意圖。 第6圖係本創作之饋入源入射角度調整部可供擺動調整天線饋源角           度之實施例圖。 第7圖係本創作之立向位移調整定位部調整之等相位面狀態示意圖            一。 第8圖係本創作之立向位移調整定位部調整之等相位面狀態示意圖            二。 第9圖係本創作之碟型反射板設置型態另一實施例圖。 第10圖係本創作之支撐架設置型態另一實施例圖。 第11圖係習知碟型天線之結構及等相位面狀態示意圖。

A‧‧‧碟型天線

10‧‧‧碟型反射板

11‧‧‧反射面

12‧‧‧拋物面對稱軸

20‧‧‧天線饋源

21‧‧‧X軸橫向位移調整定位部

30‧‧‧支撐架

31‧‧‧饋入源入射角度調整部

33‧‧‧Y軸橫向位移調整定位部

40‧‧‧立向位移調整定位部

Claims (10)

1. 一種具移相作用的碟型天線，包括： 一碟型反射板，設有一反射面，該反射面之一拋物面對稱軸路徑上具有一訊號聚焦區域範圍； 至少一天線饋源，設置於該碟型反射板的反射面前側位置處，該天線饋源得藉該反射面的反射收發訊號； 一支撐架，用以將該天線饋源架設定位； 且其中，該天線饋源與該碟型反射板所設反射面之間的相對配置關係，須使該天線饋源相對於該訊號聚焦區域範圍呈立向偏移關係，所述立向偏移關係，須使該天線饋源相對於該拋物面對稱軸具有一立向偏移向量，令碟型天線之訊號波傳遞時所形成的等相位面與拋物面對稱軸呈現偏移狀態。
2. 如申請專利範圍第1項所述之具移相作用的碟型天線，其中該支撐架係更設有一立向位移調整定位部，用以調整改變天線饋源的立向位置，使該天線饋源與該訊號聚焦區域範圍呈立向偏移關係。
3. 如申請專利範圍第2項所述之具移相作用的碟型天線，其中該天線饋源更組配有一X軸橫向位移調整定位部，藉此得以選擇性地對該天線饋源進行X軸之橫向位移調整。
4. 如申請專利範圍第3項所述之具移相作用的碟型天線，其中該支撐 架更包括一Y軸橫向位移調整定位部，以對該天線饋源進行Y軸之 橫向位移調整，藉以調整天線饋源之聚散焦狀態。
5. 如申請專利範圍第4項所述之具移相作用的碟型天線，其中該支撐架更包括一饋入源入射角度調整部，藉以供擺動調整該天線饋源之角度。
6. 如申請專利範圍第5項所述之具移相作用的碟型天線，其中該碟型反射板的斷面係呈拋物面形狀；該碟型反射板的輪廓係呈幾何形狀。
7. 如申請專利範圍第6項所述之具移相作用的碟型天線，其中該饋入源入射角度調整部設於該支撐架與碟型反射板之間，藉以供擺動調整碟型反射板之角度。
8. 如申請專利範圍第1項所述之具移相作用的碟型天線，其中該天線饋源為複數個設置型態時，不同天線饋源與碟型反射板所設反射面之間的角度配置關係為相同或不同任一者。
9. 如申請專利範圍第1項所述之具移相作用的碟型天線，其中該天線饋源為複數個設置型態時，不同天線饋源所發射的訊號頻率係為相同或不同任一者。
10. 如申請專利範圍第1項所述之具移相作用的碟型天線，其中該支撐架、碟型反射板任至少其中一者係更設有一饋入源入射角度調整部，該饋入源入射角度調整部係用以調整天線饋源與碟型反射板二者之間的對位精準度。