TWM491834U - 離心式轉盤 - Google Patents

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TWM491834U
TWM491834U TW103212912U TW103212912U TWM491834U TW M491834 U TWM491834 U TW M491834U TW 103212912 U TW103212912 U TW 103212912U TW 103212912 U TW103212912 U TW 103212912U TW M491834 U TWM491834 U TW M491834U
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Taiwan
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tank
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centrifugal
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diluent
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TW103212912U
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Inventor
Hsiao-Chung Tsai
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Protectlife Internat Biomedical Inc
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Description

離心式轉盤
本創作是有關於一種離心式轉盤。
血液及其他檢體的生化檢測通常需要液體能迅速的定量分配,以執行不同檢測。生化檢測通常也需要將可能彼此影響檢測的細胞體與體液能在檢測前分離。這些定量分配及分離的步驟通常是藉離心步驟來達成,再藉由人工或自動方式將定量的檢體分配到各樣本槽內。上述定量分配流程不但費工,而且耗時。因此,各種檢體的自動化定量分配系統紛紛被提出以改善這費工耗時流程。
目前自動化定量分配系統主要的改進在於使用離心式轉盤。這些離心式轉盤在搭配離心機後,能執行檢體的定量分配、混合樣本與稀釋液等工作,而後供光學檢測之用。即使離心式轉盤設計多種,但如何能更方便、更精確的進行生化檢測,目前離心式轉盤仍然有很多改善空間。
本創作之一技術態樣是在提供一種離心式轉盤,藉 由增加蓋體膜與離心式轉盤的接觸面積,使蓋體模在離心式轉盤轉動時更穩妥地固定於離心式轉盤上。
根據本創作一實施方式,一種離心式轉盤,包含本體、檢體槽、檢體廢液槽、至少一凸起部、檢體定量槽、稀釋液槽、稀釋液定量槽、混合槽以及至少一檢測槽。本體具有上表面。檢體槽設置於本體上。檢體廢液槽設置於本體上並具有外緣面。凸起部設置於檢體廢液槽中且連接外緣面。凸起部具有頂面,用以增加蓋體膜與離心式轉盤的接觸面積。檢體定量槽設置於本體上且連通檢體槽與檢體廢液槽。稀釋液槽設置於本體上。稀釋液定量槽設置於本體上且連通稀釋液槽。混合槽設置於本體上且連通稀釋液定量槽與檢體定量槽。檢測槽設置於本體上且連通混合槽。
於本創作之一或多個實施方式中,凸起部為柱狀結構。
於本創作之一或多個實施方式中,凸起部之頂面具有至少一凸出邊,且凸出邊面向本體之中心。
於本創作之一或多個實施方式中,凸出邊為圓弧外緣、三角形外緣或矩形外緣。
於本創作之一或多個實施方式中,凸起部之頂面具有面向外緣面之接觸邊,凸出邊之總長度P與接觸邊之長度C符合下列關係式:P>C。
於本創作之一或多個實施方式中,至少一凸起部之 數量為複數個。
根據本創作另一實施方式,一種離心組件,包含前述之離心式轉盤以及蓋體膜。蓋體膜設置於本體上。蓋體膜接觸且黏貼於本體之上表面與凸起部之頂面。
於本創作之一或多個實施方式中,離心式轉盤更包含埋設段,埋設於本體中,其中檢體槽具有相對於上表面之底面,埋設段連通檢體槽之底面與檢體定量槽。
於本創作之一或多個實施方式中,檢體定量槽具有第一深度,檢體廢液槽具有第二深度,第一深度小於第二深度。
於本創作之一或多個實施方式中,離心式轉盤更包含導通段,設置於本體上且連通檢體定量槽與檢體廢液槽,其中導通段具有第三深度,第三深度小於第一深度與第二深度。
本創作上述實施方式設置凸起部於檢體廢液槽中的外緣面上,利用凸起部的頂面來增加蓋體膜與離心式轉盤的接觸面積。如此一來,在離心式轉盤轉動時,蓋體膜將因為與離心式轉盤的接觸面積增加而能更穩妥地固定於離心式轉盤上,從而避免檢體廢液槽中的檢體因為離心力而使蓋體膜鼓起進而撐破蓋體膜的情形。
3‧‧‧線段
100‧‧‧離心式轉盤
110‧‧‧本體
111‧‧‧上表面
120‧‧‧檢體槽
121‧‧‧底面
130‧‧‧檢體廢液槽
131‧‧‧外緣面
140‧‧‧凸起部
141‧‧‧頂面
142‧‧‧凸出邊
143‧‧‧接觸邊
150‧‧‧檢體定量槽
160‧‧‧稀釋液槽
170‧‧‧稀釋液定量槽
180‧‧‧混合槽
190‧‧‧檢測槽
191‧‧‧埋設段
192‧‧‧導通段
193‧‧‧稀釋液廢液槽
200‧‧‧蓋體膜
300‧‧‧離心組件
400‧‧‧上蓋
第1圖繪示依照本創作一實施方式之離心組件與上蓋 的立體圖。
第2圖繪示依照本創作一實施方式之離心式轉盤的上視圖。
第3圖繪示在離心式轉盤旋轉時沿第2圖之線段3的剖面圖。
第4圖繪示依照本創作一實施方式之檢體廢液槽與凸起部的立體圖。
第5A~5C圖繪示依照本創作不同實施方式之檢體廢液槽與凸起部的上視圖。
以下將以圖式揭露本創作之複數個實施方式,為明確說明起見,許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而,應瞭解到,這些實務上的細節不應用以限制本創作。也就是說,在本創作部分實施方式中,這些實務上的細節是非必要的。此外,為簡化圖式起見,一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之。
第1圖繪示依照本創作一實施方式之離心組件300與上蓋400的立體圖。如第1圖所繪示,本實施方式之離心組件300包含離心式轉盤100與蓋體膜200。離心式轉盤100在使用時為將蓋體膜200貼附固定於離心式轉盤100上,再將上蓋400覆蓋於蓋體膜200上,並將上蓋400固定於離心式轉盤100。組裝好離心組件300與上蓋400後,可再搭配離心機旋轉離心組件300,以執行檢體的定量分 配、混合檢體與稀釋液等工作。
第2圖繪示依照本創作一實施方式之離心式轉盤100的上視圖。如第1圖與第2圖所繪示,離心式轉盤100包含本體110、檢體槽120、檢體廢液槽130、至少一凸起部140、檢體定量槽150、稀釋液槽160、稀釋液定量槽170、混合槽180以及至少一檢測槽190。本體110具有上表面111。檢體槽120設置於本體110上。檢體廢液槽130設置於本體110上並具有外緣面131。凸起部140設置於檢體廢液槽130中且連接外緣面131。凸起部140具有頂面141,用以增加蓋體膜200與離心式轉盤100的接觸面積。檢體定量槽150設置於本體110上且連通檢體槽120與檢體廢液槽130。稀釋液槽160設置於本體110上。稀釋液定量槽170設置於本體110上且連通稀釋液槽160。混合槽180設置於本體110上且連通稀釋液定量槽170與檢體定量槽150。檢測槽190設置於本體110上且連通混合槽180。
在執行檢體的定量分配、混合檢體與稀釋液等工作時,首先置入稀釋液於稀釋液槽160中。接著,組裝好離心式轉盤100、蓋體膜200以及上蓋400,並置入檢體於檢體槽120中,然後搭配離心機旋轉離心式轉盤100。
在離心式轉盤100旋轉時,因為檢體定量槽150較檢體槽120遠離本體110之圓心,稀釋液定量槽170較稀釋液槽160遠離本體110之圓心,檢體槽120內的檢體會因離心力的驅使而往檢體定量槽150流動,而稀釋液槽160內的稀釋液會往稀釋液定量槽170移動。
接著,因為檢體廢液槽130較檢體定量槽150遠離本體110之圓心,多過檢體定量槽150容量之檢體會因離心力的驅使而導流至檢體廢液槽130。
因為混合槽180位於較檢體定量槽150與稀釋液定量槽170遠離本體110之圓心的位置,因此檢體定量槽150與稀釋液定量槽170的流體會因離心力的驅使而往混合槽180流動,使檢體與稀釋液混合。
因為檢測槽190較混合槽180遠離本體110之圓心,因此混合槽180中的檢體與稀釋液的混合液會因離心力的驅使而往檢測槽190流動,以供下一步檢測之用。於是,檢體與稀釋液的混合與檢體的定量分配便能完成。
第3圖繪示在離心式轉盤100旋轉時沿第2圖之線段3的剖面圖。如第3圖所繪示,在離心式轉盤100旋轉時,檢體廢液槽130中的檢體將會因為離心力F的關係,而產生檢體的流體平面朝離心式轉盤100的外側傾斜的情況。由於蓋體膜200為貼附固定於離心式轉盤100上,因此檢體廢液槽130中的檢體會將蓋體膜200向上撐開。由於離心式轉盤100的轉速極快,所以離心力F也會極大(通常大於100倍地球重力),在如此的情況下,檢體可能會將蓋體膜200撐破,因而發生檢體四處溢流的不良情況。
第4圖繪示依照本創作一實施方式之檢體廢液槽130與凸起部140的立體圖。如第3圖與第4圖所繪示,為了避免前述的情況發生,設置凸起部140於檢體廢液槽130中且連接外緣面131,於是凸起部140的頂面141將能增加 蓋體膜200與離心式轉盤100的接觸面積,因而蓋體膜200在靠近檢體廢液槽130的外緣面131的區域,會因為蓋體膜200與離心式轉盤100的接觸面積增加而使蓋體膜200更穩妥地貼附固定於離心式轉盤100上,並有效地避免蓋體膜200在離心式轉盤100旋轉時被檢體撐破的情況。
如第1圖與第2圖所繪示,具體而言,蓋體膜200設置於本體110上。蓋體膜200接觸且黏貼於本體110之上表面111與凸起部140之頂面141。
如第2圖與第4圖所繪示,凸起部140為柱狀結構。凸起部140之頂面141具有至少一凸出邊142,且凸出邊142面向本體110之中心。
第5A~5C圖繪示依照本創作不同實施方式之檢體廢液槽130與凸起部140的上視圖。如第5A~5C圖繪示,凸出邊142可為圓弧外緣、三角形外緣或矩形外緣。應了解到,以上所舉之凸起部140的具體實施方式僅為例示,並非用以限制本創作,本創作所屬技術領域中具有通常知識者,應視實際需要,彈性選擇凸起部140的具體實施方式。
如第5B圖所繪示,凸起部140之頂面141具有面向外緣面131之接觸邊143,凸出邊142之總長度P與接觸邊143之長度C符合下列關係式:P>C。
如第3圖與第5B圖所繪示,在離心式轉盤100旋轉時,蓋體膜200被檢體廢液槽130中的檢體向上撐開。 由於蓋體膜200的一端固定於本體110,另一端則是被檢體所撐開,因此蓋體膜200承受最大應力的區域為位於外緣面131與蓋體膜200的接觸處以及凸出邊142與蓋體膜200的接觸處。在沒有凸起部140的情況,蓋體膜200原來接觸而固定於凸出邊142的區域將改為接觸而固定於接觸邊143,而凸出邊142之總長度P較接觸邊143之長度C長,所以蓋體膜200與凸出邊142的接觸處將會大於蓋體膜200與接觸邊143的接觸處。因此,相較於沒有凸起部140的情況,蓋體膜200承受最大應力的區域變大了。於是,蓋體膜200將能更穩妥地貼附固定於離心式轉盤100上,因而避免蓋體膜200在離心式轉盤100旋轉時被檢體撐破的情況。
如第5C圖所繪示,至少一凸起部140之數量為複數個。應了解到,以上所舉之凸起部140的具體實施方式僅為例示,並非用以限制本創作,本創作所屬技術領域中具有通常知識者,應視實際需要,彈性選擇凸起部140的具體實施方式。
再回到第2圖,離心式轉盤100更可包含埋設段191,埋設於本體110中,其中檢體槽120具有相對於上表面111之底面121,埋設段191連通檢體槽120之底面121與檢體定量槽150。
如第1圖、第2圖以及第4圖所繪示,檢體定量槽150可具有第一深度,檢體廢液槽130可具有第二深度,第一深度小於第二深度。離心式轉盤100更可包含導通段 192,設置於本體110上且連通檢體定量槽150與檢體廢液槽130,其中導通段192具有第三深度,第三深度小於第一深度與第二深度。
相較於沒有設置凸起部140的情況,檢體廢液槽130的容量在設置凸起部140後會減少。為此,可以加深檢體廢液槽130的第二深度,即使第二深度大於第一深度,使檢體廢液槽130的容量維持不變。
檢體定量槽150與稀釋液定量槽170的功能在於決定檢體與稀釋液混合比例。應了解到,以上所舉之檢體定量槽150與稀釋液定量槽170的功能僅為例示,並非用以限制本創作,本創作所屬技術領域中具有通常知識者,應視實際需要,彈性選擇檢體定量槽150與稀釋液定量槽170的功能。
離心式轉盤100更可包含稀釋液廢液槽193。稀釋液廢液槽193設置於本體110上且連通稀釋液定量槽170。因為稀釋液廢液槽193較稀釋液定量槽170遠離本體110之圓心,因此當離心機旋轉離心式轉盤100時,多過稀釋液定量槽170容量之稀釋液會因離心力的驅使而導流至稀釋液廢液槽193。
本創作上述實施方式設置凸起部140於檢體廢液槽130中的外緣面131上,利用凸起部140的頂面141來增加蓋體膜200與離心式轉盤100的接觸面積。如此一來,在離心式轉盤100轉動時,蓋體膜200將因為與離心式轉盤100的接觸面積增加而能更穩妥地固定於離心式轉盤 100上,從而避免檢體廢液槽130中的檢體因為離心力而使蓋體膜200鼓起進而撐破蓋體膜200的情形。
雖然本創作已以實施方式揭露如上,然其並非用以限定本創作,任何熟習此技藝者,在不脫離本創作之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本創作之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
3‧‧‧線段
100‧‧‧離心式轉盤
110‧‧‧本體
111‧‧‧上表面
120‧‧‧檢體槽
121‧‧‧底面
130‧‧‧檢體廢液槽
131‧‧‧外緣面
140‧‧‧凸起部
141‧‧‧頂面
142‧‧‧凸出邊
150‧‧‧檢體定量槽
160‧‧‧稀釋液槽
170‧‧‧稀釋液定量槽
180‧‧‧混合槽
190‧‧‧檢測槽
191‧‧‧埋設段
192‧‧‧導通段
193‧‧‧稀釋液廢液槽

Claims (10)

  1. 一種離心式轉盤,包含:一本體,具有一上表面;一檢體槽,設置於該本體上;一檢體廢液槽,設置於該本體上,具有一外緣面;至少一凸起部,設置於該檢體廢液槽中且連接該外緣面,該凸起部具有一頂面,用以增加一蓋體膜與該離心式轉盤的接觸面積;一檢體定量槽,設置於該本體上且連通該檢體槽與該檢體廢液槽;一稀釋液槽,設置於該本體上;一稀釋液定量槽,設置於該本體上且連通該稀釋液槽;一混合槽,設置於該本體上且連通該稀釋液定量槽與該檢體定量槽;以及至少一檢測槽,設置於該本體上且連通該混合槽。
  2. 如請求項1所述之離心式轉盤,其中該凸起部為柱狀結構。
  3. 如請求項2所述之離心式轉盤,其中該凸起部之該頂面具有至少一凸出邊,且該凸出邊面向該本體之中心。
  4. 如請求項3所述之離心式轉盤,其中該凸出邊為圓弧外緣、三角形外緣或矩形外緣。
  5. 如請求項3所述之離心式轉盤,其中該凸起部之該頂面具有面向該外緣面之一接觸邊,該凸出邊之總長度P與該接觸邊之長度C符合下列關係式:P>C。
  6. 如請求項1所述之離心式轉盤,其中該至少一凸起部之數量為複數個。
  7. 如請求項1所述之離心式轉盤,更包含:一埋設段,埋設於該本體中,其中該檢體槽具有相對於該上表面之一底面,該埋設段連通該檢體槽之該底面與該檢體定量槽。
  8. 如請求項1所述之離心式轉盤,其中該檢體定量槽具有一第一深度,該檢體廢液槽具有一第二深度,該第一深度小於該第二深度。
  9. 如請求項8所述之離心式轉盤,更包含:一導通段,設置於該本體上且連通該檢體定量槽與該檢體廢液槽,其中該導通段具有一第三深度,該第三深度小於該第一深度與該第二深度。
  10. 一種離心組件,包含: 如請求項1所述之離心式轉盤;以及一蓋體膜,設置於該本體上,該蓋體膜接觸且黏貼於該本體之該上表面與該凸起部之該頂面。
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