TWM485414U - 鐳射鏡轉換光源機構(一) - Google Patents

鐳射鏡轉換光源機構(一) Download PDF

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TWM485414U
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zhi-hong Xu
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Dun Chuang Technology Co Ltd
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Description

鐳射鏡轉換光源機構(一)
本創作係涉及一種鐳射加工裝置,特別係涉及一種可以由一物體的兩側進行加工之鐳射加工裝置。
現有的鐳射加工裝置,一般係藉由設置多個反射鏡,將鐳射產生器所產生之鐳射光束透過反射的方式反射至欲加工的物體上,如一PCB板,以達到在物體上進行鐳射加工的目的。其中,可以配合移動機構來移動該些反射鏡之位置,以調整鐳射光束反設被反射至待加工物體上之位置。
惟,目前市面上所提供的鐳射加工裝置,僅能將鐳射光束反射至待加工物體的一側,換言之,習知的鐳射加工裝置僅能對物體的一側面進行鐳射加工。當物體的兩側皆需要鐳射加工時,操作者必須先將裝置停止,以人工或機械方式將待加工物體翻面,才能對物體的第二表面進行加工。此種習知的鐳射加工裝置在對兩側皆需要加工之物體進行加工時,除了需要較長的加工時間,更加耗費人力,增加了加工時的成本。
基於上述理由,本創作的主要目的在於提供一種鐳射鏡轉換光源機構(一),其可以透過切換的方式,選擇將鐳射光束反射至待加工物體的第一表面或是第二表面,藉此代替仰賴人工或機械將物體翻面之習知鐳 射加工裝置,減短所需加工時間。
本創作之另一目的在於提供一種鐳射鏡轉換光源機構(一),其係設置一切換單元,藉由在直線方向上進行移動切換作業,以選擇將鐳射光束反射至待加工物體之第一表面,或者將鐳射光束反射至待加工物體之第二表面。
為達成前述目的,本創作提供一種鐳射轉換光源機構(一),用以對一物體進行鐳射加工,其包括:一鐳射產生器、一切換單元、數上方反射鏡、數個下方反射鏡、一上雕刻光學模組、以及一下雕刻光學模組。所述鐳射產生器係用以在一發射方向上產生一鐳射光束。所述切換單元具有一第一切換反射鏡、一第二切換反射鏡以及一動力源;其中,動力源係在一直線方向上移動切換單元,以透過第一切換反射鏡接收鐳射光束並將鐳射光束往一第一方向反射,或者,透過第二切換反射鏡接收鐳射光束並將鐳射光束往一第二方向反射。所述至少一上方反射鏡係設置在第一方向上接收該鐳射光束,再經其他該上方反射鏡並將鐳射光束反射該上雕刻光學模組,由該上雕刻光學模組聚焦至物體的一第一表面。所述至少一下方反射鏡係設置在第二方向上接收鐳射光束,再經其他該下方反射鏡以將鐳射光束反射至該下光雕刻光學模組,由該下光雕刻光學模組聚焦至該物體的一第二表面。
根據本創作的一實施例,第一方向與第二方向係分別垂直於鐳射光束之發射方向,第一方向係在一水平方向上,且第二方向係在一垂直方向上。
根據本創作的一實施例,數個上方反射鏡包括第一上方反射 鏡及第二上方反射鏡,當鐳射光束由第一上方反射鏡反射後,係進一步經由第二上方反射鏡被反射至該上雕刻光學模組。此外,數個下方反射鏡包括第一下方反射鏡、第二下方反射鏡、以及第三下方反射鏡,當鐳射光束由第一下方反射鏡反射後,依序經第二反射鏡、第三下方反射鏡被反射至該上光雕刻光學模組。
根據本創作的一實施例,第一上方反射鏡與第二上方反射鏡係配置為可以同時於第一方向上移動,且第二上方反射鏡係配置為可以於垂直於第一方向之一第三方向上移動。此外,第二下方反射鏡與第三下方反射鏡係配置為可以同時於第一方向上移動,且第三下方反射鏡係配置為可以於第三方向上移動。
根據本創作的一實施例,切換單元具有一第一端以及一第二端,第一切換反射鏡係設置於第一端之一第一斜面上,第二切換反射鏡係設置於第一端以及第二端之間之一第二斜面上,且動力源係設置於第二端。
根據本創作的一實施例,切換單元係包括一固定部以及一移動部。第一切換反射鏡係設置於固定部上並位於該鐳射光束之發射路徑上;第二切換反射鏡係設置於移動部上,且動力源係配置以在直線方向上移動移動部,以將第二切換反射鏡移至或者移出鐳射產生器與第一切換反射鏡之間。
此外,本創作提供一種鐳射鏡轉換光源機構(一),其包括:數組移動機構,固定於一基座上;一鐳射產生器,固定於基座上,用以在一發射方向上產生一鐳射光束;一切換單元,固定於基座上,切換單元具有一第一切換反射鏡、一第二切換反射鏡以及一動力源,其中,動力源係 在一直線方向上移動切換單元,以透過第一切換反射鏡接收鐳射光束並將鐳射光束往一第一方向反射,或者,透過第二切換反射鏡接收鐳射光束並將鐳射光束往一第二方向反射;數上方反射鏡,其中一該上方反射鏡設置於一組移動機構上並且配置在第一方向上接收鐳射光束,其他移動構安裝至少一該上方反射鏡,前一級的移動機構亦安裝於次一級的移動機構上,以將鐳射光束反射至一上雕刻光學模組,由該上光雕刻光學模組聚焦至物體的一第一表面;以及數下方反射鏡,其中一該第一下方反射鏡,固定於基座上,並且配置在第二方向上接收鐳射光束,其他該下方反射鏡設置於一組移動機構上並接收鐳射光束,其他移動構安裝至少一下方反射鏡,前一級的移動機構亦安裝於次一級的移動機構上,以將鐳射光束經數下方反射鏡反射至一下雕刻光學組,由該下雕刻光學模組聚焦至物體的一第二表面;其中,該等移動機構可以在第一方向、第二方向以及垂直於第一方向的一第三方向上移動。
根據本創作的一實施例,數個上方反射鏡包括第一上方反射鏡及第二上方反射鏡,當鐳射光束由第一上方反射鏡反射後,係進一步經由至少一第二上方反射鏡被反射至該上雕刻光學模組。此外,數個下方反射鏡包括第一下方反射鏡、第二下方反射鏡、以及第三下方反射鏡,當鐳射光束由第一下方反射鏡反射後,依序經第二反射鏡、第三下方反射鏡被反射至該下雕刻光學模組。
根據本創作的一實施例,第一上方反射鏡與第二上方反射鏡係藉由其中一組移動機構配置為可以同時於第一方向上移動,且第二上方反射鏡係配置為可以於第三方向上移動。此外,第二下方反射鏡與第三下 方反射鏡係藉由另一組移動機構配置為可以同時於第一方向上移動,且第三下方反射鏡係配置為可以於第三方向上移動。
1‧‧‧鐳射產生器
11‧‧‧擴束鏡組
2a‧‧‧切換單元
21‧‧‧第一切換反射鏡
211a‧‧‧第一斜面
22‧‧‧第二切換反射鏡
221a‧‧‧第二斜面
23‧‧‧動力源
2b‧‧‧切換單元
211b‧‧‧固定部
221b‧‧‧移動部
31‧‧‧第一上方反射鏡
32‧‧‧第二上方反射鏡
41‧‧‧第一下方反射鏡
42‧‧‧第二下方反射鏡
43‧‧‧第三下方反射鏡
5a‧‧‧上雕刻光學模組
5b‧‧‧下雕刻光學模組
50‧‧‧反射鏡組
51‧‧‧掃描鏡組
52‧‧‧聚焦鏡組
61‧‧‧輸送機構
62‧‧‧第一移動機構
621‧‧‧滑軌
63‧‧‧第二移動機構
631‧‧‧滑軌
64‧‧‧第三移動機構
65‧‧‧第四移動機構
66‧‧‧第五移動機構
67‧‧‧第六移動機構
8‧‧‧基座
9‧‧‧物體
91‧‧‧第一表面
92‧‧‧第二表面
第一圖為顯示根據本創作一第一實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一)以及移動機構之立體圖;第二圖為顯示根據本創作第一實施例之切換單元之立體圖;第三圖為顯示根據本創作第一實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一),將一鐳射光束反射至物體第一表面之示意圖;第四圖為顯示根據本創作第一實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一),將鐳射光束反射至物體第二表面之示意圖;第五圖為顯示根據本創作一第二實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一)以及移動機構之立體圖;第六圖為顯示根據本創作一第二實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一),將鐳射光束反射至物體第一表面之示意圖;以及第七圖為顯示根據本創作第二實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一),將鐳射光束反射至物體第二表面之示意圖。
以下配合圖式及元件符號對本創作的實施方式做更詳細的說明,俾使熟習該項技藝者在研讀本說明書後能據以實施。
第一圖為顯示根據本創作之一第一實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一)以及移動機構之立體圖。為方便配合圖式進行描述,在第一圖中係將X軸為一第一方向,與第一方向垂直且在同一水平面上的Y軸為第三 方向,與第一方向垂直但在同一垂直面上的Z軸為第二方向。根據本創作第一實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一),係包括:一鐳射產生器1、一切換單元2a、數個上方反射鏡、數個下方反射鏡、一上雕刻光學模組5a、一下雕刻光學模組5b、一輸送機構61、以及數個移動機構。數個上方反射鏡包括一第一上方反射鏡31、一第二上方反射鏡32。該數個下方反射鏡包括一第一下方反射鏡41、一第二下方反射鏡42、以及一第三下方反射鏡43。數個移動機構包括一第一移動機構62、一第二移動機構63、一第三移動機構64、一第匹移動機構65、一第五移動機構66、一第六移動機構67,上述元件係透過支柱固定於一基座8上,如第一圖所示。
鐳射產生器1係用以在一發射方向上產生一鐳射光束,而切換單元2a係設置在鐳射光束的發射路徑上,用以將鐳射光束反射至一第一方向或是第二方向。經反射至第一方向的鐳射光束,係進一步經由第一上方反射鏡31以及第二上方反射鏡32再次反射,並且透過上雕刻光學模組5a聚焦,對一物體的第一表面進行雕刻。經反射至第二方向的鐳射光束,係進一步經由第一下方反射鏡41、第二下方反射鏡42以及第三下方反射鏡43再次反射,並且透過下雕刻光學模組5b聚焦,對該物體的第二表面進行雕刻。其中,物體的上下兩相對面即為第一表面及第二表面。
所述第一移動機構62係固定於基座8上,負責帶動該第一上方反射鏡31沿第一方向移動,第二移動機構63負責第二上方反射鏡32沿第三方向移動,第三移動機64則負責帶動該上雕刻光學模組5a作垂直方向的移動,圖中所移動機構係以簡圖方式表示,僅畫出滑軌位置,如滑軌621、滑軌631等,以了解移動方向,詳細機構(如伺服馬達、連動螺桿…) 與習用相似,故未繪出亦不作詳細說明。本創作中較特殊之處在於:後一級的移動機構係安裝於前一級的移動機構上,例如第二移動機構63係安裝於第一移動機構62上,當第一移動機構61帶動第一反射鏡31作第一方向的移動時,位於第二移動機構63的第二上方反射鏡32也一起沿第一方向移動。此外,第二移動機構62作動時該第二上方反射鏡32以及位於第三移動機構63之上雕刻光學模組5a亦沿第三方向移動。如此當上雕刻光學模組5a因雕刻而位置須改變的情形下,固定不動的雷射產生器1,仍能經切換機構2a、第一上方反射鏡31、及第二上方反射鏡32將雷射光反射至該上雕刻光學模組5a處。
所述第一下方反射鏡41係直接固定於基座8上,用以接收被反射至第二方向之鐳射光束。此與上方反射鏡的配置類似,該第四移動機構65負責帶動該第二下方反射鏡42沿於第一方向移動,第五移動機構66負責第三下方反射鏡43沿第三方向移動,第六移動機67則負責帶動該下雕刻光學模組5b作垂直方向的移動,其中後一級的移動機構係安裝於前一級的移動機構上。如此當下雕刻光學模組5b因雕刻而位置須改變的情形下,固定不動的雷射產生器1,則能經切換機構2a、第一下方反射鏡41、第二下方反射鏡42、及第三下方反射鏡43將雷射光反射至該下雕刻光學模5a,原則上,上下雕刻作業是個別獨立進行。所述輸送機構61係固定於基座8上,用於將待加工的物體輸送至加工位置。
在第二圖~第四圖中,將省略移動機構以及輸送機構,以進一步針對切換單元2a的結構與切換方式以及鐳射光束的反射路徑進行更詳細的說明。
第二圖為顯示根據本創作第一實施例之切換單元2a之立體圖,第三圖為根據本創作第一實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一),將鐳射光束反射至物體第一表面之示意圖,而第四圖為顯示根據本創作第一實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一),將鐳射光束反射至物體第二表面之示意圖。本創作所提供的鐳射鏡轉換光源機構,主要係透過切換單元2a切換鐳射產生器1所產生之鐳射光束的反射方向,藉此根據需求而選擇要將鐳射光束反射至待加工物體的第一表面或第二表面,以進行鐳射加工。所述切換單元具有一第一切換反射鏡21、一第二切換反射鏡22以及一動力源23。如第二圖所示,根據本創作的第一實施例,切換單元2a係具有一第一端以及一第二端,第一切換反射鏡21係設置於第一端之一第一斜面211a上,第二切換反射鏡22係設置於第一端以及第二端之間之一第二斜面221a上,且動力源23係設置於第二端。在此,動力源23可以為一氣壓缸或是任何其他能夠產生直線方向作動力的切換單元2a的機構。
在本創作的圖式中,虛線所顯示的為鐳射光束之發射以及反射路徑。第三圖中所顯示的為透過本創作第一實施例之切換單元2a將鐳射產生器1所產生之鐳射光束反射至物體9之第一表面91之示意圖。如第一圖所示,鐳射產生器1係位於物體9之第一表面91之外,且係用以往一發射方向上產生一鐳射光束。鐳射產生器1外設置有一擴束鏡組11,使得鐳射光束通過該擴束鏡組往切換單元2a的方向發送。當切換單元2a之動力源23將第一切換反射鏡21移動至鐳射光束的發射路徑上時,所述第一切換反射鏡21將鐳射光束往第一方向反射。在本創作中,第一方向係垂直於所述鐳射光束之發射方向,且第一方向係在一水平方向上。經由第一切換反射 鏡21所反射之鐳射光束,係進一步經由第一上方反射鏡31以及第二上方反射鏡32被反射上雕刻光學模組5a,由上雕刻光學模組5a聚焦投射至物體9之第一表面91,以對物體9之第一表面91進行鐳射加工。上雕刻光學模組5a係至少包括有一反射鏡組50、一掃描鏡組51以及一聚焦鏡組52,該反射鏡組50將光線反射至掃描鏡組51,由掃描鏡組51調整雷射光的投射位置,配合該聚焦鏡組52聚焦鐳射光束,以進行雕刻。
第四圖所顯示的為透過本創作第一實施例之切換單元2a將鐳射產生器1所產生之鐳射光束反射至物體9之第二表面91之示意圖。如第四圖所示,當操作者需要對物體9之第二表面92進行加工時,可以透過切換單元2a之動力源23在直線方向上移動該二切換反射鏡22,以將第二切換反射鏡22移動到鐳射光束的發射路徑上,並且將鐳射光束往第二方向反射。在本創作中,第二方向係垂直於所述鐳射光束之發射方向,且第二方向係在一垂直方向上。經由第二切換反射鏡22反射之鐳射光束,係先被反射至第一下方反射鏡41,再經由第二下方反射鏡42以及第三下方反射鏡43反射至下雕刻光學模組5b,由下雕刻光學模組5b聚焦投射至所述物體9之第二表面92,以對物體9之第二表面92進行鐳射加工。下光學雕刻模組5b係同樣至少包括有反射鏡組50、掃描鏡組51以及聚焦鏡組52,該反射鏡組50將光線反射至掃描鏡組51,由掃描鏡組51調整雷射光的投射位置,配合該聚焦鏡組52聚焦鐳射光束以進行雕刻。
在此,值得一提的是,第一方向以及第二方向的方向並不限於第一、二圖中所示之方向。第一、第二切換反射鏡21、22可以根據需要配置為適當的反射角,再配合適當數量以及反射角的上方、下方反射鏡, 將鐳射光束分別反射至物體9的第一表面91與第二表面92。
第五圖為根據本創作第二實施例之鐳射鏡轉換光源機構(一)以及移動機構之立體圖。第二實施例與第一實施例之差異,在於切換單元之切換方式與結構、第一上方反射鏡31的位置,其餘輸送機構61以及數個移動機構等設置皆與第一實施例中相同。因此,以下,將配合圖示針對切換單元2b之切換方式與結構進行更詳細的描述。
第六圖以及第七圖為分別顯示透過本發明第二實施例之切換單元2b將鐳射光束反射至物體9之第一表面91以及第二表面92之示意圖。在第二實施例中,切換單元2b係包括一固定部211b以及一移動部221b。第一切換反射鏡21係設置於固定部211b上,且第一切換反射鏡21係位於鐳射光束之發射路徑上。第二切換反射鏡22係設置於移動部221b上,且動力源23係配置以在直線方向上移動該移動部221b,以將第二切換反射鏡22移至或者移出鐳射產生器1與第一切換反射鏡21之間。
如第六圖所示,當動力源23將第二切換反射鏡22移出鐳射產生器1與第一切換反射鏡21之間時,自鐳射產生器1所產生之鐳射光束,係穿過擴束鏡組11被發射至第一切換反射鏡21,並且由第一切換反射鏡21往第一方向反射。與第一實施例相同,第一方向係垂直於所述鐳射光束之發射方向,且第一方向係在水平方向上。經由第一切換反射鏡21所反射之鐳射光束,係進一步經由第一上方反射鏡31以及第二上方反射鏡32被反射至上雕刻光學模組5a,由上雕刻光學模組5a聚焦投射至物體9之第一表面91,以對物體9之第一表面91進行鐳射加工。上光學雕刻模組5a係至少包括有反射鏡組50、掃描鏡組51以及聚焦鏡組52,該反射鏡組50將光線反 射至掃描鏡組51,由掃描鏡組51調整雷射光的投射位置,配合該聚焦鏡組52聚焦鐳射光束,以進行雕刻。
如第七圖所示,當需要對物體9之第二表面92進行加工時,可以藉由動力源23將第二切換反射鏡22移至鐳射產生器1與第一切換反射鏡21之間,透過第二切換反射鏡22將鐳射光束反射至第二方向。與第一實施例相同,第二方向係垂直於所述鐳射光束之發射方向,且第二方向係在垂直方向上。經由第二切換反射鏡22反射之鐳射光束,係先被反射至第一下方反射鏡41,再經由第二下方反射鏡42以及第三下方反射鏡43反射至下雕刻光學模組5b,由下雕刻光學模組5b聚焦投射至所述物體9之第二表面92,以對物體9之第二表面92進行鐳射加工。第三下方反射鏡43以及物體9之間之下方光學雕刻模組5b係同樣至少包括有反射鏡組50、掃描鏡組51以及聚焦鏡組52,該反射鏡組50將光線反射至掃描鏡組51,由掃描鏡組51調整雷射光的投射位置,配合該聚焦鏡組52聚焦鐳射光束,以進行雕刻。
透過上述第一實施例以及第二實施例中之切換單元以及移動機構的配置,本創作之鐳射鏡轉換光源機構(一)可以根據需求透過切換的方式,選擇將鐳射光束反射至待加工物體的第一表面或是第二表面,藉此代替仰賴人工將物體翻面之習知鐳射加工裝置,減短所需加工時間。
由以上實施例可知,本創作所提供鐳射鏡轉換光源機構(一)確具產業上之利用價值,惟以上之敘述僅為本創作之較佳實施例說明,凡精於此項技藝者可依據上述之說明而作其它種種之改良,惟這些改變仍屬於本創作之精神及以下所界定之專利範圍中。
1‧‧‧鐳射產生器
11‧‧‧擴束鏡組
2a‧‧‧切換單元
21‧‧‧第一切換反射鏡
22‧‧‧第二切換反射鏡
23‧‧‧動力源
31‧‧‧第一上方反射鏡
32‧‧‧第二上方反射鏡
41‧‧‧第一下方反射鏡
42‧‧‧第二下方反射鏡
43‧‧‧第三下方反射鏡
5a‧‧‧上雕刻光學模組
5b‧‧‧下雕刻光學模組
50‧‧‧反射鏡組
51‧‧‧掃描鏡組
52‧‧‧聚焦鏡組
9‧‧‧物體
92‧‧‧第二表面

Claims (13)

  1. 一種鐳射鏡轉換光源機構,用以對一物體進行鐳射加工,包括:一鐳射產生器、一切換單元、數個上方反射鏡、數個下方反射鏡、一上雕刻光學模組、以及一下雕刻光學模組,其中;該鐳射產生器用以在一發射方向上產生一鐳射光束;該切換單元具有一第一切換反射鏡、一第二切換反射鏡以及一動力源,其中,該動力源係在一直線方向上進行移動切換作業,以透過該第一切換反射鏡接收該鐳射光束並將該鐳射光束往一第一方向反射,或者,透過該第二切換反射鏡接收該鐳射光束並將該鐳射光束往一第二方向反射;至少一該上方反射鏡配置在該第一方向上接收該鐳射光束,再將該鐳射光束經其他該上方反射鏡反射至該上雕刻光學模組,由該上雕刻光學模組聚焦投射至該物體的一第一表面;以及至少一該第一下方反射鏡配置在該第二方向上接收該鐳射光束,再將該鐳射光束經由其他該下方反射鏡反射至該下雕刻光學模組,由該下雕刻光學模組聚焦投射至該物體的一第二表面。
  2. 根據申請專利範圍第1項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其中,該第一方向與該第二方向係分別垂直於該鐳射光束之發射方向,該第一方向係在一水平方向上,且該第二方向係在一垂直方向上。
  3. 根據申請專利範圍第2項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其 中,數個該上方反射鏡包括一第一上方反射鏡、一第二上方反射鏡,當來自第一方向之該鐳射光束由該第一上方反射鏡反射後,係進一步經由該第二上方反射鏡被反射至該上雕刻光學模組。
  4. 根據申請專利範圍第2項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其中,數個該下方反射鏡包括一第一下方反射鏡、一第二下方反射鏡、一第三下方反射鏡,當來自第二方向之該鐳射光束由該第一下方反射鏡反射至該第二下方反射鏡後,再由該第二下方反射鏡反射至該第三下方反射鏡,最後被反射至該下雕刻光學模組。
  5. 根據申請專利範圍第3項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其中,該第一上方反射鏡與該第二上方反射鏡係配置為可以同時於該第一方向上移動,且該第二上方反射鏡係配置為可以於垂直於該第一方向之一第三方向上移動。
  6. 根據申請專利範圍第4項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其中,該第二下方反射鏡與該第三下方反射鏡係配置為可以同時於該第一方向上移動,且該第三下方反射鏡係配置為可以於垂直於該第一方向之一第三方向上移動。
  7. 根據申請專利範圍第1項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其中,該切換單元具有一第一端以及一第二端,該第一切換反射鏡係設置於該第一端之一第一斜面上,該第二切換反射鏡係設置於該第一端以及該第二端之間之一第二斜面上,且該動力源係設置於該第二端。
  8. 根據申請專利範圍第1項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其 中,該切換單元係包括一固定部以及一移動部,該第一切換反射鏡係設置於該固定部上並位於該鐳射光束之發射路徑上,該第二切換反射鏡係設置於該移動部上,且該動力源係配置以在該直線方向上移動該移動部,以將該第二切換反射鏡移至或者移出該鐳射產生器與該第一切換反射鏡之間。
  9. 一種鐳射鏡轉換光源機構,用以對一物體進行鐳射加工,其包括:一基座、一鐳射產生器、一切換單元、數個上方反射鏡、數個下方反射鏡、一上雕刻光學模組、一下雕刻光學模組、以及數組移動機構,其中;該鐳射產生器固定於該基座上,用以在一發射方向上產生一鐳射光束;該切換單元固定於該基座上,該切換單元具有一第一切換反射鏡、一第二切換反射鏡以及一動力源,其中,該動力源係在一直線方向上移動該切換單元,以透過該第一切換反射鏡接收該鐳射光束並將該鐳射光束往一第一方向反射,或者,透過該第二切換反射鏡接收該鐳射光束並將該鐳射光束往一第二方向反射;數組該移動機構安裝於該基座上,並由其中數組該移動機構分別安裝至少一該上方反射鏡及該上雕刻光學模組,其中後一級的移動機構係安裝於前一級的移動機構上,另外亦由數組該移動機構分別安裝至少一該下方反射鏡及該下雕刻光學模組,其中後一級的移動機構係安裝於前一級的移動機構上 至少一該上方反射鏡配置在該第一方向上接收該鐳射光束,再將該鐳射光束經其他該上方反射鏡反射至該上雕刻光學模組,由該上雕刻光學模組聚焦投射至該物體的一第一表面;以及至少一該下方反射鏡固定於該基座上,並且配置在該第二方向上接收該鐳射光束,再將該鐳射光束經由其他該下方反射鏡反射至該下雕刻光學模組,由該下雕刻光學模組聚焦投射至該物體的一第二表面;其中,該等移動機構可以在該第一方向、該第二方向以及垂直於該第一方向的一第三方向上移動。
  10. 根據申請專利範圍第9項之鐳射鏡轉換光源機構,其中,其中,數個該上方反射鏡包括一第一上方反射鏡、一第二上方反射鏡,當來自第一方向之該鐳射光束由該第一上方反射鏡反射後,係進一步經由該第二上方反射鏡被反射至該上雕刻光學模組。
  11. 根據申請專利範圍第9項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其中,數個該下方反射鏡包括一第一下方反射鏡、一第二下方反射鏡、一第三下方反射鏡,當來自第二方向之該鐳射光束由該第一下方反射鏡反射至該第二下方反射鏡後,再由該第二下方反射鏡反射至該第三下方反射鏡,最後被反射至該下雕刻光學模組。
  12. 根據申請專利範圍第10項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其中,數該移動機構的其中部份為一第一移動機構、一第二移動機構以及第三移動機構,其中第一移動機構係固定於 基座上,負責帶動該第一上方反射鏡沿第一方向移動,第二移動機構負責帶動該第二上方反射鏡沿第三方向移動,第三移動機則負責帶動該上雕刻光學模組作垂直方向的移動,另外後一級的移動機構係安裝於前一級的移動機構上。
  13. 根據申請專利範圍第11項所述之鐳射鏡轉換光源機構,其中,數該移動機構的其中部份為一第四移動機構、一第五移動機構以及一第六移動機構,其中第四移動機構係固定於基座上,負責帶動該第二下方反射鏡沿第一方向移動,第五移動機構負責第三下方反射鏡沿第三方向移動,第六移動機則負責帶動該下雕刻光學模組作垂直方向的移動,另外後一級的移動機構係安裝於前一級的移動機構上。
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