TWM480933U - 可伸縮之面膜 - Google Patents
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Description
本創作係有關一種敷臉的面膜，尤指一種可伸縮之面膜。
按面膜為一種常見的臉部保養用品，其產品主要係面膜以敷面劑浸潤，且以袋體包裝。當使用者欲進行臉部保養時，係將袋體拆開並將面膜取出，然後將面膜攤開後敷設在臉上，讓敷面劑慢慢被臉部吸收，達到臉部保養的效果。
然而，使用者常在拆開袋體並將面膜取出後發現，在袋體內仍存留有未附著在面膜上之敷面劑，主要係面膜本身之附著能力有限，無法將袋體內之所有敷面劑皆保留在面膜上，為避免浪費，故使用者通常會在敷臉的同時，將袋體內存留的敷面劑塗抹在臉部以外的部位，例如手、腳等處，惟應該用於臉部保養之敷面劑使用於他處，相對會造成臉部保養應有的效果大打折扣。
因此，如何解決上述習用面膜之問題者，即為本創作之主要重點所在。
本創作之主要目的，在於解決上述的問題而提供一種可伸縮之面膜，面膜可讓敷面劑容納在基層形成之皺摺中，而可讓面膜能存留較多之敷面劑，而於使用時可讓臉部保養具有良好的效果。
為達前述之目的，本創作之可伸縮之面膜，係一基層與一伸縮層之間以一黏著層黏合構成，該伸縮層之彈性大於該基層，該伸縮層經一預設拉力可由變形回復至原狀，而該基層經該預設拉力則變形延展，且該基層隨該伸縮層於該預設拉力消失而縮回並形成複數皺摺，各該皺摺與該伸縮層之間形成一可供容納敷面劑之空間。
本創作之上述及其他目的與優點，不難從下述所選用實施例之詳細說明與附圖中，獲得深入了解。
當然，本創作在某些另件上，或另件之安排上容許有所不同，但所選用之實施例，則於本說明書中，予以詳細說明，並於附圖中展示其構造。
1‧‧‧基層
11‧‧‧孔洞
11‧‧‧孔洞
12‧‧‧皺摺
2‧‧‧伸縮層
2‧‧‧伸縮層
3‧‧‧黏著層
4‧‧‧滾壓輪
4‧‧‧滾壓輪
5‧‧‧空間
第1圖係本創作之面膜的立體外觀圖。
第2圖係本創作之面膜的立體分解圖。
第3圖係本創作之面膜的剖視示意圖。
第4圖係本創作之面膜由滾壓輪滾之示意圖。
第5圖係本創作之面膜被拉長之示意圖。
第6圖係本創作之面膜於基層形成皺摺之示意圖。
第7圖係本創作之面膜於基層之皺摺與伸縮層間形成空間之示意圖。
請參閱第1圖至第7圖，圖中所示者為本創作所選用之實施例結構，此僅供說明之用，在專利申請上並不受此種結構之限制。
本實施例提供一種可伸縮之面膜，其係如第1至3圖所示，包括一基層1、一伸縮層2及一黏著層3，其中：
如第1至3圖所示，該基層1與該伸縮層2之間以該黏著層3黏合構成，該伸縮層2之彈性大於該基層1。如第4圖所示，該基層1與該伸縮層2之間填入該黏著層3，並以滾壓輪4對該基層1與伸縮層2進行滾壓，使該基層1與伸縮層2以該黏著層3黏合。
於本實施例中，該基層1為不織布，且該基層1具有複數可提供透氣效果之孔洞11；該伸縮層2於本實施例中係以聚對苯二甲酸丁二醇酯(Polybutylene terephthalate,PBT)之彈性纖維為材質製成，於不同實施例可為聚氨酯（Polyurethane,PU
）、聚對苯二甲酸乙二酯（Polyethylene terephthalate,PET）或聚四甲基醚二醇(PolyTetramethylene-ether-Glycol
,PTMG)之彈性纖維為材質製成。
如第5圖所示，係面膜經一預設拉力往周圍的方向拉長，該伸縮層2經該預設拉力可由變形回復至原狀，而該基層1經該預設拉力則變形延展，且該基層1隨該伸縮層2於該預設拉力消失而縮回，並如第6圖所示形成複數皺摺12，且如第7圖所示，各該皺摺12與該伸縮層2之間形成一可供容納敷面劑之空間5。
由上述之說明不難發現本創作之優點，在於該基層1以複數皺摺12而形成之空間5可供容納敷面劑，因此面膜可存留之敷面劑除基層1本身可吸附的量之外，並可容納在複數皺摺12所形成之空間5，相較於習知的面膜能存留較多之敷面劑，而能在用於敷臉時儘可能讓敷面劑皆作為臉部吸收之用，而在敷臉時具有良好的保養效果。
以上所述實施例之揭示係用以說明本創作，並非用以限制本創作，故舉凡數值之變更或等效元件之置換仍應隸屬本創作之範疇。
由以上詳細說明，可使熟知本項技藝者明瞭本創作的確可達成前述目的，實已符合專利法之規定，爰提出專利申請。
1‧‧‧基層
12‧‧‧皺摺
2‧‧‧伸縮層
3‧‧‧黏著層
5‧‧‧空間
Claims (4)
- 一種可伸縮之面膜，係一基層與一伸縮層之間以一黏著層黏合構成，該伸縮層之彈性大於該基層，該伸縮層經一預設拉力可由變形回復至原狀，而該基層經該預設拉力則變形延展，且該基層隨該伸縮層於該預設拉力消失而縮回並形成複數皺摺，各該皺摺與該伸縮層之間形成一可供容納敷面劑之空間。
- 依請求項1所述之可伸縮之面膜，其中，該基層為不織布。
- 依請求項1所述之可伸縮之面膜，其中，該基層具有複數可提供透氣效果之孔洞。
- 依請求項1所述之可伸縮之面膜，其中，該伸縮層係以聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚氨酯、聚對苯二甲酸乙二酯或聚四甲基醚二醇之彈性纖維為材質製成。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW103202430U TWM480933U (zh) | 2014-02-12 | 2014-02-12 | 可伸縮之面膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW103202430U TWM480933U (zh) | 2014-02-12 | 2014-02-12 | 可伸縮之面膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWM480933U true TWM480933U (zh) | 2014-07-01 |
Family
ID=51723103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW103202430U TWM480933U (zh) | 2014-02-12 | 2014-02-12 | 可伸縮之面膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TWM480933U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI556767B (zh) * | 2014-10-29 | 2016-11-11 | Yu-Yue Lin | Colloidal mask with local carrier and its manufacturing method |
-
2014
- 2014-02-12 TW TW103202430U patent/TWM480933U/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI556767B (zh) * | 2014-10-29 | 2016-11-11 | Yu-Yue Lin | Colloidal mask with local carrier and its manufacturing method |
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