TWM478150U - 微型比色皿 - Google Patents
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Description
本新型涉及一種比色皿,特別是涉及一種測量微量液體樣本的微型光學比色皿。
比色皿為一種用以盛載樣品的容器,以光穿透過比色皿盛載了樣品的透光區域,藉由測量透光度,來計算出樣品中特定成分的濃度。傳統的比色皿係採用玻璃材質,所以成本較高,會多次重複使用。因此,傳統的比色皿在使用完之後,需要進行清潔,且需要對透光區域進行徹底的清潔以保持潔淨及透明,不能有任何污垢、毛屑的殘留,且不可用手觸摸以避免指紋的殘留而致影響下一回的測量結果。在大量試樣進行測量時,就需要多個比色皿或者反覆進行清洗,因而影響測量的效率。若比色皿使用完之後未進行徹底的清潔,會因殘留在比色皿內的物質而影響下一回的測量結果。
為解決上述問題,目前的比色皿是採用可拋式設計。比色皿具有進樣狹縫及測量區狹縫,且進樣狹縫之寬度小於測量區狹縫之寬度,藉由毛細作用力將樣品由進樣
狹縫拉入測量區狹縫中。目前的比色皿在使用上有一個問題,當樣品載入之後,測量區狹縫常會發生氣泡。當比色皿的測量區出現氣泡時,會非常難以將氣泡去除。因為測量區的氣泡會嚴重影響量測結果,所以,比色皿必需廢棄處理並以新的比色皿重新進行採樣。此外,在實際操作上,當以比色皿進行樣品取樣之後,會有擦拭進樣口的動作以拭去殘留在進樣口處的樣品。由於擦拭紙的毛細作用,測量區狹縫內的樣品易隨著擦拭紙由進樣口被帶出,而樣品被帶出後,容易在測量區產生氣泡,進而影響測量結果。
因此,目前需要一種微型比色皿,其不只可減少傳統比色皿使用上之不便之處,更可以解決目前使用的可拋式比色皿存在的問題。
本新型之主要目的在於提供一種微型比色皿,其為可拋式比色皿,並可以解決目前使用的可拋式比色皿存在的問題,可減少會影響測量結果的因素。
本新型的微型比色皿具有一本體,本體內具有狹縫,狹縫與位於本體對側的一入口狹縫與一出口狹縫連通,其特徵在於,狹縫包括:一引流區狹縫;一光學測量區狹縫;以及一保護區狹縫,其中,引流區狹縫直接連通入口狹縫、光學測量區狹縫和保護區狹縫,保護區狹縫至少部分環繞光學測量區狹縫且與出口狹縫連通,引流區狹縫之寬度不大於光學測量區狹縫之寬度,保護區狹縫之寬
度大於光學測量區狹縫之寬度。
根據本新型一實施例,保護區狹縫至少部分位於入口狹縫、引流區狹縫與光學測量區狹縫之間。
根據本新型一實施例,保護區狹縫連通引流區狹縫且環繞光學測量區狹縫。
根據本新型另一實施例,狹縫包括複數個保護區狹縫,且至少一保護區狹縫位於入口狹縫、引流區狹縫與光學測量區狹縫之間。
根據本新型一實施例,光學測量區狹縫更包括一透明區,其中透明區可以位於光學測量區狹縫之部份或光學測量區狹縫之整體,且光學測量區狹縫的透明度高於本體其他部分。
根據本新型一實施例,引流區狹縫之寬度為0.1mm~0.3mm,光學測量區狹縫之寬度為0.1mm~0.3mm,保護區狹縫之寬度為0.2mm~0.4mm。
本新型之微型比色皿的製作材料可採用任何適用於製作比色皿的材料,如親水性的透明光學級聚苯乙烯(Polystyrene,PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(Poly(methyl methacrylate),PMMA)。根據本新型一實施例,微型比色皿為一體成型的結構。微型比色皿成型中所採用的模具中的金屬薄片所對應形成光學測量區狹縫中透明區的位置會進行拋光處理,增加形成後的微型比色皿的透明區的透明度,以利於測量光束通過。
本新型提出的微型比色皿結構利用毛細現象,因毛
細作用力與狹縫寬度成反比,藉由調整不同區域的狹縫寬度,使引流區狹縫之毛細作用力不小於光學測量區狹縫,保護區狹縫之毛細作用力小於光學測量區狹縫。因此,在導入樣品的過程中,因毛細作用力的作用,光學測量區狹縫內樣品充填的速度較快,所以光學測量區狹縫內的空氣會被推擠至保護區狹縫內,再由出口狹縫排出到外界中。即令有空氣殘留在比色皿的狹縫內,氣泡也會存在於保護區狹縫內,而不會在光學測量區狹縫,這樣可避免氣泡對測量結果產生影響。保護區狹縫的另一功能在於,當比色皿取樣完成後以擦拭紙擦拭時,擦拭紙的毛細作用會將狹縫中的部分樣品帶出,保護區狹縫內的樣品會先被帶出,可避免測量區狹縫內的樣品易隨著擦拭紙由入口狹縫被帶出,進而確保測量結果的正確性。
100、200、300‧‧‧微型比色皿
110、210、310‧‧‧本體
112‧‧‧握把部
120、220、320‧‧‧狹縫
122、222、322‧‧‧引流區狹縫
124、224、324‧‧‧光學測量區狹縫
126、226、326‧‧‧保護區狹縫
130、230、330‧‧‧入口狹縫
140、240、340‧‧‧出口狹縫
150、250、350‧‧‧透明區
為使本新型之特徵、優點與實施例能更明顯易懂,所附圖式之說明如下:
第1A圖繪示本新型一實施例之微型比色皿的正視圖。
第1B圖繪示本新型一實施例之微型比色皿沿A-A剖線的剖視圖。
第1C圖繪示本新型一實施例之微型比色皿的上視圖。
第1D圖繪示本新型一實施例之微型比色皿的下視圖。
第2A圖繪示本新型另一實施例之微型比色皿的正視圖。
第2B圖繪示本新型另一實施例之微型比色皿沿B-B剖線的
剖視圖。
第2C圖繪示本新型另一實施例之微型比色皿的上視圖。
第2D圖繪示本新型另一實施例之微型比色皿的下視圖。
第3A圖繪示本新型又一實施例之微型比色皿的正視圖。
第3B圖繪示本新型又一實施例之微型比色皿沿C-C剖線的剖視圖。
第3C圖繪示本新型又一實施例之微型比色皿的上視圖。
第3D圖繪示本新型又一實施例之微型比色皿的下視圖。
為了使本揭示內容的敘述更加詳盡與完備,下文將以附圖及詳細說明來清楚闡釋本新型的實施態樣與具體實施例;但這並非實施或運用本新型具體實施例的唯一形式。以下所揭露的各實施例,在有益的情形下可相互組合或取代,也可在一實施例中附加其他的實施例,而無須進一步的記載或說明。
本新型之主要目的在於提供一種微型比色皿,其為可拋式比色皿,具有需樣量小、使用方便等優點。另外,根據本新型所提供的微型比色皿的結構設計,可減少取樣時在光學測量區狹縫發生氣泡的可能及樣品取樣完成後以擦拭紙擦拭時,避免測量區狹縫內的樣品被擦拭紙帶出,進而影響測量結果。另外,微型比色皿的結構設計可以避免在製作成一體成型結構時光學測量區狹縫干擾因素的生成。
以下列舉數個實施例以更詳盡闡述本新型之方法,然其僅為例示說明之用,並非用以限定本新型,本新型之保護範圍當以後附之申請專利範圍所界定者為準。
請參照第1A、1C和1D圖,其分別繪示本新型一實施例之微型比色皿100的正視圖、上視圖和下視圖。請參照第1A圖,微型比色皿100具有一本體110及一握把部112,本體內具有狹縫120、入口狹縫130與出口狹縫140,且狹縫120包括:一引流區狹縫122;一光學測量區狹縫124;以及一保護區狹縫126。其中,引流區狹縫122直接連通入口狹縫130、光學測量區狹縫124和保護區狹縫126,保護區狹縫126至少部分環繞光學測量區狹縫124且與出口狹縫140連通,引流區狹縫122之寬度不大於光學測量區狹縫124之寬度,保護區狹縫126之寬度大於光學測量區狹縫124之寬度。請參照第1C和1D圖,微型比色皿100為正、反面及左、右側封閉,上、下側藉由狹縫120、入口狹縫130及出口狹縫140相通。透過上視圖的出口狹縫140和下視圖的入口狹縫130,可看到引流區狹縫122、光學測量區狹縫124及保護區狹縫126的位置及寬度變化。
在本實施例中,入口狹縫130與引流區狹縫122及保護區狹縫126連通,且出口狹縫140與引流區狹縫122、光學測量區狹縫124及保護區狹縫126連通。此外,在本實施例中,引流區狹縫122之寬度等於光學測量區狹縫124之寬度,但光學測量區狹縫124之寬度小於保護區狹縫126之寬度。請參照第1C圖,藉由出口狹縫140可看到光學測
量區狹縫124與保護區狹縫126交接處之寬度變化;請參照第1D圖,藉由入口狹縫130可看到引流區狹縫122及保護區狹縫126,並可透過保護區狹縫126看到保護區狹縫126與引流區狹縫122及光學測量區狹縫124連通部分之寬度變化。換言之,可透過保護區狹縫126看到引流區狹縫122及光學測量區狹縫124之兩壁面。
當微型比色皿100取樣時,樣品由入口狹縫130進入微型比色皿100。樣品循引流區狹縫122及保護區狹縫126流入,由於引流區狹縫122之毛細作用力大於保護區狹縫126,樣品會首先充滿引流區狹縫122。接著,樣品會循著引流區狹縫122與光學測量區狹縫124及保護區狹縫126的連接處漸次流入並充滿光學測量區狹縫124及保護區狹縫126。樣品會先進入保護區狹縫126,但由於光學測量區狹縫124之毛細作用力大於保護區狹縫126,樣品在光學測量區狹縫的流速較快,故樣品會先充滿光學測量區狹縫124。因此,光學測量區狹縫124內的空氣會被推擠至尚未被樣品充滿之保護區狹縫126內。反觀目前的比色皿,進樣狹縫之寬度小於測量區狹縫之寬度,且測量區狹縫之寬度一致,故氣泡會存在於測量區狹縫內,並難以去除。
光學測量區狹縫124更包括一透明區150,以使測量光束通過。在此實施例中,透明區150為圓形,且位於光學測量區狹縫124之中央部份,然,透明區150可視實際需求,變化為任意形狀、位於光學測量區狹縫124之任意位置。在此實施例中,光學測量區狹縫124具有高於本
體110其他部分的透明度。
請參照第1B圖,其繪示微型比色皿100沿A-A剖線的剖視圖,可藉此剖視圖看出狹縫120的寬度變化。在此實施例中,由於保護區狹縫126之寬度大於光學測量區狹縫124之寬度,故可於微型比色皿100沿A-A剖線的剖視圖看到保護區狹縫126與光學測量區狹縫124連通部分之寬度變化。因此,微型比色皿100沿A-A剖線的剖視圖於保護區狹縫126的部分,包括保護區狹縫126之兩壁面,以及光學測量區狹縫124之兩壁面。
在本實施例中,光學測量區狹縫124之寬度小於保護區狹縫126,所以毛細作用力較強,樣品流入光學測量區狹縫124之速度快於保護區狹縫126且基本上會早於保護區狹縫126充滿樣品,光學測量區狹縫124內的空氣會被推往保護區狹縫126後由出口狹縫140排除。所以,光學測量區狹縫124在取樣過程中不易有氣泡的發生。
在微型比色皿100取樣完成之後,一擦拭紙(未繪示)會用來清潔微型比色皿100的入口狹縫130以去除殘留在入口狹縫130的樣品。擦拭紙本身的毛細作用力會將微型比色皿100狹縫120內的樣品向外拉動。此時,保護區狹縫126的樣品較易被拉動,這保護了光學測量區狹縫124內的樣品不易受此一擦拭動作的影響。
請參照第2A、2C和2D圖,其分別繪示本新型另一實施例之微型比色皿200的正視圖、上視圖和下視圖,為方便說明,圖示中省略握把部,僅繪示本體210。請參照
第2A圖,微型比色皿200具有一本體210,本體內具有狹縫220、入口狹縫230與出口狹縫240,且狹縫220包括:一引流區狹縫222;一光學測量區狹縫224;以及一保護區狹縫226。其中,引流區狹縫222直接連通入口狹縫230、光學測量區狹縫224和保護區狹縫226,引流區狹縫222與保護區狹縫226連通於兩處,保護區狹縫226環繞光學測量區狹縫224未與引流區狹縫222連通之處且與出口狹縫240連通,引流區狹縫222之寬度不大於光學測量區狹縫224之寬度,保護區狹縫226之寬度大於光學測量區狹縫224之寬度。請參照第2C和2D圖,微型比色皿200為正、反面及左、右側封閉,上、下側藉由狹縫220、入口狹縫230及出口狹縫240相通。透過上視圖的出口狹縫240和下視圖的入口狹縫230,可看到引流區狹縫222、光學測量區狹縫224及保護區狹縫226的位置及寬度變化。
在本實施例中,入口狹縫230與引流區狹縫222及保護區狹縫226連通,且出口狹縫240與引流區狹縫222及保護區狹縫226連通。此外,在本實施例中,引流區狹縫222之寬度小於光學測量區狹縫224之寬度,光學測量區狹縫224之寬度小於保護區狹縫226之寬度。請參照第2C圖,藉由出口狹縫240可看到引流區狹縫222與保護區狹縫226交接處之寬度變化,並可透過保護區狹縫226看到保護區狹縫226與光學測量區狹縫224連通部分之寬度變化;請參照第2D圖,藉由入口狹縫230可看到引流區狹縫222及保護區狹縫226,並可透過保護區狹縫226看到保
護區狹縫226與引流區狹縫222及光學測量區狹縫224連通部分之寬度變化。換言之,可透過保護區狹縫226看到引流區狹縫222及光學測量區狹縫224之兩壁面。
當微型比色皿200取樣時,樣品由入口狹縫230進入微型比色皿200。樣品循引流區狹縫222及保護區狹縫226流入,由於引流區狹縫222之毛細作用力大於保護區狹縫226,樣品會首先充滿引流區狹縫222。接著,樣品會循著引流區狹縫222與光學測量區狹縫224及保護區狹縫226的連接處漸次流入並充滿光學測量區狹縫224及保護區狹縫226。
光學測量區狹縫224更包括一透明區250,以使測量光束通過。在此實施例中,透明區250為圓形,且位於光學測量區狹縫224之中央部份,然,透明區250可視實際需求,變化為任意形狀、位於光學測量區狹縫224之任意位置。在此實施例中,光學測量區狹縫224具有高於本體210其他部分的透明度。
請參照第2B圖,其繪示微型比色皿200沿B-B剖線的剖視圖,可藉此剖視圖看出狹縫220的寬度變化。為方便說明,圖示中省略握把部,僅繪示本體210。在此實施例中,由於保護區狹縫226之寬度大於光學測量區狹縫224之寬度,故可於微型比色皿200沿B-B剖線的剖視圖看到保護區狹縫226與光學測量區狹縫224連通部分之寬度變化。因此,微型比色皿200沿B-B剖線的剖視圖於保護區狹縫226的部分,包括保護區狹縫226之兩壁面,以及光
學測量區狹縫224之兩壁面。
微型比色皿200與微型比色皿100不同之處在於引流區狹縫222與保護區狹縫226連通於兩處,且保護區狹縫226環繞光學測量區狹縫224未與引流區狹縫222連通之處。此不同之處並不影響本實施例各個元件的功能,因此,微型比色皿200具有與微型比色皿100相同之功能與優點。
請參照第3A、3C和3D圖,其分別繪示本新型另一實施例之微型比色皿300的正視圖、上視圖和下視圖,為方便說明,圖示中省略握把部,僅繪示本體310。請參照第3A圖,微型比色皿300具有一本體310,本體內具有狹縫320、入口狹縫330與出口狹縫340,且狹縫320包括:一引流區狹縫322;一光學測量區狹縫324;以及兩個保護區狹縫326。其中,引流區狹縫322直接連通入口狹縫330、光學測量區狹縫324和兩個保護區狹縫326,兩個保護區狹縫326至少部分環繞光學測量區狹縫324,且一保護區狹縫326與引流區狹縫322、光學測量區狹縫324和入口狹縫330連通,另一保護區狹縫326與引流區狹縫322、光學測量區狹縫324和出口狹縫340連通,引流區狹縫322之寬度不大於光學測量區狹縫324之寬度,保護區狹縫326之寬度大於光學測量區狹縫324之寬度。請參照第3C和3D圖,微型比色皿300為正、反面及左、右側封閉,上、下側藉由狹縫320、入口狹縫330及出口狹縫340相通。透過上視圖的出口狹縫340和下視圖的入口狹縫330,可看到引流區
狹縫322、光學測量區狹縫324及保護區狹縫326的位置及寬度變化。
在本實施例中,入口狹縫330與引流區狹縫322及一保護區狹縫326連通,且出口狹縫340與引流區狹縫322及另一保護區狹縫326連通。此外,在本實施例中,引流區狹縫322之寬度小於光學測量區狹縫324之寬度,光學測量區狹縫324之寬度小於保護區狹縫326之寬度。請參照第3C圖,藉由出口狹縫340可看到引流區狹縫322與保護區狹縫326交接處之寬度變化,並可透過保護區狹縫326看到保護區狹縫326與光學測量區狹縫324連通部分之寬度變化;請參照第3D圖,藉由入口狹縫330可看到引流區狹縫322及保護區狹縫326,並可透過保護區狹縫326看到保護區狹縫326與引流區狹縫322及光學測量區狹縫324連通部分之寬度變化。換言之,可透過保護區狹縫326看到引流區狹縫322及光學測量區狹縫324之兩壁面。
當微型比色皿300取樣時,樣品由入口狹縫330進入微型比色皿300。樣品循引流區狹縫322及保護區狹縫326流入,由於引流區狹縫322之毛細作用力大於保護區狹縫326,樣品會首先充滿引流區狹縫322。接著,樣品會循著引流區狹縫322與光學測量區狹縫324及保護區狹縫326的連接處漸次流入並充滿光學測量區狹縫324及保護區狹縫326。
光學測量區狹縫324更包括一透明區350,以使測量光束通過。在此實施例中,透明區350為圓形,且位於
光學測量區狹縫324之中央部份,然,透明區350可視實際需求,變化為任意形狀、位於光學測量區狹縫324之任意位置。在此實施例中,光學測量區狹縫324具有高於本體310其他部分的透明度。
請參照第3B圖,其繪示微型比色皿300沿C-C剖線的剖視圖,可藉此剖視圖看出狹縫320的寬度變化。為方便說明,圖示中省略握把部,僅繪示本體310。在此實施例中,剖視圖顯示出引流區狹縫322、光學測量區狹縫324及保護區狹縫326交接處之寬度變化。
微型比色皿300與微型比色皿100不同之處在於微型比色皿300具有兩個保護區狹縫326。此不同之處並不影響本實施例各個元件的功能,因此,微型比色皿300具有與微型比色皿100相同之功能與優點。
本新型提出的微型比色皿結構利用毛細現象,因毛細作用力與狹縫寬度成反比,藉由調整不同區域的狹縫寬度,使引流區狹縫之毛細作用力不小於光學測量區狹縫、保護區狹縫之毛細作用力小於光學測量區狹縫。根據本新型一實施例,引流區狹縫之寬度為0.1mm~0.3mm,較佳為0.15mm;光學測量區狹縫之寬度為0.1mm~0.3mm,較佳為0.15mm;保護區狹縫之寬度為0.2mm~0.4mm,較佳為0.3mm。
當樣品從入口狹縫進入時,在毛細作用力的作用下,樣品首先快速充滿引流區狹縫,接著逐漸充滿光學測量區狹縫及保護區狹縫。樣品在光學測量區狹縫和保護區
狹縫的流動速度和距離皆不相同,故於流動過程中,光學測量區狹縫和保護區狹縫的交界處可能會產生氣泡。若出現氣泡,由於光學測量區狹縫的毛細作用力大於保護區狹縫,樣品在光學測量區狹縫的流速較快,故氣泡會隨著樣品逐漸流向保護區狹縫,藉此將氣泡擠壓至保護區狹縫內,再由出口狹縫排出到外界中。即令有空氣殘留在比色皿的狹縫內,氣泡也會存在於保護區狹縫內,而不會在光學測量區狹縫,這樣可避免氣泡對測量結果產生影響。此外,進樣時入口狹縫位於相對之下方,對側之出口狹縫位於相對之上方,由於空氣之物理特性,氣泡會傾向於往上方移動,故可藉由出口狹縫排出氣泡。
在實際操作上,當以比色皿進行樣品取樣之後,會有擦拭入口狹縫的動作以拭去殘留在入口狹縫處的樣品。由於擦拭紙的毛細作用,測量區狹縫內的樣品易隨著擦拭紙由入口狹縫被帶出,而樣品被帶出後,容易在測量區產生氣泡,進而影響測量結果。透過設置保護區狹縫,由於其設置的位置,使擦拭入口狹縫時,會先將保護區狹縫內的樣品吸出,以避免將樣品帶出光學測量區狹縫,進而影響測量結果。
本新型之微型比色皿的製作材料可採用任何適用於製作比色皿的材料,如親水性的透明光學級聚苯乙烯(Polystyrene,PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(Poly(methyl methacrylate),PMMA)。根據本新型一實施例,微型比色皿為一體成型的結構。微型比色皿成型中所採用的模具中的
金屬薄片所對應形成光學測量區狹縫中透明區的位置會進行拋光處理,增加形成後的微型比色皿的透明區的透明度,以利於測量光束通過。
本新型提出的結構不僅可以減小氣泡出現的概率,而且利用毛細現象,藉由調整不同區域的狹縫寬度,使引流區狹縫之毛細作用力不小於光學測量區狹縫,保護區狹縫之毛細作用力小於光學測量區狹縫。因此,若出現氣泡後可以將氣泡擠壓至保護區狹縫內或者藉由出口狹縫排出到外界大氣中,避免對測量結果產生影響。設置保護區狹縫的另一目的在於擦拭比色皿時,先將保護區狹縫內的樣品吸出,以避免將樣品帶出光學測量區狹縫,影響測量結果。另外,微型比色皿的結構設計可以避免在製作成一體成型結構時光學測量區狹縫干擾因素的生成。
雖然本新型已以實施方式揭露如上,然其並非用以限定本新型,任何熟習此技藝者,在不脫離本新型之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本新型之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧微型比色皿
110‧‧‧本體
112‧‧‧握把部
120‧‧‧狹縫
122‧‧‧引流區狹縫
124‧‧‧光學測量區狹縫
126‧‧‧保護區狹縫
130‧‧‧入口狹縫
140‧‧‧出口狹縫
150‧‧‧透明區
Claims (12)
- 一種微型比色皿,具有一本體,該本體內具有狹縫,該狹縫與位於該本體對側的一入口狹縫與一出口狹縫連通,其特徵在於,該狹縫包括:一引流區狹縫;一光學測量區狹縫;以及一保護區狹縫,其中,該引流區狹縫直接連通該入口狹縫、該光學測量區狹縫和該保護區狹縫,該保護區狹縫至少部分環繞該光學測量區狹縫且與該出口狹縫連通,該引流區狹縫之寬度不大於該光學測量區狹縫之寬度,該保護區狹縫之寬度大於該光學測量區狹縫之寬度。
- 如請求項1所述之比色皿,其中該保護區狹縫至少部分位於該入口狹縫、該引流區狹縫與該光學測量區狹縫之間。
- 如請求項1所述之比色皿,其中該保護區狹縫連通該引流區狹縫且環繞該光學測量區狹縫。
- 如請求項1所述之比色皿,其中該狹縫包括複數個該保護區狹縫,且至少一該保護區狹縫位於該入口狹縫、該引流區狹縫與該光學測量區狹縫之間。
- 如請求項1所述之比色皿,其中該光學測量區狹縫更包括一透明區。
- 如請求項5所述之比色皿,其中該透明區位於該光學測量區狹縫之部份。
- 如請求項5所述之比色皿,其中該透明區位於於該光學測量區狹縫之整體。
- 如請求項5所述之比色皿,其中該光學測量區狹縫具有高於該本體其他部分的透明度。
- 如請求項1所述之比色皿,其中該引流區狹縫之寬度為0.1mm~0.3mm。
- 如請求項1所述之比色皿,其中該光學測量區狹縫之寬度為0.1mm~0.3mm。
- 如請求項1所述之比色皿,其中該保護區狹縫之寬度為0.2mm~0.4mm。
- 如請求項1所述之比色皿,其中該微型比色皿為一體成型的結構。
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