TWM463128U - 光波治療裝置 - Google Patents

Description

光波治療裝置

本創作在於提供一種光波治療裝置，尤指一種可發出奈米波長光照射之光波治療裝置。

近年來在全球醫界利用光動力療法(Photodynamic Therapy,PDT)又稱光照射療法，亦即利用光能量照射來治療皮膚病變、去除各種皮膚黑斑或刺激毛髮增長等大行其道，光動力療法之基本原理是在欲治療的區域用光感性物質來標定細胞，再用強光或雷射光照射，讓細胞中的光感物質產生光化學作用，有改善表淺皮膚的作用，產生治療或刺激的效果。根據醫學報導，帶有能量之光線具有消毒、殺菌之功效，而波長為630~680nm之紅光可刺激毛囊，對於增進毛髮生長有不錯的效果，可有效改善髮量不足的問題。

目前市面上的光動力治療儀器，所採用的技術主要有兩種，包括雷射光及脈衝光。雷射光由於光源波長及特性之限制，所以僅能針對深層的皮膚病變作治療，其好處是能量高使得治療的時間極短，但具備相當的危險性而需由熟練的技師來操作。而脈衝光技術則是以脈衝光刺激皮膚膠原蛋白再生，其好處是在治療過程中病患不需刻意避開陽光照射，不影響自身工作及生活作息，但其僅能針對淺層的皮膚病變作治療，對深層皮膚病變較無療效。前述兩種技術之設備，造價及耗材皆極昂貴，使得目前使用該 光動力療法的治療成本仍相當高，且其依不同療效需配合不同波長的雷射光，提高設備的複雜度。

綜上所述，本創作人有感上述缺失可改善，乃特潛心研究並配合學理之應用，終於提出一種設計合理且有效改善上述缺失之創作。

本創作所要解決的技術問題，在於提供一種光波治療裝置，為一具有奈米波長照射的光動力治療的設備，利用數個光源模組，可達大面積的照射，可使設備簡化，且一般之技師即可操作，治療成本較低，並可使造價及耗材降低，維修也相當容易，更可隨使用者需求任意調整高度及角度，使用上更為方便。

為了解決上述的技術問題，本創作提供一種光波治療裝置，包括：機台；支架，該支架包含一固定桿、一活動桿、一轉動桿及一多向調整機構，該固定桿設置於該機台，該活動桿可上、下擺動的樞接於該固定桿，該轉動桿可轉動的樞接於該活動桿；燈罩，該多向調整機構連接於該轉動桿與該燈罩之間；以及數個光源模組，該些光源模組設置於該燈罩。

本創作至少具有下列的優點：本創作光波治療裝置包括機台、支架、燈罩及數個光源模組所構成，為一具有奈米波長照射的光動力治療的設備，利用數個光源模組可達大面積的照射，可使設備簡化，且一般之技師即可操作，治療成本較低，並可使造價及耗材降低，維修也相當容易。

本創作的支架包含固定桿、活動桿、轉動桿及多向調整機構，燈罩連接於支架，燈罩及光源模組更可隨使用者需求任意調整高度及角度，使用上更為方便。

為使能更進一步瞭解本創作的特徵及技術內容，請參閱以下有關本創作的詳細說明與附圖，然而所附圖式僅提供參考與說明 用，並非用來對本創作加以限制者。

1‧‧‧機台

11‧‧‧機台本體

12‧‧‧後蓋

13‧‧‧腳座

14‧‧‧輪子

15‧‧‧風扇組

16‧‧‧顯示面板

17‧‧‧開關

18‧‧‧切換單元

2‧‧‧支架

21‧‧‧固定桿

22‧‧‧活動桿

23‧‧‧轉動桿

24‧‧‧第一擺動座

241‧‧‧第一轉軸

25‧‧‧第二擺動座

251‧‧‧第二轉軸

3‧‧‧燈罩

31‧‧‧燈罩上蓋

32‧‧‧燈罩下蓋

321‧‧‧光源出口

33‧‧‧風扇組

34‧‧‧凹面

4‧‧‧光源模組

41‧‧‧雷射單元

411‧‧‧套筒

412‧‧‧二極體座

413‧‧‧雷射二極體

414‧‧‧電路板

415‧‧‧前蓋

42‧‧‧散熱面板

圖1為本創作之光波治療裝置的立體圖。

圖2為本創作之光波治療裝置的立體分解圖。

圖3為本創作之光源模組的立體圖。

圖4為本創作之光源模組的立體分解圖。

請參閱圖1及圖2，本創作提供一種光波治療裝置，包括一機台1、一支架2、一燈罩3及數個光源模組4。機台1為一穩固的架構，可用以支撐支架2、燈罩3及光源模組4，機台1的形狀及構造並不限制，在本實施例中，機台1包含一機台本體11及連接於機台本體11後側的一後蓋12，機台本體11及後蓋12組成一中空殼體。機台本體11的底部固定於一腳座13，該腳座13設有數個輪子14，以便於移動該光波治療裝置。機台1的內部也可設置有風扇組15，用以協助散熱。

機台1上也可進一步的設有一顯示面板16，該顯示面板16可為LCD電子板等，用於顯示運作時間等資訊，例如顯示倒數計時的時間。機台1上也可進一步的設有一開關17及一切換單元18，該切換單元18可由電路板及薄膜面板等構成，可進行切換調整，用於控制該些光源模組4的運作，例如可以控制只開啟前排的光源模組4或後排的光源模組4，也可以控制一起開啟前排及後排的光源模組4。

支架2連接於燈罩3及機台1之間，以便於靈活的調整燈罩3及光源模組4。支架2包含一固定桿21、一活動桿22及一轉動桿23。固定桿21豎立設置於機台1上，亦即固定桿21的下端連接於機台1，使得支架2的一端連接機台1。活動桿22可上、下擺 動的樞接於固定桿21，亦即活動桿22的後端樞接於固定桿21的上端，使活動桿22可上、下擺動調整不同的角度，用以調整燈罩3及光源模組4的高度。惟，活動桿22的後端樞接於固定桿21的上端的構造並不限制，例如可以利用各種的轉軸、樞軸或樞接結構等。該活動桿22內部亦可進一步的設置一液壓彈簧裝置(圖略)，該液壓彈簧裝置連接於固定桿21及活動桿22之間，使得活動桿22擺動調整後得以穩固的定位。

轉動桿23可轉動的樞接於活動桿22，亦即轉動桿23的後端可轉動的樞接於活動桿22的前端，使得轉動桿23可沿著其轉動軸心轉動，用以調整燈罩3及光源模組4轉動至不同的角度。惟，轉動桿23的後端樞接於活動桿22的前端的構造並不限制，例如可以利用各種的轉軸、樞軸或樞接結構等。

在本實施例中，支架2包括一多向調整機構，該多向調整機構包含相互連接的一第一擺動座24及一第二擺動座25，第一擺動座24以一第一轉軸241樞接於轉動桿23的前端，該第一轉軸241可以呈水平設置，使得第一擺動座24可上、下擺動的樞接於轉動桿23的前端。惟，第一擺動座24樞接於轉動桿23的構造並不限制，例如第一擺動座24也可以其他的轉軸、樞軸或樞接結構樞接於轉動桿23的前端。

在本實施例中，第二擺動座25以一第二轉軸251樞接於第一擺動座24，該第二轉軸251可以呈水平設置，且第二轉軸251與第一轉軸241的延伸方向垂直，使得第二擺動座25可左、右擺動的樞接於第一擺動座24。惟，第二擺動座25樞接於第一擺動座24的構造並不限制，例如第二擺動座25也可以其他的轉軸、樞軸或樞接結構樞接於第二擺動座25。第一擺動座24及第二擺動座25可構成該多向調整機構，其連接於轉動桿23與燈罩3之間，用以調整燈罩3及光源模組4轉動至不同的角度。

燈罩3連接於支架2的另一端，亦即燈罩3連接於支架2的 多向調整機構(第二擺動座25)。另，燈罩3也可以進一步採用可轉動的方式樞接於第二擺動座25，使得燈罩3可相對於第二擺動座25轉動。該燈罩3的形狀及構造並不限制，在本實施例中，燈罩3包含一燈罩上蓋31及一燈罩下蓋32，燈罩上蓋31及燈罩下蓋32組合一體，且燈罩3的內部也可設置有風扇組33，用以協助散熱。在本實施例中，燈罩3的形狀呈彎折狀，使該燈罩3的底部形成一凹面34，可適用罩於使用者頭部，但隨其用途的不同，燈罩3的形狀可予以變化。燈罩下蓋32可設有數個光源出口321。

該些光源模組4設置於燈罩3，該些光源模組4可以設置於燈罩3的外部或內部，在本實施例中，該些光源模組4設置於燈罩3的內部，該些光源模組4與該些光源出口321相對應，使光源模組4產生的光源得以通過光源出口321向外射出。該些光源模組4可排列成兩排或多排，其排列並不限制。

該些光源模組4可為雷射模組、發光二極體模組，例如該些光源模組4可以全部為雷射模組，也可以全部為發光二極體模組，也可以兼具有雷射模組及發光二極體模組，該些光源模組4的光源型式及輸出的光波長可因應需要而加以變化，並不加以限制。

在本實施例中，該些光源模組4為雷射模組(如圖3及圖4所示)，每一光源模組4包含數個雷射單元41，雷射單元41各具有套筒411、二極體座412、雷射二極體413、電路板414及前蓋415，二極體座412、雷射二極體413及電路板414設置於套筒411內部，雷射二極體413固定於二極體座412內，且雷射二極體413電性連接電路板414，前蓋415則設置於套筒411的前端。雷射二極體413發射的雷射可穿過前蓋415向外射出。該雷射單元41也可進一步的固定於一散熱面板42。

在本實施例中，該些光源模組4較佳的輸出的光波長為600奈米至1000奈米間，最佳的輸出的光波長為660奈米、780奈米、808奈米、830奈米或980奈米等波長之雷射或發光二極體光波。 本創作光波治療裝置可利用所述波長範圍的能量進行治療，可促進新陳代謝，加速傷口組織癒合，緩合神經痛、肌肉痛、肩膀酸動及關節炎等所產生的疼痛。另，光波長為660奈米之低能量，藉由刺激或強化毛囊及頭皮微血管循環之生理反應，可達到提升毛髮覆蓋率等頭皮健康及健髮效能等保健目的。

本創作光波治療裝置包括機台1、支架2、燈罩3及數個光源模組4所構成，為一具有奈米波長照射的光動力治療的設備，利用數個光源模組4可達大面積的照射，可使設備簡化，且一般之技師即可操作，治療成本較低，並可使造價及耗材降低，維修也相當容易。

再者，本創作的支架2包含固定桿21、活動桿22、轉動桿23及多向調整機構，燈罩3及光源模組4更可隨使用者任意調整高度及角度，使用上更為方便。

惟以上所述僅為本創作之較佳實施例，非意欲侷限本創作的專利保護範圍，故舉凡運用本創作說明書及圖式內容所為的等效變化，均同理皆包含於本創作的權利保護範圍內，合予陳明。

1‧‧‧機台

11‧‧‧機台本體

13‧‧‧腳座

14‧‧‧輪子

16‧‧‧顯示面板

17‧‧‧開關

18‧‧‧切換單元

2‧‧‧支架

21‧‧‧固定桿

22‧‧‧活動桿

23‧‧‧轉動桿

24‧‧‧第一擺動座

241‧‧‧第一轉軸

25‧‧‧第二擺動座

251‧‧‧第二轉軸

3‧‧‧燈罩

31‧‧‧燈罩上蓋

34‧‧‧凹面

Claims (11)

1. 一種光波治療裝置，包括：機台；支架，該支架包含一固定桿、一活動桿、一轉動桿及一多向調整機構，該固定桿設置於該機台，該活動桿可上、下擺動的樞接於該固定桿，該轉動桿可轉動的樞接於該活動桿；燈罩，該多向調整機構連接於該轉動桿與該燈罩之間；以及數個光源模組，該些光源模組設置於該燈罩。
2. 如請求項第1項所述之光波治療裝置，其中該多向調整機構包含相互連接的一第一擺動座及一第二擺動座。
3. 如請求項第2項所述之光波治療裝置，其中該第一擺動座以第一轉軸樞接於該轉動桿的前端，使得該第一擺動座可上、下擺動的樞接於該轉動桿的前端，該第二擺動座以第二轉軸樞接於該第一擺動座，該第二轉軸與該第一轉軸的延伸方向垂直，使得該第二擺動座可左、右擺動的樞接於該第一擺動座。
4. 如請求項第1項所述之光波治療裝置，其中該燈罩包含一燈罩上蓋及一燈罩下蓋，該燈罩上蓋及該燈罩下蓋組合一體，該燈罩的內部設置有風扇組，該燈罩下蓋設有數個光源出口，該些光源模組設置於該燈罩的內部，該些光源模組與該些光源出口相對應。
5. 如請求項第1項所述之光波治療裝置，其中該燈罩的底部形成一凹面。
6. 如請求項第1項所述之光波治療裝置，其中該些光源模組為雷射模組或發光二極體模組。
7. 如請求項第1項所述之光波治療裝置，其中該些光源模組為雷射模組及發光二極體模組。
8. 如請求項第1項所述之光波治療裝置，其中該些光源模組輸出的光波長為600奈米至1000奈米間。
9. 如請求項第1項所述之光波治療裝置，其中該些光源模組輸出的光波長為660奈米、780奈米、808奈米、830奈米或980奈米。
10. 如請求項第1項所述之光波治療裝置，其中該機台包含一機台本體及連接於該機台本體後側的一後蓋，該機台本體的底部固定於一腳座，該腳座設有數個輪子。
11. 如請求項第1項所述之光波治療裝置，其中該機台上設有顯示面板、開關及切換單元。