TWM456250U - 拋光輪結構改良 - Google Patents
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Description
本創作係關於一種抛光輪結構改良,主要是為解決習知抛光輪之整片式抛光面在實際進行抛光作業時,面臨工件曲面、倒角等非平面之表面抛光無法施作或施作難度高等問題,透過對其抛光面之結構規劃,使其得與工件表面取得多向性之全面觸靠關係,以順利完成其抛光作業,同時能提昇其拋光品質者。
按,一般金屬製品在加工完成後,經常會於製品表面殘留有加工的痕跡,為了避免此類加工痕跡影響其整體的美觀性與質感,通常會施予表面抛光處理,藉以抹除其表面的加工痕跡,以重現其表面光澤。
而在其表面抛光處理作業上,主要是採抛光機具進行,利用抛光機具的動力源驅動其傳動機件運轉,使傳動機件上所組設的抛光輪產生旋轉,令觸靠於抛光輪之抛光面的工件表面與抛光輪形成磨擦抛光作用,進而達成其抛光作業。
在習知抛光輪的結構上,請參閱第1~2圖所示,主要設有一可結合於抛光機具之傳動機件的底盤(10),該底盤(10)中心設有一穿孔(11),於底盤(10)上結合有一層預定厚度且略具彈性之抛光體(12),利用該層抛光體(12)的受壓變形特性,使其得與欲抛光的工件(14)表面取得良好的觸接關係,進而在隨著抛光輪受傳動機件傳
動而旋轉時,該抛光體(12)得以對所觸接之工件(14)表面形成磨擦抛光效果。
前述之抛光輪利用抛光體(12)所形成的抛光面(13),因係為整片式平面型態,雖抛光體(12)具有受壓變形的適當彈性裕度,使工件(14)觸壓其抛光面(13)時,可順應工件(14)表面的曲線變化而取得適當之變形觸接關係,在運用於平面狀的工件(14)表面抛光作業上,故可取得預期的抛光效果,但在面臨具有弧曲面或其他型態非平面表面之工件(14)的抛光作業時,則可能受限於抛光體(12)受壓幅度的限制,以及工件(14)表面的落差度,導致其抛光面(13)無法與工件(14)表面取得全面性的觸接關係,致使在進行弧曲面、倒弧角等非平面之表面抛光作業時,難以得到全面性的抛光效果,甚至在採取分階段作不同面向的抛光作業後,仍存在有抛光死角,甚或有局部抛光過度之缺失,嚴重影響其抛光作業品質,實難稱為理想之結構,自有待設法加以解決改善者。
有鑑於習知抛光輪之整片式抛光面所存在的問題與缺失,創作人特著手進行研究改良,基於其從事相關產業之多年經驗與技術,進而研創出本創作之抛光輪結構改良,即其主要目的係在於提供一種可對工件形成多面向全面觸接抛光效果之抛光輪結構者。
本創作之另一目的係在於經由抛光輪結構改良,使其抛光面具有較佳之可變形率,俾能適用於弧曲、倒角或各種型態之非平面工件表面的立體抛光作業者。
為達前揭目的,本創作於結構上,主要是將抛光輪硬質底盤所結合的該層彈性抛光體,利用預定深度的多數道溝槽加以交錯劃割成複數塊獨立但基部相連的抛光區塊,藉以構成非整片式平面型態之抛光面,
利用該等獨立抛光區塊所賦予之較佳變形率,使其在工件觸接彈性抛光體進行表面抛光作業時,其抛光面得與工件表面取得多向性之全面性靠觸關係,俾能進行較佳之全面性觸接抛光作業,使其抛光品質得以大幅提昇,更得以適用於各種弧曲面、倒角或其他型態之非平面工件表面的立體抛光作業者。
(10)‧‧‧底盤
(11)‧‧‧穿孔
(12)‧‧‧抛光體
(13)‧‧‧抛光面
(14)‧‧‧工件
(20)‧‧‧硬質底盤
(21)‧‧‧穿孔
(30)‧‧‧彈性抛光體
(31)‧‧‧通孔
(32)‧‧‧溝槽
(33)‧‧‧抛光區塊
(34)‧‧‧抛光面
(40)‧‧‧工件
第1圖:係習知抛光輪之結構示意圖。
第2圖:係習知抛光輪與工件之觸接抛光示意圖。
第3圖:係本創作較佳實施例之結構示意圖。
第4圖:係本創作較佳實施例之平面結構示意圖。
第5圖:係本創作較佳實施例之側視示意圖。
第6圖:係本創作施行工件表面抛光作業之一較佳結構關係示意圖。
有關於本創作之結構組成、技術手段及功效達成方面,謹配合圖式再予舉例進一步具體說明於后:請參閱第3~6圖所示,本創作之抛光輪於結構上,主要設具有一圓型之硬質底盤(20),該硬質底盤(20)中心設有一穿孔(21),且該硬質底盤(20)得與抛光機具的傳動件結合而受其傳動,於硬質底盤(20)的一面側乃結合有一層預定厚度之彈性抛光體(30),該彈性抛光體(30)可為發泡材料所製成者,於彈性抛光體(30)的中心設為一大尺徑通孔(31),而在彈性抛光體(30)表面利用預定深度的多數道溝槽(32)加以交錯劃割成複數塊獨立但基部相連的抛光區塊(33),該等溝槽(32)得以呈規則之縱、橫向交錯,或者採不規則之縱、橫向交錯,藉以利用該等溝槽(32)將彈性抛光體(30)劃割成非整片式
平面型態之抛光面(34),並透過溝槽(32)間隙及彈性抛光體(30)本身的材質特性,賦予其各抛光區塊(33)具有極佳之變形率,使其得以因應工件(40)的型態而賦予絕佳之多面向全面變形觸接效果,依此構成本創作抛光輪的基本功能架構;經由上揭拋光輪的組成結構,因其抛光輪的彈性抛光體(30)受溝槽(32)交錯劃割成複數塊獨立抛光區塊(33),構成其非整片式平面型態抛光面(34),且其每一抛光區塊(33)均具有極佳的變形率,所以當工件(40)觸靠於抛光輪的抛光面(34)時,無論工件(40)的表面係呈弧凸狀或弧凹狀、具有導弧角、或連續或不連續之規則或不規則之曲線或非曲線的非平面型態,均可以其較突出的部位對抛光區塊(33)形成較深層的壓抵變形,而較不突出的部位則對抛光區塊(33)形成較淺層的壓抵變形,且其壓抵觸接的面並不侷限於單一面向,如此一來,將可使工件(40)表面與彈性抛光體(30)的抛光面(34)取得多向性之全面觸接關係,令其抛光輪隨抛光機具的傳動機件傳動旋轉以施行抛光作業時,可獲得較佳之全面性立體抛光效果,不但作業上更為容易,且其抛光品質將可獲得大幅提昇者;由是可知,本創作之抛光輪為了解決習知抛光輪之整片式抛光面在抛光作業上所可能面臨的問題與缺失,創新地以預定深度之溝槽對發泡體的表面進行交錯劃割,使其所形成的抛光面具有複數個獨立之抛光區塊,同時使各抛光區塊得以單獨地受壓而變形,且其複數個獨立之抛光區塊的基部仍保持相連結狀態,並不影響其彈性抛光體的整體性與組裝的簡便性,如此構成具有靈活而多變之高變形率的非整片式平面抛光面型態,令其欲抛光之工件不再受限於其表面的型態變化,均可因其對各抛光區塊的不同程度壓抵變形,以及溝槽預留的空間裕度,取得其欲抛光部位的表面與彈性抛光體的抛光面具有全面性觸接效果,進而得施行良好的立體抛光作業,使其抛光品質可獲得顯著之提昇,可適用於各種平面或非平面型態之
工件表面抛光處理,賦予極佳之產業利用性與實用價值者;總結以上說明,本創作針對抛光輪所作的結構改良,為了避免習知抛光輪之整片式抛光面在作業上所面臨的問題與缺失,創新地利用溝槽交錯劃割而構成複數個獨立抛光區塊,使其具有更靈活而多變之絕佳變形率,令其與工件表面可取得多向性之全面觸接關係,使其抛光作業效率及品質均能獲得提昇,徹底解決習知結構的問題與缺失,整體而言,確具極佳之產業利用性與實用價值,誠不失為一優異、突出之創新結構,爰依法提出專利申請。
(20)‧‧‧硬質底盤
(21)‧‧‧穿孔
(30)‧‧‧彈性抛光體
(31)‧‧‧通孔
(32)‧‧‧溝槽
(33)‧‧‧抛光區塊
(34)‧‧‧抛光面
Claims (4)
- 一種抛光輪結構改良,主要設有一可被結合於抛光機具之傳動機件的硬質底盤,於硬質底盤的一側面結合有一層預定厚度之彈性抛光體,利用該彈性抛光體的抛光面與工件表面觸接,進而取得抛光效果;其改良係在於:該彈性抛光體表面乃利用預定深度的多數道溝槽加以交錯劃割成複數塊獨立但基部相連的抛光區塊,使彈性抛光體表面被劃割成非整片式平面型態之抛光面,並透過溝槽的間隙及彈性抛光體本身的材質特性,賦予其各抛光區塊具有極佳之變形率,使其得以因應工件的型態而賦予絕佳之多面向全面變形觸接效果,以施作工件表面之立體抛光作業者。
- 依據申請專利範圍第1項所述之抛光輪結構改良,其中所述的溝槽乃得以呈規則之縱、橫向交錯劃割彈性抛光體的表面者。
- 依據申請專利範圍第1項所述之抛光輪結構改良,其中所述的溝槽乃得以呈不規則之縱、橫向交錯劃割彈性抛光體的表面者。
- 依據申請專利範圍第1項所述之抛光輪結構改良,其中所述的彈性抛光體,係為發泡材料所製設成型者。
Priority Applications (1)
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TW102201530U TWM456250U (zh) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 拋光輪結構改良 |
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TW102201530U TWM456250U (zh) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 拋光輪結構改良 |
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TWM456250U true TWM456250U (zh) | 2013-07-01 |
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ID=49226805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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TW102201530U TWM456250U (zh) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 拋光輪結構改良 |
Country Status (1)
Country | Link |
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TW (1) | TWM456250U (zh) |
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2013
- 2013-01-24 TW TW102201530U patent/TWM456250U/zh not_active IP Right Cessation
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