TWM430108U - Lifting type antenna adjustment structure of plasma source equipment - Google Patents

Description

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五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 - 一 p 本創作係涉及一 t漿源設備之升降式天線調整結構， 啊別是指能夠獨立調整天線單元之高低以控制電聚源強弱 之創新型態設計者。 【先前技術 按，電 業界為了滿 出各種類型 品及種類已 而本創 裝置結構加 漿反應器上 天線裝置感 市面上電漿 其電漿設備 控制方便性 處理之均勻 ，增加製造 整裝置結構 是以， 一種更具理 相關業者須 4監於此 設計經驗， 得一確具實 漿設備使 足使用上 電漿設備 有日益增 作所欲針 以探討改 設置一介 應，使真 設備結構 之天線調 不佳之問 度，進而 成本之問 目前仍有 針對上述 想實用性 努力研發 ，創作人 針對上述 用性之本 設備之天 常係藉由 電漿設備 離產生電 ，但综觀 舊存在天 整製備成 成品不良 漿設備之 間存在。 題點，如 者所企盼 產業中已有相當時間， 專業領域仍是陸續研發 需求，近年電漿設備產 用於製 之需求 以符合 加之趨 對者， 良；習 電窗， 空室内 設計上 整裝置 題，以 影響加 題與缺 相當大 習知結 之創新 突破之 本於多 之目標 創作。 造加工 ’在此 市場上 勢。 即是針 知電漿 利用介 之真空 雖有多 結構設 及難以 工品質 憾，因 的改良 構所存 、结構， 目標及 年從事 ’詳加 對電漿 設備通 電窗與 氣體解 種型態 计上仍 精準調 、導致 此，電 突破空 在之問 實使用 方向。 相關產 設計與 線調整 真空電 所設之 漿源； 而論， 線調整 品表面 率提高 天線調 何開發 ’亦係 品之製造開發與 審慎評估後，終 【新型内容】 M430108 i 而·曰X，· .本創作之主要目的，係在提供一種電漿源、 式天線調整結構；其所欲解決之問題點，係 羽雨千 備天線調整裝置結構所存在天線調整不便、製二曰、:$設 不佳之問題點加以改良突破； x。°明度 本創作解決問題之技術特點’主要係藉由— 結構，該天線調整結構係裝設於一既有感應式耦入、兩1王 設備所設之基座上，該電漿源設備係包括有—八二=漿源 射頻電源匹配單元以及能夠提供氣體之一 二电窗、一 所述之天線調整結構包括：固定基板，係萨單元； 設置於電聚源設備基座之頂端，且與該基』連接件 螌態；複數環圈狀天線單元，呈内外 岡目對之 漿源設備之基座，該環圈狀天線單元包 組設於該電 ，各天線單體均具有缺口部，該缺σ二二:天線單體 入端相連接，又該缺口部另一端係鱼_ : 一電性輪 性連接部，呈間隔分開之型離H =相連接；電 00 _ 土匕 3毛性連接部底端伤细抹 於天線早體之缺口部二端，又該電性遠 s : jj. L k接^ 之頂端倍相兮5* 於固定基板；天線升降調控元件，呈分佈狀 各天後 單體n if料調控元件頂端係藉由螺合調整構= 二螺帽以及螺栓所構成，各螺帽係'η、。括至少 、底端；藉此’ #可利用硐敕，夭、：”且°又固疋基板之頂 來控制該環圏狀天線單升降調控元件之螺栓 ^ ^^ .兀各天線早體之獨立南低升降狀態 ，進二π成品表面加工之電漿源強度；藉此創新獨 特設計’使本創作對照先前技術而言，可達到提升天線調 整控制之方便性’且能夠精準調整製備成品表面處理均勻 度’進而降低成品不良率，節省製造成本之產業實用進步 性。 [實施方式】 4 M430108 € •請參閱第1至4圖所示，係本創作+ # P电漿源設備之升降 式天線調整結構之較佳實施例，惟此望 Ν只施例僅供說明之 闬’在專利申請上並不受此结構之限制。 ⑴。所返之天線調整 結構05係裝設於一既有感應式耦合電榘源設備1〇所設之基 座11上’該電漿源設備⑴係包括有—介電窗π、一射頻電 源匹配單元13以及夠提供氣體之一氣體輪入單元π ;所逑 之天線調整結構05包括： 固定基板20，係藉由複數連接件21設置於電漿源設備 • 10基座11之頂端，且與該基座11呈間隔相對之型態’該固 Φ 定基板20材質以金屬、硬質塑膠為佳’但不限定於此種型 態； 複數環圈狀天線單元’呈内外間隔配置組設於該電 漿源設備10之基座11，該環圈狀天線單元30包括至少一天 線單體31，且其中至少一環圈狀天線單元30係可由複數天 線單體31所構成，此如第4、7圖所示’係為本實施例各 環圈狀天線單元30分別包含有二、三及五組天線單體31之 型態’且各天線單體31均具有缺口部32 (如第4 、6圖所 示），該缺口部32 —端係與一電性輪入端33相連接’又該 缺口部32另一端係與一接地端34相連接’其中这環圈狀天 •線單元30係可為圓形、方形、多邊型任其中一種型態； 電性連接部40，呈間隔分開之型態，該電性連接部40 底端係組接於天線單體31之缺口部32二端，又該電性連接 部40之頂端係組設於固定基板20 ’其中該電性k接40内 部係為中空型態且與天線單體31内部相連通’其中該電性 連接部40以金屬等導電材質為佳； 天線升降調控元件50 ’呈排列狀組設於各天線單體31 之預定位置，該天線單體31係分佈有至少二天線升降調控 元件50 (如第4圖所示，係為本創作分佈有三天線升降調 控元件50之實施例），且該天線升降調控元件50頂端係藉 M430108 由螺合調整構件51組設於於固定基板20，該 51係包括至少二螺帽52以及螺栓53所構成， 別組設固定基板20之頂、底端（如第5圖所 整該天線升降調控元件50之螺栓53，以使各 作高低昇降之動作，藉此能夠分別控制各獨 之高低升降狀態； 藉由上述之結構、組成設計，茲就本創 情形說明如下： 請配合參考第丨至5圖所示，首先將工 源設備10所預設之一真空室14中，此時藉由 調控元件50以使各天線單體31之高低位置達 動電漿源設備1〇進行工件加工作業（本實施 加工過裎狀態），利用氣體通過介電窗12與 没之天線調整結構〇5，使進入真空室14内之 電漿，以對工件進行所謂蝕刻、鍍膜、清潔 動作，而該電性連接部40與天線單體31内: 液，藉由電漿源設備10所設之一冷卻單元15 性連接部40與天線單體31内部之冷卻液降溫 後，操作者可視工件完成狀態，若需加強= 度丄即可調整天線升降調控元件5〇之螺栓幻 31高低狀態達到所需位置’藉此達到精^ ^ 面處理之均勻度之功效。 工 ^ 如第6圖所示，該環圈狀天線單元3〇中 單體31之電性連接部4〇更設有呈可拆卸、組 連接件60，以令各天線單體31之間能夠組裝 拆卸呈斷電之狀態，藉由拆卸或組裝第—連 各天線單體31電性分佈環圈數，進而控制= 么如第4 、6圖所示，至少二環圈狀天綿 知，·'且接有—第二連接構件7〇來達成電性連結

螺合調整構件 各螺帽52係分 示），藉由調 天線單體31能 立天線單體31 作之使用作動 件放置於電漿 調整天線升降 到定位，後啟 例未表示工件 電漿設備10所 氣體解離產生 或沉積等加工 係容設有冷卻 以使循環於電 ，當加工完畢 減弱電漿源強 以使天線單體 制製備成品表 所設相鄰天線 裝型態之第一 呈電性連結或 .接件60來控制 :漿分佈狀態。 、單元30之一端 :狀態（本實施 6 M430108 屢01月&修病 補无 例係為三組環圏狀天線單元30之電性連結狀態）’該第二 連接構件70包括有與電性輸入端33相連接之連接端71以及 組接各連接端71之控制端72，藉甴調整該第二連接構件70 連接端71之電性輸入端33，以改變各該環圈狀天線單元30 之間呈電性連結狀態或斷開狀態，進而控制電漿源加強或 減弱。 如第7圖所示，係為本創作環圈狀天線單元30電性連 接之電路示意，藉由將二、三或五天線單體31電性連結， 即構成一環圈狀天線單元30 ’復可藉由第二連接構件70使 各環圈狀天線單元3〇達成電性連結狀態。 功效說明： 本創作功效增連之事實如下： 本創作所揭「電漿源設備之升降式天線調整結構」主 要係藉由調整組設於各天線單體之天線升降調控元件以改 變天線單體高低位置狀態之創新結構型態設計，使本創作 對【照先前技術】而言，俾可藉由調整該天線升降調控元 件之螺栓來控制該環圈狀天線單元各天線單體之獨立高低 升降狀態，進而控制製備成品表面加工之電装源強度，以 籲達到長·升天線调整控制之方便性’且能夠精準調整製備成 〇σ表面處理均句度’進而降低成品不良率，節省制、生成本 之實用進步性。 并餿5兄明本創竹，g七士 雖透過特定的術語進行說明，當不能以此 且文中 之專利範圍；熟悉此項技術領域之人士冬^疋本新型創作 之精神與原則後對其進行變更蛊二可在瞭解本創作 此專變更與修改，皆應涵蓋於 ^』寺政目的’而 定之範疇中。 Q 述申請專利範圍所界 7 M430108 【圖式簡單說明】 Μ.单月扫補充 第1圖：本創作天線調整結構組設於電漿源設備之立體示 意圖。 第2圖：本創作天線升降調控元件一端組設於固定基板之 局部示意圖。 第3圖：本創作天線升降調控元件零組件局部放大示意圖 第4圖：本創作天線調整結構整體構件之立體圖。 . 第5圖：本創作環圈狀天線單元調整升降高度之動作示意 圖。 • 第6圖：本創作第一連接件組接於電性連接部之狀態示意 圖。 第7圖：本創作環圈狀天線單元與天線單體電性連結之電 路示意圖。 【主要元件符號說明】 天線調整結構 0 5 電漿·源設備 10 基座 1 1 介電窗 12 射頻電源匹配早元 1 3 真空室 14 冷卻單元 1 5 氣體輸入單元 16 固定基板 2 0 連接件 2 1 環圈狀天線單元 3 0 天線單體 3 1 缺口部 3 2 電性輸入端 3 3 接地端 3 4 電性連接部 4 0 天線升降調控元件 5 0 螺合調整構件 5 1 螺帽 5 2 螺栓 5 3 第一連接件 6 0 套合部 6 1 限位部 6 2 第二連接構件 7 0 連接端 7 1 控制端 7 2 8

Claims (1)

1. m43〇1〇8

   申請專利範圍 年月曰 修正 補充I —種電漿源設備之升降式天線調整結構，該天線 結構係裝設於一既有感應式耦合電漿源設借所嗖2 = 座上，該電漿源設備係包括有一介電窗、—射^電ς 匹配單元、以及能夠提供氣體之一氣體輸入單元；*所' 述之天線調整結構包括： τ ^ 固定基板’係藉由複數連接件設置於電漿源設備基座 之頂端’且與該基座呈間隔相對之型態； 一

   複數環圈狀天線單元，呈内外間隔配置組設於該雪聚 源設備之基座’該環圈狀天線單元包括至少—天線單 體，該天線早體係具有缺口部，該缺口部_端係與— 电性輸入細》相連接’又該缺口部另一端係與一接地端 相連接； 電性連接部’呈間隔分開之型態，該電性連接部底端 係組接於天線單體之缺口部二端，又該電性連接部之 頂端係組設於固定基板； 天線升降調控元件’呈分佈狀組設於各天線單體，且 該天線升降調控元件頂端係藉由螺合調整構件組設於 固定基板之預定位置，藉由調整該天線升降調控元件 能夠分別控制各天線單體之高低升降狀態； 藉此，俾可利用調整該天線升降調控元件之螺合調整 構件’以控制該環圈狀天線單元各天線單體之獨立高. 低升降狀態，進而控制製備成品表面加工之電聚源強 度’以達到精準調整製備成品表面處理均勻度。 2-、依據申請專利範圍第1項所述之電漿源設備之升降式 天線調整結構，其中該環圈狀天線單元之各天線單體 係平均组設分佈有至少二天線升降調控元件；又該天 線升降調控元件之螺合調整構件係包括至少二螺帽以 9 M430108 [0^8:¾^

   及螺检所構成*各螺帽係分別組設固定基板之了貝、底 端，藉Θ調整該螺合調整構件之螺栓，以使各天線單 體能作高低昇降之動作。 3 、依據申請專利範圍第1或2項所述之電漿源設備之升 降式天線調整結構，其中至少一環圈狀天線單元係由 複數天線單體所構成，且該環圏狀天線單元所設相鄰 天線單體電性連接部更設有呈可拆卸、組裝形態之第 一連接件，該第一連接件係包括能與電性連接部相互 套合之套合部以及提供該第一連接件套合狀態固定限 位之限位部，藉以使各天線單體之間能夠呈電性連結 狀態或斷電狀態；又該至少二環圈狀天線單元之一端 更設有第二連接構件，藉以使各環圈狀天線單元間達 到電性連結狀態，該第二連接構件包括有與電性輸入 端相連接之連接端以及組接各連接端之控制端。 4 、依據申請專利範圍第3項所述之電漿源設備之升降式 天線調整結構，其中該環圈狀天線單元可由三組所構 成，且各組環圈狀天線單元分別包含有二、三及五組 天線單體；又該三組環圈狀天線單元係可藉由第二連 接構件形成電性連結狀態。 5 、依據申請專利範圍第1或2項所述之電漿源設備之升 降式天線調整結構，其中該環圈狀天線單元係為圓形 、方形、多邊型任其中一種型態者。 10 M430108 101. 3. 07

   四、指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：第（4)圖。 (二） 本代表圖之元件符號簡單說明：

   天線調整結構 0 5 基座 1 1 介電窗 1 2 連接件 2 1 環圈狀天線單元 3 0 天線單體 3 1 缺口部 3 2 接地端 3 4 電性連接部 4 0 天線升降調控元件 5 0 螺合調整構件 5 1 螺帽 5 2 螺栓 5 3 第二連接構件 7 〇 連接端 7 1 控制端 7 2