TWM374919U - Supersonic drain cleaner for embedded water sink - Google Patents

Description

$ 7新型說明： * 【新型所屬之技術領域】 本創作係有關於一種超音波清洗裝置，尤指一種可 利用原有的水槽，特別是流理台水槽作為超音波清洗運作的 空間，又可以邊清洗邊排放洗滌中的污水和雜質，不 佔水槽周邊的操作平台空間，供水、排水和善後工作 都方便又能增加超音波洗淨效率之裝置。 【先前技術】 一般ίϋ見的超音波清洗機都有一個容器可置放待洗的 物品，超音波振動元件就設置在容器正下方，注入適量的水， 借由超音波振動元件對水產生觸，以達成清洗物品的目的。 然而，一般家令都已有水槽，例如流理台水槽，若能直 接利用流理台水槽作為超音波振動清洗的空間，可以省去設 =超音波清洗機時需額外佔用的雜。此外，現有的超音波 清洗機無法於清洗時_將水織出，_财再改良的空 間。 【新型内容】 本新型的目的，是在提供—種驗水槽，制是流理台 水槽且可於清洗__水排放出的超音波清洗裝置。 心型的另—目的’是在提供—種用於水槽，特別是流 輔=2=__水胸的㈣清洗裝置與 本新n超音波清洗裝置，藉水槽，特暇雜台水槽， …底有排水口，包括有一超音波振動模組、一筒形機殼 和一超音波清洗機基座。超音波振動模組（或稱j 器）主要由一超音波振動元件和連接於該振動元件上端以控 制該振動元件的開關與振動時間的電源定時開關所組成； 筒形機殼其容許超音波振動模組得套入其中合組成超音 波清洗機主體，筒形機殼的下端有一徑向第一圈排水孔。 超音波清洗機基座包括有位於兩相反端的基座上端和基 座下端，兩端皆為圓管形接頭，口徑可以不同但整體是貫通 的，基座下端可緊密職人水槽排水σ，基座上端有一醜 量與筒形機殼下端該第-嶋水孔數量相_徑向第二圈排 水孔’雜座上端得讓筒職殼或超音波清洗機主體恰好套 入’套入後的超音波清洗機主體可在—該第__圈排水孔與該 第二圈排水孔彼此連通的排水位^，與一該第一圈排水孔與 該第-圈排水孔彼此不連通的無排水位置之間旋轉。 超音波振賴組套人筒形機殼的部份顧柱形的振動元 件’其外周面凹設形成有—與筒形機朗向延伸的凹槽，组 成超音波清洗駐體之後，此伽魏縣超音波清洗機主 體内的溢水通道，而筒形機殼上端至少有-與該溢水通道連 通的溢水孔。筒形機殼上端可以有多數個位於不同高度位置 的/皿K孔u夕數個溢水孔塞子，借由將部份溢水孔以 閉以調整溢水水位的高度。超音波振動模組和 t機H成的方式可_外敎旋_合，電 則外露於筒形機殼。 超音波清洗機基座還包括一向外凸設且位於該基座上 ==Γ狀平板，當基座·入水槽排水口 時樣千板的下表面剛好緊貼著水槽排水口的周邊。 同形機设下端的外周面與環狀平板的上表面各有數個 突出塊，建構了至少有-限位單^，每—限位單元包括 一突出塊、-第二突出塊與一第 .大出塊該第一突出塊形 成於糾機喊下端的外周面與環狀平板的上表面 - ’該第二突域與該第三突出軸_地 形 基座旋轉至該第-突出塊上= 碰觸處，该同形機咸位於排水位置’當筒形機殼相對於超音 ^清洗機基座旋轉至該第一突出塊和第三突出塊碰觸處該 _機殼餅無排水位置。本超音波清洗裝置，亦可包含二 限位單元，各該第一突出塊形成於該筒形機殼下端處的外周 面’各該第二突出塊與各該第三突出塊相間隔地形成於該環 狀平板的上表面。 超音波清賴基絲本上有^鮮關祕，差別在於 基座下端的口徑大小。市面上常㈣水槽，_是流理台水 槽有單槽、雙槽（子母槽）_規格，—般而言排水口的口 徑也已標準化成大小兩種規格，如果有第三種以上尺寸，可 設計軟性圈套，套在超音波清洗機基座下端來搭配使用。 本新型的另一目的，是在提供一種用於水槽，特別是流 理0水槽且可於清洗時同時將水排放出的超音波清洗裝置 與輔助水槽的組合結構。本組合結構用於水槽，特別是流理 D水槽，其水槽底部有一排水口，包括有一輔助水槽與一超 音波清洗裝置。 本輔助水槽設置於水槽内，其主要特徵為：其底部有數 個可調整高低的座腳能將槽底墊高，底部還有一排水口，其 口徑和規格與一般水槽相同，以超音波清洗機基座可以套入 運作為特徵。輔助水槽的排水口更向下延伸成一小段圓管， 修 _________ 其高度不超過座腳的高度，能增加其承重的強度。將辅助水 槽放入水槽裡，於適當之處調整座腳高低以求水平，當水槽 空白處欲作他用時，無礙其用水和排水。座腳可調整高低是 為因應水槽底部的高低不一。本組合結構的超音波清洗裝 置，其實質内容和特徵與前一段所述的超音波清洗裝置相 同0 以原有的水槽作為超音波清洗運作的空間，除不佔水 槽周邊的操作平台空間之外’給水、排水和善後工作都 便利又可創造兩種清洗模式：一為制式的「注入適量的水— 超音波清洗一洗淨後排放水」、另一為「注入適量的水一超 音波清洗中邊注水邊放水一洗淨後排放水」，就後者而言洗 滌中的污水和雜質會下沉，於清洗中就能漸次排出，而且是 從水槽底部排出’可提高洗淨的效率。溢水孔的作用在於當 下注入的水里大於底部排水量時，水位會漸漸昇高，然後得 經此排出；溢水孔同時也是一通氣口，對底部該兩圈排水孔 連通時的排水順暢與否也有幫助。 本新型超音波清洗裝置的效益在於：借由該超音波清洗 機基座下端崁入水槽排水口的設計，使該超音波清洗裝置安 裝於該水槽’且借由該筒形機殼相對於該超音波清洗機基座 旋轉至該第-圈排水孔與該第二圈排水孔彼此連通的排水 位置，可於清洗時同時將水排放出。 本新型超音波清洗裝置與輔助水槽的組合結構的效益 在於·借由該超音波清洗機基座下端以獅水槽的輔助排 士口 g己合該獅水槽設置於該水_的設計，傾組合結構 女震於該水槽’且借由該筒形機殼相對於該超音波清洗機基 座旋轉至該第-_水孔與該第二_水孔彼此連通的排 水位置，可於清洗時同時將水排放出。 【實施方式】 以下配合參考®雜較佳實施觸本㈣詳細說明： 在詳細δ兒明之前，首要提醒的是，在以下的說明内容中， 類似的元件將以相同的編號來示。 請參_-、圖二、壯，本新型可炭人水槽排水口的 超音波清洗裝置，水槽4，且讀4具有—形成於底部 的排水口 41，在本實施例的水槽4為流理台水槽。超音波清 洗裝置包含：-超音波振動模組卜一筒形機殼2和一超音波 清洗機基座3。 先將超音波振動模組1套入筒形機殼2，利用超音波振動 模組1上的外螺紋15和筒形機殼2上的内螺紋25螺合成超 音波清洗齡體5，但是二者的連财式不⑽域。超音波 振動模組1其套入的部分主要為振動元件12狀呈圓柱形，上 有一外螺紋15，其外周面凹設形成有一與筒形機殼2同向延 伸的凹槽13’與筒形機殼2結合後，凹槽13就成為超音波清 洗機主體5内的溢水通道51，直通水槽排水口 41。電源定時 開關11外露於筒形機殼2，用來管控振動元件12的運作模 式，其上連結一電源線丨4，本實施例是以電源線14提供超音 波振動模組1所需的電力，但是不以此為限，也可以直接用 電池提供電力。 筒形機殼2其上沿内側有一内螺紋25，其外周面上端有 兩個與该溢水通道51相連通的徑向溢水孔2卜另配有可塞入 其中的溢水孔塞子22，筒形機殼2的下端有一徑向第一圈排 ν'.：： 水孔23，其外周面下端接近底部處有二個第一突^12.4_。?二 借由將較下方的溢水孔21以溢水孔塞子22封閉或開啟以調 整溢水水位的高度，雖然在本實施例中，溢水孔21的數量為 二個，但其數4也可以是—個或三個以上，然而#溢水孔21 的數量為-個時、即無調整溢水水位的高度的功能，三個以 •^時，借由將較下方的溢水孔21以溢水孔塞子22封閉可以 多段調整溢水水位的高度以因應不同的使用需求。 超曰波清洗機基座3其中間有-環狀平板31將超音波清 洗機基座3分為基座上端32和基座下端33，基座下端33可 緊密皮入水槽排水口 41，使環狀平板31的下表面緊貼著水槽 排水口 41的周邊，其基座上端32得讓筒形機殼2或超音波 清洗機主體5恰好套入，基座上端32還有一數量與筒形機殼 2下端的第一圈排水孔23錢相同的徑向第二圈排水孔加。 雖然本實施例中，第一圈排水孔23的數量與第二圈排水 孔34的數量皆為多數個，但第一圈排水孔的數量與第二 =水孔34的數量皆只要至少一個即可，不以本實施例： 露為限。 請參閱圖三、圖四，環狀平板31上有2個第二突出塊3ιι 和2個第三突域312。#筒形機殼2套人超音波清洗機基座 3之後可在-如圖三所示的排水位置與—如圖四所示的益排 水位置之間旋轉。當筒形機殼2於排水位置時，各第一圈排 水孔23與各第二圈排水孔34彼此連通，使水槽4内的水可 23'各第水孔34而由水槽排水口 出，备同形機殼2於無排水位置時，各第一圈排 =^二圈排水孔34彼此不連通，使水槽4内的水無法= 曰》水口 排出。借此’可控制水槽4的排水機制。當筒形 M374919 Ή:. —Ί喊2於排水位置時筒形機殼2下端的各第一突出塊24與環 狀平板31上的各第二突出塊311相接觸；當筒形機殼2於無 排水位置時筒形機殼2下端的各第-突出塊24與環狀平板 31上的各第三突出塊312相接觸。 為了讓使用者易於辨識筒形機殼2與超音波清洗機基座 i的相職轉位置，超音波清洗裝置還包含二驗單元，其中 位單元包括一第一突出塊24、一第二突出塊311與-第三，出塊312。於本實施例中，各第-突出塊24形成於筒 I機成2下端的外周面，各第二突出塊犯與 31^間隔地形成於環狀平板31的上表面。—犬出4 *當筒形機殼2相對於超音波清洗機基座3旋轉至該第一 一鬼4和第一大出塊311碰觸處，筒形機殼2位於如圖三 ^的，水位置而當筒形機殼2相對於超音波清洗機基座3 二第—突出塊24和第三突出塊312碰觸處，該筒形機 ;如圖四所示的無排水位置。借此設計，可以讓使用 識筒形機殼2或超音波清洗機主體5是位於排水位 置或疋…'排水位置，方便使用者操作。 瑞的t本實施例中，各第一突出塊24形成於筒形機殼2下 細的外周面，且各第二突出塊31 隔地形成於環狀平板31的上表面。妙各第-大出塊312相間 换的上表面然而，也可將各第一突出 各笫三二屮^狀平板Μ的上表面，且各第二突出塊311與 面；:可:ί:2/目π間隔地形成於筒形機殼2下端的外周 以包夕個或是J二二二t超音波清洗裝置也可 助水結::較：施:新型超音波清洗裝置與輔 口 ' 乜列’用於水槽4 ’水槽4底部 10 水槽6 超曰波洗裝置，於此不再重 處加以說明。 的魏__部份，僅就差異 能將上:6二特徵在底部有數個可調整高低的座腳61 二曰的二=卩有—輔助水槽排水口 62，輔助水槽排水 般水槽排細_，以便超音波清洗機 套人運作。辅助水槽排水口 62更向下延伸成-小 段圓管’其高度低於座腳的高度，稱為排水口延伸段⑽，用 以增加其承重的強度。辅助水槽6得容置於水槽4裡，當選 用輔助水槽6來清洗果_，祕超音波清洗絲座3其基 ^下端33 辅助水槽排水口 62，再將超音波清洗機主體5 套入基座以32即可開始清洗，當超音波清洗駐體5旋轉 到-如圖三的排水位置時，辅助水槽6裡的水可經各第一圈 排Jc孔23各弟一圈排水孔34及辅助水槽排水口 62排入水 槽4，再經水槽排水口 41排出。借此，可於清洗時同時將水 排放出。而於水槽4内且於輔助水槽6外的空間可進行其他 用途的使用’讓使用上更為便利。 综上所述，本新型超音波清洗裝置，借由該超音波清洗 機基座下知33戾入水槽排水口 41的設計，使該超音波清洗 裝置安裝於該水槽4’且借由該筒形機殼2相對於該超音波清 洗機基座3旋轉至該第一圈排水孔23與該第二圈排水孔34 彼此連通的排水位置，可於清洗時同時將水排放出。所以確 實能達成本新型的功效。 本新型超音波清洗裝置與辅助水槽的組合結構，借由該 超音波清洗機基座下端33炭入辅助水槽6的輔助排水口 62 配合該辅助水槽6設置於該水槽4内的設計，使該組合結構 i„ 安裝於該水槽4 ’且借由賴職殼2姆㈣超音波清洗機 基座3旋轉至該第一圈排水孔23與該第二圈排水孔34彼此 連通的排水位置，可於清洗時同時將水排放出。 准、上所iC者’僅為本新型之較佳實施例而已，當不能 =舰搞型魏之範圍，即大凡依本_帽專利範圍 月内容所作之簡單的等效變化與 型專利涵蓋之範圍。 胃个_ 【圖式簡單說明】 例』本新型超音波清洗裝置的較佳實施 a水槽_水槽局部切除_示内部。 圖二是圖一的立體分解圖。 圖—是示<§>圖’說㈣形機 排水位置時兩圈排水孔和各突出塊的相對位置機基座於 ，岭—示_，說日謂形機 無排=時兩圈排水孔和各突出_•置機基座於 槽的二實3 =型超音波清洗裝置與輔助水 槽皆局部切例Μ於一水槽，該水槽與輔助水 圖六是圖五的立體分解圖。 圓七是一立體圖，說明該超音波清洗機主體和補助水槽。 【主要元件符號說明】 1 ·超音波振動模組 11.電源定時開關 12 M374919

12. 振動元件 13. 凹槽 14. 電源線 15. 外螺紋 2. 筒形機殼 21. 溢水孔 22. 溢水孔塞子 23. 第一圈排水孔 24. 第一突出塊 25. 内螺紋 3. 超音波清洗機基座 31. 環狀平板 32. 基座上端 33. 基座下端 34. 第二圈排水孔 311. 第二突出塊 312. 第三突出塊 4. 水槽 41.水槽排水口 5. 超音波清洗機主體 51.溢水通道 6. 輔助水槽 61. 座腳 62. 輔助水槽排水口 63. 排水口延伸段 13

Claims (1)

1. 兴、爭請專利範圍： 1. -種超音波清洗裝置’用於—水槽，該水槽底 口，#⑽： q排水 一超音波振動模組； 其谷許超音波振動模組套入其中合組成 ’筒形機殼下踹右烬仓筮— 一筒形機殼， 超音波清洗機主體 ，----W 孑匕； -超音波清洗機基座，基座上下_皆為圓管形接 頭’兩者口徑可不-但整體是貫通的，基座下端可緊^地 嵌入水槽排水π，基座上端有一圈數量與筒形機殼下端該 第一圈排水孔數量相同的徑向第二圈排水孔，該基座上端 得讓筒形機殼或超音波清洗機主體恰好套入，套入後的超 音波清洗機主體可在-該第一圈排水孔與該第二圈排水孔 彼此連通的排水位置，與一該第一圈排水孔與該第二圈排 水孔彼此不連通的無排水位置之間旋轉。 2. 依據申請專利範圍第丨項所述之超音波清洗裝置，其中超音 波振動模組套入筒形機殼的部份為圓柱形的振動元件，其 外周面凹設形成有一與筒形機殼同向延伸的凹槽，組成超 曰波清洗機主體之後，此段凹槽就成為超音波清洗機主體 内的溢水通道，筒形機殼上端至少有一與該溢水通道連通 的溢水孔。 3. 依據申請專利範圍第2項所述之超音波清洗裝置，其中筒 $機滅上端有多數個位於不同高度位置的溢水孔，該超音 波清洗裝置還包含多數個溢水孔塞子，借由將部份溢水孔 以溢水孔塞子封閉以調整溢水水位的高度。 4·依據申請專利範圍第丨或2或3項所述之超音波清洗裝置， M374919

   其中超音波清洗機基座還包括一 端與基座下端之_環狀平板，當紐下端以水ϋ 口時’環狀平板的下表面剛好緊貼著水槽排水口的周邊。

   相對於超音波清洗機基錢轉至該第—突出如㈣笛：欢

   .依據申請專·!5第丨酬述之超音波清喊置， 音波振動模組螺合連接於筒形機殼。 〃 Τ超 .依據申請專請第2項所述之超音波清㈣置 =波振動模組還包括—連接於該振動元件上如控制。 動7C件的開關與振動時間的電源定時開關。 μ振 —種超音波清洗裝置與辅助水槽的組合結構，用於— 3亥水槽底部有一排水口，該組合結構包含： 夂槽， 一輔助水槽，設置於水槽内，該輔助水梓 助排水口，槽底有數個座腳；及 _。有一輔 15 一超音波清洗裝置，包含： 一超音波振動模組； 琦形機设，其谷許超音波振動模組套入其中合 組成超音波清洗機主體，筒形機殼下端有第一圈徑向 排水孔； 一超音波清洗機基座，基座上下兩端皆為圓管形 接頭，兩者口徑可不一但整體是貫通的，基座下端可 緊密地崁入水槽排水口，基座上端有一圈數量與筒形 機叙下端該第一圈排水孔數量相同的第二圈排水孔， έ亥基座上端得讓筒形機殼或超音波清洗機主體恰好套 入’套入後的超音波清洗機主體可在一該第一圈排水 孔與δ玄苐二圈排水孔彼此連通的排水位置，與一該第 一圈排水孔與該第二圈排水孔彼此不連通的無排水位 置之間旋轉。 10.依據申請專利範圍第9項所述之超音波清洗裝置與輔助水 槽的組合結構，其中超音波振動模組套入筒形機殼的部份 為圓柱形的振動元件，其外周面凹設形成有一與筒形機殼 同向延伸的凹槽，組成超音波清洗機主體之後，此段凹槽 就成為超音波清洗機主體内的溢水通道，筒形機殼上端至 少有一與該溢水通道連通的溢水孔。 U.依據申請專利範圍第1〇項所述之超音波清洗裝置與輔助 水槽的組合結構，其中筒形機殼上端有多數個位於不同高 度位置的溢水孔，該超音波清洗裝置還包含多數個溢水孔 基子’借由將部份溢水孔以溢水孔塞子封閉以調整溢水水 位的高度。 12.依據申請專利範圍第9或10或11項所述之超音波清洗裝 «υ /4^19 置與辅助水槽的組合結構，其中超音波清洗^還包七 一向外凸設且位於該基座上端與基座下端之間的環狀平 板’當基座下端戾入水槽排水口時，環狀平板的下表面剛 好緊貼著水槽排水口的周邊。 13.依據申請專利細第12項所述之超音波清洗裝置與輔助 水槽的組合結構，其中超音波清洗裝置還包含至少」限位 m一限位單元包括-第-突出塊、-第二突出塊盎 ，二犬出塊，該第_突出塊形成於筒形機 ，環狀平板的上表面其中之―，該第二突出塊 形成於筒形機殼下端的外周面與環^^ 方走轉=第塊相對於超音波清洗機基座 大出鬼和5亥第二犬出塊碰觸處，該 當筒形機殼相對於超音波清洗機基座旋二 無^位=第三突出塊碰觸處，該筒形機殼位於 R依據申請專利細第13項所述 合結構’其切音波狀妓 該第一突出塊形成於筒形機殼下端的外周：二 的\^出塊與各該第三突出塊相間隔地形成於環狀平板 I5.依據ΐ請糊細帛9項所述之超 槽的組合結構，射超音波振動模組螺合=與輔助水 水槽的組合結構，其中超音波振動括先裝置與輔助 振動几件上端以控制該振動元件的門· 連接於該 定時開關。 的㈣與振動時間的電源 17 M374919 …17:~依據申請專利範圍第9項所述之超音波清洗裝置與輔助水 槽的組合結構，其中輔助水槽底部的座腳可調整高度。 18