TWM344582U - Wide-band, high precision GTEM transverse electromagnetic cell - Google Patents

Description

.M344582 八、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 ^創作係關於一種新型的千兆赫橫電磁波小室，尤扣 -種可運用於射頻及微波電磁相容的新型測試設備，：： 子器件及設備電磁相容特性測試使用。 〃 【先前技術】 由於電子裴置處理的速度愈來愈快，其意味内部電路 的=作頻率愈來愈高，另通訊系統所使用頻段的頻率越來 越同，頻寬越來越廣，相對衍生了電磁干擾（EM丨）與電磁相 容（EMC)的問題，電子裝置不但要考慮本身與其他電子設 備，電磁相容’其内部的電子元件之間更須考慮電磁相= 問題’因而電磁相容測試成為電子裝置上市前必須通過的 基本測試項目。 而杈電磁波小室（Transverse E|ectr〇magnet|.c ce||， TEM Cell)是-種用來實施前述電磁相容測試的設備，請參 閱第四、五圖，其揭示一種現有的橫電磁波小冑，主要係 由一外導體上壁（71 )、外導體下壁（72)及兩個外導體側壁 (73)圍成一矩形腔室（7〇)，該矩形腔室（7〇)内部設有一與外 導體上壁（71)及外導體下壁（72)平行的片狀内導體板（74)， 而矩形腔室（7G)與片狀内導體板（74)構成一段均勻矩形同 軸線，忒矩形同軸線兩端分別通過漸變過渡（75)與輸入端 及輸出端上的50歐姆圓形同軸傳輸線形成匹配連接，其 一端可連接50歐姆的終端電阻（圖中未示）以吸收反射，另 M344582 一端則連接頻譜分析儀、 ’當將待測設備或元件射麟Λ接收機或微波干擾信源 继分析儀戋射4自祕 入上述橫電磁波小室中，可由頻 ”曰刀析儀或射頻雜訊接收機量測 肩 測物產生的電磁韓射，當使坡波小至接收到的待 磁波小室注入輻射干擾 ”干擾信號產生器向橫電 性。 唬知，則可測試待測物的抗干擾 上述橫電磁波小宮& Μ日5各 變過度（75)產生的多次覆反在I矩利軸傳輸線兩端漸 ,,3灿义 後反射，及兩垂直側壁產生的水平 Γ:’Γ限制了該橫電磁波小室工作頻段及均勾場空 ^大小。為擴展橫電磁波小室工作頻段，出現了如第六圖 二千兆赫橫電磁波小室_(GTEM Cell)，該千兆赫橫 電磁波小室（80)取消了輸出端傳輸線的漸變過度，而由吸 ，材料⑷）及50歐姆電阻（82)組成的複合終端取而代之， 從而消除了輸出終端反射之影響，達到了展寬頻段的目的 、:儘管…依然存在片狀内導體板(83)與兩側壁形成水 ”·化昜刀里的衫響，且均勻場空間大小仍然是一個問題 【新型内容】 因此，本創作主要目的在提供一種改良的千兆赫橫電 磁波小室’其透過特殊的傳輸線漸變設計，及在傳輸線側 壁適當安裝微波吸波材料，達到改善工作區場分布均勻性 、降低高次模影響及擴大工作頻段等目的。 為達成前述目的採取的主要技術手段係令改良的千兆 M344582 赫橫電磁波小室包括有： 一外導體’係由一三角狀之上壁、一與上壁形狀匹配 之下壁、一矩形狀之帶狀線終端板、一第一側壁及一第二 側壁組成；該第一、第二側壁之一端係分別與帶狀線終端 板上平行的兩側邊銜接’其另端則直接相交形成尖錐端， 又前述上壁、下壁係分別與第一、第二側壁及帶狀線終端 板的頂底端銜接，從而在外導體内部形成一腔室； 一同軸輸入埠，係設於外導體之尖錐端上； 一中心帶狀線，係呈等腰三角形之片狀，其設於外導 體之腔室内，且其底邊係互呈直角地連結於外導體之帶狀 線終端板内面上，其二斜邊相交的頂點係與同軸輸入槔連 接； 一電阻性阻抗匹配線路，係設於中心帶狀線之底邊與 帶狀線終端板内面之間； 微波吸收材料，係分別覆設於外導體之上壁内面、下 壁内面及帶狀線終端板内面； 至少一待測物承載台，係設於外導體之腔室内，其豎 立於外導體之下壁上，並與中心帶狀線相鄰； 月述新型千死赫橫電磁波小室係將傳統橫電磁波小室 的圓形同軸線漸變到矩利軸傳輸線的設計，&變為由圓 形同軸線漸變到以三導體平行帶狀線（由中心帶狀線、第一 側壁及第二側壁組成）為主的傳輸線結構，並在與中心帶狀 線垂直的外導體上壁與下壁内表面覆設微波吸收材料，以 哀減與中心帶狀線平行的正交極化場分量，從而達到改善 M344582 工作區場分布均勻性，降低高次模影響，擴大千兆赫橫電 磁波小室有效工作頻段之目的。 【實施方式】 有關本創作之一較佳實施例，首先請參閱第一、二圖 所示，主要係在一呈錐狀的外導體（1 〇)内形成一匹配形狀 的腔室（100)，又外導體（10)的尖錐端上設有一同軸線輸入 埠（20)，而腔室（100)内設有一中心帶狀線（30)及至少一待 測物承載台（40);其中： 該外導體（10)主要係由一三角狀之上壁（11)、一與上 壁（11)形狀匹配之下壁（12)、一矩形狀帶狀線終端板（13)、 一第一側壁（1 4)及一第二側壁（1 5)組成；該第一、第二側 壁（14)(1 5)之一端係分別與帶狀線終端板（1 3)上互為平行的 兩側邊銜接，其另端則直接相交而構成尖錐端，又前述上 壁（1 1)、下壁（12)係分別與第一、第二側壁（14)(1 5)及帶狀 線終端板（1 3)的頂底端銜接，並藉此在外導體（1 〇)内部形 成中空之腔室（100)。 又前述外導體（10)在上壁（11)内面、下壁（12)内面及帶 狀線終端板（1 3)内面上分別覆設有呈尖錐狀的微波吸收材 料（41)(42)(43)，可行的微波吸收材料包括鐵氧體磁磚、泡 棉等。 再者，該中心帶狀線（30)係呈三角形之片狀，其位於 外導體（10)之腔室（100)内，該中心帶狀線（30)具有一底邊 及一頂點，該底邊係透過一阻抗匹配線路（50)連結於外導 7 M344582 體之τ狀線終端板（13)内面中央處，且中心帶狀線（30)係 與帶狀線終端板（13)内面互呈直角，該中心帶狀線（3〇)的 兩面係分別與第一側壁〇 4)、第二側壁（彳5)相對，而中心 帶狀線（30)的頂點則與同軸線輸入埠（2〇)連接，該同軸線 輸入璋（20)係用以在進行電磁抗擾度測試時輸入電磁干擾 讯唬，或連接頻譜分析儀以接收由同軸線輸入埠（2〇)送出 的信號；藉此，該中心帶狀線（3〇)將與第一側壁（14)、第 二側壁（1 5)構成三導體平行帶狀線，用於在電磁抗擾度測 试呀建立供測試用的水平極化電場，或在進行電磁輻射測 量時，耦合待測設備的輻射電磁場能量。 又前述電阻性阻抗匹配線路（5〇)係用以改善千兆赫橫 電磁波小室在低頻的匹配性能，請參閱第三圖所示。覆設 於外V體（1 0)上帶狀線終端板（1 3)内面的微波吸收材料（43) 主要係用以保持橫電磁波小室在微波段的匹配性能；另覆 在上壁（1 1)内面、下壁（彳2)内面的微波吸收材料（41)(42) 則用以降低垂直極化電場分量對橫電磁波小室工作的影響 〇 再者，於本實施例中，該外導體（1〇)的腔室（1〇〇)内設 有兩待測物承載台（4〇)，其以縱向豎立於下壁（12)上，並 與中心帶狀線（30)相鄰，主要係供置放待測設備。為方便 放置待測設備，本實施例於外導體（1〇)的上壁（11)上形成 有開口（ 111)’使待測設備得經由該開口（ 1 1 1)置入腔室 (100)内的待測物承載台（40)上，而開口（111)上則設有一 蓋板（112)以封閉腔室（100)，由於腔室（1〇〇)内的待測設備 8 M344582 可能需要由外界供電或與外界進行訊號連線，該蓋板（112) 上得設以至少一個連接槔或端子（圖中未示卜以支援前述 需求。 由上述說明可瞭解本創作一較佳實施例的具體構造， 邊等设什特別之處在於其將同軸線輸入埠的圓形同軸 •線漸變過渡到以三導體（中心帶狀線（30)、第一側壁（14)及 第二側壁（1 5))平#帶狀線為主的傳輸線結構。整個千兆赫 電磁波小室由矩形轉變為尖錐狀，再將通常呈水平方向設 I置的中心帶狀線(30)(中心導體）改以垂直方向設置於腔室 (1 00)内以便此通過上壁（11)的開口（ 111)放入待測設備 。而在圓形同軸線轉三導體平行帶狀線的過渡部分係分別 產生由第一側壁（14)、第二侧壁（15)與垂直内導體（中心帶 狀線（30)之間形成的水平極化場，以及隨離中心帶狀線 (30)垂直距離呈指數衰減而具有垂直分量的邊緣場。 為進步降低邊緣場的影響，在與中心帶狀線（3〇)亦 互呈垂直的外導體（1(3)上壁⑴）、下壁（12)分別於其内面覆 設微波吸收材料(41)(42)、以進一步減弱邊緣場分量的影 、響’並可改善千兆赫橫電磁波小室工作區的場分布均勻性 、降低尚次模的影響，從而擴大千兆赫橫電磁波小室的有 效工作頻寬。 【圖式簡單說明】 第一圖·係本創作一較佳實施例之立體圖。 第一圖·係本創作一較佳實施例之俯視方向剖視圖。 第二圖：係本創作一較佳實施例之側視方向剖視圖。 9 M344582 第四圖：係已知橫電磁波小 第五圖：係已知橫電磁波小 弟六圖··係已知G Τ Ε Μ小室 【主要元件符號說明】

(1 〇〇)腔室 (111)開口 (12)下壁 (1 4)第一側壁 (20)同軸線輪入埠 (40)待測物承載台 (41)〜（43)微波吸收材料（5〇)電阻性阻抗匹配線路 (70)腔室 （71)外導體上壁 (72)外導體下壁 （73)外導體側壁 (74)内導體板 （75)漸變過渡

室的平面示意圖 室的側面剖視圖 的示意圖。 (10) 外導體 (11) 上壁 (112)蓋板 (1 3)帶狀線終端板 (1 5)第二側壁 (30)中心帶狀線 (8 0)千死赫橫電磁波小室（81)吸波材料 (82)50歐姆電阻 （83)内導體板

Claims (1)

1. M344582 九、申請專利範圍： 1 · 一種寬帶1¾精度之千死赫橫電磁波小室，包括有

   一外導體’係由一三角狀之上壁、一與上壁形狀匹配 之下壁、一矩形狀之帶狀線終端板、一第一側壁及一第二 側壁組成；該第一、第二側壁之一端係分別與帶狀線終端 板上平行的兩側邊銜接，其另端則與直接相交形成尖錐端 ，又前述上壁、下壁係分別與第一、第二側壁及帶狀線終 端板的頂底端銜接，從而在外導體内部形成一腔室； 一同軸線輸入埠，係設於外導體之尖錐端上； 一中心▼狀線’係呈三角形之片狀，其設於外導體之 腔室内，且其底邊係互呈直角地連結於外導體之帶狀線終 端板内面上，其二斜邊相交的頂點係與同軸輸入埠連接； 電阻性阻抗匹配線路，係設於中心帶狀線之底邊與 帶狀線終端板内面之間； 微波吸收材料，係分別覆設於外導體之上壁内面、下 壁内面及帶狀線終端板内面； 至少一待測物承載台，係設於外導體之腔室内，盆登 立於外導體之下壁上，並與中心帶狀線相鄰。 一 申明專利範圍第1項所述寬帶高精度之千兆赫 橫電磁波小室’該外導體的上壁上形成有一開口，開 口内設有一蓋板。 3、·如申凊專利範圍第2項所述寬帶高精度之千兆赫 榼電磁波小室，該蓋板上設有連接埠及/或端子，供 11 M344582 腔室内待測設備與外部進行訊號連結。 4β如申請專利範圍第1至3項中任一項所述寬帶高 精度之千兆赫橫電磁波小室，該微波吸收材料係由鐵 氧體磁碑或泡棉構成。 十、圖式： 如次頁

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