TWI850382B - 泵單元 - Google Patents
泵單元 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI850382B TWI850382B TW109116541A TW109116541A TWI850382B TW I850382 B TWI850382 B TW I850382B TW 109116541 A TW109116541 A TW 109116541A TW 109116541 A TW109116541 A TW 109116541A TW I850382 B TWI850382 B TW I850382B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- vacuum pump
- rough
- rough vacuum
- pump
- pumping
- Prior art date
Links
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims abstract description 128
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 14
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 5
- 240000004658 Medicago sativa Species 0.000 description 4
- 235000010624 Medicago sativa Nutrition 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 101001121408 Homo sapiens L-amino-acid oxidase Proteins 0.000 description 2
- 102100026388 L-amino-acid oxidase Human genes 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000003584 silencer Effects 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 101000827703 Homo sapiens Polyphosphoinositide phosphatase Proteins 0.000 description 1
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 1
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 1
- 102100023591 Polyphosphoinositide phosphatase Human genes 0.000 description 1
- 101100233916 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) KAR5 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Images
Abstract
一種泵單元(1),其包含粗真空泵(2)與魯氏真空泵(3),該魯氏真空泵(3)在被泵送的氣體之流動方向(G)上與該粗真空泵(2)串聯並且在該粗真空泵(2)上游,其中:
- 該魯氏真空泵(3)具備三個泵送級(B1-B3),其中轉子(10)被設計成由該魯氏真空泵(3)之馬達(M2)同時驅動旋轉,以及
- 由該粗真空泵(2)的該第一個泵送級(T1)在該泵送氣體的流動方向(G)中所產生的流率與由該粗真空泵(2)的該最後一個泵送級(T3)所產生的流率之比率小於或等於四。
Description
本發明相關於一種泵單元,其包含粗真空泵與在該粗真空泵上游串聯配置的魯氏(Roots)真空泵。
粗真空泵具有複數個串聯配置的泵送級,其中待泵送的氣體在吸入側與排出側之間流動。習知粗真空泵可以是具備二或三個旋轉瓣的「魯氏」泵或具備兩個爪的「爪式」泵。
粗真空泵具有兩個轉子,該兩個轉子具有相同的輪廓,它們在定子內以相反的方向旋轉。在旋轉期間,泵送的氣體被捕集於轉子與定子所形成之自由空間中,並且由該轉子驅動到下一級,接著逐漸到該真空泵之排出側。該泵之運作方式為在該轉子與該定子之間沒有機械接觸,這消除了在泵送級使用油的需求。
為了提高泵送效率(特別在流率方面),魯氏真空泵(亦已知為魯氏鼓風機(Roots blower))被串聯承載且
在該粗真空泵之上游處。由魯氏真空泵所產生之流率可大約是由粗真空泵所產生之流率的二十倍。此真空泵通常具有一或兩個泵送級以及馬達,該馬達用以驅動轉子在通常大於粗真空泵馬達之旋轉頻率的旋轉頻率來旋轉。
該粗真空泵通常是泵單元中第一個故障之組件。這也是最昂貴之組件。當然,由於粗真空泵提供最高壓縮比率,其確保低的最終真空壓力(在缺乏泵送流量之情況下)以及滿意的泵送速度以適當緩解該魯氏真空泵,因此粗真空泵承受數種應力(特別是熱與機械應力)。
為了要確保此高壓縮比率,粗真空泵具有大量的泵送級,在大部分情況下在五到七個之間。此等泵必須也被設計成能夠確保在轉子之間與在定子之間有受控制的運行餘隙。
此外,由於被粗真空泵泵送之氣體的壓力高於魯氏真空泵中對應者,對粗真空泵而言(特別是在其最終泵送級中)有較高的腐蝕風險。
也難以將真空泵之頻率最佳化,以節省能源。事實上,在等待階段(稱為最終真空階段)中降低旋轉頻率是已知的,用以減少真空泵的電力消耗。然而,僅可能同時修改粗真空泵之所有泵送級之頻率,因為轉子皆是由同個馬達所驅動。因此,粗真空泵的旋轉頻率的過度降低可能導致泵送效能的顯著損失,這限制了效率。
本發明之標的之一為提供一種改良的泵單元,其至少部分克服先前技術中的缺點之一。
為此目的,本發明相關於一種泵單元,其包含粗真空泵與被串聯連接且在泵送氣體之流動方向上之該粗真空泵之上游處的魯氏(Roots)真空泵,其特徵在於:-該魯氏真空泵具備三個泵送級,其中該轉子被設計成由該魯氏真空泵之馬達同時驅動旋轉,以及-由該粗真空泵的第一個泵送級在該泵送氣體的流動方向上所產生的流率與由該粗真空泵的最後一個泵送級所產生的流率之比率小於或等於四。
該比率例如小於或等於三,例如為二。
透過使用具有三個泵送級之魯氏真空泵,得以將先前技術中該粗真空泵之泵送級「移動」到該魯氏真空泵。該粗真空泵之第一泵送級變成該魯氏真空泵之最後一個泵送級。實際上,由於被該魯氏真空泵之馬達所驅動之緣故,該級可顯著轉得更快。
此泵送級之轉移有助於顯著降低該粗真空泵之壓縮比率,並相應降低施加至粗真空泵之應力,該應力被部分移到該魯氏真空泵。這樣可以延長對該粗真空泵進行維護之間間隔的時間。由於該魯氏真空泵在較低壓力下運行,此等應力不太重要。
明確而言,低壓縮比率使得能夠減小施加在軸上的彎曲應力。這使得能夠承載該轉子的軸之間的中心到中心距離被降低,這有助於降低該粗真空泵之尺寸。由
於需要較少材料的緣故,較小的粗真空泵有助於降低成本,且表面處理(諸如鍍鎳)之成本、運輸之成本(特別是空運)也可被降低。
這還提供高啟動扭矩,以重新啟動該已停止的粗真空泵(特別是在泵送易於沉積在該粗真空泵的移動部件上的物質時)。
該粗真空泵中的低壓縮比率亦使得較低功率之馬達可以被使用。
降低由該粗真空泵之低壓縮比率所造成之熱與機械應力亦有助於增強該粗真空泵之可靠性。這使得可以增加旋轉頻率,例如使得該粗真空泵能夠吸收較高的氣流或降低泵送級的維度(dimensions),並從而降低該粗真空泵的尺寸。
此種具有低壓縮比率的粗真空泵並非標準者。該粗真空泵是特定用於泵單元,因為其無法單獨作為習知粗真空泵般運作,而是特別設計以在根據本發明具備三個泵送級之魯氏真空泵之下游運作。
該泵單元也可具有一或多下述特徵(其為獨立或結合地採用)。
該粗真空泵例如具備至少三個泵送級(例如三到五個,或三或四個),其中該轉子被設計成由該粗真空泵之馬達同時驅動旋轉。
由該粗真空泵之第一泵送級所產生之流率是例如小於或等於500m3/h,例如在200m3/h與300m3/h之
間。
由該魯氏真空泵之第一泵送級所產生之流率例如大於由該粗真空泵之第一泵送級所產生之流率十倍或二十倍。
根據例示性實施例,由該魯氏真空泵之第一泵送級所產生之流率例如是大於5000m3/h,例如是6000m3/h。
根據例示性實施例,由該魯氏真空泵之第一泵送級所產生之流率例如是在2100m3/h與3500m3/h之間。由該魯氏真空泵之第二泵送級所產生之流率例如是在447m3/h與744m3/h之間。由該魯氏真空泵之第三(與最後一個)泵送級所產生之流率例如是在298m3/h與496m3/h之間。
由該粗真空泵之第一泵送級所產生之流率是例如在248m3/h與298m3/h之間。由該粗真空泵之第二泵送級所產生之流率是例如在124m3/h與149m3/h之間。由該粗真空泵之第三泵送級所產生之流率是例如在124m3/h與149m3/h之間。
根據例示性實施例,該泵單元包括框架,該框架承載該魯氏真空泵與該粗真空泵在彼此上方,且該粗真空泵被配置在該魯氏真空泵上方。將該魯氏真空泵空間上配置在該粗真空泵下方會降低該泵單元之重心,這會顯著有助於增強其穩定性。
根據另一例示性實施例,該泵單元1包括框
架,該框架承載該魯氏真空泵與該粗真空泵在彼此上方,且該魯氏真空泵被配置在該粗真空泵上方。
該粗真空泵之馬達可被設計成可變的(Variable),以產生高旋轉頻率(例如,大於100Hz)及/或低旋轉頻率(例如,小於50Hz),以及產生在該高旋轉頻率與該低旋轉頻率之間的標稱旋轉頻率。當然,該粗真空泵之該旋轉頻率可被降低更多以節省能源,特別是在該最終真空等待階段期間,而不會有任何降低泵送效能之風險,該效能是透過三級的魯氏真空泵之高壓縮比率所保證。因此,該粗真空泵可在廣範圍之旋轉頻率上運行,首先,可在高旋轉頻率下吸收大量氣體流量,接著可在低旋轉頻率下降低針對零或可忽略流量之電力消耗。
根據例示性實施例,該泵單元具有將該魯氏真空泵之排出側與該粗真空泵之排出側連通之旁通導管,該旁通導管適配有閥裝置,該閥裝置被設計成在該魯氏真空泵之吸入側的壓力大於壓力臨界值時會開啟。
該壓力臨界值例如在400mbar與600mbar之間,例如為500mbar。
該閥裝置舉例而言是止回閥(check valve)。
因此,當泵送高壓氣體(例如超過500mbar之壓力)時,旁通導管提供了來自該粗真空泵之旁通路徑。由於存在該魯氏真空泵上第三泵送級,這是可行的。此低流量第三級會令該魯氏真空泵可以長時間單獨運行而不會故障。透過旁通該高壓粗泵送,此種泵單元有助於增加該
高壓泵送速度,以及降低電力消耗與降低將壓力下降所需之時間。本實施例特別適用於基板負載鎖定之周期性泵送。
降低對該粗真空泵施加之熱與機械應力亦可使該粗真空泵之泵送級的定子可至少部分由兩個半殼體構成,該半殼體組裝在穿過承載該轉子的軸的軸線之組裝表面上。此種泵為更快組裝,且降低了定子之不同元件錯位之風險。降低該粗真空泵之組裝時間有助於降低成本。
1:泵單元
2:粗真空泵
3:魯氏真空泵
4:吸入側
5:排出側
6:定子
6b:半殼體
6c:半殼體
7:級間通道
8:框架
8a:腳
8b:腳輪
9:消音器
10:轉子
11:吸入側
12:排出側
13:旁通導管
14:閥裝置
B1:泵送級
B2:泵送級
B3:泵送級
T1:泵送級
T2:泵送級
T3:泵送級
M1:馬達
M2:馬達
G:流動方向
在本發明的特定實施例的描述與圖式中包括其他優點和特徵,其絕對不構成對本發明限制,該所附圖式其中:[圖1]是根據第一實施例的泵單元之極度示意圖。
[圖2]是示出粗真空泵的例示性實施例之示意圖,其中僅示出運行所需之元件。
[圖3]是與圖1之圖式相似之圖式,其示出該泵單元之第二實施例。
[圖4]是與圖1之圖式相似之圖式,其示出該泵單元之第三實施例。
在此等圖式中,使用相同參考編號指示相同的元件。
以下實施例為例示性。雖然本說明書參照一或多實施例,這並不必然代表各參考參照相同的實施例,或該特徵僅適用於一實施例。不同實施例之個別特徵也可被結合或抽換以提供其他的實施例。
「產生的流率」代表對應於該真空泵的轉子和定子之間形成的容積之容量乘以每秒的轉數。
「最終真空」代表當沒有要泵送的氣體流要被注入該真空泵時,泵送裝置所獲得之最低壓力。
粗真空泵是容積式真空泵,其被設計以使用兩個轉子來吸出、轉移並接著排出在大氣壓力下泵送之氣體。該轉子被承載在兩個軸上,該兩軸由該粗真空泵之馬達驅動旋轉。該轉子可以是魯氏、爪式、或螺桿轉子。
魯氏真空泵(亦已知為魯氏鼓風機)是容積式真空泵,其被設計以使用兩個魯氏轉子來吸出、轉移並接著排出泵送之氣體。該魯氏真空泵被承載在粗真空泵上游且與粗真空泵串聯。該轉子被承載在兩個軸上,該兩軸由該魯氏真空泵之馬達驅動旋轉。
魯氏真空泵與粗真空泵主要差異處在於:其具有較大維度之泵送級(由於其具有較大泵送容量之緣故)、其具有較大許可容限值、以及魯氏真空泵不會在大氣壓力下排出之事實,但其必須與粗真空泵串聯使用並在粗真空泵上游。
「上游」代表就泵送氣體之流向而言,一元
件被置於另一元件之前。相反的,「下游」代表就泵送氣體之流向而言,一元件被置於另一元件之後,位於上游之元件的壓力低於位於下游之元件,該下游元件處於較高壓。
術語「上方」與「下方」應被理解成參照置於地面上泵單元之元件的配置。
圖1示出泵單元1之第一實例。
泵單元1包含粗真空泵2與魯氏真空泵3。
該粗真空泵2是多級的真空泵,其經設計以排出在大氣壓力下泵送之氣體。
該粗真空泵2具備至少三個(例如,三到五個或三個或四個)泵送級T1、T2、T3(在圖1與2中有三個),該等泵送級被串聯在粗真空泵2之吸入側4與排出側5之間,將泵送之氣體可流動通過該等泵送級。
各泵送級T1-T3是由在粗真空泵2之定子6中形成之加壓室所構成,該加壓室具備各別入口與各別出口。該連續的泵送級T1-T3彼此透過各別級間通道7而串聯連接,該級間通道將前個泵送級之出口(或排出側)連接到下個泵送級之入口(或吸入側)(請見圖2)。第一泵送級T1(亦已知為低壓級)之入口與粗真空泵2之吸入側4連通,且最後一個泵送級T3(亦已知為排出級)之出口與粗真空泵2之排出側5連通。
粗真空泵2也具備兩個配置在泵送級T1-T3內的轉子10。該轉子10之軸是由粗真空泵2之馬達M1在例如
低壓級T1之側所驅動(圖1)。泵送級T1-T3之轉子10被粗真空泵2之馬達M1同時驅動旋轉。
圖2中轉子10被示出為魯氏轉子(「8字型」或「豆」狀截面)。自然地,本發明亦適用於其他類型之乾式多級粗真空泵,諸如「爪式」泵或螺旋泵或螺桿泵,或任何其他相似原理之容積式真空泵。
轉子10為角度偏位並驅動以在各級T1-T3之加壓室中同步旋轉於相反方向。在旋轉期間,從入口吸出之氣體被捕集於由轉子10與定子6所形成之自由空間中,該氣體接著被轉子10驅動到下一級(泵送氣體之流動方向在圖1與2中以箭頭G示出)。
粗真空泵2被稱作「乾式」的原因在於當運作時,轉子10在定子6內部轉動而不會與定子6有機械接觸,這消除了在泵送級T1-T3中使用油的需求。
魯氏真空泵3在被泵送的氣體之流動方向G上與粗真空泵2串聯並且在其上游。
該魯氏真空泵3具有三個泵送級B1、B2、B3(圖1),該等泵送級被串聯配置於魯氏真空泵3之吸入側11與排出側12之間,泵送氣體可流動通過其。
對於粗真空泵2而言,魯氏真空泵3之各泵送級B1-B3是由具備各別入口與各別出口之加壓室所形成。該連續的泵送級B1-B3彼此透過各別級間通道而串聯連接,該級間通道將前個泵送級之出口(或排出側)連接到下個泵送級之入口(或吸入側)。第一泵送級B1(亦已知為低
壓級)之入口與魯氏真空泵3之吸入側11連通,且第三與最後一個泵送級B3(亦已知為排出級)之出口與魯氏真空泵3之排出側12連通,並接續與粗真空泵2之吸入側4連通。
魯氏真空泵3也具備兩個配置在泵送級B1-B3內的轉子10。該轉子10之軸是由魯氏真空泵3之馬達M2在例如排出級B3之側所驅動(圖1)。泵送級B1-B3之轉子10被魯氏真空泵3之馬達M2同時驅動旋轉。
魯氏真空泵3之轉子10為魯氏轉子(「8字型」或「豆」狀截面),如圖2中粗真空泵2所示者。
魯氏真空泵3也是「乾式」真空泵。
在本第一例示性實施例中,魯氏真空泵3被配置在粗真空泵2上方。該泵舉例而言由泵單元1之框架8承載,該框架也承載粗真空泵2,且框架8也可以有腳8a及/或腳輪8b以使得真空泵2與3可一起移動與儲藏(空間上一者在另一者上方)。
兩個真空泵2與3之泵送級B1-B3與T1-T3建立一容積(亦即,泵送氣體之容積),其隨著泵送級而減少(或維持相等),即,第一泵送級B1具備最高產生流率且最後一個泵送級T3具備最低產生流率。粗真空泵2之排出壓力為大氣壓力。粗真空泵2也可在排出側5,最後一個泵送級T3之出口處具備消音器9,如圖1所示。
此外,由該粗真空泵2的第一個泵送級T1在該泵送氣體的流動方向G中所產生的流率與由該粗真空泵2的最後一個泵送級T3所產生的流率之比率小於或等於四,
例如小於或等於三。此比率例如為二。此種粗真空泵2並非標準者。該粗真空泵是特定用於泵單元1,因為其無法單獨作為習知粗真空泵般運作,而是特別設計以在根據本發明具備三個泵送級B1、B2、B3之魯氏真空泵3之下游運作。
由該粗真空泵2之第一泵送級T1所產生之流率是例如小於或等於500m3/h,例如在200m3/h與300m3/h之間。
由該魯氏真空泵3之第一泵送級B1所產生之流率例如大於由該粗真空泵2之第一泵送級T1所產生之流率十倍,例如是二十倍大。
根據例示性實施例,由該魯氏真空泵3之第一泵送級B1所產生之流率例如是大於5000m3/h,例如是6000m3/h。
根據泵單元1之分級的一實例,在魯氏真空泵3中,由魯氏真空泵3之第一泵送級B1所產生之流率例如在2100m3/h與3500m3/h之間,由魯氏真空泵3之第二泵送級B2所產生之流率例如在447m3/h與744m3/h之間,以及由魯氏真空泵3之第三與最後一個泵送級B3所產生之流率例如在298m3/h與496m3/h之間。
在粗真空泵2中,由該粗真空泵2之第一泵送級T1所產生之流率是例如在248m3/h與298m3/h之間。由該粗真空泵2之第二泵送級T2所產生之流率是例如在124m3/h與149m3/h之間。由該粗真空泵2之第三泵送級T3所產
生之流率是例如等於第二泵送級T2者,例如在124m3/h與149m3/h之間。
在本實例中,由粗真空泵2之第一泵送級T1所產生之流率對由最後一個泵送級T3所產生之流率的比率因此為2。
透過使用具有三個泵送級B1、B2、B3之魯氏真空泵3,得以將先前技術中該粗真空泵之泵送級「移動」到該魯氏真空泵3。該粗真空泵之第一泵送級變成該魯氏真空泵3之最後一個泵送級。實際上,由於被該魯氏真空泵3之馬達M2所驅動之緣故,該級可顯著轉得更快。
此泵送級之轉移有助於顯著降低該粗真空泵2之壓縮比率,並相應降低對粗真空泵2施加之應力,該應力被部分移到該魯氏真空泵3。這樣可以延長對該粗真空泵2進行各次維護之間間隔的時間。由於該魯氏真空泵3在較低壓力下運行,因此此等應力不太重要。
特定而言,低壓縮比率使得能夠減小施加在軸上的彎曲應力。這使承載該轉子10的軸之間的中心到中心距離可以被降低,這有助於降低該粗真空泵2之尺寸。由於需要較少材料,較小的粗真空泵2有助於降低成本,且表面處理(諸如鍍鎳)之成本、運輸之成本(特別是空運)也可被降低。
這還提供高啟動扭矩,以重新啟動該已停止的粗真空泵2(特別是在泵送易於沉積在該粗真空泵2的移動部件上的物質時)。
該粗真空泵2中的低壓縮比率亦使得較低功率之馬達M1可以被使用。
降低由該粗真空泵2之低壓縮比率所造成之熱與機械應力亦有助於增強該粗真空泵2之可靠性。這使得可以增加旋轉頻率,例如使得該粗真空泵2能夠吸收較高的氣流或降低泵送級的維度(dimensions),並從而降低該粗真空泵2的尺寸。
此外,以此種方式將泵單元1之級分級,使得較容易試調整兩真空泵2與3之頻率以節省消耗能源。當然,該粗真空泵2之該旋轉頻率可被降低更多以節省能源,而在最終真空壓力下不會有任何降低泵送效能之風險,此舉是透過三級的魯氏真空泵3之高壓縮比率所保證。
該粗真空泵2之馬達M1可因此被設計成可變的(Variable),以產生高旋轉頻率(例如,大於100Hz)及/或低旋轉頻率(例如,小於50Hz),以及產生在該高旋轉頻率與該低旋轉頻率之間的標稱旋轉頻率,上述該產生的流率與比率是針對標稱旋轉速度所定義。
因此,該粗真空泵2可在廣範圍之旋轉頻率上運行,首先,可在高旋轉頻率下吸收大量氣體流量,接著可在低旋轉頻率下降低針對零或可忽略流量之電力消耗。
此外,低壓縮比率可使粗真空泵2之泵送級T1、T2、T3的定子6之至少部分可由兩個半殼體6b與6c構
成,該半殼體組裝在穿過軸的軸線之組裝表面S上(有關實例請見圖2)。該粗真空泵之全部泵送級的定子6是由例如兩個半殼體所構成。根據另一實例,只有最終兩個或三個泵送級T2、T3之定子是由兩個半殼體6b與6c所構成。
此種泵較快於組裝,且降低了定子之不同元件錯位之風險。降低該粗真空泵2之組裝時間有助於降低成本。
圖3示出泵單元1之第二實例。
本實例與先前實例差異之處在於在本情況下,魯氏真空泵3被配置在粗真空泵2下方。
由於魯氏真空泵3產生的容積較大,且在適用情況下,粗真空泵2之中心到中心距離較小,魯氏真空泵3之三個泵送級B1-B3比粗真空泵2者更大,因此該魯氏真空泵3變成泵單元1中最大容積且最重的組件。
將該魯氏真空泵3空間上配置在該粗真空泵2下方會降低該泵單元1之重心,這會顯著有助於增強其穩定性。
圖4示出泵單元1之另一實施例。
在本實例中,泵單元1具備旁通導管13,該旁通導管將魯氏真空泵3之排出側12連通到粗真空泵2之排出側5。該旁通導管13適配有閥裝置14,該閥裝置被設計成在該魯氏真空泵3之吸入側11的壓力大於壓力臨界值時會開啟。
該壓力臨界值例如在400mbar與600mbar之
間,例如為500mbar。
該閥裝置14舉例而言是止回閥。該止回閥使得粗真空泵2可以在止回閥之校準臨界值時自動旁通。該校準臨界值被設定使得成當該魯氏真空泵3之吸入側11的壓力大於該壓力臨界值時,該止回閥開啟。
根據另一實例,該閥裝置14是可控制閥,例如使用代表泵送氣體的高壓之資料,諸如來自壓力感測器之訊號。
因此,當泵送高壓氣體(例如超過500mbar之壓力)時,旁通導管13提供了來自該粗真空泵2之旁通路徑。由於存在該魯氏真空泵3上第三泵送級B3,這是可行的。第三與最後一個低流量泵送級B3使魯氏真空泵3可以運行更長時間而不會故障,其不會有粗泵送。透過旁通該高壓粗泵送,此種泵單元1有助於增加該高壓泵送速度,以及降低電力消耗與降低將壓力下降所需之時間。
本實施例特別適用於基板負載鎖定之周期性泵送。以已知的方式中,加載鎖在大氣壓下打開以加載至少一個基板,並且在抽真空之後將該基板卸載到處理室中。每次加載基板時,鎖內的壓力需要降低再上升。加載鎖尤其用於平板顯示器或光伏基板之製造中,或用於半導體基板之製造中。
1:泵單元
2:粗真空泵
3:魯氏真空泵
5:排出側
8:框架
8a:腳
8b:腳輪
9:消音器
11:吸入側
12:排出側
B1:泵送級
B2:泵送級
B3:泵送級
T1:泵送級
T2:泵送級
T3:泵送級
M1:馬達
M2:馬達
G:流動方向
Claims (12)
- 一種泵單元(1),其包含粗真空泵(2)與魯氏真空泵(3),該魯氏真空泵(3)在被泵送的氣體之流動方向(G)上與該粗真空泵(2)串聯並且在該粗真空泵(2)上游,其特徵在於:-該魯氏真空泵(3)具有三個泵送級(B1-B3),其中轉子(10)被設計成由該魯氏真空泵(3)之馬達(M2)同時驅動旋轉,以及-由該粗真空泵(2)的第一泵送級(T1)在該泵送氣體的流動方向(G)上所產生之流率與由該粗真空泵(2)的最後一個泵送級(T3)所產生之流率之比率小於或等於四。
- 如請求項1所述之泵單元(1),其中該比率小於或等於三。
- 如請求項1或2所述之泵單元(1),其中該粗真空泵(2)具有三到五個泵送級,其中該轉子(10)被設計成由該粗真空泵(2)之馬達(M1)同時驅動旋轉。
- 如請求項1或2所述之泵單元(1),其中由該粗真空泵(2)之該第一泵送級(T1)所產生之流率是小於或等於500m3/h。
- 如請求項1或2所述之泵單元(1),其中由該魯氏真空泵(3)之第一泵送級(B1)所產生之流率是由該粗真空泵(2)之該第一泵送級(T1)所產生之流率十倍大,或二十倍大。
- 如請求項1或2所述之泵單元(1),其中由 該粗真空泵(2)之該第一泵送級(T1)所產生之流率是在248m3/h與298m3/h之間,由該粗真空泵(2)之第二泵送級(T2)所產生之流率是在124m3/h與149m3/h之間,以及由該粗真空泵(2)之第三泵送級(T3)所產生之流率是在124m3/h與149m3/h之間。
- 如請求項1或2所述之泵單元(1),其中該泵單元(1)包括框架(8),該框架(8)承載該魯氏真空泵(3)與該粗真空泵(2)在彼此上方,該粗真空泵(2)被配置在該魯氏真空泵(3)上方。
- 如請求項1或2所述之泵單元(1),其中該泵單元(1)包括框架(8),該框架(8)承載該魯氏真空泵(3)與該粗真空泵(2)一者在另一者上方,該魯氏真空泵(3)被配置在該粗真空泵(2)上方。
- 如請求項1或2所述之泵單元(1),其中該粗真空泵(2)之馬達(M1)被設計成可變的,以產生高旋轉頻率及/或低旋轉頻率,以及產生在該高旋轉頻率與該低旋轉頻率之間的標稱旋轉頻率。
- 如請求項9所述之泵單元(1),其中該高旋轉頻率大於100Hz且該低旋轉頻率小於50Hz。
- 如請求項1或2所述之泵單元(1),其中該泵單元(1)具有將該魯氏真空泵(3)之排出側(12)與該粗真空泵(2)之排出側(5)連通之旁通導管(13),該旁通導管(13)適配有閥裝置(14),該閥裝置(14)被設計成在該魯氏真空泵(3)之吸入側(11)的壓力大於壓力臨界值時會開啟。
- 如請求項1或2所述之泵單元(1),其中該粗真空泵(2)之該泵送級(T1、T2、T3)的定子(6)至少由兩個半殼體(6b、6c)構成,該半殼體(6b、6c)組裝在穿過承載該轉子(10)的軸的軸線之組裝表面(S)上。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1908088 | 2019-07-17 | ||
FR1908088A FR3098869B1 (fr) | 2019-07-17 | 2019-07-17 | Groupe de pompage |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202120792A TW202120792A (zh) | 2021-06-01 |
TWI850382B true TWI850382B (zh) | 2024-08-01 |
Family
ID=
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018010970A1 (fr) | 2016-07-13 | 2018-01-18 | Pfeiffer Vacuum | Procédé de descente en pression dans un sas de chargement et de déchargement et groupe de pompage associé |
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018010970A1 (fr) | 2016-07-13 | 2018-01-18 | Pfeiffer Vacuum | Procédé de descente en pression dans un sas de chargement et de déchargement et groupe de pompage associé |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8702407B2 (en) | Multistage roots vacuum pump having different tip radius and meshing clearance from inlet stage to exhaust stage | |
EP2553267B1 (en) | Vacuum pumping system | |
CA2563248A1 (en) | Pumping arrangement | |
KR102561996B1 (ko) | 펌핑 유닛 및 용도 | |
TWI753219B (zh) | 乾式真空泵及用於控制真空泵的同步馬達之方法 | |
JP2011226368A (ja) | 排気ユニット、及びドライ真空ポンプ装置 | |
US7156922B2 (en) | Multi-chamber installation for treating objects under vacuum, method for evacuating said installation and evacuation system therefor | |
JP4718302B2 (ja) | 真空排気装置 | |
TWI850382B (zh) | 泵單元 | |
US7537440B2 (en) | Scroll compressor with multiple isolated inlet ports | |
US11815096B2 (en) | Pump unit | |
JP2007518010A (ja) | 真空ポンプ | |
JP7396561B2 (ja) | ドライ真空ポンプおよびポンプ設備 | |
CN110770444B (zh) | 多级旋转活塞泵 | |
EP0674106A1 (en) | A multistage vacuum pump | |
EP2742241B1 (en) | Scroll pump | |
KR102229080B1 (ko) | 로드 록 챔버 내의 압력을 낮추기 위한 펌핑 시스템 및 방법 | |
CN115066557A (zh) | 具有弯曲转子和定子叶片的轴流式真空泵 | |
JP2001090690A (ja) | 真空ポンプ | |
JP5393577B2 (ja) | ドライ真空ポンプ装置、及び排気ユニット | |
EP4239197A1 (en) | Vacuum pump | |
CN118462578A (zh) | 真空泵 | |
KR20170049236A (ko) | 드라이진공펌프장치 | |
JP2011226367A (ja) | ドライ真空ポンプ装置 |