TWI818205B - 可供設置氣隙裝置的水龍頭 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種可供設置氣隙裝置的水龍頭，包括一基座、一主體及一控制閥，其中該基座的內部形成一容室，據此設置一氣隙裝置於該容室，該主體設於該基座的頂緣，該控制閥設於該主體的內部；該基座及該主體之間形成一狹隙，該狹隙連通該容室，據使空氣通過該狹隙進入或離開該容室，水龍頭的整體外觀沒有在視覺上引人注意的通風口，而可保持外觀的整體性。

Description

可供設置氣隙裝置的水龍頭

本發明係涉及一種飲水設備的組件；特別是指一種可供設置氣隙裝置的水龍頭之創新結構型態揭示者。

逆滲透水處理設備處理水的過程中，將產生廢水，廢水利用排水管路排出，氣隙裝置被設置在廢水的排水管路上游的水管，防止廢水由於虹吸現象由排水管路進入水系統。

US7011106專利文獻，公開一種具有氣隙裝置的水龍頭，包括一主體、一閥及一氣隙裝置，其中該主體定義一入口、一出口、一閥室位於該入口及該出口之間、一氣隙室在該主體的第一端形成開口，其中一通風口通過該主體的壁進入該氣隙室，該閥位於該閥室，用於控制液體由該入口流向該出口；該氣隙裝置包括一座體及一氣隙結構，該座體及該氣隙結構位於該氣隙室的內部。

查，前述習知技術於實際應用經驗中發現仍舊存在下述問題與缺弊：該通風口貫穿位於該主體一側的該壁，該氣隙室未設置該氣隙裝置時，利用可移動的蓋設置於該主體，用於阻塞該通風口，無論是否在該主體設置該蓋，該通風口或該蓋均破壞了水龍頭的外觀整體性。

是以，針對上述習知技術所存在之問題點，如何研發出一種能夠更具理想實用性之創新構造，實有待相關業界再加以思索突破之目標及方向者；有鑑於此，發明人本於多年從事相關產品之製造開發與設計經驗，針對上述之目標，詳加設計與審慎評估後，終得一確具實用性之本發明。

本發明之主要目的，係在提供一種可供設置氣隙裝置的水龍頭，其所欲解決之技術問題，係針對如何研發出一種更具理想實用性之新式水龍頭為目標加以思索創新突破。

基於前述目的，本發明解決問題之技術特點，主要在於該可供設置氣隙裝置的水龍頭，係包括：

一基座，該基座的內部形成一容室，據此設置一氣隙裝置於該容室，該容室延伸於該基座的底端；

一主體，該主體設於該基座的頂緣，該主體的內部形成一閥室、一第一通道及一第二通道，該第一通道連通該閥室及該容室，該第二通道連通該閥室及該主體的外部，據使一入水管連通該第一通道，一出水管連通該第二通道，俾供水通過該入水管進入該閥室並通過該出水管流出；

一控制閥，該控制閥設於該閥室，據此控制水由該第一通道向該第二通道的流動；以及

一支持塊，其中該支持塊設於該基座及該主體之間，據使該基座及該主體之間形成一狹隙，該狹隙藉由至少一連通道連通該容室，且該狹隙連通水龍頭外部的空間，據使空氣通過該狹隙進入或離開該容室。

本發明之主要效果與優點在於，該基座及該主體之間形成該狹隙，空氣可通過該狹隙進入或離開該容室，水龍頭的整體外觀沒有在視覺上引人注意的通風口，而可保持外觀的整體性。

圖式係例示本發明可供設置氣隙裝置的水龍頭之數個實施例，惟此等實施例僅供說明之用，在專利申請上並不受此結構之限制。

如圖1至圖6所示，所述可供設置氣隙裝置的水龍頭之實施例一，包括一基座10、一主體20、一控制閥30及數個支持塊71，其中該基座10的內部形成一容室11，據此設置一氣隙裝置40於該容室11，該容室11延伸於該基座10的底端，該主體20設於該基座10的頂緣，該主體20的內部形成一閥室21、一第一通道22及一第二通道23，該第一通道22連通該閥室21及該容室11，該第二通道23連通該閥室21及該主體20的外部，據使一入水管50連通該第一通道22，一出水管60連通該第二通道23，俾供水通過該入水管50進入該閥室21並通過該出水管60流出，該控制閥30設於該閥室21，據此控制水由該第一通道22向該第二通道23的流動，該控制閥30係相關領域人士熟習的既有技術，恕不詳述該控制閥30的具體構成。

各該支持塊71設於該基座10及該主體20之間，據使該基座10及該主體20形成上下分離，從而使得該基座10及該主體20之間形成一狹隙73，該狹隙73連通水龍頭01外部的空間；進一步而言，各該支持塊71係選擇配置於該基座10的頂端，數個連通道72分別形成於各該支持塊71之間，各該連通道72分別連通該容室11及該狹隙73，該主體20的底端形成一第一表面24，該主體20形成一凹槽25，該凹槽25係由該第一表面24向上延伸於該主體20的內部，且該凹槽25連通該容室11，該主體20於該凹槽25遠離該第一表面24的一端形成一抵靠面26，各該支持塊71分別進入該凹槽25並抵靠該抵靠面26，據使該支持塊71支持該主體20，該主體20於該凹槽25的周側形成一側槽壁27，各該支持塊71分別與該側槽壁27側向相對。

該支持塊71的底端及頂端之間在高度方向上的距離定義為第一高度H1，該第一表面24與該抵靠面26之間在高度方向上的距離定義為第二高度H2，該第一高度H1大於該第二高度H2，據使該第一表面24及該基座10的頂端之間形成該狹隙73，該狹隙73藉由該連通道72連通該容室11，俾供空氣通過該連通道72及該狹隙73進入或離開該容室11；該第一高度H1及該第二高度H2的差值係0.05 mm～2 mm為較佳的實施選擇，該第一高度H1及該第二高度H2的差值可視需要增減變化，本例中，該第一高度H1及該第二高度H2的差值為0.2 mm。

如圖3至圖5所示，實施例一可設置於一平台80，並將該氣隙裝置40設置於該容室11，空氣可以通過該連通道72及該狹隙73離開該容室11流向該基座10及該主體20的外部（如圖5繪示箭矢符號的指示方向），外部環境的空氣可以通過該狹隙73及該連通道72流入該容室11，該狹隙73係在側向上具有若干寬度的空間，該狹隙73在高度方向上的尺寸得以微小化，也不會影響空氣的流動，實施例一的整體外觀沒有在視覺上容易引人注意的通風口，而可保持外觀的整體性。

如圖6所示，實施例一未設置該氣隙裝置40時，由於該狹隙73在高度方向上的尺寸微小，不需要另行外加物件遮蔽或阻塞該狹隙73。

各該支持塊71係選擇呈環狀配置於該基座10，各該連通道72分別形成於相鄰的各該支持塊71之間，該抵靠面26及該側槽壁27分別配合形成環狀，配合環狀配置的各該支持塊71，該狹隙73係呈環狀；據此，由於該狹隙73呈環狀，就實施例一而言，該狹隙73恰可在該基座10及該主體20之間，形成環形鄰接分界之外觀視覺效果。

該基座10的頂端具有一環狀的第二表面12，該第二表面12與該支持塊71的底端及該基座10的外側面13鄰接，該第二表面12與該第一表面24相對，該狹隙73形成於該第一表面24及該第二表面12之間。

如圖7及圖8所示，實施例二主要不同於實施例一之構成在於該基座10的頂端配置一個該支持塊71，且該支持塊71概呈圓弧狀，一個該連通道72形成於該支持塊71的圓弧狀的兩端之間。

如圖9及圖10所示，實施例三主要不同於實施例一之構成在於一環形件74環套各該支持塊71，該環形件74係具有彈性的材料構成，該環形件74的環形外周抵靠該側槽壁27，據此提高該主體20側向定位的可靠度。

該支持塊71與該側槽壁27之間可以在該主體20的徑向上形成若干距離，該主體20設置於該基座10時，利用具有彈性的該環形件74的設置，該支持塊71、該環形件74及該側槽壁27依序形成鄰接關係，該主體20相對於該基座10在側向上的定位可靠度得以提高，該主體20設置於該基座10的穩固性亦可由於該環形件74的彈性而獲得提高，就另一方面而言，該支持塊71及該凹槽25在側向上相對配合的尺寸公差的要求可獲得降低，有利降低該支持塊71及該凹槽25在製作精確度的要求，使得該支持塊71及該凹槽25的成型製作困難度降低而易於進行。

進一步而言，各該支持塊71面向該側槽壁27的方向側分別凹陷一嵌槽75，該環形件74嵌設於該嵌槽75，據此定位該環形件74。

該支持塊71的數量及具體形狀可視需要變化，據此構成如圖11所示的實施例四。

如圖12、13所示，實施例五主要不同於實施例一之構成在於，該基座10的頂端配置一個該支持塊71，該支持塊71係呈環狀，數個連通道72分別形成於該支持塊71面向該抵靠面26的一端，各該連通道72分別連通該容室11及該狹隙73。

該支持塊71面向該側槽壁27的方向側凹陷形成數個氣道76，各該氣道76的兩端分別延伸於該支持塊71的頂緣及底緣，且各該氣道76分別連通各該連通道72及該狹隙73。

如圖14所示，實施例五可視需要如同實施例三設置該環形件74，該支持塊71選擇設置該環形件74時，該氣道76通過該環形件74面向該容室11的環形內側，空氣可以通過該連通道72、該氣道76及該狹隙73離開該容室11流向該基座10及該主體20的外部，外部環境的空氣亦可以通過該狹隙73、該氣道76及該連通道72流入該容室11。

如圖15所示，實施例六主要不同於實施例一之構成在於該支持塊71係選擇配置於該主體20的底端，該基座10的頂端形成該第二表面12，該基座10形成一凹槽14，該凹槽14係由該第二表面12向下延伸於該基座10的內部，且該凹槽14連通該容室11，該基座10於該凹槽14遠離該第二表面12的一端形成一抵靠面15，該支持塊71進入該凹槽14並抵靠該抵靠面15，該基座10於該凹槽14的周側形成一側槽壁16，該支持塊71與該側槽壁16側向相對。

該支持塊71的頂端及底端之間在高度方向上的距離定義為第三高度H3，該第二表面12與該抵靠面15之間在高度方向上的距離定義為第四高度H4，該第三高度H3大於該第四高度H4，據使該第二表面12及該主體20的底端之間形成該狹隙73。

該第三高度H3及該第四高度H4的差值係0.05 mm～2 mm，本例中，該第三高度H3及該第四高度H4的差值為0.2 mm。

實施例六亦可變換為該主體20配置一個該支持塊71，據此構成另一變換實施例，且該支持塊71係呈環狀，並配合環狀的該支持塊71形成連通道（圖中未示）及氣道（圖中未示），所述環狀的該支持塊71、該連通道及該氣道乃基於實施例五揭示之該支持塊71、該連通道72及該氣道76的應用，此等應用係相關領域人士基於實施例五及實施例六所能輕易想見者。

4:部份放大顯示於圖4 01:水龍頭 10:基座 11:容室 12:第二表面 13:外側面 14:凹槽 15:抵靠面 16:側槽壁 20:主體 21:閥室 22:第一通道 23:第二通道 24:第一表面 25:凹槽 26:抵靠面 27:側槽壁 30:控制閥 40:氣隙裝置 50:入水管 60:出水管 71:支持塊 72:連通道 73:狹隙 74:環形件 75:嵌槽 76:氣道 80:平台 H1:第一高度 H2:第二高度 H3:第三高度 H4:第四高度

圖1係本發明實施例一之立體圖。 圖2係設有氣隙裝置之本發明實施例一的立體分解示意圖。 圖3係本發明實施例一之剖視示意圖，顯示設置氣隙裝置的使用狀態。 圖4係圖3的部份放大圖，顯示基座及主體鄰接部份。 圖5係圖4所示構成的空氣流動狀態示意圖。 圖6係本發明實施例一之剖視示意圖，顯示未設置氣隙裝置的使用狀態。 圖7係設有氣隙裝置之本發明實施例二的立體分解示意圖。 圖8係本發明實施例二之部份放大剖視圖，顯示基座及主體鄰接部份。 圖9係本發明實施例三之基座的立體圖。 圖10係本發明實施例三之部份放大剖視圖，顯示基座及主體鄰接部份。 圖11係本發明實施例四之基座的立體圖。 圖12係本發明實施例五之基座的立體圖。 圖13係本發明實施例五之基座的俯視圖。 圖14係本發明實施例五之部份放大剖視圖，顯示基座及主體鄰接部份。 圖15係本發明實施例六之部份放大剖視圖，顯示基座及主體鄰接部份。

01:水龍頭

10:基座

11:容室

12:第二表面

13:外側面

20:主體

40:氣隙裝置

60:出水管

71:支持塊

72:連通道

Claims (12)

1. 一種可供設置氣隙裝置的水龍頭，包括：一基座，該基座的內部形成一容室，據此設置一氣隙裝置於該容室，該容室延伸於該基座的底端；一主體，該主體設於該基座的頂緣，該主體的內部形成一閥室、一第一通道及一第二通道，該第一通道連通該閥室及該容室，該第二通道連通該閥室及該主體的外部，據使一入水管連通該第一通道，一出水管連通該第二通道，俾供水通過該入水管進入該閥室並通過該出水管流出；一控制閥，該控制閥設於該閥室，據此控制水由該第一通道向該第二通道的流動；以及一環狀的支持塊，其中該支持塊設於該基座及該主體之間，數個連通道分別形成於該支持塊的一端，該基座及該主體之間形成一狹隙，該狹隙藉由各該連通道連通該容室，且該狹隙連通水龍頭外部的空間，據使空氣通過該狹隙進入或離開該容室。
2. 如請求項1所述之可供設置氣隙裝置的水龍頭，其中該支持塊配置於該基座的頂端，該主體的底端形成一第一表面，該主體形成一凹槽，該凹槽係由該第一表面向上延伸於該主體的內部，且該凹槽連通該容室，該主體於該凹槽遠離該第一表面的一端形成一抵靠面，該支持塊進入該凹槽並抵靠該抵靠面，據使該支持塊支持該主體，各該連通道分別形成於該支持塊面向該抵靠面的一端，該主體於該凹槽的周側形成一側槽壁，該支持塊與該側槽壁側向相對； 該支持塊的底端及頂端之間在高度方向上的距離定義為第一高度，該第一表面與該抵靠面之間在高度方向上的距離定義為第二高度，該第一高度大於該第二高度，據使該第一表面及該基座的頂端之間形成該狹隙。
3. 如請求項1所述之可供設置氣隙裝置的水龍頭，其中該支持塊配置於該主體的底端，該基座的頂端形成一第二表面，該基座形成一凹槽，該凹槽係由該第二表面向下延伸於該基座的內部，且該凹槽連通該容室，該基座於該凹槽遠離該第二表面的一端形成一抵靠面，該支持塊進入該凹槽並抵靠該抵靠面，各該連通道分別形成於該支持塊面向該抵靠面的一端，該基座於該凹槽的周側形成一側槽壁，該支持塊與該側槽壁側向相對；該支持塊的頂端及底端之間在高度方向上的距離定義為第三高度，該第二表面與該抵靠面之間在高度方向上的距離定義為第四高度，該第三高度大於該第四高度，據使該第二表面及該主體的底端之間形成該狹隙。
4. 如請求項2或3所述之可供設置氣隙裝置的水龍頭，其中一環形件環套該支持塊，該環形件係具有彈性的材料構成，該環形件抵靠該側槽壁，據此提高該主體側向定位的可靠度；該支持塊面向該側槽壁的方向側凹陷一嵌槽，該環形件嵌設於該嵌槽，據此定位該環形件。
5. 如請求項4所述之可供設置氣隙裝置的水龍頭，其中該支持塊面向 該側槽壁的方向側凹陷形成數個氣道，各該氣道分別連通各該連通道及該狹隙。
6. 一種可供設置氣隙裝置的水龍頭，包括：一基座，該基座的內部形成一容室，據此設置一氣隙裝置於該容室，該容室延伸於該基座的底端；一主體，該主體設於該基座的頂緣，該主體的內部形成一閥室、一第一通道及一第二通道，該第一通道連通該閥室及該容室，該第二通道連通該閥室及該主體的外部，據使一入水管連通該第一通道，一出水管連通該第二通道，俾供水通過該入水管進入該閥室並通過該出水管流出；一控制閥，該控制閥設於該閥室，據此控制水由該第一通道向該第二通道的流動；以及一圓弧狀的支持塊，其中該支持塊設於該基座及該主體之間，據使該基座及該主體之間形成一狹隙，一連通道形成於該支持塊的圓弧狀的兩端之間，該狹隙藉由該連通道連通該容室，且該狹隙連通水龍頭外部的空間，據使空氣通過該狹隙進入或離開該容室。
7. 如請求項6所述之可供設置氣隙裝置的水龍頭，其中該支持塊配置於該基座的頂端，該主體的底端形成一第一表面，該主體形成一凹槽，該凹槽係由該第一表面向上延伸於該主體的內部，且該凹槽連通該容室，該主體於該凹槽遠離該第一表面的一端形成一抵靠面，該支持塊進入該凹槽並抵靠該抵靠面，據使該支持塊支持該主體，該主體於該凹槽的周側形成一側槽壁，該支持塊與該側槽壁側向相 對；該支持塊的底端及頂端之間在高度方向上的距離定義為第一高度，該第一表面與該抵靠面之間在高度方向上的距離定義為第二高度，該第一高度大於該第二高度，據使該第一表面及該基座的頂端之間形成該狹隙。
8. 如請求項6所述之可供設置氣隙裝置的水龍頭，其中該支持塊配置於該主體的底端，該基座的頂端形成一第二表面，該基座形成一凹槽，該凹槽係由該第二表面向下延伸於該基座的內部，且該凹槽連通該容室，該基座於該凹槽遠離該第二表面的一端形成一抵靠面，該支持塊進入該凹槽並抵靠該抵靠面，該基座於該凹槽的周側形成一側槽壁，該支持塊與該側槽壁側向相對；該支持塊的頂端及底端之間在高度方向上的距離定義為第三高度，該第二表面與該抵靠面之間在高度方向上的距離定義為第四高度，該第三高度大於該第四高度，據使該第二表面及該主體的底端之間形成該狹隙。
9. 一種可供設置氣隙裝置的水龍頭，包括：一基座，該基座的內部形成一容室，據此設置一氣隙裝置於該容室，該容室延伸於該基座的底端；一主體，該主體設於該基座的頂緣，該主體的內部形成一閥室、一第一通道及一第二通道，該第一通道連通該閥室及該容室，該第二通道連通該閥室及該主體的外部，據使一入水管連通該第一通道，一出水管連通該第二通道，俾供水通過該入水管進入該閥室並通過 該出水管流出；一控制閥，該控制閥設於該閥室，據此控制水由該第一通道向該第二通道的流動；以及數個支持塊間隔配置在該基座及該主體之間，據使該基座及該主體之間形成一狹隙，各該支持塊係呈環狀配置，數個連通道分別形成於各該支持塊之間，各該連通道分別連通該容室及該狹隙，且該狹隙連通水龍頭外部的空間，據使空氣通過該狹隙進入或離開該容室 。
10. 如請求項9所述之可供設置氣隙裝置的水龍頭，其中該支持塊配置於該基座的頂端，該主體的底端形成一第一表面，該主體形成一凹槽，該凹槽係由該第一表面向上延伸於該主體的內部，且該凹槽連通該容室，該主體於該凹槽遠離該第一表面的一端形成一抵靠面，該支持塊進入該凹槽並抵靠該抵靠面，據使該支持塊支持該主體，該主體於該凹槽的周側形成一側槽壁，該支持塊與該側槽壁側向相對；該支持塊的底端及頂端之間在高度方向上的距離定義為第一高度，該第一表面與該抵靠面之間在高度方向上的距離定義為第二高度，該第一高度大於該第二高度，據使該第一表面及該基座的頂端之間形成該狹隙。
11. 如請求項9所述之可供設置氣隙裝置的水龍頭，其中該支持塊配置於該主體的底端，該基座的頂端形成一第二表面，該基座形成一凹槽，該凹槽係由該第二表面向下延伸於該基座的內部，且該凹槽連 通該容室，該基座於該凹槽遠離該第二表面的一端形成一抵靠面，該支持塊進入該凹槽並抵靠該抵靠面，該基座於該凹槽的周側形成一側槽壁，該支持塊與該側槽壁側向相對；該支持塊的頂端及底端之間在高度方向上的距離定義為第三高度，該第二表面與該抵靠面之間在高度方向上的距離定義為第四高度，該第三高度大於該第四高度，據使該第二表面及該主體的底端之間形成該狹隙。
12. 如請求項10或11所述之可供設置氣隙裝置的水龍頭，其中一環形件環套各該支持塊，該環形件係具有彈性的材料構成，該環形件抵靠該側槽壁，據此提高該主體側向定位的可靠度；各該支持塊面向該側槽壁的方向側分別凹陷一嵌槽，該環形件嵌設於該嵌槽，據此定位該環形件。

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