TWI807547B - 固液分離裝置以及固液分離系統 - Google Patents

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Abstract

固液分離裝置，係從分散有固體粒子的流體使固體粒子分離；其具備：流路部，係形成有導入流體之直線狀的流路；以及作為二次流動產生機構之超音波振動件，係使於流路的上游側流通的流體產生往橫剖面方向的二次流動。流路，係具有藉由流路寬度及對於該流路寬度垂直的流路高度所界定之矩形的橫剖面。於流路之至少比二次流動產生機構更靠下游側的橫剖面，以流路寬度與流路高度之比所表現的縱橫比，係落在10至100的範圍。

Description

固液分離裝置以及固液分離系統
本揭示，係關於固液分離裝置以及使用該固液分離裝置的固液分離系統。
以往，在工業及醫學等各種領域中，對於製造或分析處理等，係使用將分散於流體中的固體粒子以所要求的條件分離的技術。專利文獻1係揭示有關於一種固液分離裝置的技術，該固液分離裝置係使用設於上游側的排列用流路及設於下游側的分離用流路之2種流路分離微粒子。排列用流路，係藉由慣性力，使流體中微粒子排列。另一方面，分離用流路，係接收來自排列用流路之排列有微粒子之流體，並藉由以多個支柱界定的軌道，最終按所要求的各個粒徑將微粒子分離。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2018-89557號公報
[發明所欲解決之問題]
揭示於專利文獻1之固液分離裝置，係於分離用流路具有多個支柱所形成之複雑的幾何形狀。另一方面，排列用流路的橫剖面形狀，係不同於分離用流路的橫剖面形狀，而是自使微粒子排列之觀點進行各種設定。因此，作為設於固液分離裝置之流路整體不具備簡易的形狀或構成。
因此，本揭示之目的係在於提供一種固液分離裝置以及固液分離系統，其能夠藉由簡易的形狀或構成而有利於分離效率的提升。 [解決問題之技術手段]
本揭示之一形態，係：一種固液分離裝置，係從分散有固體粒子的流體使固體粒子分離；其具備：流路部，係形成有導入流體之直線狀的流路；以及二次流動產生機構，係使於流路的上游側流通的流體產生往橫剖面方向的二次流動，流路，係具有藉由流路寬度及對於該流路寬度垂直的流路高度所界定之矩形的橫剖面，於流路之至少比二次流動產生機構更靠下游側的橫剖面，以流路寬度與流路高度之比所表現的縱橫比，係落在10至100的範圍。
前述之固液分離裝置，係較佳為：在固體粒子之粒徑為1μm至1mm的範圍之情形，流路高度係設定為作為分離對象之固體粒子的粒徑的10倍以上且100倍以下的尺寸。亦可為：流路之比二次流動產生機構更下游側的延伸方向的長度，係設定為流路寬度的100倍以上且10000倍以下的尺寸。並且，亦可為：二次流動產生機構，係設置於流路部，並從流路的長邊側的側壁朝向流路的內部發射超音波的超音波振動件。或者，亦可為：二次流動產生機構，係形成於流路部，並隨著往流路的延伸方向逐漸使至少一部分的橫剖面的形狀變化的流路形狀變更部。
本揭示之其他形態之固液分離系統，係具備：固液分離裝置，係從分散有固體粒子的流體使固體粒子分離；儲留槽，係儲留流體；送液部，係從儲留槽對於固液分離裝置輸送流體；以及控制部，係至少控制送液部的動作，藉此調整流體之至少流量或速度，固液分離裝置，係具有：流路部，係形成有導入流體之直線狀的流路；以及二次流動產生機構，係使於流路的上游側流通的流體產生往橫剖面方向的二次流動，流路，係具有藉由流路寬度及對於該流路寬度垂直的流路高度所界定之矩形的橫剖面，於流路之至少比二次流動產生機構更靠下游側的橫剖面，以流路寬度與流路高度之比所表現的縱橫比，係落在10至100的範圍。
前述固液分離系統，亦可為：分散於流體的固體粒子，係承受二次流動所誘發的阻力，以及流體的主流所誘發的升力，升力係以作為分離對象的固體粒子的粒徑為基準進行求取。亦可為：流路高度，係根據以作為分離對象的固體粒子的粒徑為基準所求取的升力進行決定。亦可為：阻力係以在流體的邊界層的內部的橫剖面方向與升力相當的方式決定。並且，亦可為：二次流動產生機構，係設置於流路部，並從流路的長邊側的側壁朝向流路的內部發射超音波的超音波振動件，固液分離系統，係具備對於超音波振動件供給電力的超音波振盪器，控制部，係使超音波振動件對於超音波振盪器變更頻率或音壓而使二次流動的速度變化，藉此調整阻力。 [發明之效果]
依據本揭示，係能夠提供一種固液分離裝置以及固液分離系統，其能夠藉由簡易的形狀或構成而有利於分離效率的提升。
以下，針對數個例示性的實施形態，參照圖式進行說明。在此，實施形態所示之尺寸、材料、其他具體數值等僅係例示，除了特別斷定的情形，並非限定本揭示。又，對於具有實質上相同的功能及構成之元件，係賦予相同的符號而藉此省略重複說明，與本揭示無直接關係之要素係省略圖示。
(固液分離裝置) 圖1，係表示第1實施形態之固液分離裝置1的構成的示意圖。固液分離裝置1，係從分散有固體粒子p的流體使固體粒子p分離。所謂分散有固體粒子p的流體，以一般性的意義而言，係包含多個固體粒子p的液體(粒子分散液)。於本實施形態，所謂固液分離，係以於流體事先分散有各種粒徑D p(粒子尺寸)的固體粒子p為前提，基本上，係指從其中分離特定粒徑D p的固體粒子p。並且，於本實施形態，作為固體粒子p，係設想粒徑D p微小之微粒子。具體而言，固液分離裝置1能夠作為分離對象之固體粒子p的粒徑D p，係1μm至1mm的範圍。
固液分離裝置1，係具備流路部2、二次流動產生機構。
流路部2，係具有導入並流通有流體之直線狀的流路7之本體部。於本實施形態，流路部2，係具有橫剖面為矩形的流路7之直線管。在此，所謂表現流路7的全體形狀之直線狀，係指流路7的延伸方向沿著作為其中一方向之圖中的X方向。然而，在此所謂直線狀，並非嚴密地限於一直線，而是能夠容許些許的彎曲。例如，在流通於流路7的流體不易受到流路形狀造成之二次流動所引發的阻力的影響之限度之下，有流路部2可為具有些許彎曲的管之情形。又，就橫剖面的形狀而言，在此之所謂矩形，並非幾何學上嚴謹解釋地形狀，而是能夠容許邊本身有些許彎曲，或是容許邊彼此的連續部分有些許彎曲部存在。
並且，此實施形態較佳為：於圖1中，對於流路7之流體的導入方向(IN)，以及自流路7之流體的排出方向(OUT)，以反白的箭號表記。流體所導入之側的流路部2的開口部，係連接至流體的供給機構。另一方面，流體所排出之側的流路部2的開口部，係至少連接至所分離的固體粒子p的接收機構。又，於圖1中，對於流體的供給機構及固體粒子p的接收機構係省略圖示。
流路部2係界定流路7的形狀之4個側壁，亦即第1側壁2a、第2側壁2b、第3側壁2c及第4側壁2d。流路部2，於本實施形態係直線管，該等側壁係各自為管壁。該等側壁當中，第1側壁2a與第2側壁2b，係彼此對向且相當於在橫剖面之各自的長邊側之側壁。另一方面，第3側壁2c與第4側壁2d，係彼此對向且相當於在橫剖面之各自的短邊側之側壁。若設流路7的延伸方向為沿著X方向，則由該等側壁界定的流路7的橫剖面係YZ剖面。在此情形，流路7之於橫剖面的長邊係沿著Y方向，以下係定義為流路寬度w。另一方面，流路7之於橫剖面的短邊係沿著Z方向，以下係定義為流路高度h。亦即，流路高度h，於橫剖面上係對於流路寬度w垂直。以下，係有分別將Y方向表記為流路寬度方向、將Z方向表記為流路高度方向之情形。
在此，於本實施形態，以流路寬度w與流路高度h之比表現之縱橫比A R(A R=w/h)，係落在10至100的範圍。又，在作為分離對象之固體粒子p之粒徑D p為從1μm至1mm的範圍之情形，流路高度h係設定為粒徑D p的10倍以上且100倍以下的尺寸。又，流路寬度w，係從縱橫比A R與流路高度h之具體的值導出。
二次流動產生機構，係使於流路7的上游側流通的流體產生往橫剖面方向的二次流動。於本實施形態，二次流動產生機構，係朝向流路7的內部發射超音波的超音波振動件3。在二次流動產生機構為超音波振動件3之情形，固液分離裝置1，係進一步具有：超音波振盪器(超音波放大器)4，係對於超音波振動件3供給電力；以及電纜5，係從超音波振盪器4對於超音波振動件3供給電力。另外，固液分離裝置1，係具備對於超音波振盪器4供給電力的電源纜線等。
超音波振動件3，係例如能夠設置於流路部2的外側面，並且，係能夠使MHz波段的超音波產生的平板型壓電元件。超音波振動件3，係設置在相當於流路7的橫剖面的長邊側的側壁之至少第2側壁2b的外側面且係流路7的上游側。在此，於本實施形態，作為一例，係於第2側壁2b的外側面設置有1個超音波振動件3。然而，例如，除了第2側壁2b的外側面以外，相同地在相當於流路7的橫剖面的長邊側的側壁之第1側壁2a的外側面設置另一個超音波振動件3亦可。並且，於其中一方之側壁，例如第2側壁2b的外側面，不僅設置1個超音波振動件3，而是設置複數個超音波振動件3亦可。並且，超音波振動件3，係在流路寬度方向設置於流路寬度w的中央區域為佳。
並且，將作為二次流動產生機構之超音波振動件3的設置位置，亦即於流體產生二次流動的位置為基準，界定流路7之延伸方向的長度當中比超音波振動件3更下游側的長度L。該長度L，係設定為流路寬度w的100倍以上且10000倍以下的尺寸。
接著，針對固液分離裝置1所進行之固液分離的原理進行說明。
圖2係用以說明固液分離裝置1所進行之固液分離的原理的概念圖。於圖2中，係顯示流路7當中比超音波振動件3更下游側的區域之流體的流動，以及分散於流體的固體粒子p的狀態。並且，於圖2中，流路7內之各方向係以附星號的3軸方向表示。特別是，就相當於流路寬度方向的y*方向以及相當於流路高度方向之z*方向的長度而言，並非表示具體的尺寸值而是比率。
首先，當超音波振盪器4對於超音波振動件3施加MHz波段的正弦波之電壓訊號，對於在流路7的上游側流通之流體，會往流路高度方向生成超音波之進行波。接著，將進行波之黏性衰減造成之音壓的空間梯度作為驅動力，而於流路7內的流體產生渦狀的聲速流。該聲速流係橫剖面方向的二次流動。藉由橫剖面方向的二次流動，分散於流體的固體粒子p，係承受二次流動所引發的阻力F D。藉此，在比超音波振動件3所設置之部分更下游側的流路7，藉由二次流動所引發的阻力F D，固體粒子p係逐漸地被往作為短邊側的側壁之第3側壁2c或第4側壁2d輸送。
另一方面，流路7的橫剖面，係事先設定為縱橫比A R落在10至100的範圍，故於直線狀的流路7流通之流體的主流會引發升力F L。藉此，分散於流體的固體粒子p會承受主流所引發之升力F L，而於流路7之作為短邊側的雙方的側壁之第3側壁2c及第4側壁2d的附近被捕捉(管狀捏縮效應(tubular pinch effect))。又，於圖2中，係例示在任意的橫剖面C1之邊界層的中央之速度分布。
亦即，於固液分離裝置1，流體中的固體粒子p，係藉由二次流動所引發的阻力F D被往第3側壁2c或第4側壁2d的方向輸送，並且，藉由主流所引發的升力F L於第3側壁2c或第4側壁2d的附近被捕捉。
以下，針對固液分離裝置1所進行之固液分離的原理之各自的驗證進行說明。
首先，就將橫剖面的縱橫比A R設定為如前述般之高縱橫比的情形之固體粒子p於流路7的行為而言，係能夠自以下的驗證得知。
作為驗證用的裝置，係設想形成於流路7的流路部2，而準備透明的壓克力製之矩形剖面的直線管。該直線管之流路，係滿足於流路部2之流路7的形狀條件，以下對於各部分附加相同的符號進行說明。然而，在此，因係針對仰賴於流路7的橫剖面形狀之固體粒子p的行為進行驗證，故未採用二次流動產生機構。
作為驗證時之各種設定條件，係如以下所述。作為分離對象之固體粒子p，係粒徑D p為10μm之中立懸浮粒子。使分散有大量該固體粒子p的流體，在流量固定為250mL/min且雷諾數Re為1500的狀態下，於驗證用的流路7內流通。關於驗證用的流路7，係將流路寬度w設定為5mm，將流路高度h設定為0.4mm，將流路7之從流體的入口往下游側的延伸方向的長度設定為1200mm。在此情形，縱橫比A R係12.5。流路高度h，係粒徑D p的40倍。並且，流路7之延伸方向的長度，若視為與前述界定之比二次流動產生機構更下游側的長度L為同等，則係流路寬度w的240倍。因此，該等尺寸值皆滿足在使用圖1的說明中所列出的各種條件。
根據前述之設定條件，在使分散有固體粒子p的流體流通於流路7內的期間，對於流路7照射光並測量亮度。
圖3，係表示以亮度值為基準的流路寬度方向之粒子濃度的圖表。圖3的橫軸係流路寬度方向的位置y，遵循圖2所示之y*方向的定義，將第3側壁2c的位置界定為0，並將第4側壁2d的位置界定為5mm。圖3之縱軸係亮度值。亮度值，係與粒子濃度成比例。作為一般的例子，x之各值係遵循圖2所示之x*方向的定義，表示流路7之從流體的入口往下游側的延伸方向的距離。
若參照圖3，可知隨著流路7流體從流體的入口(x=0)往下游側前進，第3側壁2c(y=0)的附近及第4側壁2d(y=5mm)附近的亮度值會上升，亦即粒子濃度會增大。此時，高濃度區域與低濃度區域的濃度比，係最大為3～4左右。並且，流體的邊界層厚度，係與流路高度h為同等。因此，推測於縱橫比A R落在10至100的範圍之矩形剖面的直線狀的流路7，會在第3側壁2c的附近及第4側壁2d的附近產生陡峭的速度梯度。並且，預測於流體的邊界層的內部，會對於固體粒子p作用有流路寬度方向的升力F L，而使固體粒子p集中於第3側壁2c的附近及第4側壁2d的附近。
並且，主流所引發的升力F L與二次流動所引發的阻力F D，係有以下般之關係性。
二次流動所引發的阻力F D的有效範圍，會因流體的粘性導致之衰減，從作為二次流動產生機構之超音波振動件3的位置往流路7的延伸方向有所限制。就該點而言，於本實施形態，阻力F D所引發的二次流動，係在與升力F L所引發的主流所流通的區域為相同橫剖面之直線狀的流路7的一部分產生。因此，對於固體粒子p，在作用有阻力F D的期間有利於使升力F L有效地作用。
圖4，係表示固體粒子p的粒徑D p與固體粒子p所承受的升力F L之關係的圖表。固體粒子p之流體中的位置，係如圖2所示般設定於邊界層的中央，且於流路7流通之流體的流量係固定為100mL/min。主流所引發的升力F L係如圖4所示，與粒徑D p的4次方成比例增加。另一方面，二次流動所引發的阻力F D，係關連於以下之圖6表示，與粒徑D p成比例增加。
圖5，係表示流路高度h與固體粒子p所承受的升力F L之關係的圖表。在該情形的流量等之各條件，係與圖4之各條件相同。升力F L，係與流路高度h之約-6次方成比例減少。亦即，參照圖4及圖5可知，以作為分離對象之固體粒子p的粒徑D p作為基準，並且恰當地設定流路高度h，藉此能夠將升力F L調整為有效的大小。
圖6，係表示對於固體粒子p的粒徑D p之升力F L及阻力F D的設定範圍的圖表。於圖6中，係表示使與粒徑D p的4次方成比例的升力F L以主流的雷諾數Re為3階段變化的方式表示。第1升力F L1係雷諾數Re調整為0.01時之升力F L，第2升力F L2係雷諾數Re調整為0.05時之升力F L，第3升力F L3係雷諾數Re調整為0.1時之升力F L。另一方面，於圖6中，係表示使與粒徑D p成比例的阻力F D以二次流動的代表速度U為2階段變化的方式表示。第1阻力F D1係代表速度U調整為0.05m/s時之阻力F D，第2阻力F D2係代表速度U調整為0.01m/s時之阻力F D。
在此，於圖6中，將第1升力F L1與第3升力F L3之間，界定為升力F L的設定範圍之第1設定範圍R1。另一方面，將第1阻力F D1與第2阻力F D2之間，界定為阻力F D的設定範圍之第2設定範圍R2。此時，第1設定範圍R1與第2設定範圍R2之重疊範圍，係升力F L與阻力F D相當的範圍，亦即力學上達到平衡的範圍。亦即，在利用二次流動進行固液分離的情形，係仰賴主流所引發的升力F L或二次流動所引發的阻力F D，而訂定關於作為分離對象之固體粒子p的平衡徑及平衡位置。在此，所謂平衡徑，係指以處於力學性平衡的升力F L及阻力F D作為基準而訂定之集中於流路7內的特定位置之固體粒子p的粒徑D p。另一方面，所謂平衡位置，係指以作為分離對象之固體粒子p的特定的粒徑D p作為基準而訂定之處於力學性平衡的升力F L及阻力F D之可能的值(因該等值使固體粒子p集中的位置)。
亦即，若以考慮作為分離對象之固體粒子p的粒徑D p並且使升力F L與阻力F D達成力學性平衡的方式，恰當地設定主流的雷諾數Re及二次流動的代表速度U，則能夠使固體粒子p更容易集中在流路7的短邊側的側壁附近。
接著，針對本實施形態之固液分離裝置1的效果進行說明。
從分散有固體粒子p的流體使固體粒子p分離的固液分離裝置1，係具備：流路部2，係形成有導入流體之直線狀的流路7；以及二次流動產生機構，係使於流路7的上游側流通的流體產生往橫剖面方向的二次流動。流路7，係具有藉由流路寬度w及對於該流路寬度w垂直的流路高度h所界定之矩形的橫剖面。於流路7之至少比二次流動產生機構更靠下游側的橫剖面，以流路寬度w與流路高度h之比所表現的縱橫比A R，係落在10至100的範圍。
首先，形成於流路部2之流路7的橫剖面，係事先設定為使縱橫比A R落在前述的範圍，故於流路7流通之流體的主流會引發升力F L，而分散於流體的固體粒子p係承受主流所引發的升力F L。藉此，能夠於流路7之作為短邊側的雙方的側壁之第3側壁2c及第4側壁2d的附近捕捉固體粒子p。
並且，藉由二次流動產生機構，會於流路7的上游側流通的流體產生橫剖面方向的二次流動，故分散於流體的固體粒子p會承受二次流動所引發的阻力F D。藉此，在比設置或形成有二次流動產生機構的部分更下游側之流路7，能夠往作為短邊側的側壁之第3側壁2c及第4側壁2d輸送固體粒子p。因此，藉由固液分離裝置1，例如，相較於僅藉由流體的主流所引發的升力F L使固體粒子p分離的情形，能夠使分離效率提升。
並且，以往的固液分離裝置，係例如在流路內的相同區域引發升力及阻力而使固體粒子分離，或有使流路的幾何形狀複雜化的情形。於該等情形，若欲獲得所要求的分離之分解能力，亦即使欲分離之固體粒子的粒徑的選擇範圍擴大，則處理量會減少，相反地，若欲使處理量增加，則會難以獲得所要求的分解能力。相對於此，於固液分離裝置1，係使對於流體引發阻力F D的部分與對於流體引發升力F L的部分，在流路7的上游側及下游側彼此獨立。亦即，固液分離裝置1能夠分別獨立調整升力F L及阻力F D，故能夠維持處理量，並且容易獲得所要求的分解能力。例如，藉由固液分離裝置1，在原理上係能夠將粒徑D p為1μm至1mm的範圍之固體粒子p以100mL/min的處理量進行分離。
另一方面，於流路7之至少比二次流動產生機構更靠下游側的橫剖面，係統一為一定尺寸之簡易的形狀。並且，視二次流動產生機構的構成或形狀，於流路7，亦能夠使藉由二次流動產生機構產生二次流動的區域之橫剖面形狀與引發升力F L的主流所流通的區域之橫剖面形狀相同。因此，固液分離裝置1係能夠使流路部2的形狀或構成簡易化。
如此，依據本實施形態，係能夠提供一種藉由簡易的形狀或構成而有利於分離效率的提升之固液分離裝置1。
並且，固液分離裝置1，係亦可為：在固體粒子p之粒徑D p為1μm至1mm的範圍之情形，流路高度h係設定為作為分離對象之固體粒子p的粒徑D p的10倍以上且100倍以下的尺寸。
藉由該固液分離裝置1，能夠使流體的主流所引發的升力F L及流體的二次流動所引發的阻力F D造成之分離效果更為提升。
並且，固液分離裝置1，係亦可為：流路7之比二次流動產生機構更下游側的延伸方向的長度，係設定為流路寬度w的100倍以上且10000倍以下的尺寸。
藉由該固液分離裝置1，能夠使流體的主流所引發的升力F L及流體的二次流動所引發的阻力F D造成之分離效果更為提升。
並且，固液分離裝置1，亦可為：二次流動產生機構，係設置於流路部2，並從流路7的長邊側的側壁(第1側壁2a及/或第2側壁2b)朝向流路7的內部發射超音波的超音波振動件3。
藉由該固液分離裝置1，在對於流通於流路7的流體使二次流動產生之際，能夠以簡易的構成使二次流動的速度變化。在此情形，於固液分離裝置1，超音波振動件3係作為所謂主動型之固液分離機構的發揮功能，在比設置有超音波振動件3的部分更下游側之流路7本身係作為所謂被動型之固液分離機構發揮功能。因此，能夠容易調整二次流動所引發的阻力F D等而使流體力的控制性提升，使能夠作為分離對象之固體粒子p的範圍擴大。因此，能夠使固液分離裝置1的通用性提升。
(第2實施形態) 圖7，係表示第2實施形態之固液分離裝置10的構成的示意圖。前述之第1實施形態之固液分離裝置1，作為二次流動產生機構，係例示設置於流路部2的超音波振動件3。相對於此，取代超音波振動件3，二次流動產生機構係例如亦可為形成於流路部12，並隨著往流路17的延伸方向逐漸使至少一部分的橫剖面的形狀變化的流路形狀變更部。
固液分離裝置10，取代前述之固液分離裝置1之為直線管的流路部2，而具備例如設想為微型裝置之塊狀的流路部12。流路部12，係亦可藉由將第1平板13及第2平板14之2個平板在Z方向疊合而形成。在此情形，於下層的第2平板14，係在上表面側，形成有滿足與設於前述流路部2之流路7相同的設定條件之流路17作為溝部。對此，上層之第1平板13係所謂蓋體，並以藉由下表面覆蓋流路17的方式接合於第2平板14。於流路部12，前述之流路部2之第3側壁2c、第4側壁2d及第2側壁2b，係對應於作為第2平板14的溝部的一部分之第1側壁14a、第2側壁14b及底壁14c。並且，於流路部12，前述之流路部2之第1側壁2a，係對應於第1平板13的下表面側的一部分。
並且，於固液分離裝置10，構成二次流動產生機構的流路形狀變更部，係複數個支柱。本實施形態之複數個支柱，係以位於第2平板14的底壁14c上且位於流路17內的方式形成的3個支柱，亦即第1支柱14d、第2支柱14e及第3支柱14f。該等支柱係例如為圓柱，各支柱的上表面係與第1平板13的下表面接觸。藉由於流路17內設置該等複數個支柱，流路17的形狀，亦即流路17之橫剖面的形狀，係隨著往流路17的延伸方向前進，於支柱存在的部分有所變化。藉由使如此般之複數個支柱的形狀、大小、配置或設置數量等適當改變，能夠在分散有固體粒子p的流體被導入至流路17時，藉由該等支柱使二次流動於流體產生。
藉由如此般之固液分離裝置10，亦能夠與前述之固液分離裝置1同樣藉由簡易的形狀或構成使分離效率提升。特別是，藉由固液分離裝置10，例如能夠令二次流動產生機構為不使用電力之簡易的構成。
(第3實施形態) 圖8，係表示第3實施形態之固液分離裝置20的構成的示意圖。前述之第2實施形態之固液分離裝置10，作為構成二次流動產生機構的流路形狀變更部，係例示複數個支柱。然而，流路形狀變更部，係不限於如此般形成於流路部12的支柱。
固液分離裝置20所具備之流路部22，係與第2實施形態之固液分離裝置10之流路部12同樣為塊狀。流路部22，係亦可形成有對應於固液分離裝置10之第1平板13及第2平板14之第1平板23及第2平板24。在此，於第2平板24的上表面側，與固液分離裝置10的第2平板14同樣地形成有作為溝部的流路27，然而流路27的形狀係與固液分離裝置10的流路17的形狀不同。
首先，於流路部22，前述之流路部12之第1側壁14a、第2側壁14b及底壁14c，係對應於作為第2平板24的溝部的一部分之第1側壁24a、第2側壁24b及底壁24c。並且，於流路部22，前述之流路27之Z方向上側的側壁，係第1平板23的下表面側的一部分。
並且，於固液分離裝置20，取代前述之固液分離裝置10之複數個支柱，作為流路形狀變更部，係使用於流路27的其中一部分設置橫剖面縮小的區域而藉此產生文土里效應之文土里構造部。例如，本實施形態之文土里構造部24d，係於第2平板24的底壁24c上，作為第1側壁24a的其中一部分往Y方向突出之3個突出壁，亦即，以第1突出壁24e、第2突出壁24f及第3突出壁24g包圍的突出部。文土里構造部24d的上表面，係與第1平板23的下表面接觸。
第1突出壁24e，係對於作為流路27的延伸方向之X方向垂直的壁部，且不與第2側壁24b接觸。第2突出壁24f，係與第1側壁24a及第2側壁24b平行的壁部，與第1突出壁24e連續，且不與第2側壁24b接觸。並且，第3突出壁24g，係X方向的其中一端與第2突出壁24f連續，X方向的另一端係與比文土里構造部24d更下游側的第1側壁24a連續的壁部。亦即，第3突出壁24g，係隨著往流路27的延伸方向前進而從第2突出壁24f側往第1側壁24a側逐漸靠近。
藉由文土里構造部24d，係於上游側，形成有以比流路寬度w更狹窄的流路寬度w1所界定的橫剖面(流路寬度w1×流路高度h)構成之縮小部27a。縮小部27a，於流路27的延伸方向，係第2突出壁24f之X方向的長度量的區域。並且，於比縮小部27a更下游側，藉由第3突出壁24g，形成有隨著往流路27的延伸方向前進，流路寬度逐漸擴大，最後回到藉由流路寬度w及流路高度h界定的橫剖面之擴大部27b。又，縮小部27a，係用以使於流路27流通的流體之流速暫時性增加的區域，故形成縮小部27a之第2突出壁24f的X方向的長度，係比形成擴大部27b的第3突出壁24g之X方向成分之長度充分為短。藉由於流路27內設置文土里構造部24d，流路27的橫剖面形狀，係隨著往流路27的延伸方向前進，變化為縮小部27a及擴大部27b。藉由使如此般之文土里構造部24d的形狀或大小等適當改變，能夠在分散有固體粒子p的流體被導入至流路27時，藉由文土里構造部24d使二次流動於流體產生。
藉由如此般之固液分離裝置20，亦與前述之固液分離裝置10同樣，例如能夠令二次流動產生機構為不使用電力之簡易的構成。
(第4實施形態) 圖9，係表示第4實施形態之固液分離裝置30的構成的示意圖。構成二次流動產生機構之流路形狀變更部，係亦可以複數個擋板35，取代第2實施形態之第1支柱14d等之複數個支柱或第3實施形態之文土里構造部24d。
固液分離裝置30所具備之流路部32，係與第2實施形態之固液分離裝置10之流路部12同樣為塊狀。流路部32，係亦可形成有對應於固液分離裝置10之第1平板13及第2平板14之第1平板33及第2平板34。在此，於第2平板34的上表面側，與固液分離裝置10的第2平板14同樣地形成有作為溝部的流路37，然而流路37的形狀係與固液分離裝置10的流路17的形狀不同。又，於圖9中，為了將流路37的形狀整體地明示，係以兩點鏈線描繪第1平板33。
於流路部32，固液分離裝置10之流路部12之第1側壁14a、第2側壁14b及底壁14c，係對應於作為第2平板34的溝部的一部分之第1側壁34a、第2側壁34b及底壁34c。並且，於流路部32，前述之流路37之Z方向上側的側壁，係第1平板33的下表面側的一部分。並且，就流路37的橫剖面而言，亦與前述之各實施形態同樣地藉由(流路寬度w×流路高度h)界定。
於固液分離裝置30，構成二次流動產生機構的流路形狀變更部，係複數個擋板35。例如，本實施形態之擋板35，係從第2平板34的底壁34c往第1平板33的下表面突出的突出部。擋板35的上表面，係不與第1平板33接觸。複數個擋板35，係以彼此相同的形狀，以具有以下所詳細說明之一定的規則性的方式配置於流路37內。於圖9中，係例示已第1板35a、第2板35b、第3板35c、第4板35d及第5板35e表示之五個擋板35。又，於圖9中，與二次流動產生機構的入口或出口交叉的擋板35，作為描繪上的例子，係以從該交叉位置或其附近朝向二次流動產生機構的外側之一部分不存在的形狀表現。
圖10，係對應於圖9中之C-C剖面，在對於作為流路37的延伸方向之X方向垂直的面將流路部32的一部分切斷的剖面圖。於圖10中，在流路37內流通的流體於該切斷面之流動狀況係藉由向量例示。又，圖11，係用以說明沿著Z方向觀察複數個擋板35時之擋板35的形狀及複數個擋板35的配置關係的概略俯視圖。
擋板35的形狀，係與沿著XY平面的底壁34c平行，且以對於X方向以傾斜角θ傾斜的方向作為延伸方向的棒狀。然而，各個擋板35的兩前端部，係沿著XZ平面缺口亦可。若將擋板35在延伸方向的長度作為擋板長度L P，則在作為流路寬度方向之Y方向之擋板35的長度分量L Y，係以L Psinθ表現，且比流路寬度w更短。並且，擋板35與第1側壁34a及第2側壁34b皆不接觸。於流路37，係將具有如此形狀的n個擋板35，以節距P i之等間隔沿著X方向排列。
對於擋板35的延伸方向垂直之剖面的形狀，係大致為矩形。以下，關於擋板35的剖面，係將高度表記為擋板高度h P，並將寬度表記為擋板寬度w p。
擋板高度h P，係例如以流路37的流路高度h作為基準，並如以下般設定。首先，關於在流路37流通的流體的流速，係界定如下。V 0係沿著作為流路37的延伸方向之X方向導入至流路37之流體的主流流速。V 1係沿著擋板35的延伸方向之方向的第1流速。V 2係於作為流路寬度方向之Y方向的第2流速，並使用主流速度V 0，以式(1)表現。
並且，在流體的主流通過設有複數個擋板35的區間之時間t，係以式(2)表示。
並且，為了將分散於流體中的固體粒子p於第1側壁34a或第2側壁34b的附近捕捉，在流體的主流通過設有複數個擋板35的區間之期間，流路寬度方向的流動必須至少繞流路27的橫剖面一圈。因此，式(3)會成立。
在此，第一，在擋板高度h P為流路高度h一半的高度亦即0.5h時，複數個擋板35能夠最有效率地生成二次流動。
第二，在擋板高度h P比0.5h更低時，二次流動的流量會減少。因此，設想隨著擋板高度h P降低，二次流動的流量會成比例地減少，故流路寬度方向的流動至少繞流路27的橫剖面一圈之前述條件，亦可變更為至少繞(0.5h/h P)圈之條件。在此情形，式(3)係修正為式(4)。
若對於式(4)代入式(1)及式(2)並進行整理，可導出式(5)。
因此，在擋板高度h P比0.5h更低時，對於具有任意的流路寬度w及流路高度h的流路37，以滿足式(5)的條件的方式，設定擋板35的排列之間距P i、擋板35的設置數n及擋板高度h P即可。
第三，在擋板高度h P比0.5h更高時，二次流動的流量亦會減少。因此，設想隨著擋板高度h P增高，二次流動的流量會成比例地減少，故流路寬度方向的流動至少繞流路27的橫剖面一圈之前述條件，亦可變更為至少繞(0.5h/(h-h P))圈之條件。在此情形，式(3)係修正為式(6)。
若對於式(6)代入式(1)及式(2)並進行整理，可導出式(7)。
因此，在擋板高度h P比0.5h更高時，對於具有任意的流路寬度w及流路高度h的流路37，以滿足式(7)的條件的方式，設定擋板35的排列之間距P i、擋板35的設置數n及擋板高度h P即可。
亦即，在採用複數個擋板35作為二次流動產生機構的情形之擋板高度h P的上限值，係能夠根據式(7)進行界定，擋板高度h P的下限值係能夠根據式(5)進行界定。
並且，擋板寬度w p，係例如根據使流路37內的壓力損耗減少，必須使流路37的橫剖面的閉塞率為0.5以下為佳之條件，如以下般設定。在假設擋板35不存在的情形之流路37的橫剖面，係以(流路寬度w×流路高度h)表現。因此，若設橫剖面之擋板35的數目為m個，則為了滿足閉塞率為0.5%以下之條件，將擋板寬度w p的上限值設定為滿足式(8)即可。另一方面，擋板寬度w p的下限值，係設定為盡可能小為佳。
並且，擋板35的傾斜角θ，係決定根據式(5)及式(7)的上限值及下限值所界定的範圍，並設定為該範圍所包含的值亦可。然而，在傾斜角θ過大的情形，可能產生流動的剝離，而產生意料之外的二次流動。因此，傾斜角θ係45°以下為佳，係30°以下更佳。
於固液分離裝置30，係採用複數個擋板35作為流路形狀變更部，藉此自如圖10所示之流路37內之各位置的向量所朝向的方向可知，於流路37流通的流體會產生橫剖面方向的二次流動。並且，在採用第2實施形態中所例示之第1支柱14d等之複數個圓柱作為流路形狀變更部的情形，雖會在剛通過圓柱之後產生強烈的二次流動，然而隨著往下游側前進逐漸衰減。相對於此，在採用複數個擋板35作為流路形狀變更部的情形，係有二次流動不易衰減的優點。
圖12，係表示通過二次流動產生機構之流體中的固體粒子p的行為的流體圖像。該流體圖像，係沿著Z方向拍攝於流路37的一部分流通的流體。在此，以複數個擋板35構成的二次流動產生機構，係位於沿著X方向之流路37的上游側。又，於圖12中，為了例示對於取得了流體圖像之流路37中的位置之二次流動產生機構的位置，係相鄰於流體圖像以兩點鏈線表示相當於二次流動產生機構的部位。
如圖12所示，於固液分離裝置30，亦藉由使分散有固體粒子p的流體於流路37流通，使固體粒子p至少在第1側壁34a或第2側壁34b的附近被捕捉。作為一例，在獲得圖12所示之流體圖像時，流路37的入口區域R IN的粒子濃度係0.55vol%。對此，於流路37的出口側，固體粒子p聚集的高濃度區域R H之粒子濃度係1.33vol%。另一方面，於流路37的出口側，固體粒子p較少的低濃度區域R L之粒子濃度係0.11vol%。
並且，固液分離裝置30係採用複數個擋板35作為二次流動產生機構，藉此，不僅是在第1側壁34a或第2側壁34b的附近，亦有能夠如圖12所示般在流路37的流路寬度方向的中央區域捕捉固體粒子p的可能性。
並且，藉由固液分離裝置30，亦與前述之固液分離裝置10等同樣，例如能夠令二次流動產生機構為不使用電力之簡易的構成。
又，於前述之固液分離裝置30之例中，複數個擋板35係設於作為流路地板側之第2平板34的底壁34c，並從底壁34c往第1平板33的下表面突出。相對於此，複數個擋板35係設於作為頂板側之第1平板33，並從第1平板33往底壁34c突出亦可。又，複數個擋板35，係設於作為流路地板側之第2平板34的底壁34c以及並作為頂板側之第1平板33之雙方亦可。
又，於前述之固液分離裝置30之例中，於二次流動產生機構之全體中，複數個擋板35係以一個值之間距P i進行排列。相對於此，複數個擋板35亦可於二次流動產生機構之全體中以複數個值之間距P i進行排列，亦即，以間距P i的值中途變更的方式排列。然而，在間距P i的值過小的情形，黏性阻力會增大，故間距P i的值設定為比流路高度h更大為佳。
又，於前述之固液分離裝置30之例中，複數個擋板35係設於流路37的流路寬度w的中央部。亦即，於流路寬度方向，從擋板35至第1側壁34a的距離與從擋板35至第2側壁34b的距離係相同。相對於此，複數個擋板35，係亦可於流路寬度方向設為比第2側壁34b之側更靠第1側壁34a之側，相反地，亦可設為比第1側壁34a之側更靠第2側壁34b之側。
並且，於圖7所示之固液分離裝置10、圖8所示之固液分離裝置20及圖9等所示之固液分離裝置30，係例示於塊狀的流路部12、流路部22或流路部32形成流路形狀變更部的情形。相對於此，例如，於固液分離裝置1之作為直線管的流路部2，設置流路形狀變更部取代超音波振動件3作為二次流動產生機構亦可。並且，於圖7所示之固液分離裝置10、圖8所示之固液分離裝置20及圖9等所示之固液分離裝置30，係例示以2個平板組合構成塊狀的流路部12、流路部22或流路部32的情形。相對於此，例如，藉由利用三維金屬層疊造形技術，將具有流路17之流路部12、具有流路27之流路部22，或是具有流路37之流路部32一體形成亦可。
(固液分離系統) 接著，作為前述實施形態之固液分離裝置(固液分離裝置1等)的應用例，係針對採用至少任一固液分離裝置的固液分離系統進行說明。
圖13A及圖13B，係表示具備前述實施形態之固液分離裝置(固液分離裝置1等)的固液分離系統之構成的示意圖。又，於圖13A及圖13B，係例示固液分離系統具備固液分離裝置1的情形。
圖13A，係表示作為本實施形態之固液分離系統之一例的細胞培養裝置(動物細胞連續培養裝置)100的示意圖。細胞培養裝置100，係設想培養液作為分散有固體粒子p的流體。細胞培養裝置100，係具備：培養槽102，係作為儲留培養基的儲留槽；以及泵浦106a，係作為將培養液從培養槽102輸送至固液分離裝置1的送液部。培養基，係經由具備第1供給閥104a之培養基追加配管104供給至培養槽102。培養槽102，係具備攪拌器102a，對培養基進行培養。培養槽102內的培養液，係經由連接至泵浦106a的培養液供給配管106供給至固液分離裝置1。固液分離裝置1，係將導入至流路7的培養液分離為濃縮液及澄清液。澄清液係直接回收。另一方面，濃縮液係經由具備第2供給閥108a之濃縮液回送配管108返回至培養槽102。並且，細胞培養裝置100，係具備：控制部110，係至少控制泵浦106a的動作，藉此調整培養液之至少流量或速度。控制部110，尚可控制攪拌器102a的動作、第1供給閥104a或第2供給閥108a的開閉動作等。
圖13B，係表示作為本實施形態之固液分離系統之一例的析出裝置200的示意圖。於析出裝置200，作為分散有固體粒子p的流體，係設想包含結晶化的大徑粒子及小徑粒子的流體。析出裝置200，係具備：析出槽202，係作為儲留析出液的儲留槽；泵浦206a，係作為送液部將流體從析出槽202輸送至固液分離裝置1；以及分離膜207a，係從藉由固液分離裝置1分離的濃縮液僅抽出大徑粒子。析出液，係經由具備第1供給閥204a之析出液追加配管204供給至析出槽202。析出槽202係具備攪拌器202a，以促進析出。析出槽202內的流體，係經由連接至泵浦206a的流體供給配管206供給至固液分離裝置1。固液分離裝置1，係將導入至流路7的流體，分離為主要含有大徑粒子的濃縮液，以及主要含有小徑粒子的澄清液。濃縮液，係經由濃縮液供給配管207輸送至分離膜207a。藉由分離膜207a從濃縮液抽出的大徑粒子係直接回收。之後，從大徑粒子抽出的流體，係作為澄清液，經由具備第2供給閥209a的澄清液回送配管209回到析出槽202。另一方面，藉由固液分離裝置1所分離的澄清液，係經由旁通配管208直接輸送至澄清液回送配管209，並回到析出槽202。並且，析出裝置200，係具備：控制部210，係至少控制泵浦206a的動作，藉此調整流體之至少流量或速度。控制部210，尚可控制攪拌器202a的動作、第1供給閥204a或第2供給閥209a的開閉動作等。
接著，針對細胞培養裝置100或析出裝置200般之本實施形態之固液分離系統的效果進行說明。
固液分離系統，係具備：前述實施形態之固液分離裝置；儲留槽，係儲留流體；送液部，係從儲留槽對於固液分離裝置輸送流體；以及控制部，係至少控制送液部的動作，藉此調整流體之至少流量或速度。
依據該固液分離系統，因具備前述實施形態之固液分離裝置，故系統整體之分離效率提升，或是能夠維持處理量，並且容易獲得所要求的分解能力。
並且，於固液分離系統，分散於流體的固體粒子p，係承受二次流動所引發的阻力F D，以及流體的主流所引發的升力F L，升力F L係以作為分離對象的固體粒子p的粒徑D p為基準進行求取。
依據該固液分離系統，對於作為分離對象的固體粒子p，能夠使更適合使該固體粒子p容易在流路(流路7等，以下相同)集中於短邊側的側壁附近之升力F L進行作用。又，所謂短邊側的側壁，於固液分離裝置1，係相當於第3側壁2c及第4側壁2d，於固液分離裝置10，係相當於第1側壁14a及第2側壁14b。
並且，於固液分離系統，流路高度h，係根據以作為分離對象的固體粒子p的粒徑D p為基準所求取的升力F L進行決定。
依據該固液分離系統，藉由將流路之流路高度h設定為適當的尺寸，能夠於流路將流體的主流所引發的升力F L調整為所要求的大小。
並且，固液分離系統，阻力F D係以在流體的邊界層的內部的橫剖面方向與升力F L相當的方式決定。
依據該固液分離系統，因阻力F D對於流體的邊界層的內部的橫剖面方向之升力F L達到力學上的平衡，故能夠使作為分離對象之固體粒子p更容易集中在流路的短邊側的側壁附近。
並且，固液分離系統，亦可為：二次流動產生機構，係設置於流路部2，並從流路7的長邊側的側壁朝向流路7的內部發射超音波的超音波振動件3。在此情形，固液分離系統，係亦可具備對於超音波振動件3供給電力的超音波振盪器4。控制部110，係使超音波振動件3對於超音波振盪器4變更頻率或音壓而使二次流動的速度(例如代表速度U)變化，藉此調整阻力F D。
依據該固液分離系統，能夠容易調整二次流動所引發的阻力F D等而使流體力的控制性提升，使能夠作為分離對象之固體粒子p的範圍擴大。並且，如此般之二次流動係聲速流，特別是在液相與固體粒子的音響阻抗差較大的情形，音響反射力會作用於固體粒子p。因此，對於分散於流體的固體粒子p，除了升力F L及阻力F D以外，尚作用有音響反射力F R，故控制部110具有更為容易調整於流路7之流體的主流的橫剖面方向之固體粒子p的平衡位置之優點。
又，在此，作為本實施形態之固液分離系統，雖例示細胞培養裝置100及析出裝置200，然而運用例係不限於該等裝置。例如，若為採用前述實施形態之固液分離裝置者，固液分離系統係亦可為與攝影機或雷射機器等之檢查機器組合之進行醫藥品或食品等之品質檢查的檢查裝置。
雖已說明數個實施形態，然而係可根據前述揭示內容進行實施形態之修正或變形。前述實施形態之所有構成元件，以及記載於申請專利範圍之所有特徵，只要彼此不相矛盾，亦可個別抽出組合。
本申請案係根據2020年12月21日所申請之日本國特願第2020-211418號案主張優先權，並將該申請案之所有內容藉由參照援用於本說明書。
1:固液分離裝置 2:流路部 2a:第1側壁 2b:第2側壁 2c:第3側壁 2d:第4側壁 3:超音波振動件 4:超音波振盪器 5:電纜 7:流路 10:固液分離裝置 12:流路部 13:第1平板 14:第2平板 14a:第1側壁 14b:第2側壁 14c:底壁 14d:第1支柱 14e:第2支柱 14f:第3支柱 17:流路 20:固液分離裝置 22:流路部 23:第1平板 24:第2平板 24a:第1側壁 24b:第2側壁 24c:底壁 24d:文土里構造部 24e:第1突出壁 24f:第2突出壁 24g:第3突出壁 27:流路 27a:縮小部 27b:擴大部 30:固液分離裝置 32:流路部 33:第1平板 34:第2平板 34a:第1側壁 34b:第2側壁 34c:底壁 35:擋板 35a:第1板 35b:第2板 35c:第3板 35d:第4板 35e:第5板 37:流路 100:細胞培養裝置 102:培養槽 102a:攪拌器 104:培養基追加配管 104a:第1供給閥 106:培養液供給配管 106a:泵浦 108:濃縮液回送配管 108a:第2供給閥 110:控制部 200:析出裝置 202:析出槽 202a:攪拌器 204:析出液追加配管 204a:第1供給閥 206:流體供給配管 206a:泵浦 207:濃縮液供給配管 207a:分離膜 208:旁通配管 209:澄清液回送配管 209a:第2供給閥 210:控制部 A R:縱橫比 D p:粒徑 F D:阻力 F L:升力 L:長度 L P:擋板長度 w p:擋板寬度 h:流路高度 p:固體粒子 P i:間距 R H:高濃度區域 R L:低濃度區域 w:流路寬度
[圖1]圖1，係表示本揭示之第1實施形態之固液分離裝置的構成的示意圖。 [圖2]圖2，係說明第1實施形態之固液分離裝置所進行之固液分離的原理的圖。 [圖3]圖3，係表示以亮度值為基準的流路寬度方向之粒子濃度的圖表。 [圖4]圖4，係表示固體粒子的粒徑與固體粒子所承受的升力之關係的圖表。 [圖5]圖5，係表示流路高度與固體粒子所承受的升力之關係的圖表。 [圖6]圖6，係表示對於固體粒子的粒徑之升力及阻力的設定範圍的圖表。 [圖7]圖7，係表示本揭示之第2實施形態之固液分離裝置的構成的示意圖。 [圖8]圖8，係表示本揭示之第3實施形態之固液分離裝置的構成的示意圖。 [圖9]圖9，係表示本揭示之第4實施形態之固液分離裝置的構成的示意圖。 [圖10]圖10，係對應於圖9之C-C剖面之將流路部的一部分切斷的剖面圖。 [圖11]圖11，係用以說明擋板的形狀及配置關係的示意圖。 [圖12]圖12，係表示通過複數個擋板的流體當中之固體粒子的行為的流體圖像。 [圖13A]圖13A，係表示本揭示之作為固液分離系統之細胞培養裝置的構成的示意圖。 [圖13B]圖13B，係表示本揭示之作為固液分離系統之析出裝置的構成的示意圖。
1:固液分離裝置
2:流路部
2a:第1側壁
2b:第2側壁
2c:第3側壁
2d:第4側壁
3:超音波振動件
4:超音波振盪器
5:電纜
7:流路

Claims (10)

  1. 一種固液分離裝置，係從分散有固體粒子的流體使前述固體粒子分離；其具備： 流路部，係形成有導入前述流體之直線狀的流路；以及 二次流動產生機構，係使於前述流路的上游側流通的前述流體產生往橫剖面方向的二次流動， 前述流路，係具有藉由流路寬度及對於該流路寬度垂直的流路高度所界定之矩形的橫剖面， 於前述流路之至少比前述二次流動產生機構更靠下游側的前述橫剖面，以前述流路寬度與前述流路高度之比所表現的縱橫比，係落在10至100的範圍。
  2. 如請求項1所述之固液分離裝置，其中， 在前述固體粒子之粒徑為1μm至1mm的範圍之情形，前述流路高度係設定為作為分離對象之前述固體粒子的前述粒徑的10倍以上且100倍以下的尺寸。
  3. 如請求項2所述之固液分離裝置，其中， 前述流路之比前述二次流動產生機構更下游側的延伸方向的長度，係設定為前述流路寬度的100倍以上且10000倍以下的尺寸。
  4. 如請求項1所述之固液分離裝置，其中， 前述二次流動產生機構，係設置於前述流路部，並從前述流路的長邊側的側壁朝向前述流路的內部發射超音波的超音波振盪器。
  5. 如請求項1所述之固液分離裝置，其中， 前述二次流動產生機構，係形成於前述流路部，並隨著往前述流路的延伸方向逐漸使至少一部分的前述橫剖面的形狀變化的流路形狀變更部。
  6. 一種固液分離系統，係具備： 固液分離裝置，係從分散有固體粒子的流體使前述固體粒子分離； 儲留槽，係儲留流體； 送液部，係從前述儲留槽對於前述固液分離裝置輸送流體；以及 控制部，係至少控制前述送液部的動作，藉此調整流體之至少流量或速度， 前述固液分離裝置，係具有： 流路部，係形成有導入前述流體之直線狀的流路；以及 二次流動產生機構，係使於前述流路的上游側流通的前述流體產生往橫剖面方向的二次流動， 前述流路，係具有藉由流路寬度及對於該流路寬度垂直的流路高度所界定之矩形的橫剖面， 於前述流路之至少比前述二次流動產生機構更靠下游側的前述橫剖面，以前述流路寬度與前述流路高度之比所表現的縱橫比，係落在10至100的範圍。
  7. 如請求項6所述之固液分離系統，其中， 分散於前述流體的前述固體粒子，係承受前述二次流動所引發的阻力，以及前述流體的主流所引發的升力， 前述升力係以作為分離對象的前述固體粒子的粒徑為基準進行求取。
  8. 如請求項7所述之固液分離系統，其中， 前述流路高度，係根據以作為分離對象的前述固體粒子的粒徑為基準所求取的前述升力進行決定。
  9. 如請求項7或8所述之固液分離系統，其中， 前述阻力係以在前述流體的邊界層的內部的橫剖面方向與前述升力相當的方式決定。
  10. 如請求項7或8所述之固液分離系統，其中， 前述二次流動產生機構，係設置於前述流路部，並從前述流路的長邊側的側壁朝向前述流路的內部發射超音波的超音波振盪器， 前述固液分離系統，係具備對於前述超音波振動件供給電力的超音波振盪器， 前述控制部，係使前述超音波振動件對於前述超音波振盪器變更頻率或音壓而使前述二次流動的前述速度變化，藉此調整前述阻力。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024029793A (ja) * 2022-08-23 2024-03-07 東洋製罐グループホールディングス株式会社 マイクロ流体デバイス、マイクロ流体デバイスの製造方法、及び検査システム

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6064640B2 (ja) * 2013-02-07 2017-01-25 株式会社Ihi 固液分離方法及び装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE522801C2 (sv) * 2001-03-09 2004-03-09 Erysave Ab Anordning för att separera suspenderade partiklar från en fluid med ultraljud samt metod för sådan separering
US8208138B2 (en) * 2009-09-24 2012-06-26 University Of Cincinnati Spiral microchannel particle separators, straight microchannel particle separators, and continuous particle separator and detector systems
JP5340419B2 (ja) * 2009-12-25 2013-11-13 学校法人常翔学園 固液分離機能を有する装置、μ−ＴＡＳデバイス及び固液分離方法
SG11201501837TA (en) * 2012-09-21 2015-04-29 Massachusetts Inst Technology Micro-fluidic device and uses thereof
JP6151128B2 (ja) * 2013-08-12 2017-06-21 株式会社東芝 半導体マイクロ分析チップ及びその製造方法
US20170363522A1 (en) * 2016-06-21 2017-12-21 Becton, Dickinson And Company Devices and methods for acoustic particle separation
JP6923181B2 (ja) 2016-11-30 2021-08-18 国立大学法人東京工業大学 微粒子分離デバイスおよび微粒子の分離方法
JP2020025900A (ja) * 2018-08-09 2020-02-20 東ソー株式会社 粒子分離方法
WO2020139210A1 (en) * 2018-12-28 2020-07-02 Mikro Biyosistemler Elektronik Sanayi Ve Ticaret A.S. A method of microfluidic particle separation enhancement and the device thereof
CN109967150B (zh) * 2019-04-24 2021-07-23 河海大学常州校区 一种用于操控微纳米颗粒的惯性微流控芯片

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6064640B2 (ja) * 2013-02-07 2017-01-25 株式会社Ihi 固液分離方法及び装置

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