TWI797381B - 多層積層膜 - Google Patents
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Abstract
第1層之光學厚度下之層厚度剖析(layer thickness profile)為具有第1單調增加區域，第1單調增加區域係由最大光學厚度至100nm為止之1A單調增加區域及最小光學厚度超過100nm之1B單調增加區域所構成，1B單調增加區域之斜率1B對1A單調增加區域之斜率1A之比1B/1A為超過0未滿0.8，第2層之光學厚度下之層厚度剖析為具有第2單調增加區域，第2單調增加區域係由最大光學厚度至200nm為止之2A單調增加區域及最小光學厚度為超過200nm之2B單調增加區域所構成，2B單調增加區域之斜率2B對2A單調增加區域之斜率2A之比2B/2A為超過1.5且10以下。
Description
本揭示係關於能廣泛反射可見光區域之光的多層積層膜。
使折射率為低之層與高之層交互地多數積層之多層積層膜係可作成藉由層間之構造性光干涉而選擇性地使特定波長之光進行反射或穿透之光學干涉膜。又，此種多層積層膜藉由沿著厚度方向而使各層之膜厚徐徐地變化，或貼合具有不同反射峰之膜，而可在涵蓋寬廣波長範圍下使光反射或穿透，也可取得與使用金屬之膜同等之高反射率，且也可使用作為金屬光澤膜或反射鏡。並且，已知藉由將此種多層積層膜朝單方向進行拉伸，也可使用作為僅反射特定偏光成分之反射偏光膜，且可使用於液晶顯示器等之提升亮度構件等(如專利文獻1~4等)。
該等多層積層膜諸多情況下係要求在任意波長區域中更高之反射率。但，由於積層之層數為有限者，故在其反射波長區域為寬廣的情況，亦非常難以兼具高反射率。又，僅增加特定波長區域之反射率會有導致其他反射波長區域之反射率降低，引起光學品質問題的憂慮。
[專利文獻1]日本特開平04-268505號公報
[專利文獻2]日本特表平9-506837號公報
[專利文獻3]日本特表平9-506984號公報
[專利文獻4]國際公開第01/47711號公報
[發明所欲解決之課題]
另一方面，上述之多層積層膜除了要求高反射率，也有要求高偏光度的情況。尤其，在希望小型輕量化之多層積層膜中，由於積層之層數為有限者，故要求在受限之厚度或重量範圍內取得可保持寬廣反射波長頻帶，並且具有高偏光度之多層積層膜。
又，此種多層積層膜再從斜面方向觀察時會有觀察到著色的情況，產生該著色之情況，即係指反射波長頻帶變得狹小。
本揭示之課題在於提供一種保持寬廣反射波長頻帶，並且具有高偏光度之多層積層膜。
[用以解決課題之手段]
上述用以解決課題之手段包括以下之態樣。
＜1＞
一種多層積層膜，其係具有包含第1樹脂之雙折射性之第1層與包含第2樹脂之等向性之第2層之多層交互積層體的多層積層膜，其特徵為：具有藉由前述第1層與前述第2層之光學干涉而能反射位於波長380~780nm之光之層厚度剖析，第1層之光學厚度下之層厚度剖析為具有第1單調增加區域，前述第1單調增加區域係由最大光學厚度至100nm為止之1A單調增加區域及最小光學厚度超過100nm之1B單調增加區域所構成，前述1B單調增加區域之斜率1B對前述1A單調增加區域之斜率1A之比1B/1A為超過0未滿0.8，第2層之光學厚度下之層厚度剖析為具有第2單調增加區域，前述第2單調增加區域係由最大光學厚度至200nm為止之2A單調增加區域及最小光學厚度超過200nm之2B單調增加區域所構成，前述2B單調增加區域之斜率2B對前述2A單調增加區域之斜率2A之比2B/2A為超過1.5且10以下。
＜2＞
如＜1＞之多層積層膜，其中前述1A單調增加區域之平均光學厚度為65nm以上85nm以下，前述1B單調增加區域之平均光學厚度為140nm以上160nm以下。
＜3＞
如＜1＞或＜2＞之多層積層膜，其中前述2A單調增加區域之平均光學厚度為130nm以上155nm以下，前述2B單調增加區域之平均光學厚度為250nm以上290nm以下。
＜4＞
如＜1＞~＜3＞中任一項之多層積層膜，其中前述比2B/2A為超過1.5未滿5。
＜5＞
如＜1＞~＜3＞中任一項之多層積層膜，其中前述比2B/2A為5以上10以下。
＜6＞
如＜1＞~＜5＞中任一項之多層積層膜，其中在法線入射時經偏光成與反射軸為平行之光在380nm~780nm之波長區域之平均反射率為85%以上。
[發明之效果]
根據本揭示，提供一種保持寬廣反射波長頻帶，且具有高偏光度之多層積層膜。
以下，說明關於本揭示之一例之實施形態。本揭示並非係受到任何以下之實施形態所限定者，在本揭示之目的範圍內，即可加入適宜變更來實施。
本說明書中，使用「~」所表示之數值範圍係意指包含記載於「~」前後之數值作為下限值及上限值之範圍。
[多層積層膜]
本揭示之一實施形態之多層積層膜具有將第1樹脂作為主體之雙折射性之第1層與將第2樹脂作為主體之等向性之第2層之多層交互積層體，藉由第1層與第2層所致之光之干涉效果，而能在波長380~780nm之可見光區域中廣域波長範圍內反射。例如能在波長400~760nm之波長範圍內反射，較佳係能在波長380~780nm之波長範圍內反射。本揭示中，能反射係指、在至少膜面內之任意之一方向上，與該方向為平行之偏光在垂直入射時之平均反射率為50%以上。該反射在從多層積層膜保持寬廣反射波長頻帶之觀點，各波長範圍之平均反射率只要在50%以上即可，以60%以上為佳，較佳為70%以上，更佳為85%以上。
本揭示中，平均反射率係指使用偏光膜測量裝置(日本分光股份有限公司製「VAP7070S」)所求出之從100減去在波長380~780nm下之平均穿透率而得之值。
本揭示中，「將樹脂作為主體」係指在各層中，相對於各層之總質量，樹脂係以占70質量%以上為佳，以80質量%以上為佳，較佳為90質量%以上。
為了作成此種反射特性，多層交互積層體係具有將第1樹脂作為主體且膜厚為10~1000nm之雙折射性之第1層與將第2樹脂作為主體且膜厚為10~1000nm之等向性之第2層，以合計30層以上在厚度方向交互積層之構造為佳。又，關於構成各層之樹脂，其詳細內容為後述，但只要係能形成雙折射性之層及等向性之層者，就無特別限制。從容易製造膜之觀點，皆係以熱可塑性樹脂為佳。尚且，本揭示中，關於縱方向、橫方向、厚度方向之折射率，將最大與最小之差為0.1以上者視為雙折射性，將未滿0.1者視為等向性。
[層厚度剖析]
本揭示之一實施形態之多層積層膜藉由具有各種光學厚度之第1層及第2層，而變得能反射寬廣波長範圍之光。此係由於反射波長係起因於構成多層積層膜之各層之光學厚度所致。一般而言，多層積層膜之反射波長為如下述(式1)所示。
λ=2(n1×d1+n2×d2) (式1)
(上式中，λ表示反射波長(nm)，n1、n2表示個別之層之折射率，d1、d2表示個別之層之物理厚度(nm))
又，光學厚度λM(nm)係如下述(式2)所示般，以各層個別之折射率nk及物理厚度dk之積來表示。在此之物理厚度係可採用從使用穿透型電子顯微鏡進行攝影而得之照片來求得者。
λM(nm)=nk×dk (式2)
鑒於上述情況，而可作成能寬廣反射位於波長380~780nm之光之層厚度剖析。例如，也可設計成如後述之擴大單調增加區域之厚度範圍，而反射廣域波長範圍之光之方式，也可設計成在該單調增加區域中會反射特定波長範圍之光，且在其他區域會反射該特定波長範圍以外之光，而全體係會反射廣域波長範圍之光。
本揭示之一實施形態中，藉由將第1層與第2層之個別之層厚度剖析作成特定之態樣，而取得保持寬廣反射波長頻帶，且具有高偏光度之多層積層膜。
即，第1層之光學厚度下之層厚度剖析為具有第1單調增加區域，前述第1單調增加區域係由最大光學厚度至100nm為止之1A單調增加區域及最小光學厚度超過100nm之1B單調增加區域所構成，且前述1B單調增加區域之斜率1B對前述1A單調增加區域之斜率1A之比1B/1A為超過0未滿0.8。同時，第2層之光學厚度下之層厚度剖析為具有第2單調增加區域，前述第2單調增加區域係由最大光學厚度至200nm為止之2A單調增加區域及最小光學厚度超過200nm之2B單調增加區域所構成，前述2B單調增加區域之斜率2B對前述2A單調增加區域之斜率2A之比2B/2A為超過1.5且10以下。於圖1展示本揭示之多層積層膜之層厚度剖析之一例之示意圖，將具有圖1所示之層厚度剖析之多層積層膜之穿透軸及反射軸之個別之穿透光譜之圖展示於圖2。又，同樣地於圖3展示本揭示之多層積層膜之層厚度剖析之其他一例之示意圖，將具有圖3所示之層厚度剖析之多層積層膜之穿透軸及反射軸之個別之穿透光譜之圖展示於圖4。
圖1展示1B單調增加區域之斜率1B對1A單調增加區域之斜率1A之比1B/1A為0.5，2B單調增加區域之斜率2B對2A單調增加區域之斜率2A之比2B/2A為3.0之層厚度剖析。又，圖2展示具有圖1所示之層厚度剖析之多層積層膜之穿透軸之穿透光譜(點線)及反射軸之穿透光譜(實線)。藉由圖2所示之穿透光譜所算出之多層積層膜之偏光度為85.0%，波長380~780nm內之反射軸之平均穿透率為9.6%(平均反射率為90.4%)。
即，可謂本揭示之多層積層膜在波長380~780nm之寬廣範圍下具有反射波長頻帶。
又，圖3展示1B單調增加區域之斜率1B對1A單調增加區域之斜率1A之比1B/1A為0.5，2B單調增加區域之斜率2B對2A單調增加區域之斜率2A之比2B/2A為6.8之層厚度剖析。又，圖4展示具有圖3所示之層厚度剖析之多層積層膜之穿透軸之穿透光譜(點線)及反射軸之穿透光譜(實線)。藉由圖4所示之穿透光譜所算出之多層積層膜之偏光度為91.0%，波長380~780nm下之反射軸之平均穿透率為6.8%(平均反射率為93.2%)。
即，可謂本揭示之多層積層膜在波長380~780nm之寬廣範圍下具有反射波長頻帶。
如圖1及圖3所例示，構成第1單調增加區域之具有斜率1A之1A單調增加區域及具有斜率1B之1B單調增加區域係將光學厚度100nm作為分界，且滿足比1B/1A為超過0但未滿0.8之連續區域。又，構成第2單調增加區域之具有斜率2A之2A單調增加區域及具有斜率2B之2B單調增加區域係將光學厚度200nm作為分界，且滿足比2B/2A為超過1.5且10以下之連續區域。
藉由同時滿足上述斜率之比1B/1A之範圍與2B/2A之範圍，而可取得保持寬廣反射波長頻帶，且具有高偏光度之多層積層膜。此係由藉由同時滿足上述斜率之比，而可實現具有寬闊反射波長頻帶，且更高反射率之多層積層膜所致。過往，作成高反射率時，反射波長頻帶有變狹窄之傾向，但本揭示之一實施形態為可保持寬廣反射波長頻帶，且取得高偏光度者。
若增加層數，理論上可為寬廣反射波長頻帶且可作成高偏光度，層數之增加通常變得必須變更設備。因此，關於本實施形態之多層積層膜，若將上述斜率之比1B/1A調整成超過0且未滿0.8，及將上述斜率之比2B/2A調整成超過1.5且10以下，即使係既存之設備也能製作保持寬廣反射波長頻帶且具有高偏光度之多層積層膜，又，也能在不使既存之多層積層膜之層數變更之狀態下進行製作。
尚且，本揭示中層厚度剖析之斜率係指藉由以下方法所得之一次近似直線之斜率。即，將第1層之1A單調增加區域之層厚度剖析之一次近似直線之斜率設為1A，1B單調增加區域之層厚度剖析之一次近似直線之斜率設為1B，並從取得之值求出1B/1A。又，將第2層之2A單調增加區域之層厚度剖析之一次近似直線之斜率設為2A，將2B單調增加區域之層厚度剖析之一次近似直線之斜率設為2B，並從取得之值求出2B/2A。又，本揭示之一實施形態中，也能如後述般藉由併合(doubling)等來增加層數，但在此種情況時，只需觀看關於1個封包(packet)之層厚度剖析即可，該1個封包係可成為多層交互積層體。封包在觀看多層積層膜全體之層厚度剖析時，例如，若相同之層厚度剖析之部分為複數者，則可分別視為封包，被中間層等所區隔之各個多層構造部分則可視為相異之封包。
關於第1層，藉由在第1單調增加區域中，將分界作為100nm之光學厚度，且將光學厚度較薄範圍之1A單調增加區域之斜率與光學厚度較厚範圍之1B單調增加區域之斜率之比作成特定範圍，而變得能擴大對應該第1單調增加區域之波長區域，提升高視感度波長550nm附近之反射強度，且提高偏光度。在此，藉由將分界作成100nm，而變得能更加提高波長550nm附近之反射強度。對於第1層而言，分界若位於150nm或200nm時，則有上述波長區域下之反射強度之提升效果變低，偏光度之提升效果變低的傾向。
關於第2層，藉由在第2單調增加區域中，將分界作為200nm之光學厚度，且相對於光學厚度較薄範圍之2A單調增加區域之斜率，而將光學厚度較厚範圍之2B單調增加區域之斜率作成特定範圍，而可擴大反射波長頻帶，且變得容易取得高偏光度。
另一方面，斜率之比在超過特定範圍時，則有變的過度擴大反射頻帶，而偏光度降低的傾向。又，在此將分界作成200nm，與斜率2A及2B之關係中，藉由相對性縮小斜率2A，而變得能均勻地調整反射強度。又，藉由相對性增大斜率2B，且藉由擴大反射波長頻帶，並同時利用稱為2次反射、3次反射之高次反射，而變得能使目的之波長區域之反射強度增加。
從此種觀點，1B/1A之比值為超過0未滿0.8，以例如下限值係作成0.01、0.02或0.30之態樣，上限值係作成0.79、0.70或0.65之態樣，及組合該等任意之下限值及上限值之態樣為佳。更具體而言，以作成0.01~0.79範圍之態樣、作成0.02~0.70範圍之態樣、作成0.30~0.65範圍之態樣等為佳。
又，2B/2A之比之值為超過1.5且10以下，以例如下限值係作成1.51、1.60、3或3.10之態樣，上限值係作成10、9.45、8或7.7之態樣，及組合該等任意之下限值及上限值之態樣為佳。更具體而言，以作成1.51~10範圍之態樣、作成1.60~9.45範圍之態樣、作成3~8範圍之態樣，作成3.10~7.7範圍之態樣等為佳。
本揭示中，作為2B/2A之比值，也可例示超過1.5未滿5之範圍作為較佳範圍。於該範圍中，以例如下限值係作成1.51、1.60、3或3.10之態樣、上限值係作成4.5、4、3.5或3.2之態樣，及組合該等任意之下限值及上限值之態樣為佳。
又，本揭示中，作為2B/2A之比值，也例示5以上10以下之範圍作為較佳範圍。於該範圍中，以例如下限值係作成5、6、7或7.5之態樣，上限值係作成10、9.45、8或7.7之態樣，及組合該等任意之下限值及上限值之態樣為佳。
此種層厚度剖析係可藉由調整送料機構(feedblock)中之梳齒等而得。
第1單調增加區域中，至光學厚度100nm為止之範圍之1A單調增加區域之斜率1A係以1.05~30.0為佳，較佳為1.10~28.0，更佳為1.20~26.0。又，光學厚度從100nm起始之範圍之1B單調增加區域之斜率1B係以0.50~1.20為佳，較佳為0.60~1.10，更佳為0.70~0.99。藉此操作，由上述斜率之比而得之效果更加優異，可更加抑制偏光度之降低。
第2單調增加區域中，至光學厚度200nm為止之範圍之2A單調增加區域之斜率2A係以0.80~2.0為佳，較佳為0.90~1.8，更佳為0.95~1.7。又，光學厚度從200nm起始之範圍之2B單調增加區域之斜率2B係以2.0~11.0為佳，較佳為2.2~10.5，更佳為2.4~10.0。藉此操作，由上述斜率之比而得之效果更加優異，可更加抑制偏光度之降低。
第1單調增加區域中，1A單調增加區域之光學厚度之較薄側之端之層係以光學厚度(nm)在40~60為佳，較佳為43~57，更佳為46~54。又，1B單調增加區域之光學厚度之較厚側之端之層係以光學厚度在180~220為佳，較佳為185~215，更佳為190~210。藉此操作，由上述斜率之比而得之效果更加優異，可更加抑制偏光度之降低。又，可作成寬廣反射波長頻帶。
第2單調增加區域中，2A單調增加區域之光學厚度之較薄側之端之層係以光學厚度(nm)在70~90為佳，較佳為74~86，更佳為78~82。又，2B單調增加區域之光學厚度之較厚側之端之層係以光學厚度在295~385為佳，較佳為310~370，更佳為325~355。藉此操作，由上述斜率之比而得之效果更加優異，可更加抑制偏光度之降低。又，可作成寬廣反射波長頻帶。
第1層之光學厚度之平均(以下，亦稱為平均光學厚度)係以在第1單調增加區域中，1A單調增加區域為65nm~85nm，1B單調增加區域為140nm~160nm為佳。藉由作成此種構成，變得容易達成如上述之由第1層之層厚度剖析所得之效果，抑制偏光度降低之效果更加提升。
第2層之光學厚度之平均(以下，亦稱為平均光學厚度)係以在第2單調增加區域中，2A單調增加區域為130nm~155nm，2B單調增加區域為250nm~290nm為佳。藉由作成此種構成，變得容易達成如上述之由第2層之層厚度剖析所得之效果，抑制偏光度降低之效果更加提升
並且藉由同使滿足該等，而可取得顯示更高偏光度之多層積層膜。
上述第1層之光學厚度之平均在從更加容易達成上述效果之觀點，以1A單調增加區域與1B單調增加區域係分別係67nm~83nm與143nm~157nm為佳。更佳係分別為69nm~81nm與146nm~154nm。
上述第2層之光學厚度之平均在從更加容易達成上述效果之觀點，以2A單調增加區域與2B單調增加區域分別係133nm~152nm與255nm~285nm為佳。更佳係分別為136nm~149nm與260nm~280nm。
[單調增加區域]
本揭示中「單調增加」係指在多層積層膜中之多層交互積層體之全體中，以較厚側之層變得比較薄側之層還厚為佳，但不受限於此，只要觀看全體從厚度較薄側往較厚側會發現厚度增加之傾向即可。更具體而言，光學厚度從較薄側朝向較厚側之方式對層附加號碼，並且將此作為橫軸，將各層之膜厚作為縱軸進行作圖時，將在膜厚顯示增加傾向之範圍內之層數分成5等分，在膜厚變厚之方向上，等分後之各區之膜厚之平均值皆為增加之情況，則視為單調增加，並非此情況者則視為非單調增加。
尚且，第1層與第2層係各自個別觀看即可，第1層之單調增加與第2層之單調增加可為各自不同之斜率。又，關於上述單調增加，多層交互積層體之一側最表層至另一側之最表層為止之全體可為單調增加之態樣，也可為在多層交互積層體中，以層數計為80%以上，較佳為90%以上，更佳為95%以上之部分為單調增加之態樣，且其餘部分中厚度為固定或減少亦可。例如本揭示之實施例1係在100%之部分上為單調增加之態樣，但亦可為在該厚度剖析之層號碼為小之側及/或層號碼為大之側設有非單調增加之區域的態樣。
本揭示之一實施形態中，第1層之單調增加區域當中，將滿足上述之比1B/1A超過0未滿0.8之領域稱為第1單調增加區域，在第2層之單調增加區域當中，將滿足上述之比2B/2A超過1.5且10以下之區域稱為第2單調增加區域。
第1層與第2層在交互地受到多層積層而形成多層交互積層體時，第1層及第2層之單調增加區域之範圍只要係作為多層交互積層體具有藉由光學干涉而能反射波長380~780nm之光的範圍即可。又，第1層及第2層之單調增加區域之範圍在形成多層交互積層體之際，亦可具有超出能反射波長380~780nm之光之範圍的廣度。
[多層積層膜之構成]
[第1層]
構成本揭示之一實施形態之多層積層膜之第1層為雙折射性之層，即構成此之樹脂(本揭示中亦稱為第1樹脂)為能形成雙折射性之層者。因此，作為構成第1層之樹脂，以配向結晶性之樹脂為佳，作為該配向結晶性之樹脂，尤其係以聚酯為佳。由於可容易作成高折射率之層，藉此而容易擴大與第2層之折射率差，故該聚酯係在將構成其之重複單位作為基準，以在80莫耳%以上、100莫耳%以下之範圍內，較佳係含有對苯二甲酸乙二酯單位及/或萘二甲酸乙二酯單位，更佳係含有萘二甲酸乙二酯單位為理想。在此，在併用樹脂之情況則為合計之含量。
(第1層之聚酯)
作為第1層之較佳聚酯，以含有萘二羧酸成分作為二羧酸成分，且該含量係在將構成該聚酯之二羧酸成分當作基準在80莫耳%以上、100莫耳%以下為佳。作為該萘二羧酸成分，可舉出如2,6-萘二羧酸成分、2,7-萘二羧酸成分、或由該等之組合所衍生之成分，或該等之衍生物成分，尤其係較佳可例示如2,6-萘二羧酸成分或其衍生物成分。萘二羧酸成分之含量係以85莫耳%以上為佳，較佳為90莫耳%以上，又，以未滿100莫耳%為佳，較佳為98莫耳%以下，更佳為95莫耳%以下。
作為構成第1層之聚酯之二羧酸成分，除了萘二羧酸成分以外，在不損及本揭示之目的範圍，亦可含有對酞酸成分、異酞酸成分等，其中亦以含有對酞酸成分為佳。含量係以超過0莫耳%，20莫耳%以下之範圍為佳。該第2之二羧酸成分之含量係較佳為2莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，又，較佳為15莫耳%以下，更佳為10莫耳%以下。
在使用作為液晶顯示器等所使用之亮度提升構件或反射型偏光板時，第1層具有比第2層還相對性高折射率特性之層，第2層為具有比第1層還相對性低折射率特性之層，又以朝單軸方向拉伸為佳。尚且，於此情況，本揭示中，有將單軸拉伸方向稱為X方向，將在膜面內與X方向正交之方向稱為Y方向(亦稱為非拉伸方向)、將相對於膜面為垂直之方向稱為Z方向(亦稱為厚度方向)的情況。
第1層藉由使用如上述般含有萘二羧酸成分作為主成分之聚酯，而在X方向顯示高折射率並同時實現高單軸配向性之雙折射率特性，且在X方向上擴大與第2層之折射率差，而賦予高偏光度。另一方面，萘二羧酸成分之含量在不滿足下限值時，則有非晶性之特性變大，X方向之折射率nX與Y方向之折射率nY之差異變小的傾向，故本揭示中之P偏光成分會有變得難以取得充分反射性能的傾向，該P偏光成分係定義成在多層積層膜中，將膜面視為反射面且相對於包含單軸拉伸方向(X方向)之入射面為平行之偏光成分者。尚且，本揭示中之S偏光成分係指定義成在多層積層膜中，定義成將膜面視為反射面，相對於包含單軸拉伸方向(X方向)之射面為垂直之偏光成分。
作為構成第1層之較佳聚酯之二醇成分，使用如乙二醇成分，且其含量係在將構成該聚酯之二醇成分當作基準，以80莫耳%以上100莫耳%以下為佳，較佳為85莫耳%以上100莫耳%以下，更佳為90莫耳%以上100莫耳%以下，特佳為90莫耳%以上98莫耳%以下。該二醇成分之比例在不滿下限值時，會有損及前述單軸配向性之情況。
作為構成第1層之聚酯之二醇成分，除了乙二醇成分以外，在不損及本揭示之目的範圍，亦可更含有三亞甲基二醇成分、四亞甲基二醇成分、環己烷二甲醇成分、二乙二醇成分等。
(第1層之聚酯特性)
第1層所使用之聚酯之融點係以220~290℃之範圍為佳，較佳為230~280℃之範圍，更佳為240~270℃之範圍。融點係能以示差掃描熱量計(DSC)進行測量來求出。該聚酯之融點在超出上限值時，在進行熔融擠壓成形時會有流動性差，且吐出等容易變得不均勻化的情況。另一方面，融點在不滿足下限值時，製膜性雖為優異，但會有變得容易使聚酯具有之機械特性等受損，且難以展現使用作為液晶顯示器之亮度提升構件或反射型偏光板時之折射率特性的情況。
第1層所使用之聚酯之玻璃轉移溫度(以下，有稱為Tg之情況)係以80~120℃為佳，較佳為82~118℃，更佳為85~118℃，特佳為100~115℃之範圍。Tg若在此範圍時，耐熱性及尺寸安定性優異，且容易展示使用作為液晶顯示器之亮度提升構件或反射型偏光板時之折射率特性。該融點或玻璃轉移溫度係能藉由控制共聚合成分之種類與共聚合量、及副生成物之二乙二醇等來調整。
第1層所使用之聚酯使用o-氯酚溶液在35℃下測量之固有黏度係以0.50~0.75dl/g為佳，較佳為0.55~0.72dl/g，更佳為0.56~0.71dl/g。藉此，有變得容易具有適度配向結晶性的傾向，且有變得容易展現與第2層之折射率差的傾向。
[第2層]
構成本揭示之一實施形態之多層積層膜之第2層為等向性之層，即構成此之樹脂(本揭示中亦稱為第2樹脂)係能形成等向性之層者。因此，作為構成第2層之樹脂，以非晶性之樹脂為佳。其中亦以非晶性之聚酯為佳。尚且，在此「非晶性」並非係指排除具有極些微之結晶性者，而係只要會在達成本案發明之多層積層膜作為目的之機能之程度能將第2層作成等向性即可。
(第2層之共聚合聚酯)
作為構成第2層之樹脂，以共聚合聚酯為佳，尤其係以使用、包含萘二羧酸成分、乙二醇成分及三亞甲基二醇成分作為共聚合成分之共聚合聚酯為佳。尚且，作為該萘二羧酸成分，可舉出如2,6-萘二羧酸成分、2,7-萘二羧酸成分，或由該等之組合所衍生之成分，或該等之衍生物成分，尤其係較佳可例示如2,6-萘二羧酸成分或其衍生物成分。尚且，本揭示中之共聚合成分係意指構成聚酯之任一成分，而並非係限定於作為從屬成分(共聚合量係相對於全酸成分或全二醇成分為未滿50莫耳%)之共聚合成分，亦係包含主要成分(共聚合量係相對於全酸成分或全二醇成分為50莫耳%以上)所使用者。
本揭示之一實施形態中，如上述般，作為第2層之樹脂，以使用將萘二甲酸乙二酯單位作為主成分之聚酯為佳，此時，藉由使用包含萘二羧酸成分之共聚合聚酯作為第2層之樹脂，由於會有與第1層之相溶性變高，與第1層之層間密著性提升之傾向，變得不易產生層間剝離而為佳。
第2層之共聚合聚酯係以二醇成分包含乙二醇成分與三亞甲基二醇成分之至少2種成分為佳。其中，在從膜製膜性等之觀點，以使用乙二醇成分作為主要二醇成分為佳。
本揭示之一實施形態之第2層之共聚合聚酯係以更含有三亞甲基二醇成分作為二醇成分為佳。藉由含有三亞甲基二醇成分，而會彌補層構造之彈性，提高抑制層間剝離之效果。
該萘二羧酸成分，較佳係2,6-萘二羧酸成分係以構成第2層之共聚合聚酯之全羧酸成分之30莫耳%以上100莫耳%以下為佳，較佳為30莫耳%以上80莫耳%以下，更佳為40莫耳%以上70莫耳%以下。藉此，可更加提高與第1層之密著性。萘二羧酸成分之含量若不滿足下限時，從相溶性之觀點，有密著性降低之情況。又，萘二羧酸成分之含量上限並無特別限制，在若過多時則有變得難以展現與第1層之折射率差的傾向。尚且，為了調整與第1層之折射率之關係，也可使其他二羧酸成分進行共聚合。
乙二醇成分係以構成第2層之共聚合聚酯之全二醇成分之50莫耳%以上95莫耳%以下為佳，較佳50莫耳%以上90莫耳%以下，更佳為50莫耳%以上85莫耳%以下，特佳為50莫耳%以上80莫耳%以下。藉此，有變得容易展現與第1層之折射率差的傾向。
三亞甲基二醇成分係以構成第2層之共聚合聚酯之全二醇成分之3莫耳%以上50莫耳%以下為佳，以5莫耳%以上40莫耳%以下為較佳，較佳為10莫耳%以上40莫耳%以下，特佳為10莫耳%以上30莫耳%以下。藉此，能更加提高與第1層之層間密著性。又，有變得容易展現與第1層之折射率差的傾向。三亞甲基二醇成分之含量若不滿足下限時，有變得難以確保層間密著性之傾向，在超過上限時，會變得難以作成所欲折射率與玻璃轉移溫度之樹脂。
本揭示之一實施形態之第2層只要在不損及本揭示目的之範圍，在將第2層之質量作為基準10質量%以下之範圍內，亦可含有該共聚合聚酯以外之熱可塑性樹脂作為第2之聚合物成分。
(第2層之聚酯特性)
本揭示之一實施形態中，上述之第2層之共聚合聚酯係以具有85℃以上之玻璃轉移溫度為佳，較佳為90℃以上150℃以下，更佳為90℃以上120℃以下，特佳為93℃以上110℃以下。藉此，耐熱性更佳優異。又，有變得容易展現與第1層之折射率差的傾向。第2層之共聚合聚酯之玻璃轉移溫度在不滿足下限時，有無法取得充分耐熱性的情況，例如當包含90℃附近之熱處理等之步驟時，因第2層之結晶化或脆化而使霧度上升，從而有伴隨使用作為亮度提升構件或反射型偏光板時之偏光度降低的情況。又，第2層之共聚合聚酯之玻璃轉移溫度若過高時，於拉伸時第2層之聚酯也有因拉伸而生成雙折射性的情況，伴隨於此，有在拉伸方向上與第1層之折射率差變小，反射性能降低的情況。
上述共聚合聚酯之中，從在90℃×1000小時之熱處理下能極優異地抑制因結晶化造成之霧度上升的觀點，以非晶性之共聚合聚酯為佳。在此所謂之非晶性係指DSC中以升溫速度20℃/分使其升溫時之結晶融解熱量為未滿0.1mJ/mg。
作為第2層之共聚合聚酯之具體例，可舉出如(1)包含2,6-萘二羧酸成分作為二羧酸成分，且包含乙二醇成分及三亞甲基二醇成分作為二醇成分之共聚合聚酯、(2)包含2,6-萘二羧酸成分及對酞酸成分作為二羧酸成分，包含乙二醇成分及三亞甲基二醇成分作為二醇成分之共聚合聚酯。
第2層之共聚合聚酯使用o-氯酚溶液在35℃下測量之固有黏度係以0.50~0.70dl/g為佳，更佳為0.55~0.65dl/g。第2層使用之共聚合聚酯在具有三亞甲基二醇成分作為共聚合成分時，有製膜性降低的情況，藉由將該共聚合聚酯之固有黏度作成上述範圍，而能更加提高製膜性。作為第2層在使用上述之共聚合聚酯時之固有黏度，在從製膜性之觀點，以較高者為佳，但若在超過上限之範圍時，有與第2層之聚酯之熔融黏度差變大，而各層之厚度變得不均勻的情況。
[其他之層]
(最外層)
本揭示之一實施形態之多層積層膜也可在單側或兩側之表面具有最外層。該最外層係將樹脂作為主體。尚且，在此「將樹脂為主體」係指在層中，樹脂占層全質量之70質量%以上，較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上。又，最外層係以等向性之層為佳，從製造上之容易性之觀點，亦可與第2層為相同之樹脂，可由上述第2層之共聚合聚酯來構成，並以此種態樣為佳。
(中間層)
本揭示之一實施形態之多層積層膜亦可具有中間層。
該中間層於本揭示中有稱為內部厚膜層等之情況，意指存在於第1層與第2層之交互積層構成之內部的厚膜層。尚且，在此厚膜係指光學性為厚膜。本揭示中，可較佳採用在製造多層積層膜之初期段階，於交互積層構成之兩側形成膜厚為厚之層(有稱為厚度調整層、緩衝層的情況)，其後藉由併合來增加積層數之方法，於此情況，變成膜厚為厚之層彼此被2層積層而形成中間層，形成於內部之厚膜層成為中間層，而形成於外側之厚膜層則成為最外層。
中間層例如層厚度係以5μm以上為佳，又，以100μm以下為佳，較佳係以50μm以下之厚度為佳。於第1層與第2層之交互積層構成之一部分具有此種中間層時，可不對偏光機能造成影響，而變得容易均勻地調整構成第1層及第2層之各層厚度。中間層可為與第1層、第2層之任一層為相同組成，或可為部分地包含該等組成之組成，且由於層厚度為厚，故部會提供反射特性。另一方面，由於會對穿透特性造成影響，故在層中含有粒子時，考量到光線穿透率後選擇粒子徑或粒子濃度即可。
該中間層之厚度若不滿足下限時，多層構造之層構成會有產生紊亂的情況，而有反射性能降低的情況。另一方面，該中間層之厚度在超過上限時，有多層積層膜全體之厚度變厚，使用作為薄型液晶顯示器之反射型偏光板或亮度提升構件時不易省空間的情況。又，在多層積層膜內包含複數中間層時，個別之中間層之厚度係以上述範圍之下限以上為佳，又中間層之厚度之合計係以上述範圍之上限以下為佳。
中間層所使用之聚合物只要係可使用本揭示之多層積層膜之製造方法使其存在於多層構造中，即也可使用與第1層或第2層為相異之樹脂，但從層間接著性之觀點，以與第1層或第2層之任一層為相同組成，或部分地包含該等組成之組成為佳。
該中間層之形成方法並無特限定，例如在進行併合前之交互積層構成之兩側設置膜厚為厚之層，並使用稱為層併合區塊(layer doubling block)之分支區塊在垂直於交互積層方向之方向上將此2分割，藉由將此等在交互積層方向進行再積層而可設置1層中間層。藉由利用相同手法進行3分割、4分割，也能設置複數之中間層。
(塗布層)
本揭示之一實施形態之多層積層膜可在至少一側之表面具有塗布層。
作為該塗布層，可舉出賦予滑動性用之易滑層，或賦予與稜鏡層或擴散層等之接著性用之引體層(primer)等。塗布層包含黏合劑成分，且為了賦予滑動性，例如宜可含有粒子。為了賦予易接著性，可舉出如將所使用之黏合劑成分構成為化學性地接近所欲接著之層之成分者。又，形成塗布層用之塗布液在從環境之觀點，以將水作為溶劑之水系塗布液為佳，尤其在此種情況等，以提升相對於積層多層膜之塗布液之濕潤性為目的，可含有界面活性劑。其他，為了提高塗布層之強度，也可添加如交聯劑等之添加機能劑。
[多層積層膜之製造方法]
詳述關於本揭示之一實施形態之多層積層膜之製造方法。尚且，在此以下所示之製造方法僅為一例，且本揭示並非係受限於此。又，關於不同態樣，皆係可參照以下內容來取得。
本揭示之一實施形態之多層積層膜係使用多層送料機構裝置，在熔融狀態下將構成第1層之聚合物與構成第2層之聚合物交互地重疊，例如，作成合計30層以上之交互積層構成，並於其兩面設置緩衝層，其後使用稱為層併合之裝置，將具有該緩衝層之交互積層構成進行例如2~4分割，以具有該緩衝層之交互積層構成作為1區塊，並以使區塊之積層數(併合數)成為2~4倍之方式再次積層，藉此方法增加積層數而可取得。根據該方法，可取得：於多層構造內部積層2層緩衝層彼此之中間層，與在兩面具有由1層緩衝層所構成之最外層之多層積層膜。
該多層構造係以第1層與第2層之各層厚度具有所欲傾斜構造之方式來積層。此例如於多層送料機構裝置中，可藉由改變狹縫之間隔或長度而得。例如、第1層及第2層由於在至少2個光學厚度區域具有相異斜率之變化率，故在該多層送料機構中，只要以具有至少1個以上之反曲點之方式來調整狹縫之間隔或長度即可。
利用上述方法積層成所欲之積層數後，從模具擠壓出並在鑄造滾筒上冷卻而取得多層未拉伸膜。多層未拉伸膜係以在製膜機械軸方向，或對此在在膜面內為正交之方向(有橫方向、寬方向或TD的情況)之至少單軸方向(該單軸方向為沿著膜面之方向)上拉伸為佳。拉伸溫度係以在第1層之聚合物之玻璃轉移溫度溫度(Tg)~(Tg+20)℃之範圍內進行為佳。藉由比起過往更低之溫度下進行拉伸，可更高度地控制膜之配向特性。
拉伸倍率係以在2.0~7.0倍下進行為佳，更佳為4.5~6.5倍。由於在該範圍內拉伸倍率越大，第1層及第2層之個別之層在面方向之折射率之不均會藉由因拉伸所成之薄層化而變小，多層積層膜之光干涉在面方向會被均勻化，且第1層與第2層之拉伸方向之折射率差變大，故為佳。此時之拉伸方法係可使用利用棒狀加熱器之加熱拉伸、輥加熱拉伸、拉幅機拉伸等公知之拉伸方法，但從減少與輥之接觸所造成之傷痕或拉伸速度等之觀點，以拉幅機拉伸為佳。
又，也在該拉伸方向與膜面內為正交之方向(Y方向)上施加拉伸處理而進行雙軸拉伸時，雖會根據用途而不同，但在欲使其具備反射偏光特性時，以止於1.01~1.20倍程度之拉伸倍率為佳。若Y方向之拉伸倍率高過於此以上時，有偏光性能降低的情況。
又，於拉伸後再以(Tg)~(Tg+30)℃之溫度進行熱固定並同時在5~15%之範圍在拉伸方向外展(再拉伸)，藉此可高度地控制取得之多層積層膜之配向特性。
本揭示之一實施形態中，在設置上述塗布層時，可在任意之階段實施對多層積層膜之塗布，以在膜之製造過程中實施為佳，以對在拉伸前之膜塗布為佳。
如此而取得本揭示之一實施形態之多層積層膜。
尚且，在為使用於金屬光澤膜或反射鏡之用途之多層積層膜時，以作成雙軸拉伸膜為佳，此時可為逐次雙軸拉伸法、同時雙軸拉伸法之任一者。又，拉伸倍率係以第1層及第2層之各層之折射率及膜厚會達成所欲之反射特性之方式來調整即可，例如考量到構成該等層之樹脂之通常折射率時，將縱方向及橫方向一同作成2.5~6.5倍程度即可。
[用途]
以下，說明關於本揭示之多層積層膜能較佳使用之用途。本揭示之多層積層膜係以使用作為亮度提升構件或反射型偏光板為特佳。
(作為亮度提升構件之用途)
本揭示之多層積層膜藉由作成上述之聚合物組成或層構成、配向之態樣，而可達成選擇性反射一側之偏光成分，且可使與該偏光成分為垂直方向之偏光成分選擇性地穿透的性能。更具體而言為經單軸拉伸之態樣。利用該性能，而可使用作為液晶顯示器等之亮度提升構件。在使用作為亮度提升構件時，一側之偏光成分會穿透，另一側之未穿透之偏光成分不會被吸收，藉此反射至光源側，而能再利用光，進而取得良好之亮度提升效果。
又，亦可在本揭示之多層積層膜之至少一側之面積層稜鏡層或擴散層等之硬化性樹脂層。在此，硬化性樹脂層為熱硬化性樹脂層或電子線硬化性樹脂層。於此之際，也能隔著具有引體層機能等之塗布層來積層該等稜鏡層或擴散層，並以此為佳。
藉由使用本揭示之多層積層膜與稜鏡層等之構件貼合，或在本揭示之多層積層膜之表面形成稜鏡等，且予以單元化，能減少在組裝時之構件數，且能更加薄化液晶顯示器之厚度。又，藉由使用本揭示之多層積層膜來該等構件貼合，由於能抑制在加工時等施加之外力所導致之層間剝離，故可提供更高信賴性之亮度提升構件。
使用本揭示之多層積層膜作為亮度提升構件時，可例示如在液晶顯示器之光源，與由偏光板/液晶單元/偏光板所構成之液晶面板之間配置亮度提升構件之態樣之液晶顯示器裝置。在更加設置稜鏡層或稜鏡時，以在亮度提升構件之液晶面板側配置稜鏡層或稜鏡為佳。
(作為反射型偏光板之用途)
本揭示之多層積層膜係可與吸收型偏光板併用，或單獨使用而作為液晶顯示器等之偏光板。尤其，對於提高反射偏光性能，且具有後述之偏光度(P)成為85%以上，較佳成為90%以上，更佳成為99.5%以上之高偏光度者，能不併用吸收型偏光板，而單獨使用作為鄰接於液晶單元而使用之液晶顯示器之偏光板。
作為本揭示之積層多層膜之用途，更具體而言，可舉出如依照由本揭示之積層多層膜所構成之第1偏光板、液晶單元、及第2偏光板之順序積層而成之液晶顯示器。
[實施例]
以下，例舉實施例說明本揭示之實施形態，但本揭示並非係受到以下展示之實施例所限制者。尚且，實施例中之物性或特性係根據下述之方法測量或評價。
(1)各層之厚度
將多層積層膜切出膜長度方向2mm、寬方向2cm，並固定於包埋膠囊後，包埋於環氧樹脂(RefineTec(股)製Epomount)中，將經包埋之試樣以切片機(LEICA製ULTRACUT UCT)在寬方向上垂直地切斷，而作成50nm厚之薄膜切片。使用穿透型電子顯微鏡(日立S-4300)在加速電壓100kV下觀察攝影，並從照片測量各層之厚度(物理厚度)。
對於超過1μm之厚度之層，將存在於多層構造內部者作為中間層，將存在於最表層者作為最外層，測量個別之厚度。
使用上述取得之各層之物理厚度之值，與藉由下述(2)所求得之各層之折射率(nX)之值，並將該等代入於上述(式2)來求出各層之光學厚度，關於第1層，於單調增加區域中，個別求出關於光學厚度較薄側之邊端~100nm之範圍及100nm~較厚側之邊端之範圍的平均光學厚度。對於第2層也係同樣地操作，在單調增加區域中，個別求出關於光學厚度較薄側之邊端~200nm之範圍及200nm~較厚側之邊端之範圍的平均光學厚度
尚且，是第1層或第2層係能藉由折射率之態樣進行判斷，在難以判斷時，也能藉由利用NMR之解析，或利用TEM之解析而得之電子狀態來進行判斷。
(2)各方向之拉伸後之折射率
多層積層膜之第1層及第2層之折射率係在與取得之多層積層膜之製造條件相同之條件下作成層之厚度比率為1：1之2層積層膜，將將使用此所測量之第1層及第2層之折射率分別求出作為多層積層膜之第1層及第2層之折射率。
例如，本實施形態中，除了作成厚度比率為第1層：第2層=1：1之2層積層膜以外，其係與後述實施例1相樣之條件下作成合計厚度75μm之膜，並對於個別之第1層、第2層，使用Metricon製稜鏡耦合器，分別於拉伸方向(X方向)於其之正交方向(Y方向)、厚度方向(Z方向)上測量各折射率(分別設為nX、nY、nZ)而求出波長633nm處之折射率，且設為第1層及第2層個別之拉伸後之折射率。
(3)單調增加之判斷
對於個別第1層與第2層，將各層之光學厚度之值輸入於縱軸，並將各層之層號碼輸入於橫軸時之層厚度剖析之任意區域中，將在膜厚顯示增加傾向之範圍內之層數作成5等分，於膜厚變厚之方向上，等分後之各區上之膜厚之平均值經全部增加時則視為單調增加，除此之外視為非單調增加。
在此，在第1層之上述單調增加區域中，確定較薄側之邊端之層及較厚側之邊端之層，並將從光學厚度較薄側之邊端至100nm之範圍中之層厚度剖析之一次近似直線之斜率設為1A，將光學厚度超過100nm至較厚側之邊端為止之範圍中之層厚度剖析之一次近似直線之斜率設為1B。又，在第2層之上述單調增加區域中，確定較薄側之邊端之層及較厚側之邊端之層，並將光學厚度較薄側之邊端至200nm之範圍中之層厚度剖析之一次近似直線之斜率設為2A，將光學厚度超過200nm至較厚側之邊端為止之範圍中之層厚度剖析之一次近似直線之斜率設為2B。從該等取得之值求出1B/1A及2B/2A。
(4)平均反射率
使用偏光膜測量裝置(日本分光股份有限公司製「VAP7070S」)，測量取得之多層積層膜之反射光譜。尚且，測量係使用點徑調整用罩Φ1.4、及偏角台，測量光之入射角設定為0度，並於波長380~780nm之範圍以5nm間隔來測量與藉由正交偏光搜尋(650nm)確定之多層積層膜之穿透軸為正交之軸(稱為反射軸)在各波長之穿透率。於波長380~780nm之範圍中取出穿透率之平均值，並將從平均穿透率減去100之值設為法線入射時之反射軸之平均反射率。平均反射率若為50%以上，則判斷於經測量之多層積層膜之反射軸上能反射。使用於亮度提升構件等之光學用時，該平均反射率為85%以上，較佳為87%以上，更佳為90%以上。
(5)波長750~850nm下之穿透率之最大值
使用分光光度計(島津製作所製，UV-3101PC及MPC-3100)，分別測量在波長300nm至1200nm範圍中之，取得之多層積層膜之穿透軸上之穿透率，及，與該穿透軸為正交之軸(反射軸)上之穿透率，而取得分光光譜。尚且，測量光之入射角係設定成0度。
從斜面方向(從入射角度為45度~60度之方向)觀察膜時，根據光譜向短波長側之位移，波長750~850nm之範圍則為在可見光區域(尤其係紅色區域)之波長範圍。因此，該波長範圍中穿透率之最大值為大時，從斜面方向觀測多層積層膜時，多層積層膜之著色有變得更加顯著的傾向。從斜面方向觀察多層積層膜時著色顯著一事，即意指反射波長頻帶狹窄。從該觀點，波長750~850nm中之穿透率之最大值係以53%以下為佳，較佳為50%以下，更佳為47%以下，再更佳為44%以下。
(6)偏光度
使用偏光膜測量裝置(日本分光股份有限公司製「VAP7070S」)，測量取得之多層積層膜之視感度補正偏光度，而作為偏光度(P)(單位：%)。尚且，測量係使用點徑調整用罩Φ1.4，及偏角台，將測量光之入射角設定成0度，根據藉由正交偏光搜尋(650nm)確定之多層積層膜之穿透軸，及，與該穿透軸為正交之軸之個別平均穿透率(波長範圍400~800nm)來算出者。
在此，偏光度(P)係以77%以上為佳。使用於亮度提升構件等之光學用時，以78%以上為佳，較佳為80%以上，更佳為85%以上。
[製造例1]聚酯A
作為第1層用聚酯，使2,6-萘二羧酸二甲基酯、對酞酸二甲基酯，及乙二醇在四丁氧基化鈦之存在下進行酯交換反應，其後接續進行聚縮合反應，而準備出酸成分之95莫耳%為2,6-萘二羧酸成分、酸成分之5莫耳%為對酞酸成分、二醇成分為乙二醇成分之共聚合聚酯(固有黏度0.64dl/g)(o-氯酚，35℃，以下同樣)。
[製造例2]聚酯B
作為第2層用聚酯，使2,6-萘二羧酸二甲基酯、對酞酸二甲基酯，及乙二醇與三亞甲基二醇在四丁氧基化鈦之存在下進行酯交換反應，其後接續進行縮聚合反應，而準備出酸成分之50莫耳%為2,6-萘二羧酸成分、酸成分之50莫耳%為對酞酸成分、二醇成分之85莫耳%為乙二醇成分、二醇成分之15莫耳%為三亞甲基二醇成分之共聚合聚酯(固有黏度0.63dl/g)。
[實施例1]
使第1層用聚酯A在170℃下乾燥5小時後，並使第2層用聚酯B在85℃下乾燥8小時後，分別供給至第1、第2擠出機，加熱至300℃而作成熔融狀態，使第1層用聚酯分支成138層，且使第2層用聚酯分支成137層後，交互地積層第1層與第2層，且使用具備有成為如表1所示之層厚度剖析般之梳齒之多層送料機構裝置，作成總數275層之積層狀態之熔融體，在保持該積層狀態下，於該兩側上從第3擠出機將與第2層用聚酯相同之聚酯引導至3層送料機構，在層數275層之積層狀態(兩表層為第1層)之熔融體之積層方向之兩側上再積層緩衝層。以兩側之緩衝層之合計成為全體之47%之方式來調整第3擠出機之供給量。更藉由層併合區塊將該積層狀態予以2分支並以1：1之比率進行積層，而製作出內部包含中間層、最表層包含2個最外層之全層數553層之未拉伸多層積層膜。
將該未拉伸多層積層膜以130℃之溫度往寬方向拉伸5.9倍。取得之單軸拉伸多層積層膜之厚度為75μm。
[實施例2~8、比較例1~5]
除了以成為表1所示之層厚度剖析之方式來變更所使用之多層送料機構裝置以外，其他係與實施例1同樣地操作而取得單軸拉伸多層積層膜。
尚且，比較例1中，從第1層之層號碼29至層號碼138為止之區域，其厚度減少而並非係單調增加區域，但仍將該範圍視為1B單調增加區域來算出斜率1B/1A。
從表1可得知，實施例之多層積層膜在與比較例之多層積層膜相比，可取得保持寬廣反射波長頻帶，且具有高偏光度者。
根據本揭示之一實施形態，本揭示之多層積層膜藉由適當地設計交互積層之雙折射性層與等向性層之光學厚度，而變得能保持寬廣反射波長頻帶，並同時實現高偏光度。因此，在使用作為例如要求偏光性能之亮度提升構件、反射型偏光板等時，由於在寬廣反射波長頻帶中具有高偏光度，故能提供更高信賴性之亮度提升構件、液晶顯示器用偏光板等。
[圖1]展示本揭示之多層積層膜之層厚度剖析之一例的示意圖。
[圖2]展示本揭示之多層積層膜之穿透軸及反射軸之個別之穿透光譜的圖。
[圖3]展示本揭示之多層積層膜之層厚度剖析之一例的示意圖。
[圖4]展示本揭示之多層積層膜之穿透軸及反射軸之個別之穿透光譜的圖。
Claims (8)
- 一種多層積層膜，其係具有：包含第1樹脂之雙折射性之第1層與包含第2樹脂之等向性之第2層之多層交互積層體的多層積層膜，其特徵為具有藉由前述第1層與前述第2層之光學干涉而能反射位於波長380~780nm之光之層厚度剖析，前述第1層之光學厚度下之層厚度剖析為具有第1單調增加區域，前述第1單調增加區域係由最大光學厚度至100nm為止之1A單調增加區域及最小光學厚度超過100nm之1B單調增加區域所構成，前述1B單調增加區域之斜率1B對前述1A單調增加區域之斜率1A之比1B/1A為超過0未滿0.8，前述第2層之光學厚度下之層厚度剖析為具有第2單調增加區域，前述第2單調增加區域係由最大光學厚度至200nm為止之2A單調增加區域及最小光學厚度超過200nm之2B單調增加區域所構成，前述2B單調增加區域之斜率2B對前述2A單調增加區域之斜率2A之比2B/2A為超過1.5且10以下。
- 如請求項1之多層積層膜，其中前述1A單調增加區域之平均光學厚度為65nm以上85nm以下，前述1B單調增加區域之平均光學厚度為140nm以上160nm以下。
- 如請求項1或請求項2之多層積層膜，其中前述2A單調增加區域之平均光學厚度為130nm以上155nm以下，前述2B單調增加區域之平均光學厚度為250nm以上290nm以下。
- 如請求項1或請求項2之多層積層膜，其中前述比2B/2A為超過1.5未滿5。
- 如請求項3之多層積層膜，其中前述比2B/2A為超過1.5未滿5。
- 如請求項1或請求項2之多層積層膜，其中前述比2B/2A為5以上10以下。
- 如請求項3之多層積層膜，其中前述比2B/2A為5以上10以下。
- 如請求項1或請求項2之多層積層膜，其中在法線入射時經偏光成與反射軸為平行之光在380nm至780nm之波長區域中之平均反射率為85%以上。
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