TWI786616B - 化合物、包括其的抗反射膜以及顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
提供由化學式1表示的化合物、包括其的抗反射膜以及包括所述抗反射膜的顯示裝置。
Description
本揭露是有關於一種化合物、包括其的抗反射膜、以及包括所述抗反射膜的顯示裝置。
在典型的液晶顯示器（liquid crystal display，LCD）中，自白色光源發射的光穿過每個畫素的RGB濾色器以形成每種顏色的子畫素，並且可藉由對該些子畫素進行組合來產生RGB範圍內的顏色。
近年來，正在開發使用例如量子點及發射每個子畫素的顏色的有機-無機磷光體等發光體的新型顯示器。已經提出了使用紫外線（ultraviolet，UV）光源的方法及使用藍色光源的方法作為激發該些藍色、綠色及紅色光源的方法。
當使用UV光源時，由藍色、綠色及紅色發光體產生及實施每種顏色，但當使用藍色光源時，綠色及紅色是各自由發光體產生的顏色，而藍色畫素則原樣地透射光源。
在最近商業化或正在開發的包括量子點的顯示材料的情形中，使用藉由藍色光源或白色光源的綠色量子點及紅色量子點的光發射。含量子點的顯示裝置旨在藉由使用量子點材料來改善顏色再現性及亮度，並且已持續開發使用各種類型的光源的使用量子點發光的面板。此外，可根據面板配置中量子點材料的位置來改善視角。為提高量子點的發光效率，正在增加光源的強度方面或者在開發具有擴展的藍色區的光源方面開發下一代量子點顯示裝置。
在量子點顯示裝置中，到達量子點材料的光源的光譜對量子點的效率有極為密切的影響。由於每個光源的特性依據光源的類型而不同，因此在各種領域中都在繼續努力引入新的方式來提高每種光源的效率。
另一方面，在使用發光體的新型顯示器的情形中，必需降低外部光的反射率或調整由散射反射引起的面板顏色。為解決此問題，已經嘗試在構成面板的光學構件中使用染料。在將量子點用作發光體時，難以降低外部光的反射率或調整面板顏色。
因此，在新型顯示器的情形中，正引入改善亮度損失或顏色校正的抗反射膜，並且最近，嘗試另外應用花青系染料或偶氮系染料作為能夠吸收特定波長的光的染料，以最大化抗反射膜的低反射特性。
然而，花青系染料或偶氮系染料能夠吸收短波長區域中的光，但具有降低耐光性可靠性的問題，因此難以將其應用於抗反射膜。
實施例提供一種能夠吸收光源的藍色長波長區域及綠色短波長區域中的光的化合物。
另一實施例提供包含所述化合物的抗反射膜。
另一實施例提供包括所述抗反射膜的顯示裝置。
實施例提供由化學式1表示的化合物。
[化學式1]
在化學式1中，
R1
、R3
、R4
及R6
各自獨立地為氫原子或經取代或未經取代的C1至C20烷基，
R2
及R5
各自獨立地為氫原子或氰基，條件是R2
及R5
中的至少一者是氰基，
X為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷氧基、經取代或未經取代的C1至C20烷基、或經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且
L為二價配位體。
R2
及R5
可各自獨立地為氰基。
L可為兒茶酚系配位體、2,3-萘二酚系配位體或1,1’-聯-2-萘酚系配位體。
化學式1可由化學式A或化學式B表示：
[化學式A]
[化學式B]
在化學式A及化學式B中，
R1
、R3
、R4
及R6
各自獨立地為氫原子或經取代或未經取代的C1至C20烷基，
R2
及R5
各自獨立地為氫原子或氰基，條件是R2
及R5
中的至少一者為氰基，
X為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷氧基、經取代或未經取代的C1至C20烷基、或經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且
C1及C2各自獨立地為經取代或未經取代的芳族環。
X可為經取代或未經取代的C1至C20烷氧基、未經取代或被「未經取代的C1至C10烷基、經鹵素原子取代的C1至C10烷基、經C1至C5烷基取代的C1至C10烷基、未經取代的C1至C10烷氧基或其組合」取代的C1至C20烷基、或未經取代或被「未經取代的C1至C10烷基、經鹵素原子取代的C1至C10烷基、經C1至C5烷基取代的C1至C10烷基、未經取代的C1至C10烷氧基或其組合」取代的C6至C20芳基。
X可為未經取代的C1至C20烷氧基、未經取代的C1至C20烷基、未經取代的C6至C20芳基、被「未經取代的C1至C10烷基」取代的C6至C20芳基、被「鹵素原子」取代的C6至C20芳基、被「經鹵素原子取代的C1至C10烷基」取代的C6至C20芳基、或被「未經取代的C1至C10烷氧基」取代的C6至C20芳基。
C1及C2可各自獨立地為經取代或未經取代的苯環或經取代或未經取代的萘環。
C1及C2可各自獨立地為未經取代或被「鹵素原子、氰基、C1至C10烷基、*-C(=O)R'（R'為C1至C10烷基）或其組合」取代的苯環，或未經取代或被「鹵素原子、氰基、C1至C10烷基、*-C(=O)R'（R'為C1至C10烷基）或其組合」取代的萘環。
所述化合物可由化學式1-1-1至化學式1-1-8中的一者表示。
[化學式1-1-1]
[化學式1-1-2]
[化學式1-1-3]
[化學式1-1-4]
[化學式1-1-5]
[化學式1-1-6]
[化學式1-1-7]
[化學式1-1-8]
由化學式1表示的所述化合物可表現出在400奈米至530奈米處的吸收波長，並且可在所述吸收波長的490奈米至520奈米處具有最大吸收波長。
所述化合物可為染料。
另一實施例提供一種抗反射膜，所述抗反射膜包含由化學式1表示的所述化合物。
所述抗反射膜包括黏著層及位於所述黏著層上的抗反射層，並且由化學式1表示的所述化合物可包含在所述黏著層中。
所述抗反射膜包括黏著層、含染料層及位於所述含染料層上的抗反射層，並且由化學式1表示的所述化合物可包含在所述含染料層中。
另一實施例提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括所述抗反射膜。
所述顯示裝置可更包括含量子點層。
所述顯示裝置可更包括光源、濾色器及基板。
在所述顯示裝置中，所述含量子點層可設置在所述光源上，所述濾色器可設置在所述含量子點層上，所述基板可設置在所述濾色器上，並且所述抗反射膜可設置在所述基板上。
所述光源可為白色光源或藍色光源。
所述基板可包括玻璃基板。
在以下詳細描述中包括本發明的其他實施例。
藉由使用在藍色長波長區域及綠色短波長區域中具有吸收並且最大吸收波長為490奈米至520奈米、且更具體而言為500奈米至510奈米的化合物，不存在螢光，並且可藉由降低顯示裝置對外部光的反射率而改善耐光性可靠性，並且還可改善亮度損失及顏色再現性。
在下文中詳細闡述本發明的實施例。然而，該些實施例為示例性的，本發明不限於此，且本發明由申請專利範圍的範圍界定。
如本文所使用，當不另外提供具體定義時，「烷基」是指C1至C20烷基，「烯基」是指C2至C20烯基，「環烯基」是指C3至C20環烯基，「雜環烯基」是指C3至C20雜環烯基，「芳基」是指C6至C20芳基，「芳基烷基」是指C6至C20芳基烷基，「伸烷基」是指C1至C20伸烷基，「伸芳基」是指C6至C20伸芳基，「烷基伸芳基」是指C6至C20烷基伸芳基，「伸雜芳基」是指C3至C20伸雜芳基，且「烷氧基」是指C1至C20烷氧基。
如本文所使用，當不另外提供具體定義時，「經取代」是指至少一個氫經以下取代基代替：鹵素原子（F、Cl、Br、I）、羥基、C1至C20烷氧基、硝基、氰基、胺基、亞胺基、疊氮基、脒基、肼基、腙基、羰基、胺甲醯基、硫醇基、酯基、醚基、羧基或其鹽、磺酸基或其鹽、磷酸或其鹽、C1至C20烷基、C2至C20烯基、C2至C20炔基、C6至C20芳基、C3至C20環烷基、C3至C20環烯基、C3至C20環炔基、C2至C20雜環烷基、C2至C20雜環烯基、C2至C20雜環炔基、C3至C20雜芳基或其組合。
如本文所使用，當不另外提供具體定義時，「雜」是指在化學式中包括N、O、S及P中的至少一個雜原子。
如本文所使用，當不另外提供具體定義時，「(甲基)丙烯酸酯」是指「丙烯酸酯」及「甲基丙烯酸酯」兩者，且「(甲基)丙烯酸」是指「丙烯酸」及「甲基丙烯酸」。
如本文所使用，當不另外提供具體定義時，用語「組合」是指混合或共聚合。
如本文所使用，除非另外提供具體定義，否則當化學鍵未繪製在應給出處時，氫原子鍵結在所述位置。
在本說明書中描述數值範圍時，「X至Y」意指「大於或等於X且小於或等於Y」（X ≤且≤ Y）。
在本說明書中不是數字範圍的描述中，「X至Y」意指「自X至Y」。
在本說明書中，化合物（染料）的「最大吸收波長（λmax
）」是指當量測濃度為百萬分之十（10 ppm）的化合物（染料）在環己酮中的溶液的吸光度時出現最大吸光度的波長。最大吸光度可根據熟習此項技術者已知的方法來量測。
本文中所使用的「耐光性可靠性」藉由透光率的變化來評估。顯示裝置的透光率是在氙試驗箱（Q-SUN）中[光源燈：氙燈，照射強度：0.35瓦/平方公分，照射溫度：63℃，照射時間：500小時，以及照射方向：自抗反射膜側照射]的條件下照射前後在染料的最大吸收波長下量測的。
此外，如本文所使用，除非另外提供具體定義，否則「*」意指與相同或不同原子或化學式連接的部分。
根據實施例，提供由化學式1表示的化合物。
[化學式1]
在化學式1中，
R1
、R3
、R4
及R6
各自獨立地為氫原子或經取代或未經取代的C1至C20烷基，
R2
及R5
各自獨立地為氫原子或氰基，條件是R2
及R5
中的至少一者是氰基，
X為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷氧基、經取代或未經取代的C1至C20烷基、或經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且
L為二價配位體。
傳統上，已經嘗試藉由使用特定化合物來吸收螢光色以阻擋光源的特定波長區域來提高顯示裝置的顏色純度，但包括量子點的顯示裝置由於散射體的使用而具有不同的目的。含量子點的顯示裝置可降低反射率，以改善由散射體引起的外部光的反射，此有助於改善裝置的黑色可見度。具體而言，為降低反射率並使面板的RGB顏色純度的降低最小化，使用能夠吸收混合顏色（紫色/青色/螢光色/近紅外色（infrared ray，IR））的染料的抗反射膜是有效的。具體而言，對具有吸收波長範圍為480奈米至520奈米的青色及吸收波長範圍為530奈米至670奈米的螢光色的外部光進行吸收在降低反射率方面是有效的。然而，在僅使用僅吸收青色及螢光色的染料的情形中，難以在顯示裝置中實施中性黑色。因此，使用吸收波長範圍為350奈米至450奈米的紫色及吸收波長範圍為605奈米至790奈米的近紅外（紅）色。藉由使用吸收染料的混合物，有可能達成抗反射膜及顯示裝置的顏色校正。亦即，藉由使用能夠吸收混合顏色（紫色/青色/螢光色/近紅外色）的染料，可降低反射率，可改善黑色可見度，並且可增大顏色再現性。另一方面，由化學式1表示的化合物可提高耐光性可靠性，此為吸收特定波長範圍的傳統化合物（染料）的缺點之一。亦即，當根據實施例的由化學式1表示的化合物應用於抗反射膜時，可確保膜的耐光性可靠性。具體而言，在使用量子點發射器的顯示裝置中，藉由使用特定化合物吸收混合顏色來改善顏色再現性的嘗試直至現在還不為人所知。舉例而言，在螢光色的情形中，吸收波長範圍為530奈米至670奈米，且在近紅外色的情形中，吸收波長範圍為605奈米至790奈米。然而，由於根據實施例的由化學式1表示的化合物表現出在400奈米至530奈米處的吸收波長，並且可在所述吸收波長的490奈米至520奈米、且更具體而言500奈米至510奈米處具有最大吸收波長，因此在包括由化學式1表示的化合物作為染料的抗反射膜及顯示裝置的情形中，可容易地確保耐光性可靠性，同時最小化藍色亮度的劣化。
如稍後將描述，當考量應用於顯示裝置的光源的光譜時，必需有效地吸收光源的藍色長波長區域及綠色短波長區域（約490奈米至520奈米），使得可有效地改善面板的顏色再現性。舉例而言，當施加至抗反射膜的化合物的最大吸收波長短於500奈米或長於520奈米並且半高寬（full width at half maximum，FWHM）為寬時，藍色長波長區域及綠色短波長區域不能被有效吸收，因此難以達成改善面板的顏色再現性的效果。因此，當施加至抗反射膜的化合物的最大吸收波長出現在500奈米與510奈米之間時，藍色長波長區域及綠色短波長區域可被有效地吸收。根據實施例的由化學式1表示的化合物由於其結構特異性而在490奈米至520奈米、並且更具體而言在500奈米至510奈米處具有最大吸收波長，且因此可有效地吸收藍色長波長區域及綠色短波長區域，並且可確保耐光性可靠性，並且可有效地改善面板的顏色再現性。
在化學式1中，R2
及R5
中的至少一者應必須為氰基。
在化學式1中，當R2
及R5
中的至少一者未必為氰基（例如，當R2
及R5
各自獨立地為氫原子及/或烷基）時，難以確保優異的耐光性可靠性。同樣，在化學式1中，氰基應位於R2
及R5
中的至少一者處。具體而言，在含量子點的顯示器的情形中，僅當應用包含由化學式1表示的化合物的抗反射膜時，才可確保優異的耐光性可靠性。即使其為用於在傳統LCD中示出優異耐光性的抗反射膜的化合物，當其被原樣地應用於含量子點的顯示器時，耐光性亦可能會劣化。
舉例而言，在化學式1中，R2
及R5
可各自獨立地為氰基。當R2
及R5
兩者皆為氰基時，相較於R2
及R5
中僅一者為氰基的情形，最大吸收波長及半高寬（FWHM）有較少變化，且同時，耐光性可靠性本身可大大提高。
舉例而言，在化學式1中，L可為兒茶酚系配位體、2,3-萘二酚系配位體或1,1’-聯-2-萘酚系配位體。
當L不為兒茶酚系配位體、2,3-萘二酚系配位體或1,1’-聯-2-萘酚系配位體（例如，在F等的情形中）時，由於表現出螢光特性，因此不可能應用於根據實施例的抗反射膜。傳統上，為解決此問題，使用兒茶酚系配位體作為配位體。然而，藉由使用兒茶酚系配位體，可達成非螢光特性，但無法確保優異的耐光性可靠性。因此，長期以來一直在努力藉由使用兒茶酚系配位體來提高耐光性可靠性，同時保持非螢光特性。在保持非螢光特性的同時，有報道稱耐光性可靠性略有提高，但所有該些報道皆是基於在傳統LCD中應用的前提。在將上述報告中提及的化合物或抗反射膜應用於含量子點顯示器（此為最近顯示器市場的趨勢）的情形中，再次出現耐光性可靠性的降低，且因此在應用含量子點顯示器的前提下，對用於抗反射膜的化合物的需求迅速日益增加。
如上所述，本發明人準確地認識到市場的最新趨勢及需求，並且在仔細分析傳統問題且在多次嘗試之後，本發明人發明瞭一種化合物，所述化合物在含量子點顯示器中在400奈米至520奈米處吸收（如在傳統LCD顯示器中般），在吸收波長中的490奈米至520奈米處具有最大吸收波長，並且確保優異的耐光性可靠性。
舉例而言，化學式1可由化學式A或化學式B表示。
[化學式A]
[化學式B]
在化學式A及化學式B中，
R1
、R3
、R4
及R6
各自獨立地為氫原子或經取代或未經取代的C1至C20烷基，
R2
及R5
各自獨立地為氫原子或氰基，條件是R2
及R5
中的至少一者為氰基，
X為氫原子、經取代或未經取代的C1至C20烷氧基、經取代或未經取代的C1至C20烷基、或經取代或未經取代的C6至C20芳基，並且
C1及C2各自獨立地為經取代或未經取代的芳族環。
舉例而言，X可為經取代或未經取代的C1至C20烷氧基、未經取代或被「未經取代的C1至C10烷基、經鹵素原子取代的C1至C10烷基、經C1至C5烷基取代的C1至C10烷基、未經取代的C1至C10烷氧基或其組合」取代的C1至C20烷基、或未經取代或被「未經取代的C1至C10烷基、經鹵素原子取代的C1至C10烷基、經C1至C5烷基取代的C1至C10烷基、未經取代的C1至C10烷氧基或其組合」取代的C6至C20芳基。
舉例而言，X可為未經取代的C1至C20烷基、未經取代的C6至C20芳基、被「未經取代的C1至C10烷基」取代的C6至C20芳基、被「經鹵素原子取代的C1至C10烷基」取代的C6至C20芳基，或被「未經取代的C1至C10烷氧基」取代的C6至C20芳基。
舉例而言，C1及C2可各自獨立地為經取代或未經取代的苯環或經取代或未經取代的萘環，但可使用除苯環或萘環外的其他芳族環。
舉例而言，C1及C2可各自獨立地為未經取代或被「鹵素原子、氰基、C1至C10烷基、*-C(=O)R'（R'為C1至C10烷基）或其組合」取代的苯環，或未經取代或被「鹵素原子、氰基、C1至C10烷基、*-C(=O)R'（R'為C1至C10烷基）或其組合」取代的萘環，但並非僅限於此。
舉例而言，由化學式1表示的化合物可為化學式1-1-1至化學式1-1-8中的一者，但未必僅限於此。
[化學式1-1-1]
[化學式1-1-2]
[化學式1-1-3]
[化學式1-1-4]
[化學式1-1-5]
[化學式1-1-6]
[化學式1-1-7]
[化學式1-1-8]
由化學式1表示的所述化合物可表現出在400奈米至520奈米處的吸收波長，並且可在所述吸收波長中的490奈米至520奈米、且更具體而言500奈米至510奈米處具有最大吸收波長。如上所述，當由化學式1表示的化合物具有在上述範圍中的最大吸收波長時，可有效地吸收藍色長波長區域及綠色短波長區域，藉此有效地改善耐光性可靠性及面板的顏色再現性。
舉例而言，由化學式1表示的化合物可為染料。
另一實施例提供包含所述化合物的抗反射膜。
以固體含量計，抗反射膜可包括0.001重量%至0.5重量%的由化學式1表示的化合物。當在所述範圍內包含由化學式1表示的化合物時，有效地藉由輕易調整應用了抗反射膜的顯示裝置的面板顏色來改善中性黑色。
抗反射膜包括黏著層及形成在所述黏著層上的抗反射層，並且由化學式1表示的化合物可包含在所述黏著層中。
此外，抗反射膜包括黏著層、含染料層及形成在所述含染料層上的抗反射層，並且由化學式1表示的化合物可包含在所述含染料層中。
亦即，在根據實施例的抗反射膜的層疊結構中，由化學式1表示的化合物可包括在黏著層中，或者可包括在單獨的含染料層中。（參見圖1及圖2）
抗反射層可僅由低折射層組成，或者可包括低折射層。
由於基板及/或稍後描述的高折射層之間的折射率差異，低折射層可降低抗反射膜的反射率。
低折射層可包含可固化的黏合劑樹脂、含氟原子的單體及平均顆粒直徑為5奈米至300奈米的細顆粒（例如，中空二氧化矽），並且低折射層的厚度可為0.01微米至0.15微米。低折射層的折射率可為1.20至1.40。
藉由在低折射層的一個表面上（即，在低折射層的上表面上）進一步形成功能塗層，可賦予抗反射膜額外的功能。功能塗層可包括防指紋層、抗靜電層、硬塗層、防閃光層、阻擋層等，但並非僅限於此。
抗反射層可更包括高折射層。
高折射層形成在稍後描述的基板與低折射層之間，並且在基板與低折射層之間具有折射率，藉此降低抗反射層的反射率。高折射層分別與基板及低折射層直接形成。「直接形成」意指在層與層之間不存在其他層。
高折射層具有0.05微米至20微米的厚度，1.45至2的折射率，並且在JIS-K7361中規定的霧度值與基礎材料的霧度值無差異或與基板的霧度值之間的差為10%或小於10%，其具有優異的透明度及優異的抗反射性質。
硬塗層增加抗反射層的硬度，使得即使在顯示裝置的最外表面上使用抗反射層，亦不會產生劃痕。硬塗層並非必須提供的。若在高折射層或低折射層中確保目標硬度，則可省略硬塗層。
硬塗層可形成在基板與高折射層之間或者基板與低折射層之間。
硬塗層可為藉由在固化黏合劑中均勻混合平均顆粒直徑為1奈米至30奈米且粒度分佈範圍小於或等於±5奈米的超細金屬氧化物顆粒而形成的固化層。硬塗層可具有1微米至15微米的厚度，並且硬塗層的折射率可大於或等於1.54。
抗反射層可具有50微米至500微米、例如50微米至300微米、例如50微米至150微米的厚度。當抗反射層的厚度在上述範圍內時，其可容易地應用於顯示裝置。
黏著層可形成在抗反射層的下表面上，以將例如顯示器等光學構件黏著至面板或類似物。如上所述，黏著層可包含由化學式1表示的化合物（染料）。
黏著層可具有-70℃至0℃、例如-65℃至-20℃的玻璃轉變溫度。當黏著層的玻璃轉變溫度在上述範圍內時，可提高對面板的黏著性。
黏著層可為熱固性黏著層或光固化黏著層。可取的是，由於黏著層變成熱固性黏著層，因此不必要考量由化學式1表示的化合物（染料）的吸收波長引起的紫外線的影響，藉此有利於製造黏著層。「熱固性黏著層」不僅可包括藉由在40℃至100℃下的預定熱處理而固化的黏著層，還可包括在室溫（例如，20℃至30℃）下固化的黏著層。
黏著層可由用於黏著層的組成物形成，所述組成物包含黏合樹脂及固化劑。
黏合樹脂的類型不受限制，只要其能確保黏著層的玻璃轉變溫度即可。舉例而言，黏合樹脂可為矽酮系樹脂、尿烷系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂或類似樹脂，但可取的是，可使用(甲基)丙烯酸系黏合樹脂。
黏合樹脂可具有-70℃至0℃、可取地-65℃至-20℃的玻璃轉變溫度。當黏合樹脂的玻璃轉變溫度具有上述範圍時，可提高對面板的黏著性。
黏合樹脂的重量平均分子量可為500,000克/莫耳至2,000,000克/莫耳，例如800,000克/莫耳至1,500,000克/莫耳。當黏合樹脂的重量平均分子量具有上述範圍時，可提高對面板的黏著性。
黏合樹脂可包括共聚物，可取地包括以下中的至少一者的無規共聚物：具有烷基的(甲基)丙烯酸系單體；具有羥基的(甲基)丙烯酸系單體；及具有芳族基的(甲基)丙烯酸系單體、具有脂環族基的(甲基)丙烯酸系單體及具有雜脂環族基的(甲基)丙烯酸系單體。
具有烷基的(甲基)丙烯酸系單體可包括具有未經取代的C1至C10烷基的(甲基)丙烯酸酯。具體而言，具有烷基的(甲基)丙烯酸系單體可包括(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯及(甲基)丙烯酸癸酯中的一或多者，但並非僅限於此。該些單體可單獨包含，或者以二或更多者的組合形式包含。具有烷基的(甲基)丙烯酸系單體的含量可為單體混合物的60重量%至99.99重量%，例如60重量%至90重量%，例如80重量%至99.9重量%。
具有羥基的(甲基)丙烯酸系單體可包括以下中的一或多者：具有具至少一個羥基的C1至C20烷基的(甲基)丙烯酸系單體、具有具至少一個羥基的C3至C20環烷基的(甲基)丙烯酸系單體、及具有具至少一個羥基的C6至C20芳族基的(甲基)丙烯酸系單體。具體而言，具有羥基的(甲基)丙烯酸系單體可可取地包括具有具至少一個羥基的C1至C20烷基的(甲基)丙烯酸系單體，以下中的一或多者：2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥丁基(甲基)丙烯酸酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯、6-羥基己基(甲基)丙烯酸酯、1-氯-2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯。該些單體可單獨包含，或者以二或更多者的組合形式包含。具有羥基的(甲基)丙烯酸系單體的含量可為單體混合物的0.01重量%至20重量%，例如0.1重量%至10重量%。
具有芳族基的(甲基)丙烯酸系單體可包括具有C6至C20芳基或C7至C20芳基烷基的(甲基)丙烯酸酯。具體而言，具有芳族基的(甲基)丙烯酸系單體可包括但不限於(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯及類似物。具有芳族基的(甲基)丙烯酸系單體的含量可為單體混合物的0重量%至50重量%，例如0重量%至20重量%。
在本說明書中，當在單體中混合脂環族基及烷基時，其被分類為具有脂環族基的(甲基)丙烯酸系單體。
具有脂環族基的(甲基)丙烯酸系單體可為具有C5至C20單環或雜環脂環族基的(甲基)丙烯酸酯，並且可包括(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯及(甲基)丙烯酸二環戊烯酯中的至少一者。具有脂環族基的(甲基)丙烯酸系單體的含量可為單體混合物的0重量%至50重量%，例如1重量%至30重量%，或1重量%至20重量%。
具有雜脂環族基的(甲基)丙烯酸系單體可包括具有C4至C9雜脂環族基的(甲基)丙烯酸酯，所述C4至C9雜脂環族基包括氮、氧或硫中的至少一者。具體而言，具有雜脂環族基的(甲基)丙烯酸系單體可包括(甲基)丙烯醯嗎啉，但並非僅限於此。具有雜脂環族基的(甲基)丙烯酸系單體的含量可為單體混合物的0重量%至50重量%，例如0重量%至10重量%。
黏合樹脂可包括單體混合物的(甲基)丙烯酸系共聚物，所述單體混合物包括70重量%至99.99重量%、例如90重量%至99.5重量%的具有烷基的(甲基)丙烯酸系單體、0.01重量%至30重量%、例如0.5重量%至10重量%的具有羥基的(甲基)丙烯酸系單體。當構成黏合樹脂的每種單體具有上述範圍時，可容易地確保黏著強度。
固化劑可包括異氰酸酯系固化劑。以100重量份的黏合樹脂計，固化劑的含量可為0.01重量份至20重量份，例如0.01重量份至10重量份，例如0.1重量份至4重量份。當固化劑具有上述範圍時，組成物可交聯以形成黏著層，並防止由於其過度使用而導致透明度降低及可靠性不良。
所述組成物可更包含傳統添加劑，例如矽烷耦合劑、抗氧化劑、增黏樹脂、增塑劑、抗靜電劑、更新劑（rework agent）及固化觸媒。以100重量份的黏合樹脂計，矽烷耦合劑的含量可為0.01重量份至20重量份，例如0.01重量份至10重量份，例如0.1重量份至4重量份。當矽烷耦合劑具有上述範圍時，可控制黏著性，並且可防止可靠性缺陷。
用於黏著層的組成物可為無溶劑型的，或者可更包括傳統的有機溶劑以增加塗層性質。
黏著層可具有1微米至50微米、例如5微米至25微米的厚度。當黏著層的厚度在上述範圍內時，其可容易地用於顯示裝置中。
根據另一實施例，提供包括抗反射膜的顯示裝置。舉例而言，可提供包括抗反射膜及含量子點層的顯示裝置。
舉例而言，顯示裝置可更包括光源、濾色器及基板。
舉例而言，顯示裝置可具有堆疊結構，其中含量子點層可設置在光源上，濾色器可設置在含量子點層上，基板可設置在濾色器上，且抗反射膜可設置在基板上。（參見圖3及圖4）
舉例而言，光源可為藍色光源。
舉例而言，基板可為玻璃基板。
除了量子點之外，構成含量子點層的組分可更包括黏合劑樹脂、反應性不飽和化合物、光聚合起始劑、擴散劑及其他添加劑，此將在稍後進行描述。
量子點可在350奈米至550奈米的波長範圍的400奈米至500奈米中具有最大螢光發射波長（螢光λmax
）。
量子點可具有處於20奈米至100奈米、例如20奈米至50奈米範圍內的半高寬（FWHM）。當量子點具有處於所述範圍內的半高寬（FWHM）時，所述量子點具有高色純度且因此當用作濾色器中的彩色材料時具有增加顏色再現性的效果。
量子點可為有機材料、無機材料或有機材料與無機材料的混成（混合物）。
量子點可各自獨立地包括核心及環繞所述核心的殼體，且在本文中，所述核心及所述殼體可具有例如各自獨立地包含II-IV族、III-V族及類似族的核心、核心/殼體、核心/第一殼體/第二殼體、合金、合金/殼體及類似物結構，但並非僅限於此。
舉例而言，所述核心可包含選自CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、InP、InAs及其合金的至少一種材料，但未必僅限於此。環繞所述核心的所述殼體可包含選自CdSe、ZnSe、ZnS、ZnTe、CdTe、PbS、TiO、SrSe、HgSe及其合金的至少一種材料，但未必僅限於此。
在實施例中，由於近來全世界對環境的關注已大大增加，且關於有毒材料的管制亦已加強，因此使用量子效率（量子產率）稍低但對環境無害的無鎘發光材料（InP/ZnS）來替代具有鎘系核心的發光材料，但未必僅限於此。
具有核心/殼體結構的量子點可具有1奈米至15奈米、例如5奈米至15奈米的包括殼體在內的整個大小（平均顆粒直徑），但其結構不受特別限制。
舉例而言，量子點可為紅色量子點、綠色量子點或其組合。舉例而言，量子點可包括綠色量子點及紅色量子點兩者。在此種情形中，綠色量子點的含量可大於紅色量子點的含量。紅色量子點可具有10奈米至15奈米的平均顆粒直徑。綠色量子點可具有5奈米至8奈米的平均顆粒直徑。
同時，為了量子點的分散穩定性，可一起使用分散劑。分散劑可幫助光轉換材料（例如，量子點）均勻分散在可固化組成物中，並且包括非離子、陰離子或陽離子分散劑。具體而言，所述分散劑可包含聚烷二醇或其酯、聚氧化烯烴、多元醇酯環氧烷加成產物、醇環氧烷加成產物、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺環氧烷加成產物、烷基胺。所述分散劑可單獨使用或以二或更多者的混合物形式使用。以光轉換材料（例如量子點）的固體含量計，分散劑可以0.1重量%至100重量%，例如10重量%至20重量%的量使用。
以100重量份的構成含量子點層的組分計，量子點的含量可為1至40重量份，例如1至10重量份。當在上述範圍內包含量子點時，光轉換率得到提高，並且圖案特性及顯影特性不會收到損害，使得可獲得優異的可加工性。
黏合劑樹脂可包括丙烯酸系樹脂、環氧樹脂或其組合。
丙烯酸系樹脂為第一烯系不飽和單體及可與其共聚合的第二烯系不飽和單體的共聚物，且為包含至少一個丙烯酸系重複單元的樹脂。
第一烯系不飽和單體為包含至少一個羧基的烯系不飽和單體。所述單體的實例包含丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、衣康酸、反丁烯二酸或其組合。
以丙烯酸系樹脂的總量計，第一烯系不飽和單體的含量可為5重量%至50重量%、例如10重量%至40重量%。
第二烯系不飽和單體可為：芳族乙烯基化合物，例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲醚及類似物；不飽和羧酸酯化合物，例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯及類似物；不飽和羧酸胺基烷基酯化合物，例如(甲基)丙烯酸2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2-二甲基胺基乙酯及類似物；羧酸乙烯酯化合物，例如乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯及類似物；不飽和羧酸縮水甘油基酯化合物，例如(甲基)丙烯酸縮水甘油基酯及類似物；氰化乙烯化合物，例如(甲基)丙烯腈及類似物；不飽和醯胺化合物，例如(甲基)丙烯醯胺及類似物；等等。該些化合物可單獨使用或以二或更多者的混合物形式使用。
丙烯酸系樹脂的具體實例可為聚甲基丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸2-羥基乙酯共聚物及類似物，但並非僅限於此。該些丙烯酸系樹脂可單獨使用或以二或更多者的混合物形式使用。
所述丙烯酸系樹脂可具有1,000克/莫耳至15,000克/莫耳的重量平均分子量。當丙烯酸系樹脂的重量平均分子量在所述範圍內時，與基板的緊密接觸性質以及物理及化學形成得到改善，且黏度為適當的。
環氧樹脂可為可熱聚合的單體或寡聚物，並且可包括具有碳-碳不飽和鍵及碳-碳環狀鍵的化合物。
環氧樹脂可更包括雙酚A環氧樹脂、雙酚F環氧樹脂、苯酚酚醛環氧樹脂、環狀脂族環氧樹脂及脂族多縮水甘油醚，但未必僅限於此。
所述化合物的市售產品可為優香殼牌環氧有限公司（Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.）的YX4000、YX4000H、YL6121H、YL6640或YL6677；日本化藥有限公司（Nippon Kayaku Co. Ltd.）的EOCN-102、EOCN-103S、EOCN-104S、EOCN-1020、EOCN-1025或EOCN-1027；以及優香殼牌環氧有限公司的環氧類樹脂（EPIKOTE）180S75；雙酚A環氧樹脂，例如優香殼牌環氧有限公司的EPIKOTE 1001、1002、1003、1004、1007、1009、1010及828；雙酚F環氧樹脂，例如優香殼牌環氧有限公司的EPIKOTE 807及834；酚醛環氧樹脂，例如優香殼牌環氧有限公司的EPIKOTE 152、154或157H65、及日本化藥有限公司的EPPN 201、202；環狀脂族環氧樹脂，例如汽巴嘉基公司（CIBA-GEIGY A.G Corp.）的CY175、CY177及CY179、美國聯合碳化物公司（U.C.C.）的ERL-4234、ERL-4299、ERL-4221及ERL-4206、昭和登高株式會社（Showa Denko K.K.）的昭登（Showdyne）509、汽巴嘉基公司的愛牢達（Araldite）CY-182、大日本油墨化學公司（Dainippon Ink & Chemicals Inc.）的CY-192及CY-184、優香殼牌環氧公司的艾匹克隆（EPICLON）200及400、EPIKOTE 871、872、以及塞拉尼斯塗料公司（Celanese Coating Corporation）的EP1032H60、ED-5661及ED-5662；脂族聚縮水甘油醚可為優香殼牌環氧公司的EPIKOTE 190P及191P、共榮社由至化工有限公司（Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.）的埃坡樂特（EPOLITE）100MF、日本由至株式會社（Nihon Yushi K. K.）的愛皮爾特姆（EPIOL TMP）及類似物。
以100重量份的構成含量子點層的組分計，黏合劑樹脂的含量可為1至40重量份、例如5至20重量份。當在上述範圍內包含黏合劑樹脂時，可獲得圖案的優異的靈敏度、可顯影性、解析度及線性。
可藉由混合在傳統可光固化組成物及熱固性組成物中通常使用的單體或寡聚物來使用反應性不飽和化合物。
反應性不飽和化合物可為丙烯酸酯系化合物。舉例而言，乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、季戊四醇六丙烯酸酯、雙酚A二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、酚醛環氧丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、丙二醇二甲基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯中的至少一者或其混合物。
反應性不飽和化合物可用酸酐處理以改善可顯影性。
以100重量份的構成含量子點層的組分計，反應性不飽和化合物的含量可為1至10重量份，例如1至5重量份。當在上述範圍內包含反應性不飽和化合物時，在圖案形成製程中的曝光期間充分發生固化，從而導致圖案的優異的可靠性、耐熱性、耐光性、耐化學性、解析度及緊密接觸性質。
光聚合起始劑可為苯乙酮系化合物、二苯甲酮系化合物、噻噸酮系化合物、安息香系化合物、肟系化合物及類似物。
苯乙酮系化合物的實例可為2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、對第三丁基三氯苯乙酮、對第三丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮及類似物。
二苯甲酮系化合物的實例可為二苯甲酮、苯甲酸苯甲醯基酯、苯甲酸苯甲醯基甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸化二苯甲酮、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、4,4'-二甲基胺基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮及類似物。
噻噸酮系化合物的實例可為噻噸酮、2-甲基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮及類似物。
安息香系化合物的實例可為安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、苯甲基二甲基縮酮及類似物。
三嗪系化合物的實例可為2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘酚-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘酚-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-s-三嗪、2-4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-s-三嗪及類似物。
肟系化合物的實例可為O-醯基肟系化合物、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、O-乙氧基羰基-α-氧基胺基-1-苯基丙-1-酮及類似物。O-醯基肟系化合物的具體實例可為1,2-辛二酮、2-二甲基胺基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-嗎啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、1-(4-苯基硫烷基苯基)-丁烷-1,2-二酮-2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛烷-1,2-二酮-2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛-1-酮肟-O-乙酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-丁-1-酮肟-O-乙酸酯及類似物。
光聚合起始劑除所述化合物之外可更包含咔唑系化合物、二酮系化合物、硼酸鋶系化合物、重氮系化合物、咪唑系化合物、聯咪唑系化合物、芴系化合物及類似物。
光聚合起始劑可與能夠藉由吸收光引起化學反應且變得激發並隨後傳輸其能量的光增感劑一起使用。
光增感劑的實例可為四乙二醇雙-3-巰基丙酸酯、季戊四醇四-3-巰基丙酸酯、二季戊四醇四-3-巰基丙酸酯及類似物。
以100重量份的構成含量子點層的組分計，光聚合起始劑的含量可為0.1重量份至10重量份，例如0.1重量份至5重量份。當在上述範圍內包含光聚合起始劑時，在曝光期間靈敏度與可顯影性之間的平衡得到改善，使得可獲得無殘留膜的具有優異解析度的圖案。
含量子點層可更包含擴散劑。
舉例而言，擴散劑可包括硫酸鋇（BaSO4
）、碳酸鈣（CaCO3
）、二氧化鈦（TiO2
）、氧化鋯（ZrO2
）或其組合。
擴散劑反射未被前述量子點吸收的光，使得反射光可再次在量子點中被吸收。換言之，擴散劑增加量子點中吸收的光的量，且因此增加可固化組成物的光轉換效率。
擴散劑的平均顆粒直徑（D50
）可在150奈米至250奈米的範圍內，且具體而言，在180奈米至230奈米的範圍內。當擴散劑具有所述範圍內的平均顆粒直徑時，可獲得更優異的光散射效果，並且可增加光轉換效率。
以100重量份的構成含量子點層的組分的固體含量計，擴散劑的含量可為0.1重量%至20重量%，例如0.1重量%至5重量%。當以100重量份的構成含量子點層的組分計，擴散劑的含量小於0.1重量%時，難以期望藉由使用擴散劑來改善光轉換效率的效果，而當擴散劑的含量大於5重量%時，圖案特性可能劣化。
為改善量子點的穩定性及分散性，含量子點層可更包括硫醇系添加劑。
硫醇系添加劑可代替量子點的殼體表面，且可改善量子點在溶劑中的分散穩定性，並且可穩定量子點。
硫醇系添加劑可根據其結構而在末端處具有一或多個、例如2至10個、例如2至4個硫醇基（-SH）。
舉例而言，硫醇系添加劑可包含由化學式2表示的至少兩個官能基。
[化學式2]
在化學式2中，
L7
及L8
各自獨立地為單鍵、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、經取代或未經取代的C3至C20伸環烷基、經取代或未經取代的C6至C20伸芳基或者經取代或未經取代的C2至C20伸雜芳基。
舉例而言，硫醇系添加劑可由化學式3表示。
[化學式3]
在化學式3中，
L7
及L8
各自獨立地為單鍵、經取代或未經取代的C1至C20伸烷基、經取代或未經取代的C3至C20伸環烷基、經取代或未經取代的C6至C20伸芳基或者經取代或未經取代的C2至C20伸雜芳基，且
u1及u2各自獨立地為整數0或1。
舉例而言，在化學式2及化學式3中，L7
及L8
可各自獨立地為單鍵或者經取代或未經取代的C1至C20伸烷基。
硫醇系添加劑的具體實例可選自由化學式2a表示的季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、由化學式2b表示的三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、由化學式2c表示的季戊四醇四(巰基乙酸酯)、由化學式2d表示的三羥甲基丙烷三(2-巰基乙酸酯)、由化學式2e表示的二醇二-3巰基丙酸酯及其組合。
[化學式2a]
[化學式2b]
[化學式2c]
[化學式2d]
[化學式2e]
以100重量份的構成含量子點層的組分計，硫醇系添加劑的含量可為0.1重量份至10重量份、例如0.1重量份至5重量份。當在所述範圍內包含硫醇系添加劑時，可改善例如量子點等光轉換材料的穩定性，所述組分中的硫醇基與樹脂或單體的丙烯酸基反應以形成共價鍵，且藉此可改善例如量子點等光轉換材料的耐熱性。
含量子點層可更包括阻聚劑，所述阻聚劑包括氫醌系化合物、兒茶酚系化合物或其組合。由於含量子點層更包括氫醌系化合物、兒茶酚系化合物或其組合，因此在印刷（塗佈）包含量子點的組成物之後，可在曝光期間防止室溫下的交聯。
舉例而言，氫醌系化合物、兒茶酚系化合物或其組合可包括氫醌、甲基氫醌、甲氧基氫醌、第三丁基氫醌、2,5-二第三丁基氫醌、2,5-雙(1,1-二甲基丁基)氫醌、2,5-雙(1,1,3,3-四甲基丁基)氫醌、兒茶酚、第三丁基兒茶酚、4-甲氧基苯酚、五倍子酚、2,6-二第三丁基-4-甲基苯酚、2-萘酚、三(N-羥基-N-亞硝基苯基胺根合-O,O')鋁或其組合，但未必僅限於此。
以100重量份的構成包括量子點及螢光染料的層或含量子點層（不包括螢光染料）的組分計，氫醌系化合物、兒茶酚系化合物或其組合可以分散體的形式使用，並且分散體形式的阻聚劑的含量可為0.001重量份至1重量份、例如0.01重量份至0.1重量份。當在上述範圍內包含穩定劑時，可解決室溫下老化的問題，並且可防止靈敏度降低及表面剝離。
除硫醇系添加劑及阻聚劑之外，含量子點層可包含：丙二酸；3-胺基-1,2-丙二醇；矽烷系耦合劑；調平劑；氟系界面活性劑；或其組合。
此外，含量子點層可更包含具有例如羧基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基、環氧基及類似基團等反應性取代基的矽烷耦合劑以改善與基板的緊密接觸性質。
矽烷系偶合劑的實例可包括三甲氧基矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯酸氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、β-(環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷及類似物。該些矽烷偶合劑可單獨使用或以二或更多者的混合物形式使用。
以100重量份的構成含量子點層的組分計，矽烷耦合劑的含量可為0.01重量份至10重量份。當在所述範圍內包含矽烷耦合劑時，可改善緊密接觸性質、儲存性質及類似性質。
此外，含量子點層可更包含例如氟系界面活性劑等界面活性劑，以改善塗佈並在必要時防止缺陷。
氟系界面活性劑的實例可為BM化學公司（BM Chemie Inc.）的BM-1000®
及BM-1100®
；大日本油墨化工有限公司（Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co., Ltd.）的美佳法（MEGAFACE）F 142D®
、F 172®
、F 173®
及F 183®
；住友3M有限公司（Sumitomo 3M Co., Ltd.）的弗洛拉德（FULORAD）FC-135®
、弗洛拉德FC-170C®
、弗洛拉德FC-430®
及弗洛拉德FC-431®
；旭硝子玻璃有限公司（ASAHI Glass Co., Ltd.）的沙福隆（SURFLON）S-112®
、沙福隆S-113®
、沙福隆S-131®
、沙福隆S-141®
及沙福隆S-145®
；以及東麗矽酮有限公司（Toray Silicone Co., Ltd.）的SH-28PA®
、SH-190®
、SH-193®
、SZ-6032®
及SF-8428®
及類似物；大日本油墨化工有限公司（DIC Co., Ltd.）的F-482、F-484、F-478、F-554及類似物。
以100重量份的構成含量子點層的組分計，氟系界面活性劑的含量可為0.001重量份至5重量份。當在所述範圍內包含氟系界面活性劑時，可確保玻璃基板上的優異潤濕性以及塗佈均勻性，但可能不會產生汙點。
此外，可在不損害物理性質的範圍內進一步向含量子點層中添加一定量的例如抗氧化劑及穩定劑等其他添加劑。
製造每個含量子點層的方法可包括藉由噴墨噴射方法在基板上塗佈包含上述組分及類似物的可固化組成物以形成圖案（S1）；以及固化圖案（S2）。
（S1）圖案的形成
以噴墨分散法將可固化組成物塗佈在厚度為0.5微米至10微米的基板上。根據噴墨分散，可藉由逐一重複分散所需顏色來形成圖案或同時分散所需顏色來形成圖案以簡化製程。
（S2）固化
藉由固化所獲得的圖案，可獲得固化的樹脂膜。此時，熱固化製程作為固化方法是較佳的。熱固化製程可為首先藉由在大於或等於約100℃的溫度下加熱約3分鐘來移除可固化組成物中的溶劑，且然後藉由在160℃至300℃的溫度下加熱（且更可取的是在180℃至250℃的溫度下加熱）約30分鐘進行固化的製程。
此外，每個含量子點層可在不進行噴墨的情況下製造。製造方法在此種情形中包括：在經過預定預處理的基板上使用合適的方法（例如，旋塗、輥塗、噴塗等）例如以0.5微米至10微米的厚度塗佈包含上述組分的可固化組成物；以及用光照射所得物以形成濾色器所需的圖案。作為用於照射的光源，可使用UV、電子束或X光，並且例如，可照射190奈米至450奈米、具體而言200奈米至400奈米範圍內的UV。在照射過程中，可進一步使用光阻遮罩。在以此種方式執行照射製程之後，用顯影溶液處理用光源照射的組成物層。此時，組成物層的未曝光部分被溶解以形成濾色器所需的圖案。藉由根據所需顏色的數量重複此製程，可獲得具有期望圖案的濾色器。此外，當藉由上述製程中的顯影獲得的影像圖案被再次加熱或藉由用光化射線照射而固化時，可改善抗裂性及耐溶劑性。
可固化組成物可更包含溶劑。
溶劑可包括以下的化合物：醇，例如甲醇、乙醇及類似物；二醇醚，例如乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、丙二醇甲醚及類似物；溶纖劑乙酸酯，例如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙基溶纖劑乙酸酯及類似物；卡必醇，例如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙醚、二乙二醇二乙醚及類似物；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯及類似物；酮，例如甲乙酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基正丙基酮、甲基正丁基酮、甲基正戊基酮、2-庚酮及類似物；飽和脂肪族單羧酸烷基酯，例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯及類似物；乳酸烷基酯，例如乳酸甲酯、乳酸乙酯及類似物；羥基乙酸烷基酯，例如羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯及類似物；乙酸烷氧基烷基酯，例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯及類似物；3-羥基丙酸烷基酯，例如3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯及類似物；3-烷氧基丙酸烷基酯，例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯及類似物；2-羥基丙酸烷基酯，例如2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基丙酸丙酯及類似物；2-烷氧基丙酸烷基酯，例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯及類似物；2-羥基-2-甲基丙酸烷基酯，例如2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯及類似物；2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯，例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯及類似物；酯，例如丙酸2-羥基乙酯、丙酸2-羥基-2-甲基乙酯、乙酸羥基乙酯、丁酸2-羥基-3-甲基甲酯及類似物；或酮酸酯，例如丙酮酸乙酯及類似物。此外，亦可使用N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、二甲亞碸、苄基乙基醚、二己基醚、乙醯丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、乙二酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、γ丁內酯、碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯、苯基溶纖劑乙酸酯（phenyl cellosolve acetate）、乙二酸二甲酯，但並非僅限於此。
舉例而言，溶劑可可取地為二醇醚，例如乙二醇單乙醚、乙二醇甲基乙醚及類似物；乙二醇烷基醚乙酸酯，例如乙基溶纖劑乙酸酯及類似物；酯，例如丙酸2-羥基乙酯及類似物；卡必醇，例如二乙二醇單甲醚及類似物；丙二醇烷基醚乙酸酯，例如丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯及類似物；醇，例如乙醇及類似物；或其組合。
舉例而言，溶劑可包括丙二醇單甲醚乙酸酯、二丙二醇甲醚乙酸酯、乙醇、乙二醇二甲醚、乙二醇甲基乙醚、二乙二醇二甲醚、二甲基乙醯胺、2-丁氧基乙醇、N-甲基吡咯啶、N-乙基吡咯啶、碳酸伸丙酯、γ-丁內酯、乙二酸二甲酯或其組合。
以可固化組成物的總量計，可包括餘量的溶劑。
以下，描述本發明的實例。然而，該些實例在任何意義上都不應被解釋為限制本發明的範圍。（實例）
（合成例）
藉由使用環己酮溶劑將每種化合物稀釋至百萬分之十（10 ppm）的濃度，並且使用紫外/可見（UV/VIS）分光光度計（拉姆達（Lamda）25，鉑金埃爾默公司（PerkinElmer，Inc.））量測了最大吸收波長。
合成例1：由化學式1-1表示的化合物的合成
（反應方案1）
將2,4-二甲基吡咯（10克，105毫莫耳）、苯甲醛（2.79克，26.28毫莫耳）及500毫升二氯甲烷（dichloromethane，DCM）放入2升圓底燒瓶中，且然後在室溫下攪拌了30分鐘。向其中滴加了0.2毫升三氟乙酸，且然後在室溫下攪拌了16小時。將藉由將2,3-二氯-5,6-二氰基-1,4-苯醌（DDQ）（5.94克，26.28毫莫耳）溶解於50毫升甲苯中製成的溶液滴加至其中，且然後再攪拌了4小時。在移除溶劑後，藉由管柱層析術用乙酸乙酯/己烷/TEA（20%/80%/0.2%）的混合溶液對殘留物進行了純化，並進行了乾燥。（產率：40%，3克）
（反應方案2）
將3克（11毫莫耳）反應方案1的產物、300毫升甲苯及4.6毫升（33毫莫耳）三乙胺依次放入2升圓底燒瓶中，且然後進行了攪拌。向其中添加6.7毫升（55莫耳）BF3
·Et2
O，且然後在100℃下攪拌了4小時。在移除溶劑後，藉由管柱層析術用二氯甲烷/己烷/TEA（80%/20%/0.2%）的混合溶液對殘留物進行了純化，且然後進行了乾燥。（產率：85%，3克）
（反應方案3）
將3克（9.25毫莫耳）反應方案2的產物及300毫升二氯甲烷放入2升圓底燒瓶中，且然後進行了攪拌。向其中添加了3.1克（23毫莫耳）氯化鋁，且然後攪拌了5分鐘。將藉由將4.1克（37毫莫耳）兒茶酚溶解在30毫升乙腈中而製備的溶液添加至反應物中，且然後將所得物在室溫下攪拌了30分鐘。在用水洗滌反應物並移除溶劑後，向其中添加甲醇，且然後進行了攪拌。過濾並乾燥其中沈澱的固體，以獲得由化學式1-1表示的化合物。（產率：50%，1.82克）
[化學式1-1]
合成例2：由化學式1-2表示的化合物的合成
除了使用2,4,6-三甲基苯甲醛代替苯甲醛之外，根據與合成例1中相同的合成方法合成了由化學式1-2表示的化合物。
[化學式1-2]
合成例3：由化學式1-3表示的化合物的合成
除了使用4-(三氟甲基)苯甲醛代替苯甲醛之外，根據與合成例1中相同的合成方法合成了由化學式1-3表示的化合物。
[化學式1-3]
合成例4：由化學式1-4表示的化合物的合成
除了使用4-(1-乙氧基乙烯基)苯甲醛代替苯甲醛之外，根據與合成例1中相同的合成方法合成了由化學式1-4表示的化合物。
[化學式1-4]
合成例5：由化學式1-5表示的化合物的合成
除了使用乙醛代替苯甲醛之外，根據與合成例1中相同的合成方法合成了由化學式1-5表示的化合物。
[化學式1-5]
合成例6：由化學式1-6表示的化合物的合成
除了使用2-乙基己醛代替苯甲醛之外，根據與合成例1中相同的合成方法合成了由化學式1-6表示的化合物。
[化學式1-6]
合成例7：由化學式1-7表示的化合物的合成
除了使用2,3-二羥基萘代替兒茶酚之外，根據與合成例1中相同的合成方法合成了由化學式1-7表示的化合物。
[化學式1-7]
合成例8：由化學式1-8表示的化合物的合成
除了使用4-第三丁基兒茶酚代替兒茶酚之外，根據與合成例1中相同的合成方法合成了由化學式1-8表示的化合物。
[化學式1-8]
合成例9：由化學式1-1-1表示的化合物的合成
（反應方案4）
（1）將由化學式1-1表示的化合物（1克，2.54毫莫耳）、二氯甲烷（MC，20毫升）及N-溴代琥珀醯亞胺（NBS，0.90克，5.07毫莫耳）依次放入圓燒瓶中，並在室溫下攪拌了1小時。使用管柱層析術對攪拌後獲得的反應產物進行了純化，並進行了乾燥以合成1.37克（產率：98%）中間物。
（2）將中間物（1克，1.81毫莫耳）及氰化鋅（0.47克，4.0毫莫耳）、乙酸鈀（0.02克，0.09毫莫耳）、三第三丁基膦（0.035克，0.36毫莫耳）、碳酸鉀（0.75克，5.43毫莫耳）及甲苯（20毫升）依次放入圓燒瓶中。將混合物在100℃下攪拌了24小時，冷卻至室溫，使用管柱層析術進行了純化，並進行了乾燥以合成0.38克（產率：47%）由化學式1-1-1表示的化合物。
[化學式1-1-1]
[M+H]+
444.3，λmax
= 504奈米
合成例10：由化學式1-1-2表示的化合物的合成
（反應方案5）
除了使用由化學式1-2表示的化合物代替由化學式1-1表示的化合物之外，根據與合成例9中相同的合成方法合成了由化學式1-1-2表示的化合物。
[化學式1-1-2]
[M+H]+
486.4，λmax
= 505奈米
合成例11：由化學式1-1-3表示的化合物的合成
（反應方案6）
除了使用由化學式1-3表示的化合物代替由化學式1-1表示的化合物之外，根據與合成例9中相同的合成方法合成了由化學式1-1-3表示的化合物。
[化學式1-1-3]
[M+H]+
512.3，λmax
= 507奈米
合成例12：由化學式1-1-4表示的化合物的合成
（反應方案7）
除了使用由化學式1-4表示的化合物代替由化學式1-1表示的化合物之外，根據與合成例9中相同的合成方法合成了由化學式1-1-4表示的化合物。
[化學式1-1-4]
[M+H]+
516.4，λmax
= 506奈米
合成例13：由化學式1-1-5表示的化合物的合成
（反應方案8）
除了使用由化學式1-5表示的化合物代替由化學式1-1表示的化合物之外，根據與合成例9中相同的合成方法合成了由化學式1-1-5表示的化合物。
[化學式1-1-5]
[M+H]+
382.2，λmax
= 503奈米
合成例14：由化學式1-1-6表示的化合物的合成
（反應方案9）
除了使用由化學式1-6表示的化合物代替由化學式1-1表示的化合物之外，根據與合成例9中相同的合成方法合成了由化學式1-1-6表示的化合物。
[化學式1-1-6]
[M+H]+
480.4，λmax
= 504奈米
合成例15：由化學式1-1-7表示的化合物的合成
（反應方案10）
除了使用由化學式1-7表示的化合物代替由化學式1-1表示的化合物之外，根據與合成例9中相同的合成方法合成了由化學式1-1-7表示的化合物。
[化學式1-1-7]
[M+H]+
494.4，λmax
= 507奈米
合成例16：由化學式1-1-8表示的化合物的合成
（反應方案11）
除了使用由化學式1-8表示的化合物代替由化學式1-1表示的化合物之外，根據與合成例9中相同的合成方法合成了由化學式1-1-8表示的化合物。
[化學式1-1-8]
[M+H]+
500.4，λmax
= 507奈米
比較合成例1至比較合成例3：由化學式C-1至化學式C-3表示的化合物的合成
參照例如合成例1及合成例9等合成例，合成了具有以下三種結構的化合物。
[化學式C-1]
[M+H]+
463.2，λmax
= 532奈米
比較合成例2：由化學式C-2表示的化合物（反應方案4的中間物）的合成
[化學式C-2]
[M+H]+
552.07，λmax
= 528奈米
比較例3：由化學式1-1表示的化合物
[化學式1-1]
[M+H]+
395，λmax
= 507奈米（評估 1 ：波長匹配）
自根據合成例9至合成例16的化合物的結構及每種化合物的最大吸收波長來看，由於存在由化學式1表示的結構，根據實施例的化合物表現出在500奈米與510奈米之間的最大吸收波長。（抗反射膜的製造） 實例 1
將包括99重量份的丙烯酸正丁酯及1重量份的丙烯酸2-羥基乙酯的100重量份的單體混合物與150重量份的乙酸乙酯放入1升反應器中，反應器配備有冷凝器以方便地控制溫度，在所述反應器中回流氮氣，且在攪拌燒瓶的同時，向其中注入氮氣1小時，以用氮氣代替反應器中的氧氣，且然後將反應器保持在70℃。向其中添加0.06重量份的作為起始劑的2,2’-偶氮二異丁腈，且然後反應8小時以製備含有(甲基)丙烯酸系共聚物的溶液。(甲基)丙烯酸系共聚物的Tg為-46℃，且重量平均分子量為1,100,000克/莫耳。隨後，向其中添加了乙酸乙酯，藉此製備19.4重量%的(甲基)丙烯酸系共聚物溶液。以100重量份的(甲基)丙烯酸系共聚物的固體含量計，將0.193重量份的基於XDI的異氰酸酯系交聯劑（固體含量為75%，TD-75，創研化學有限公司（Soken Chemical Co., Ltd.））、作為矽烷耦合劑的0.154重量份的3-縮水甘油氧丙基三甲氧基矽烷（KBM-403，信越化學公司（ShinEtsu Chemical Co.））、以及0.06重量份的根據合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）混合。隨後，向其中添加25重量份的甲基乙基酮以製備黏著層組成物。
用刮棒塗佈機將黏著層組成物直接塗佈在作為抗反射層（藉由在PET膜的上表面上依次堆疊硬塗層、高折射層及低折射層而形成的抗反射層，反射率：0.2%，DNP，LLC）的基礎膜的PET膜的底表面上，且然後在90℃烘箱中乾燥4分鐘以形成20微米厚的抗反射膜。
實例2
除了使用合成例10的化合物（由化學式1-1-2表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。
實例3
除了使用合成例11的化合物（由化學式1-1-3表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。
實例4
除了使用合成例12的化合物（由化學式1-1-4表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。
實例5
除了使用合成例13的化合物（由化學式1-1-5表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。
實例6
除了使用合成例14的化合物（由化學式1-1-6表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。
實例7
除了使用合成例15的化合物（由化學式1-1-7表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。
實例8
除了使用合成例16的化合物（由化學式1-1-8表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。
比較例1
除了使用比較合成例1的化合物（由化學式C-1表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。
比較例2
除了使用比較合成例2的化合物（由化學式C-2表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。
比較例3
除了使用比較合成例3的化合物（由化學式1-1表示）代替合成例9的化合物（由化學式1-1-1表示）之外，根據與實例1相同的方法形成了抗反射膜。（評估 3 ：耐光性可靠性）
為評估用於藉由施加量子點形成的面板的膜的耐光性可靠性是否得到改善，製造了光學構件（藉由在一個表面上具有含量子點層的玻璃的另一表面上堆疊抗反射膜來製造），且然後，藉由在氙試驗箱（Q-SUN）中在（光源燈：氙燈，照射強度：0.35瓦/平方公分，照射溫度：63℃，照射時間：500小時，且照射方向：自抗反射膜照射）的條件下照射前後量測化合物在最大吸收波長下的透光率、並使用透光率的變化而對耐光性可靠性進行了評估，且結果如表1所示。透光率的變化是照射前後透光率差的絕對值。
（表1）
| 耐光性可靠性（ΔT%） | |
| 實例1 | 3.3 |
| 實例2 | 3.5 |
| 實例3 | 3.0 |
| 實例4 | 3.7 |
| 實例5 | 5.2 |
| 實例6 | 4.9 |
| 實例7 | 4.2 |
| 實例8 | 3.9 |
| 比較例1 | 17.3 |
| 比較例2 | 14.1 |
| 比較例3 | 25.4 |
參照表1，相較於比較例1至比較例3，實例1至實例8顯示出改善的耐光性可靠性。換言之，應用根據實施例的染料化合物的抗反射膜及含量子點的顯示裝置有效地吸收藍色長波長區域及綠色短波長區域中的光，且因此改善了量子點應用面板的顏色再現性。
儘管已結合當前被視為實用示例性實施例者闡述了本發明，然而應理解本發明不限於所揭露的實施例，而是相反，旨在涵蓋隨附申請專利範圍的精神及範圍內所包括的各種修改形式及等效佈置。因此，應理解上述實施例為示例性的，而不以任何方式限制本發明。
10:藍色光源
20:含量子點層
30:濾色器
40:基板
50:黏著層
60:含染料層
70:抗反射層
80:抗反射膜
100:顯示裝置
圖1及圖2是各自獨立示出根據實施例的抗反射膜的示意圖。
圖3及圖4是各自獨立示出根據實施例的顯示裝置的示意圖。
50:黏著層
70:抗反射層
80:抗反射膜
Claims (19)
- 一種由化學式1表示的化合物：
- 如請求項1所述的化合物，其中L為兒茶酚系配位體、2,3-萘二酚系配位體或1,1’-聯-2-萘酚系配位體。
- 如請求項1所述的化合物，其中化學式1由化學式A或化學式B表示：
- 如請求項3所述的化合物，其中X為經取代或未經取代的C1至C20烷氧基、未經取代或被「未經取代的C1至C10烷基、經鹵素原子取代的C1至C10烷基、經C1至C5烷基取代的C1至C10烷基、未經取代的C1至C10烷氧基或其組合」取代的C1至C20烷基、或未經取代或被「未經取代的C1至C10烷基、經鹵素原子取代的C1至C10烷基、經C1至C5烷基取代的C1至C10烷基、未經取代的C1至C10烷氧基或其組合」取代的C6至C20芳基。
- 如請求項4所述的化合物，其中X為未經取代的C1至C20烷氧基、未經取代的C1至C20烷基、未經取代的C6至C20芳基、被「未經取代的C1至C10烷基」取代的C6至C20芳基、被「鹵素原子」取代的C6至C20芳基、被「經鹵素原子取代的C1至C10烷基」取代的C6至C20芳基、或被「未經取代的C1至C10烷氧基」取代的C6至C20芳基。
- 如請求項3所述的化合物，其中C1及C2各自獨立地為經取代或未經取代的苯環或經取代或未經取代的萘環。
- 如請求項6所述的化合物，其中C1及C2各自獨立地為未經取代或被「鹵素原子、氰基、C1至C10烷基、*-C(=O)R'或其組合」取代的苯環，或未經取代或被「鹵素原子、氰基、C1至C10烷基、*-C(=O)R'或其組合」取代的萘環，其中R'為C1至C10烷基。
- 如請求項1所述的化合物，其中所述化合物由化學式1-1-1至化學式1-1-8中的一者表示：
- 如請求項1所述的化合物，其中所述化合物表現出在400奈米至530奈米處的吸收波長，並且在所述吸收波長的490奈米至520奈米處具有最大吸收波長。
- 如請求項1所述的化合物，其中所述化合物是染料。
- 一種抗反射膜，包含如請求項1至請求項10中的任一項所述的化合物。
- 如請求項11所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜包括黏著層及位於所述黏著層上的抗反射層，並且所述化合物包含在所述黏著層中。
- 如請求項11所述的抗反射膜，其中 所述抗反射膜包括黏著層、含染料層及位於所述含染料層上的抗反射層，並且所述化合物包含在所述含染料層中。
- 一種顯示裝置，包括如請求項11所述的抗反射膜。
- 如請求項14所述的顯示裝置，其中所述顯示裝置更包括含量子點層。
- 如請求項15所述的顯示裝置，其中所述顯示裝置更包括光源、濾色器及基板。
- 如請求項16所述的顯示裝置，其中在所述顯示裝置中，所述含量子點層設置在所述光源上，所述濾色器設置在所述含量子點層上，所述基板設置在所述濾色器上，並且所述抗反射膜設置在所述基板上。
- 如請求項16所述的顯示裝置，其中所述光源是白色光源或藍色光源。
- 如請求項16所述的顯示裝置，其中所述基板包括玻璃基板。
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