TWI780430B - 檢測裝置與檢測方法 - Google Patents

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Abstract

一種檢測裝置，包括發光元件、光檢測元件、至少一反射式光學薄膜元件以及控制單元。發光元件用以提供激發光束，其中主發光波長落於激發波段範圍內的部分激發光束在照射待測物後產生螢光光束。光檢測元件用以接收主發光波長落於檢測波段範圍內的部分螢光光束。控制單元與至少一反射式光學薄膜元件耦接。控制單元控制至少一反射式光學薄膜元件用以濾除入射光束的部分波段範圍，且入射光束為激發光束與螢光光束的至少其中一者。一種用於前述檢測裝置之檢測方法亦被提出。

Description

檢測裝置與檢測方法
本發明是有關於一種檢測裝置與檢測方法，且特別是有關於一種光致螢光應用的檢測裝置與檢測方法。
現有的螢光即時定量聚合酶連鎖反應(real-time polymerase chain reaction/quantitative polymerase chain reaction，real-time PCR/qPCR)應用的檢測技術主要包含溫控部分、檢測部份及分析部份。在溫控部分，是利用溫度控制裝置產生所需要的熱循環，而使得待測物中檢測對象的量於每次熱循環後倍增，並可於經過N次熱循環後待測物的量變成2的N次方倍。在檢測部份，是利用主發光波長落於特定波段範圍內的激發光束在照射待測物後產生主發光波長落於另一特定波段範圍內的螢光光束，再用光檢測元件接收此螢光光束，並對此螢光光束的特性進行檢測。在分析部份，是利用分析軟體即時地監測整個聚合酶連鎖反應的溫度變化與螢光變化，對待測物作量化分析。
一般而言，由於市面上用於添加在待測物中的螢光試劑有許多種，而每種螢光試劑都有其相對較適合的激發光譜，因此 需根據螢光試劑的種類而在激發光束通過待測物前的光路上設置適合的帶通濾鏡(帶通濾光片，optical bandpass filter)，以於照射到待測物中的螢光試劑時有效形成所需的螢光光束，其中，帶通濾鏡(帶通濾光片)是一種可讓某一段波長的光線透過並且不讓其他波長的光線透過之濾光片。並且，由於螢光光束的訊號一般而言相當微弱，容易被其他雜訊光的訊號掩蓋，因此在光檢測元件接收此另一特定波段範圍內的螢光光束前的光路上，通常也會設有具一或數片帶通濾鏡的濾光模組以濾除此另一特定波段範圍外的雜訊光的訊號並純化螢光光束的特性。為了確保檢測精度，許多帶通濾鏡(Band pass filter)的OD值皆被要求須達到OD6等級，即通過各帶通濾鏡的截止波段的光線通過率須小於等於10的負6次方。
另一方面，市面上現有的檢測裝置，當需檢測搭配多種不同螢光試劑的待測物時，就會設置多種螢光通道(即自光源、激發光束產生、至待測物形成螢光光束、一直到光檢測元件前後的整體光路徑)來對應多種不同螢光試劑的需求，並需在各螢光通道上設置包含多個具有不同帶通濾鏡的不同濾光模組，以符合形成具有適合的激發光譜的激發光束以及純化螢光光束特性的需求。
如此一來，依據現有技術，當一檢測裝置被設計成可以同時檢測多種不同螢光試劑的待測物而使得螢光通道的數量增加時，所需的帶通濾鏡的數量也必須增加，進而大幅增加產品成本。並且，當檢測裝置設置多種螢光通道時，隨著設置的光路系統複 雜化，裝置空間也會因此難以縮小而相對較為龐大，且組裝複雜性高亦增加組裝與維修的成本。此外，一旦待測物中的螢光試劑更換或需增加一種新的螢光試劑時，位於螢光通道上的激發光束的光源以及所有的帶通濾鏡都須對應替換或增加，故而不易進行設備更新，更無法進行功能擴充。
本發明提供一種檢測裝置、檢測方法以及螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統，其具有良好的檢測精度以及低廉的成本。
本發明的一種檢測裝置，包括一發光元件、一光檢測元件、至少一反射式光學薄膜元件以及一控制單元。至少一反射式光學薄膜元件係設置於發光元件與光檢測元件間之螢光通道上。控制單元與至少一反射式光學薄膜元件耦接，用以控制一至少一反射式光學薄膜元件的反射光線的波段範圍。
在本發明的一實施例中，上述的至少一反射式光學薄膜元件每一者包括一或多個反射式濾光單元。
在本發明的一實施例中，上述的一或多個反射式濾光單元係為一微機電系統反射式濾光單元。
在本發明的一實施例中，上述的一或多個反射式濾光單元各具有一共振腔，且共振腔係具有一深度距離，深度距離係用以決定被反射式濾光單元所反射之光線之主發光波長的波段範圍。
在本發明的一實施例中，上述的至少一反射式光學薄膜元件包括一第一反射式光學薄膜元件，且共振腔的深度距離為第一深度距離的一或多個反射式濾光單元係設置於第一反射式光學薄膜元件上，用以產生並反射主發光波長落於激發波段範圍內且與第一深度距離相對應的出射光束。
在本發明的一實施例中，上述的至少一反射式光學薄膜元件包括一第二反射式光學薄膜元件，且共振腔的深度距離為第二深度距離的一或多個反射式濾光單元設置於第二反射式光學薄膜元件上，用以產生並反射主發光波長落於檢測波段範圍內且與第二深度距離相對應的出射光束。
在本發明的一實施例中，上述的至少一光學薄膜元件包括一或多個濾光區域，各一或多個濾光區域包含一或多個反射式濾光單元，且位於相同濾光區域的一或多個反射式濾光單元的共振腔的作動深度距離彼此相同，位於不同濾光區域的一或多個反射式濾光單元的共振腔的作動深度距離彼此不同。
在本發明的一實施例中，上述的一或多個濾光區域包括一第一濾光區域，且位於第一濾光區域的反射式濾光單元用於反射主發光波長落於一激發波段範圍的光線。
在本發明的一實施例中，上述的一或多個濾光區域包括一第二濾光區域，且位於第二濾光區域的反射式濾光單元的反射光線受到控制單元的控制而落於一檢測波段範圍。
在本發明的一實施例中，上述的檢測裝置還包括一容置 框架，用以容置一待測物，且容置框架具有一開口，用以接收主發光波長落於激發波段範圍內的部分激發光束。
本發明的一種檢測方法，適用於一檢測裝置，檢測裝置包括一發光元件、一光檢測元件、一控制單元以及至少一反射式光學薄膜元件，其中反射式光學薄膜元件係設置於發光元件與光檢測元件間之螢光通道上，且檢測方法包括下列步驟。利用發光元件提供激發光束，其中激發光束係用以在照射一待測物後產生一螢光光束。利用光檢測元件接收螢光光束。利用至少一反射式光學薄膜元件用以濾除入射光束的部分波段範圍，且入射光束為激發光束與螢光光束的其中一者。利用控制單元控制反射式光學薄膜元件，以反射所設定波段範圍之光線。
在本發明的一實施例中，上述的至少一反射式光學薄膜元件包括一或多個反射式濾光單元，且其中利用至少一反射式光學薄膜元件用以濾除入射光束的部分波段範圍，係利用控制單元來控制一或多個反射式濾光單元以濾除入射光束的部分波段範圍。
在本發明的一實施例中，上述的一或多個反射式濾光單元係為一微機電系統反射式濾光單元，且其中利用控制單元係控制一或多個反射式濾光單元以濾除入射光束的部分波段範圍，係利用控制單元來控制微機電系統反射式濾光單元以濾除入射光束的部分波段範圍。
在本發明的一實施例中，上述的反射式濾光單元具有一 共振腔，且控制單元係控制共振腔的深度距離，以反射主發光波長與深度距離對應的光線。
在本發明的一實施例中，上述的檢測方法，其中當發光元件提供的一激發光束入射至少一反射式光學薄膜元件時，控制單元控制激發光束照射的一或多個反射式濾光單元的至少一共振腔的深度距離為第一深度距離，以使經由至少一反射式光學薄膜元件反射的激發光束的主發光波長落於激發波段範圍內且與第一深度距離相對應。
在本發明的一實施例中，上述的當一螢光光束入射至少一反射式光學薄膜元件時，控制單元控制螢光光束照射的一或多個反射式濾光單元的至少一共振腔的深度距離為第二深度距離，以使經由至少一反射式光學薄膜元件反射的螢光光束的主發光波長落於檢測波段範圍內且與第二深度距離相對應。
在本發明的一實施例中，上述的檢測方法，更包括在至少一光學薄膜元件上提供一或多個濾光區域，各一或多個濾光區域包含一或多個反射式濾光單元，且位於相同濾光區域的一或多個反射式濾光單元的共振腔的作動深度距離彼此相同，位於不同濾光區域的一或多個反射式濾光單元的共振腔的作動深度距離彼此不同。
在本發明的一實施例中，上述的一或多個濾光區域包括第一濾光區域，且更包括以下之步驟：利用控制單元控制位於第一濾光區域的反射式濾光單元而使得反射光線而落於一激發波段 範圍。
在本發明的一實施例中，上述的多個濾光區域包括一第二濾光區域，且更包括以下之步驟：利用控制單元控制位於第二濾光區域的反射式濾光單元而使得反射光線而落於一檢測波段範圍。
在本發明的一實施例中，上述的檢測裝置還包括容置框架，用以容置待測物，且容置框架具有一開口，且更包括以下之步驟：利用開口形成光路而構成一螢光通道。
本發明的一種螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統，包括：一上述的檢測裝置，一溫控模組及一分析模組，溫控模組係用以控制系統之一溫度，且具有一加熱模組。分析模組係用以分析來自光檢測元件之一訊號。
在本發明的一實施例中，上述的至少一反射式光學薄膜元件，包括一第一反射式光學薄膜元件用以反射主發光波長落於激發波段範圍的出射光束及包括一第二反射式光學薄膜元件用以反射主發光波長落於檢測波段範圍的出射光束。
在本發明的一實施例中，上述的至少一反射式光學薄膜元件每一者包括一或多個反射式濾光單元，其中一或多個反射式濾光單元各具有一共振腔，且共振腔係具有一深度距離，深度距離係用以決定被反射式濾光單元所反射之光線之主發光波長的波段範圍。
在本發明的一實施例中，上述的檢測裝置還包括一容置 框架，用以容置一待測物，且容置框架具有一開口，用以接收主發光波長落於激發波段範圍內的部分激發光束。
在本發明的一實施例中，上述的溫控模組更具有一溫度感測器與一散熱模組。
基於上述，本發明的檢測裝置與檢測方法，係藉由至少一反射式光學薄膜元件的配置來進行螢光檢測。依據本發明之一實施例，只需設置至少一反射式光學薄膜元件，不需設置由帶通濾鏡組成的濾光模組，即可進行螢光檢測，也易於進行設備的更新與擴充。依據本發明之另一實施例，利用同一光路或螢光通道，即可支援多種不同的螢光試劑種類的待測物的檢測，因此能簡化光路與降低裝置複雜性。
10:螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統
100:檢測裝置
110:發光元件
120:容置框架
121:套筒結構
130:光檢測元件
140、540:反射式光學薄膜元件
141、541:第一反射式光學薄膜元件
142、542:第二反射式光學薄膜元件
150:控制單元
700:溫控模組
710:加熱模組
720:散熱模組
730:溫度感測器
800:分析模組
A、B、C、D、E:點
CL1、CL2:準直透鏡
d1、d2、d3:作動深度距離
du、dv:厚度
dx:深度距離
ELi、ELo:激發光束
EX:出口
FLi、FLo:螢光光束
FR1、FR2、FR3:濾光區域
FU、FU1、FU2、FU3:反射式濾光單元
IL:入射光束
IN:入口
HS1、HS2:外殼
O:待測物
OL、OL1、OL2、OL3:出射光束
OP:開口
L0:外界層
L1:第一介質層
L2:第二介質層
L3:第三介質層
N1:第一法線方向
N2:第一法線方向
S1:第一界面
S2:第二界面
S3:第三界面
S110、S120、S130、S140、S520、S530:步驟
θ0:入射角
θ1:第一夾角
θ2:第二夾角
θx:折射角
α1:第一入射角
α2:第二入射角
圖1是依照本發明的實施例的一種檢測裝置的系統方塊圖。
圖2是圖1的一種檢測裝置的架構示意圖。
圖3A是圖2的反射式光學薄膜元件的一種實施例的正視示意圖。
圖3B是入射光束垂直入射圖3A的反射式光學薄膜元件的反射式濾光單元的一種實施例時的光路示意圖。
圖3C是入射光束斜向入射圖3B的反射式濾光單元時的光路示意圖。
圖3D至圖3F是反射式光學薄膜元件的工作原理說明示意 圖。
圖3G是採用圖3A的反射式光學薄膜元件時的一種檢測方法的流程示意圖。
圖4A是圖2的檢測裝置在入射光束為激發光束時的光路示意圖。
圖4B是圖2的檢測裝置在入射光束為螢光光束時的光路示意圖。
圖4C是圖4A的套筒結構的局部放大示意圖。
圖4D是圖4A的另一種套筒結構的局部放大示意圖。
圖5A是圖2的反射式光學薄膜元件的另一種實施例的正視示意圖。
圖5B是圖5A的反射式光學薄膜元件的不同的反射式濾光單元的一種實施例示意圖。
圖5C是採用圖5A的反射式光學薄膜元件時的一種檢測方法的流程示意圖。
圖6是依照本發明的檢測裝置的一種螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統的應用例的方塊圖。
圖7是圖6中的溫控模組的一種實施例的系統方塊圖。
圖1是依照本發明的一種實施例的一種檢測裝置的系統 方塊圖。圖2是圖1的一種檢測裝置的架構示意圖。圖3A是圖2的反射式光學薄膜元件的一種實施例的正視示意圖。圖3B是入射光束垂直入射圖3A的反射式光學薄膜元件的反射式濾光單元的一種實施例時的光路示意圖。圖3C是入射光束斜向入射圖3B的反射式濾光單元FU時的光路示意圖。圖3D至圖3F是反射式光學薄膜元件的工作原理說明示意圖。圖3G是採用圖3A的反射式光學薄膜元件時的一種檢測方法的流程示意圖。圖4A是圖2的檢測裝置在入射光束為激發光束時的光路示意圖。圖4B是圖2的檢測裝置在入射光束為螢光光束時的光路示意圖。圖4C是圖4A的套筒結構的局部放大示意圖。圖4D是圖4A的另一種套筒結構的局部放大示意圖。請參照圖1與圖2中本發明的實施例，本實施例的檢測裝置100包括發光元件110、容置框架120、光檢測元件130、控制單元150以及至少一反射式光學薄膜元件140，其中所述至少一光學薄膜元件140包括一第一反射式光學薄膜元件141與一第二反射式光學薄膜元件142。此外，在本實施例中檢測裝置100的螢光通道，係由發光元件110至第一反射式光學薄膜元件141的激發光束Eli的光路、第一反射式光學薄膜元件141至容置框架120(的待測物O)的激發光束ELo的光路、容置框架120(的待測物O)至第二反射式光學薄膜元件142的螢光光束FLi的光路、第二反射式光學薄膜元件142至光檢測元件130的螢光光束FLo的光路整體所構成。
依照本發明的一種實施例，發光元件110用以提供激發 光束ELi。舉例而言，發光元件110可為白光發光二極體，而可用以提供發光波長落在400奈米左右至700奈米左右之間的激發光束ELi。再舉例而言，發光元件110可為紫外光發光二極體，其所提供的發光波長範圍包含至少一部份的紫外光波長範圍。又舉例而言，發光元件110可為包含可見光與紫外光的光源，其所提供的發光波長範圍包含至少可見光與紫外光的波長範圍。
本實施例的容置框架120係用以容置待測物O。依照本發明如圖2所示的一種實施例，容置框架120具有至少一套筒結構121，其中至少一套筒結構121用以容置待測物O。舉例而言，如圖2所示，具有螢光試劑的待測物O放置在其中一套筒結構121中，而當此螢光試劑所適合的激發光譜落在激發波段範圍時，則當主發光波長落於激發波段範圍內的部分激發光束ELo在照射待測物O時，待測物O中的螢光試劑可產生螢光光束FLi。
根據本發明之一實施例，如圖2及圖3A至圖3C所示，至少一反射式光學薄膜元件140可以當光線射入時利用光線的干涉作用來濾除入射光束IL的部分波段範圍，以形成並反射出主發光波長落於特定波段範圍的出射光束OL。根據本發明之一實施例，至少一反射式光學薄膜元件140包括第一反射式光學薄膜元件141及/或第二反射式光學薄膜元件142，且第一反射式光學薄膜元件141及/或第二反射式光學薄膜元件142可為一微機電系統(MEMS,microelectromechanical systems)的反射式光學薄膜元件，能在控制單元150的控制下反射具有特定波長的入射光束IL。根 據本發明之一實施例，該反射式光學薄膜元件140是一微機電系統反射式光學薄膜元件140，可在控制單元150的控制下而將入射光束IL中具有特定波長的光線反射出而成為出射光束OL。依據本發明之一實施例，該微機電系統反射式光學薄膜元件140係具有一或多個濾光單元FU，可在控制單元150的控制下而將入射光束IL中具有特定波長的光線反射出而成為出射光束OL。依據本發明之一實施例，每一濾光單元FU具有一光學共振腔，該光學共振腔具有一共振腔的深度距離dx，可在控制單元150控制所述深度距離dx之下而將入射光束IL中具有特定波長的光線反射出而成為出射光束OL。依據本發明之另一實施例，該微機電系統反射式光學薄膜元件140之濾光單元FU可為一干涉式調變顯示單元(Interferometric modulator display,IMOD)，其係為高通(Qualcomm)所開發之米拉索爾顯示單元(Mirasol Display)，其係在一反射鏡層之上設置有一薄吸收層而可控制其間之光學共振腔距離，以將入射光束IL中具有特定波長的光線反射出而成為出射光束OL(圖3B與圖3C)。依據本發明之又一實施例，該微機電系統反射式光學薄膜元件140之濾光單元FU可為複數組不同的濾光單元FU1、FU2、FU3，各自可在控制單元150控制下，分別反射不同特定波長的入射光束IL而成為出射光束OL(圖5B)。
依據本發明之一實施例，如圖3A至圖3C所示，第一反射式光學薄膜元件141與第二反射式光學薄膜元件142分別包括多個濾光單元FU，各濾光單元FU分別具有第一界面S1與第二界 面S2，各濾光單元FU的第一界面S1與第二界面S2之間形成各濾光單元FU的共振腔，第一界面S1與第二界面S2之間的距離定義為各濾光單元FU的共振腔的深度距離dx。依據本發明之一實施例，如圖3A至圖3C所示，第一反射式光學薄膜元件141與第二反射式光學薄膜元件142分別包括多個濾光單元FU，濾光單元FU之構造可以用微機電系統技術來實現，其中於最上方係設有一抗反射層310，並於抗反射層310之下設有一吸收層320，且於吸收層320相隔一段距離處再設一鏡面層340，而吸收層320與鏡面層340之間的空間則形成一共振腔330，共振腔330中可以填入空氣或是其他氣體或是其他材料，且吸收層320與鏡面層340之間的距離dx定義為此共振腔的深度距離，則藉由控制元件150來控制深度距離dx即可調變而將入射光束IL中具有特定波長的光線反射出而成為出射光束OL。
茲簡單介紹反射式光學薄膜元件的工作原理如下。請參閱圖3D，依據薄膜光學干涉原理，當光線由疏介質進入密介質且被反射時光的相位會改變180度，而當光線由密介質進入疏介質且被反射時則否。因此，當入射光束IL從界面S1垂直射入薄膜(共振腔)時，其經由第一界面S1垂直反射後離開薄膜的出射光束OL1與其射入薄膜後經由第二界面S2垂直反射後再從界面S1透射離開薄膜的出射光束OL2之間的光程差(optical path difference，OPD)若符合其波長λ的整數倍再多波長λ的一半時，亦即：光程差OPD=(λm-λ/2)，m為正整數1，2，3...，則分別經由第一界面S1與 第二界面S2所反射的出射光束OL1與出射光束OL2就會同相位而產生相長性干涉(constructive interference)，而其加總的射光束OL的強度就會顯著增加，其中光程差為薄膜厚度dx的兩倍與薄膜折射率nx的積：光程差OPD=2(dx)*(nx)=2(nx)(dx)。然而，當入射光束IL的波長不符合上述情形時，則無法被薄膜大幅反射。換言之，光學薄膜的厚度將可決定能被大幅反射的出射光束OL的波長。舉例而言，當選擇m=1時，光程差OPD=λ/2，光學薄膜的厚度與出射光束OL的相長性干涉可通過下列關係式決定：λ=4(nx)(dx)。
請參閱圖3E，當外界入射光束IL並非垂直射入薄膜而具有一入射角θ0時，分別經由第一界面S1與第二界面S2所反射的出射光束OL1與出射光束OL2的光程差則需考慮外界介質的折射率n0、共振腔中的介質的折射率nx、入射光束IL進入共振腔中的入射角θ0與折射角θx等參數關係，且考慮當外界為真空或空氣時之折射率n0約等於1時，則會符合下式：光程差OPD=2(nx)(dx)cos(θx)，其中可利用sin(θx)=(n0)sin(θ0)/(nx)=sin(θ0)/(nx)(依據司乃耳定律，Snell’s Law)算出cos(θx)，再考慮相長性干涉時，光程差OPD=(λm-λ/2)，m為正整數1，2，3...，即可藉由控制dx而達成波長λ的光線的相長性干涉。舉例而言，當選擇m=1時，光程差OPD=λ/2，薄膜厚度dx與出射光束OL的波長λ的關係可通過下式決定：λ=4(nx)(dx)cos(θx)，其中sin(θx)=sin(θ0)/(nx)，且nx可由介質材料得知，故當入射角θ0決定後即可得 出折射角θx，進而算出cos(θx)。並且，為了取得具有所需波長λ的值的出射光束OL，則可經由上式基於出射光束OL的所需波長λ的值來控制厚度dx。
請參閱圖3F，再進一步考慮有更多層薄膜時之情形，其中由上而下的外界層L0，第一介質層L1，第二介質層L2，第三介質層L3的折射率分別例如為n0，n1，n2，n3，且n0<n1，n2<n1，n2<n3，其中外界層L0例如為外界(例如是空氣或真空)，第一介質層L1例如為光學薄膜，及第二介質層L2例如為光學薄膜或空腔(例如其中為空氣或真空)，第三介質層L3例如為光學薄膜或鏡面(例如為全反射鏡面)，此時由上而下，各介質層分別為光疏介質、光密介質、光疏介質、光密介質。當外界的入射光束IL並非垂直射入薄膜而具有一角度時，假設入射角為入射角θ0，於點A通過第一界面S1(外界層L0與第一介質層L1之間)時之折射角為第一夾角θ1，且再於點B通過第二界面S2(第一介質層L1與第二介質層L2之間)時之折射角為第二夾角θ2，且光束於點C遇到第三界面S3(第二介質層L2與第三介質層L3之間)時僅考慮反射而向上直接通過第二界面S2的點D與第一界面S1的點E出來的部份，其中第一介質層L1具有一厚度du且第二介質層L2具有一厚度dv，則可得到出射光束OL3相對於出射光束OL1的光程差OPD=2(n1)(du)cos(θ1)+2(n2)(dv)cos(θ2)，其中(n0)sin(θ0)=(n1)sin(θ1)=(n2)sin(θ2)(依據司乃耳定律)，且另外再考慮n0<n1與n2<n3，故第一界面S1與第三界面S3反射光線時皆有相位轉換180度，因而在相長 性干涉時，光程差OPD=λm，m為正整數1，2，3...，即可藉由控制深度距離而達成波長為λ的光線的相長性干涉，出射光束OL2的效應公式則是已於圖3E中得到，而出射光束OL則是加總考慮出射光束OL1，出射光束OL2，出射光束OL3及其他反射光線的干涉效應總合。當光學薄膜的層數再增加時，可以由前述輕易推知相對應的光程差公式，故於此不再贅述。當有多層薄膜堆疊時可以進一步的設定其光學性質，增強波長λ的光線的相長性干涉效果，進而達到波長選擇的目的。藉由前述薄膜光學干涉原理，若將此光學薄膜視為一光學共振腔，且將此光學薄膜元件之厚度視為共振腔的深度距離，則可以利用調整共振腔的深度距離而選擇反射出的所希望的光線的主波段範圍。
如圖2及圖3A至圖3B所示，在本實施例中，入射光束IL可為激發光束ELi及/或螢光光束FLi，而其對應的出射光束OL則分別為激發光束ELo及/或螢光光束FLo。進一步而言，如圖2與圖4A所示，當入射光束IL為激發光束ELi時，至少一反射式光學薄膜元件140包括第一反射式光學薄膜元件141，第一反射式光學薄膜元件141位於激發光束ELi的傳遞路徑上，且位於發光元件110與容置框架120之間。換言之，當入射光束IL為激發光束ELi時，即為激發光束ELi入射第一反射式光學薄膜元件141的情況。當激發光束ELi通過第一光學薄膜元件141時，則可透過控制第一反射式光學薄膜元件141的各濾光單元FU的共振腔的深度距離dx，來形成主發光波長落於激發波段範圍內的激發光束 ELo。並且，如圖2所示，在本實施例中，檢測裝置100還包括第一外殼HS1以形成一第一暗房，用以容置發光元件110以及第一反射式光學薄膜元件141，以隔絕外部之雜訊光而利於螢光檢測之進行。並且，第一外殼HS1具有一出口EX，用以供主發光波長落於激發波段範圍內的激發光束ELo通過。依照本發明的一種實施例，檢測裝置100係設有至少一暗房容置待測物O，以隔絕外部之雜訊光而利於螢光檢測。依照本發明的另一種實施例，待測物O係設於一暗房中而由容置框架120所支持，以隔絕外部之雜訊光，但暗房具有一開口讓待測物O可接收激發光束ELo及一開口讓待測物O可發送螢光光束FLi。
更詳細而言，如圖2與圖4A所示，由於發光元件110的位置、激發光束ELi的入射方向與待測物O的位置皆為固定，因此，第一反射式光學薄膜元件141的法線方向N1以及激發光束ELi與法線方向N1之間的第一入射角α1也會保持為固定不變的定值，因此只要將第一外殼HS1的出口EX設置為位於激發光束ELo的傳遞路徑上的小孔，激發光束ELo即可通過出口EX並入射至待測物O處。依照本發明的一種實施例，第一外殼HS1的內側會採用黑色材質或濆塗黑色材質的漆的吸光物質，以降低激發光束ELi經由第一外殼HS1內部結構反射而通過第一外殼HS1的出口EX的可能性，而可進一步濾除雜訊光的影響。
接著，如圖2與圖4C所示，依據本發明之一實施例，至少一套筒結構121位於激發光束ELo的傳遞路徑上。在本實施例 中，至少一套筒結構121之各者具有一開口OP，主發光波長落於激發波段範圍內的激發光束ELo在通過第一外殼HS1的出口EX後，會對準開口OP，而使開口OP可用以接收激發光束ELo。舉例而言，開口OP的寬度尺寸可介於大約0.5毫米至1毫米之間，以使減少環境雜訊光通過開口OP的可能性，並維持開口OP所能接收到的激發光束ELo的最大值即可。此外，在本實施例中，開口OP的形狀可為狹縫，但本發明不以此為限。在其他的實施例中，開口OP的形狀也可為圓形開口OP(如圖4D的實施例的套筒結構121A的開口OP)、矩形開口OP等等。
另一方面，如圖2與圖4B所示，當入射光束IL為螢光光束FLi時，至少一反射式光學薄膜元件140包括第二反射式光學薄膜元件142，第二反射式光學薄膜元件142位於螢光光束FLi的傳遞路徑上，且位於容置框架120與光檢測元件130之間。並且，至少一套筒結構121之各者的下方還具有一開孔，可用以供主發光波長落於激發波段範圍內的部分激發光束ELo在照射待測物O後產生的螢光光束FLi出射。換言之，當入射光束IL為螢光光束FLi，即為螢光光束FLi入射第二反射式光學薄膜元件142時的情況。依照本發明的一種實施例，如圖2所示，檢測裝置100還包括第二外殼HS2以形成一第二暗房，用以容置第二反射式光學薄膜元件142以及光檢測元件130，以隔絕外部之雜訊光而利於螢光檢測之進行。第二外殼HS2具有一入口IN，以供螢光光束FLi通過。
並且，類似地，如圖2與圖4B所示，由於待測物O的位置、螢光光束FLi的入射方向、第二反射式光學薄膜元件142與光檢測元件130的位置皆為固定，因此，第二反射式光學薄膜元件142的法線方向N2以及螢光光束FLi與法線方向N2之間的第二入射角α2也會保持為固定不變的定值，因此只要將第二外殼HS2的入口IN設置為位於螢光光束FLi的傳遞路徑上的小孔，螢光光束FLi即可通過入口IN並傳遞至第二反射式光學薄膜元件142，並可藉此遮擋環境光線，而可進一步濾除雜訊光的影響。進一步而言，當螢光光束FLi通過第二反射式光學薄膜元件142時，也可透過控制第二反射式光學薄膜元件142的各濾光單元FU的共振腔的深度距離dx，來形成主發光波長落於檢測波段範圍內的螢光光束FLo，其中檢測波段範圍為螢光光束FL的特性較為顯著的波段範圍。雖然在圖2、圖4A及圖4B包含第一暗房與第二暗房，但是依照本發明的另一種實施例，檢測裝置100係設有至少一暗房於發光元件110與光檢測元件130二者之一上而使其相互阻隔而僅有螢光通道之光路相通，以降低光檢測元件130所收到的雜訊光而利於螢光檢測。依照本發明的又一種實施例，檢測裝置100的由發光元件110以至於光檢測元件130間的螢光通道，係設置於至少一暗房中，以隔絕外部之雜訊光。依照本發明的再一種實施例，檢測裝置100的由發光元件110以至於光檢測元件130間的螢光通道，係通過至少二暗房中，以減少外部之雜訊光。
並且，如圖2所示，光檢測元件130位於螢光光束FLo 的傳遞路徑上，而可用以接收螢光光束FLo。舉例而言，光檢測元件130為能夠偵測光強度的光電感測器，而可為光電二極體(光二極體，Photodiode)。具體而言，光檢測元件130用以接收主發光波長落於檢測波段範圍內的部分螢光光束FLo。
另一方面，如圖1所示，在本實施例中，檢測裝置100還包括控制單元150。舉例而言，控制單元150可為微控制器或中央處理單元，其包含記憶體，輸入控制器、輸出控制器。根據本發明之一種實施例中，控制單元150可以執行程式以控制發光元件110的發光波長範圍的設定以及控制發光元件110的開關。根據本發明之另一種實施例中，控制單元150可控制光檢測元件130對偵測到的光強度進行調校，舉例而言，當光檢測元件130對於不同波長之光的感測強度不相同時，可以透過控制單元150對感測強度進行校正(offset)調整。
根據本發明之另一種實施例中，控制單元150可控制激發光束ELi或螢光光束FLi通過至少一光學薄膜元件140的第一光學薄膜元件141及/或第二光學薄膜元件142的濾光單元FU的共振腔的深度距離dx。更具體而言，控制單元150能夠調整至少一光學薄膜元件140的濾光單元FU的共振腔的深度距離dx的大小，來進一步調整激發光束ELo及/或螢光光束FLo的主發光波長的範圍，以使激發光束ELo的主發光波長能落於激發波段範圍內及/或螢光光束FLo的主發光波長能落於檢測波段範圍內。
以下將針對控制單元150如何執行圖2G的檢測方法進行 進一步的解說。請參照圖3G，在本實施例中，圖3G的檢測方法例如可利用圖1與圖2中的檢測裝置100來執行。
首先，執行步驟S110，控制單元150開啟發光元件110。具體而言，如圖2所示，在步驟S110中，發光元件110提供的激發光束ELi可經過準直透鏡CL1而被準直化為平行光束。
接著，執行步驟S120，控制單元150依據激發波段範圍，控制第一反射式光學薄膜元件141的濾光單元FU的共振腔的深度距離dx為第一深度距離，以使待測物接收到主發光波長落於激發波段範圍的激發光束ELo而產生螢光光束FLi。更具體而言，如圖2與圖3B所示，當激發光束ELi入射第一反射式光學薄膜元件141時，控制單元150控制第一反射式光學薄膜元件141的濾光單元FU的共振腔的深度距離dx為第一深度距離，且第一深度距離的值與激發波段範圍的值相對應，因此共振腔反射出主發光波長落於激發波段範圍的激發光束ELo，並為待測物O接收到而產生螢光光束FLi。
依照本發明的一種實施例，激發波段範圍的設定值約可為介於400奈米至700奈米之間以符合各種螢光試劑的規格需求。茲列舉數種市售的螢光試劑的額定的吸收激發波長(激發波長波峰值)及其所產生的對應額定螢光波長(螢光波長波峰值)如下：綠光(FAM)的激發波長494nm對應至螢光波長520nm、黃光(Cy3)的激發波長550nm對應至螢光波長570nm、橘光(ROX)的激發波長575nm對應至螢光波長602nm、紅光(Cy5)的激發波長646nm對 應至螢光波長662nm。所謂一螢光試劑的額定激發波長(激發波長波峰值)是指，該螢光試劑反應物對某一激發波段範圍的激發光線皆有螢光產生效果，但是在該激發波段範圍中的該額定激發波長有最佳的螢光產生效果。換句話說，該螢光試劑反應物對於在其額定激發波長附近的激發光線(即該激發波段範圍)有產生螢光的效果，但是以該額定激發波長之產生螢光的效果為最佳。並且，當此一激發波段範圍為激發波段範圍所涵蓋之波段範圍時，此螢光試劑即可適用於本檢測裝置100中，而藉由檢測裝置100通過控制單元150來控制第一反射式光學薄膜元件141的深度距離dx，進而使激發光束ELo能激發待測物O而產生較佳的螢光產生效果。
類似的，所謂一螢光試劑的額定螢光波長(螢光波長波峰值)是指，該螢光試劑反應物對於激發光線所產生的螢光會落在某一螢光波段範圍內，但是在反應物受到額定激發波長的光線照射時，其所產生的螢光波長會落在額定螢光波長附近(即該螢光波段範圍)，但以該額定螢光波長有最佳的螢光產生效果。並且，當此一螢光波段範圍為檢測波段範圍所涵蓋之波段範圍時，此螢光試劑即可適用於本檢測裝置100中，而藉由檢測裝置100通過控制單元150來控制第二反射式光學薄膜元件142的深度距離dx，進而純化螢光光束FLo的色純度，以純化螢光光束FLo的特性。
依據本發明之一實施例，該激發波段範圍可以是包含額定激發波長的40nm的範圍內；依據本發明之另一實施例，該激發 波段範圍可以是包含額定激發波長的20nm的範圍內；依據本發明之又一實施例，該激發波段範圍可以是包含額定激發波長的10nm的範圍內；依據本發明之再一實施例，該激發波段範圍可以是包含額定激發波長的6nm的範圍內。另外，依據本發明之一實施例，該激發波段範圍是以該額定激發波長為中心而增減某一特定波長為其範圍，例如增減20nm，另例如增減10nm，又例如增減5nm，再例如增減3nm。茲舉上述市售的綠光(FAM)的額定激發波長494nm對應至額定螢光波長520nm為例說明，其激發波段範圍可以是包含額定激發波長494nm的40nm的範圍內(例如在460nm至500nm的範圍內，又例如在470nm至510nm的範圍內)，又或可以是包含494nm的20nm的範圍內(例如在480nm至500nm的範圍內，又例如在490nm至510nm的範圍內)，又或可以是包含494nm的10nm的範圍內(例如在490nm至500nm的範圍內)，又或可以是包含494nm的6nm的範圍內(例如在490nm至496nm的範圍內)；或者，該激發波段範圍是以該額定激發波長494nm為中心而增減某一特定波長為其範圍，例如增減20nm的範圍內(亦即在474nm至514nm的範圍內)，又或增減10nm的範圍內(亦即在484nm至504nm的範圍內)，又或增減5nm的範圍內(亦即在489nm至499nm的範圍內)，又或增減3nm的範圍內(亦即在491nm至497nm的範圍內)。
並且，當需要激發光束ELo具有特定的主發光波長時，則可對第一深度距離進行進一步地限定。例如，當需要激發光束 ELo的主發光波長(即激發波長)為494奈米左右時，可控制第一深度距離為與494奈米相對應的一值而達成此目的；又如，當需要激發光束ELo的主發光波長(即激發波長)為550奈米左右時，可控制第一深度距離為與550奈米相對應的另一值而達成此目的，以此類推。如此，只要調整第一深度距離的大小，就可得到所需的激發光束ELo。再者，依據本發明之一實施例，可以調整第一反射式光學薄膜元件141的濾光單元FU的共振腔的第一深度距離的不同大小，即可在其中兩種不同色光的激發波長之間切換，例如綠色切換至黃色，或黃色切換至橘色，或是橘色切換至紅色；依據本發明之另一實施例，可以調整濾光單元FU的共振腔的第一深度距離的不同大小，即可在其中三種不同色光的激發波長之間切換，例如綠色、黃色及橘色，或是黃色、橘色及紅色；依據本發明之又一實施例，可以調整濾光單元FU的共振腔的第一深度距離的不同大小，即可在其中四種或以上的不同色光的激發波長之間切換，例如綠色、黃色、橘色及紅色。
如此一來，控制單元150可依據待測物O中帶有的螢光試劑種類所需的激發光束ELo的適合波段範圍，來設定第一深度距離的值，即可有效地形成所需的螢光光束FLi，而不需如習知技術一般地設置各種不同的由帶通濾鏡組成的濾光模組及/或各種不同的螢光通道，並且控制單元150僅需調整第一反射式光學薄膜元件141的第一深度距離，就可支援多種不同的螢光試劑種類的檢測，因此易於進行設備的更新與擴充。此外，由於在進行多種 不同的螢光試劑種類的檢測時，不同的待測物O所需的激發光束ELo可共用同一光路或螢光通道，因此也能簡化光路與減少生產、組裝、維修、調整的複雜性，而減少產品成本以及提升生產品質。
類似地，由於隨著螢光試劑種類的不同，待測物O所生成的螢光光束FLi的主要發光光譜的範圍也會有所差異，因此，檢測裝置100亦可通過位於容置框架120與光檢測元件130之間的第二反射式光學薄膜元件142的配置，來執行步驟S130，依據檢測波段範圍，控制第二反射式光學薄膜元件142的濾光單元FU的共振腔的深度距離dx為第二深度距離，而藉此來濾除特定波段範圍外的雜訊光的訊號，並純化螢光光束的色純度，以純化螢光光束的特性，以提升檢測精度。
依照本發明的一種實施例，類似上方與控制第一反射式光學薄膜元件141的原理所述，如圖2與圖3B所示，當螢光光束FLi入射第二反射式光學薄膜元件142時，控制單元150控制第二反射式光學薄膜元件142的濾光單元FU的共振腔的深度距離dx為第二深度距離，且第二深度距離的值與檢測波段範圍的值相對應。
依照本發明的一種實施例，檢測波段範圍的值約可介於450奈米至730奈米之間以符合各種螢光試劑的規格需求，請參閱前文市售的螢光試劑的額定的吸收激發波長及其所產生的對應額定螢光波長的例子。並且，當不同的螢光試劑的規格所對應的額定螢光波長附近的波段範圍(即某一螢光波段範圍)為檢測波段 範圍所涵蓋之波段範圍時，此螢光試劑即可適用於本檢測裝置100中，而藉由檢測裝置100通過控制單元150來控制第二反射式光學薄膜元件142的深度距離dx，進而純化螢光光束FLo的色純度，以純化螢光光束FLo的特性。
再者，依據本發明之一實施例，該螢光波段範圍可以是包含額定螢光波長的40nm的範圍內；依據本發明之另一實施例，該螢光波段範圍可以是包含額定螢光波長的20nm的範圍內；依據本發明之又一實施例，該螢光波段範圍可以是包含額定螢光波長的10nm的範圍內；依據本發明之又一實施例，該螢光波段範圍可以是包含額定螢光波長的6nm的範圍內。此外，依據本發明之一實施例，該螢光波段範圍是以該額定螢光波長為中心而增減某一特定波長為其範圍，例如增減20nm，另例如增減10nm，又例如增減5nm，再例如增減3nm。茲舉上述市售的綠光(FAM)的額定激發波長494nm對應至額定螢光波長520nm為例說明，其螢光波段範圍可以是包含額定螢光波長520nm的40nm的範圍內(例如在485nm至525nm的範圍內，又例如在495nm至535nm的範圍內)，又或可以是包含520nm的20nm的範圍內(例如在505nm至525nm的範圍內，又例如在515nm至535nm的範圍內)，又或可以是包含520nm的10nm的範圍內(例如在515nm至525nm的範圍內)，又或可以是包含520nm的6nm的範圍內(例如在518nm至524nm的範圍內)；或者，該螢光波段範圍是以該額定螢光波長520nm為中心而增減某一特定波長為其範圍，例如增減20nm的範圍內(亦即 在500nm至540nm的範圍內)，又或增減10nm的範圍內(亦即在510nm至530nm的範圍內)，又或增減5nm的範圍內(亦即在515nm至525nm的範圍內)，又或增減3nm的範圍內(亦即在517nm至523nm的範圍內)。
並且當需要螢光光束FLo具有特定的主發光波長時，則可對第二深度距離進行進一步地限定。例如，當需要螢光光束FLo的主發光波長(即檢測波長)為520奈米左右時，可控制第二深度距離為與520奈米相對應的一值而達成此目的；又如，當需要螢光光束FLo的主發光波長(即檢測波長)為573奈米左右時，可控制第二深度距離為與573奈米相對應的另一值而達成此目的，以此類推。如此，只要調整第二深度距離的大小，就可得到所需的螢光光束FLo。再者，市售的螢光試劑的吸收激發波長及其所產生的對應螢光波長如先前所述，則依據本發明之一實施例，可以調整第二反射式光學薄膜元件142的濾光單元FU的共振腔的第二深度距離的不同大小，即可在其中兩種、三種、四種或以上不同色光的螢光波長之間切換，類似於調整第一反射式光學薄膜元件141的濾光單元FU的共振腔的第二深度距離的情形。
接著，請參照圖2與圖3G，控制單元150可執行步驟S140，偵測主發光波長落於檢測波段範圍的螢光光束FLo的光強度，並將其轉換成電訊號進行後續分析。
依照本發明的一種實施例，控制單元150可依據待測物O中帶有的螢光試劑種類的主要發光光譜的波段範圍，來設定第二 深度距離的值，即可濾除特定波段範圍外的雜訊光的訊號，並純化螢光光束FLo的特性，而不需設置由帶通濾鏡組成的濾光模組，並且控制單元150僅需調整第二反射式光學薄膜元件142的第二深度距離，就可支援多種不同的螢光試劑種類的檢測，因此易於進行設備的更新與擴充。此外，由於在進行多種不同的螢光試劑種類的檢測時，不同的待測物O所形成的螢光光束FLo可共用同一光路，因此也能簡化光路與減少生產組裝的複雜性，進而減少產品成本以及提升生產品質。
值得注意的是，在上述的實施例中，控制單元150控制至少一反射式光學薄膜元件140的第一反射式光學薄膜元件141與第二反射式光學薄膜元件142的控制方式雖以調整至少一反射式光學薄膜元件140的濾光單元FU的共振腔的深度距離dx的大小為例示，但本發明不以此為限。以下將另舉部分實施例作為說明。
圖5A是圖2的反射式光學薄膜元件的另一種實施例的正視示意圖。圖5B是圖5A的反射式光學薄膜元件的不同的反射式濾光單元FU1、FU2、FU3的一種實施例示意圖。圖5C是採用圖5A的反射式光學薄膜元件時的一種檢測方法的流程示意圖。請參照圖5A至圖5C，反射式光學薄膜元件540與圖1的反射式光學薄膜元件140類似，其主要差異如下所述。如圖5A所示，在本實施例中，至少一反射式光學薄膜元件540的第一反射式光學薄膜元件541以及第二反射式光學薄膜元件542分別包括多個濾光區 域FR1、濾光區域FR2、濾光區域FR3，多個濾光區域FR1、濾光區域FR2、濾光區域FR3的反射式濾光單元FU1、反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3各自的共振腔的作動深度距離d1、作動深度距離d2、作動深度距離d3分別為固定值，係為該反射式濾光單元開啟狀態時(非關閉狀態時)而可以進行濾光反射時之深度距離，而位於相同濾光區域FR1(或是濾光區域FR2、濾光區域FR3)的反射式濾光單元FU1(或是反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3)的共振腔的作動深度距離d1(或是深度距離d2、深度距離d3)彼此相同，且位於不同的濾光區域FR1、濾光區域FR2、濾光區域FR3的反射式濾光單元FU1、反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3的共振腔的作動深度距離d1、作動深度距離d2、作動深度距離d3彼此不同。請注意，由於圖5A是反射式光學薄膜元件540的示意圖，因而分別例示了第一反射式光學薄膜元件541以及第二反射式光學薄膜元件542，惟，第一反射式光學薄膜元件541的作動深度距離d1(或深度距離d2、深度距離d3)與第二反射式光學薄膜元件542的作動深度距離d1(或深度距離d2、深度距離d3)並不需要相同而可以不同，且兩者經常是不同的，因為通常一螢幕試劑的吸收光線波長較短而其放射螢光波長較長，故若用同一規格的兩個反射式濾光單元的部件時，需要不同的作動深度距離設定來得到不同波長的濾光效果。舉例而言，如前述綠光(FAM)是激發波長494nm而螢光波長520nm，且其分別對應的是第一反射式光學薄膜元件541的濾光區域FR1 與第二反射式光學薄膜元件542的濾光區域FR1，則對於同一規格部件的第一反射式光學薄膜元件541的濾光區域FR1的作動深度距離d1(第一深度距離)與第二反射式光學薄膜元件542的濾光區域FR1的作動深度距離d1(第二深度距離)並不相同。
並且，控制單元150還可控制至少一反射式光學薄膜元件540中位於不同的濾光區域的反射式濾光單元FU1、反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3的開啟或關閉，來進一步調整激發光束ELo與螢光光束FLo的主發光波長的範圍，以使激發光束ELo的主發光波長能落於激發波段範圍內及/或螢光光束FLo的主發光波長能落於檢測波段範圍內。以下將針對控制單元150如何執行圖5C的檢測方法進行進一步的解說。請參照圖5C，在本實施例中，圖5C的檢測方法例如可利用圖1與圖2中的檢測裝置100來執行。
首先，執行步驟S110，執行步驟S110的方式與圖3G的控制方法相同，在此就不再贅述。
接著，執行步驟S520，控制單元150依據激發波段範圍，控制位於第一濾光區域的反射式濾光單元處於開啟狀態，並控制位於第一濾光區域外的其他濾光區域的反射式濾光單元處於關閉狀態，以使待測物接收到主發光波長落於激發波段範圍的激發光束ELo而產生螢光光束FLi，其中位於第一濾光區域的反射式濾光單元的共振腔的深度距離為第一深度距離而為作動深度距離。
依照本發明的一種實施例，控制單元150控制第一反射 式光學薄膜元件541的反射式濾光單元FU1(或是反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3)處於關閉狀態的方式例如是以靜電施加於反射式濾光單元FU1(或是反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3)的共振腔，此時形成第一反射式光學薄膜元件541的反射式濾光單元FU1(或是反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3)的第一界面S1與第二界面S2的反射薄膜會塌陷，造成這些處於關閉狀態的反射式濾光單元FU1(或是反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3)的共振腔的深度距離變得非常窄，如此，能通過這些處於關閉狀態的反射式濾光單元FU1(或是反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3)的出射光束OL的波長就變得非常短，而會落在激發波段範圍外或是落在檢測波段範圍外，且其強度也會衰減。換言之，當入射光束IL入射處於關閉狀態的第一反射式光學薄膜元件541的這些反射式濾光單元FU1(或是反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3)時，可以被濾除。如此，當第一反射式光學薄膜元件541中位於某一濾光區域(例如：第一濾光區域)的反射式濾光單元被設定於處於開啟狀態的話，也就會只有通過該一濾光區域(即：第一濾光區域)的反射式濾光單元的激發光束能夠成為第一反射式光學薄膜元件541的出射光束OL，並且，由於本實施例的第一反射式光學薄膜元件541中位於第一濾光區域的濾光單元的共振腔的作動深度距離為第一深度距離，而第一深度距離的值與激發波段範圍的值相對應，因此激發光束ELo的主發光波長能落於激發波段範圍。
更具體而言，在本實施例中，控制單元150能夠基於激發波段範圍，來選擇第一反射式光學薄膜元件541的濾光區域FR1、濾光區域FR2、濾光區域FR3的其中一者為第一反射式濾光區域，亦即選擇作動深度距離d1、作動深度距離d2、作動深度距離d3的其中一者來做為第一深度距離。如此，控制單元150即可透過第一反射式光學薄膜元件541的濾光區域FR1、濾光區域FR2、濾光區域FR3的選取來對第一深度距離進行設定，並藉此使激發光束ELo的主發光波長能落於激發波段範圍。
根據本發明之一實施例，第一反射式光學薄膜元件541的濾光區域FR1的作動深度d1距離大於濾光區域FR2的作動深度距離d2以及濾光區域FR3的作動深度距離d3，因此當所需的激發波段範圍的值較大時，可選擇具有較大的作動深度距離d1的濾光區域FR1來作為第一濾光區域；反之，當所需的激發波段範圍的值較小時，可選擇具有較小的作動深度距離d2的濾光區域FR2或具有作動深度距離d3的濾光區域FR3來作為第一濾光區域。根據本發明之另一實施例，濾光區域FR3的作動深度距離小於濾光區域FR1的作動深度距離d1以及濾光區域FR2的作動深度距離d2，因此當所需的激發波段範圍的值較小時，可選擇具有較小的深度距離d3的濾光區域FR3來作為第一濾光區域；反之，當所需的激發波段範圍的值較大時，可選擇具有較大的深度距離d1的濾光區域FR1或具有深度距離d2的濾光區域FR2來作為第一濾光區域。如此，只要選擇適當的濾光區域，就可得到所需的 激發光束ELo。
接著，執行步驟S530，根據本發明之一實施例，控制單元150依據檢測波段範圍，控制位於第二反射式光學薄膜元件542的第二濾光區域的反射式濾光單元處於開啟狀態，並控制位於第二濾光區域外的其他濾光區域的反射式濾光單元處於關閉狀態，其中位於第二濾光區域的反射式濾光單元的共振腔的深度距離為第二深度距離。
類似地，由於位於第二濾光區域外的其他濾光區域的反射式濾光單元處於關閉狀態，因此，就只有通過第二濾光區域的反射式濾光單元的螢光光束FLo能夠成為第二反射式光學薄膜元件542的出射光束OL，並且，由於位於第二濾光區域的反射式濾光單元的共振腔的深度距離為第二深度距離，而第二深度距離的值與檢測波段範圍的值相對應，因此螢光光束FLo的主發光波長能落於檢測波段範圍。
根據本發明之一實施例，在本實施例中，控制單元150也可基於檢測波段範圍，來選擇濾光區域FR1、濾光區域FR2、濾光區域FR3的其中一者作為第二濾光區域，亦即選作動擇深度距離d1、作動深度距離d2、作動深度距離d3的其中一者來做為第二深度距離。如此，控制單元150也可透過濾光區域的選取來對第二深度距離進行設定，並藉此使螢光光束FLo的主發光波長能落於檢測波段範圍。如此，只要選擇具有適當作動深度距離的濾光區域，就可得到所需的螢光光束FLo。根據本發明之另一實 施例，當一第一待測物的第一螢光試劑所適合的激發光譜落於第一激發波段範圍(第一螢光試劑適合的激發波段範圍)及其所發出的螢光其主發光波長落於第一檢測波段範圍(第一螢光試劑適合的檢測波段範圍)時，可以將第一反射式光學薄膜元件541的濾光區域FR1的反射式濾光單元FU1設置成其主發光波長至少部份落於第一激發波段範圍，且可以將第二光反射式學薄膜元件542的濾光區域FR1的反射式濾光單元FU1設置成其主發光波長至少部份落於第一檢測波段範圍；當一第二待測物的第二螢光試劑所適合的激發光譜落於第二激發波段範圍(第二螢光試劑適合的激發波段範圍)及其所發出的螢光其主發光波長落於第二檢測波段範圍(第二螢光試劑適合的檢測波段範圍)時，可以將第一反射式光學薄膜元件541的濾光區域FR2的反射式濾光單元FU2設置成其主發光波長至少部份落於第二激發波段範圍，且可以將第二反射式光學薄膜元件542的濾光區域FR2的反射式濾光單元FU2設置成其主發光波長至少部份落於第二檢測波段範圍；當一第三待測物的第三螢光試劑所適合的激發光譜落於第三激發波段範圍(第三螢光試劑適合的激發波段範圍)及其所發出的螢光其主發光波長落於第三檢測波段範圍(第三螢光試劑適合的檢測波段範圍)時，可以將第一反射式光學薄膜元件541的濾光區域FR3的反射式濾光單元FU3設置成其主發光波長至少部份落於第三激發波段範圍，且可以將第二反射式光學薄膜元件542的濾光區域FR3的反射式濾光單元FU3設置成其主發光波長至少部份落於第三檢 測波段範圍；其中該第一螢光試劑、該第二螢光試劑與該第三螢光試劑係為不同之螢光試劑。根據本發明之又一實施例，該等第一激發波段範圍(第一螢光試劑適合的激發波段範圍)、第二激發波段範圍(第二螢光試劑適合的激發波段範圍)以及第三激發波段範圍(第三螢光試劑適合的激發波段範圍)、及其所分別對應的該等第一檢測波段範圍(第一螢光試劑適合的檢測波段範圍)、第二檢測波段範圍(第二螢光試劑適合的檢測波段範圍)以及第三檢測波段範圍(第三螢光試劑適合的檢測波段範圍)，可以分別設置或設定其反射式濾光單元的共振腔深度距離而達成。
接著，請參照圖2與圖5C，控制單元150可執行步驟S140，偵測主發光波長落於檢測波段範圍的螢光光束FL的光強度，並將其轉換成電訊號進行後續分析。
此外，值得注意的是，雖然第一反射式光學薄膜元件541與第二反射式光學薄膜元件542的濾光區域及其所包含的反射式濾光單元分別皆利用同一個圖(圖5A)來說明，但是第一反射式光學薄膜元件541與第二反射式光學薄膜元件542是兩個不同的元件，因而第一光學薄膜元件541的濾光區域FR1、濾光區域FR2、濾光區域FR3與第二光學薄膜元件542濾光區域FR1、濾光區域FR2、濾光區域FR3之形狀、大小、共振腔深度距離與排列並不需要相同，且其各自的反射式濾光單元FU1、反射式濾光單元FU2、反射式濾光單元FU3之形狀、大小、排列、共振腔深度距離、數量與光學特性也不需要相同。再者，如圖5B所示，至少一 反射式光學薄膜元件540的第一反射式光學薄膜元件541以及第二反射式光學薄膜元件542的濾光區域的數量雖以三個為例示，但本發明不以此為限；根據本發明之另一實施例，該至少一反射式光學薄膜元件540的第一反射式光學薄膜元件541以及第二反射式光學薄膜元件542的濾光區域及其所包含的反射式濾光單元的數量可以為二個、四個、五個或六個或更多個。在其他的實施例中，亦可視螢光試劑種類的數量來決定至少一反射式光學薄膜元件540的濾光區域及其所包含的反射式濾光單元的數量，並再視螢光試劑種類的特性來同時調整各濾光區域的深度距離的設定值以符合實際產品的需求。
，當反射式光學薄膜元件540的第一反射式光學薄膜元件541及/或第二反射式光學薄膜元件542被採用至檢測裝置100時，檢測裝置100的控制單元150也可依據待測物O中帶有的螢光試劑種類所需的激發光束ELo的適合波段範圍(即激發波段範圍)或待測物O所生成的螢光光束FLo的主要發光光譜的範圍(即檢測波段範圍)，來選取適當的第一反射式光學薄膜元件541的濾光區域及/或第二反射式光學薄膜元件542的濾光區域處於開啟狀態，並藉此使激發光束ELi或螢光光束FLi能通過具有適當深度距離的濾光區域，以藉此形成所需的激發光束ELo及/或螢光光束FLo。如此，檢測裝置100即可支援多種不同的螢光試劑種類的檢測，因此也不需設置由帶通濾鏡組成的濾光模組，而易於進行設備的更新與擴充，進而達到前述的檢測裝置100的效果與優點， 在此就不再贅述。
雖然依照圖1與圖2的實施例的檢測裝置100包括發光元件110、容置框架120、光檢測元件130以及至少一反射式光學薄膜元件140，且所述至少一反射式光學薄膜元件140包括第一反射式光學薄膜元件141與一第二反射式光學薄膜元件142，但是依照本發明的另一實施例，所述至少一反射式光學薄膜元件140僅包括所述第一反射式光學薄膜元件141或僅包括所述第二反射式光學薄膜元件142中之一者。依照本發明的一實施例，在所述至少一反射式光學薄膜元件140僅包括所述第一反射式光學薄膜元件141而不包括所述第二反射式光學薄膜元件142的實施中(圖未示)，只要待測物O的螢光光束的品質夠好或螢光通道的光路設計夠好或是有其他原因而能使光檢測元件130所檢測到的光線符合規格的話，就可以正確地進行檢測，則亦有改善現有技術的缺點的效果；此時螢光通道係由發光元件110、第一反射式光學薄膜元件141、容置框架120(或其待測物O)、光檢測元件130之間的各段光路所構成。依照本發明的又一實施例，在所述至少一反射式光學薄膜元件140僅包括所述第一反射式光學薄膜元件141而不包括所述第二反射式光學薄膜元件142的實施中(圖未示)，亦可以包括一習知的帶通濾光片(圖未示)來取代圖1與圖2的實施例中所述第二反射式光學薄膜元件142以濾除檢測波段範圍以外的光線，則亦有改善現有技術的缺點的效果；此時螢光通道係由發光元件110、第一反射式光學薄膜元件141、容置框架120(或其待測 物O)、帶通濾光片(圖未示)、光檢測元件130之間的各段光路所構成。依照本發明的一實施例，在所述至少一反射式光學薄膜元件140僅包括所述第二反射式光學薄膜元件142而不包括所述第一反射式光學薄膜元件141的實施中，只要發光元件110的激發光束的品質夠好或待測物O的螢光光束的品質夠好或螢光通道的光路設計夠好或是有其他原因而能使光檢測元件130所檢測到的光線符合規格的話，就可以正確地進行檢測，則亦有改善現有技術的缺點的效果；此時螢光通道係由發光元件110、容置框架120(或其待測物O)、第二反射式光學薄膜元件142、光檢測元件130之間的各段光路所構成。依照本發明的又一實施例，在所述至少一反射式光學薄膜元件140僅包括所述第二反射式光學薄膜元件142而不包括所述第一反射式光學薄膜元件141的實施中(圖未示)，亦可以包括一習知的帶通濾光片(圖未示)來取代圖1與圖2的實施例中所述第一反射式光學薄膜元件141以濾除激發波段範圍以外的光線，則亦有改善現有技術的缺點的效果；此時螢光通道係由發光元件110、帶通濾光片(圖未示)、容置框架120(或其待測物O)、第二反射式光學薄膜元件142、光檢測元件130之間的各段光路所構成。雖然上述提及的檢測裝置100的實施例係包括至少一反射式光學薄膜元件140，且所述至少一反射式光學薄膜元件140包括第一反射式光學薄膜元件141與一第二反射式光學薄膜元件142，但是依照本發明的另一實施例，將前述實施例中的至少一反射式光學薄膜元件140、第一反射式光學薄膜元件141與一 第二反射式光學薄膜元件142分別替換為至少一反射式光學薄膜元件540、第一反射式光學薄膜元件541與一第二反射式光學薄膜元件542亦能成立。
綜上所述，本發明的檢測裝置藉由光學薄膜元件的配置，即可支援多種不同的螢光試劑種類的檢測，而不需設置由帶通濾鏡組成的濾光模組，也易於進行設備的更新與擴充。此外，由於在進行多種不同的螢光試劑種類的檢測時，不同的待測物所需的激發光束(或所形成的螢光光束)可共用同一光路及/或或螢光通道，因此也能簡化光路與減少生產組裝的複雜性，而減少產品成本以及提升生產品質。
請參閱圖6，其中係例示有依照本發明的檢測裝置的一種螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統的應用例的方塊圖。本發明之檢測裝置100係可應用於一螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統10中，其中該螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統10包含所述檢測裝置100、一溫控模組700及一分析模組800。依據本發明之一應用例，如圖7所例示，所述溫控模組700，係具有加熱模組710與散熱模組720，而在控制單元的控制下產生所需要的熱循環並對待測物進行溫控，進而使得待測物中檢測對象的量於每一次熱循環後倍增，並使得中檢測對象的量經過N次熱循環後變成2的N次方倍；其中，依據本發明之一實施例，所述溫控模組700係具有一溫度感測器730用以感測系統上之一溫度，例如容置框架120或待測物等的溫度，而可透過容置框架120對待測物進行溫控；且 依據本發明之一實施例，溫度感測器730與檢測裝置100的容置框架120連接用以感測容置框架120之溫度；且依據本發明之另一實施例，溫度感測器730與容置框架120的套筒結構121連接用以感測套筒結構121之溫度。所述檢測裝置100，係包含一發光元件110、一光檢測元件130、至少一反射式光學薄膜元件140(540)，係設置於所述發光元件110與所述光檢測元件130間之螢光通道上，及一控制單元150，與所述至少一反射式光學薄膜元件140(540)耦接，用以控制一所述至少一反射式光學薄膜元件140(540)的反射光線的波段範圍，其細節與操作方法及其各種實施態樣已於前文說明，於此不再贅述。所述分析模組800，係在控制單元150的控制下，對待測物在整個聚合酶連鎖反應過程中的溫度變化與螢光變化，即時地監測、記錄與定量及/或定性分析；依據本發明之一實施例，所述分析模組800利用一分析軟體進行分析；依據本發明之一實施例，所述分析模組800係對光檢測元件130所測得之訊號進行分析。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100:檢測裝置
110:發光元件
120:容置框架
121:套筒結構
130:光檢測元件
140、540:反射式光學薄膜元件
141、541:第一反射式光學薄膜元件
142、542:第二反射式光學薄膜元件
CL1、CL2:準直透鏡
ELi、ELo:激發光束
EX:出口
FLi、FLo:螢光光束
HS1、HS2:外殼
IN:入口
OP:開口

Claims (14)

  1. 一種檢測裝置，包括：一發光元件；一光檢測元件；至少一反射式光學薄膜元件，係設置於所述發光元件與所述光檢測元件間之螢光通道上；以及一控制單元，與所述至少一反射式光學薄膜元件耦接，用以控制一所述至少一反射式光學薄膜元件的反射光線的波段範圍，其中所述至少一反射式光學薄膜元件每一者包括一或多個反射式濾光單元，且所述一或多個反射式濾光單元各具有一共振腔，且所述共振腔係具有一深度距離，所述控制單元係能夠調整所述深度距離以決定被所述反射式濾光單元所反射之光線之主發光波長的波段範圍，其中同一所述反射式濾光單元之所述共振腔之所述深度距離係可被調整為兩個不同的深度距離，以分別決定被所述反射式濾光單元所反射之光線之主發光波長的波段範圍為兩個不同的波段範圍。
  2. 如請求項1所述的檢測裝置，其中所述一或多個反射式濾光單元係為一微機電系統反射式濾光單元。
  3. 如請求項1所述的檢測裝置，其中所述至少一反射式光學薄膜元件包括一第一反射式光學薄膜元件，且所述共振腔的深度距離為一第一深度距離的所述一或多個反射式濾光單元係設置於所述第一反射式光學薄膜元件上，用以反射主發光波長落於激發波段範圍內且與所述第一深度距離相對應的出射光束。
  4. 如請求項3所述的檢測裝置，其中所述至少一反射式光學薄膜元件包括一第二反射式光學薄膜元件，且所述共振腔的深度距離為一第二深度距離的所述一或多個反射式濾光單元設置於所述第二反射式光學薄膜元件上，用以反射主發光波長落於檢測波段範圍內且與所述第二深度距離相對應的出射光束。
  5. 如請求項3所述的檢測裝置，還包括：容置框架，用以容置待測物，且所述容置框架具有一開口，用以接收主發光波長落於所述激發波段範圍內的部分所述激發光束。
  6. 一種檢測方法，適用於一檢測裝置，所述檢測裝置包括一發光元件、一光檢測元件、一控制單元以及至少一反射式光學薄膜元件，其中所述至少一反射式光學薄膜元件包括一或多個反射式濾光單元，且所述反射式濾光單元具有一共振腔，所述至少一反射式光學薄膜元件係設置於所述發光元件與所述光檢測元件間之螢光通道上，且所述檢測方法包括：利用所述發光元件提供激發光束，其中所述激發光束係用以在照射一待測物後產生一螢光光束；利用所述光檢測元件接收所述螢光光束；利用所述至少一反射式光學薄膜元件用以濾除入射光束的部分波段範圍，且所述入射光束為所述激發光束與所述螢光光束的其中一者，且其中利用所述至少一反射式光學薄膜元件用以濾除入射光束的部分波段範圍，係利用所述控制單元來控制所述一或 多個反射式濾光單元以濾除入射光束的部分波段範圍；以及利用所述控制單元控制所述共振腔的深度距離為不同的兩個深度距離，以分別反射主發光波長與所述不同的兩個深度距離對應的不同的波段範圍之光線。
  7. 如請求項6所述的檢測方法，其中所述一或多個反射式濾光單元係為一微機電系統反射式濾光單元，且其中利用所述控制單元係控制所述一或多個反射式濾光單元以濾除入射光束的部分波段範圍，係利用所述控制單元來控制所述微機電系統反射式濾光單元以濾除入射光束的部分波段範圍。
  8. 如請求項6所述的檢測方法，其中當所述發光元件提供的一激發光束入射所述至少一反射式光學薄膜元件時，所述控制單元控制所述激發光束照射的所述一或多個反射式濾光單元的至少一所述共振腔的深度距離為第一深度距離，以使經由所述至少一反射式光學薄膜元件反射的所述激發光束的主發光波長落於激發波段範圍內且與所述第一深度距離相對應。
  9. 如請求項6所述的檢測方法，其中當一螢光光束入射所述至少一反射式光學薄膜元件時，所述控制單元控制所述螢光光束照射的所述一或多個反射式濾光單元的至少一所述共振腔的深度距離為第二深度距離，以使經由所述至少一反射式光學薄膜元件反射的所述螢光光束的主發光波長落於檢測波段範圍內且與所述第二深度距離相對應。
  10. 如請求項6所述的檢測方法，其中所述檢測裝置還包括：容置框架，用以容置待測物，且所述容置框架具有一開口，且更包括以下之步驟：利用所述開口形成光路而構成一螢光通道。
  11. 一種螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統，包括：一檢測裝置，一溫控模組及一分析模組，其中所述檢測裝置包括：一發光元件；一光檢測元件；至少一反射式光學薄膜元件，係設置於所述發光元件與所述光檢測元件間之螢光通道上；以及一控制單元，與所述至少一反射式光學薄膜元件耦接，用以控制一所述至少一反射式光學薄膜元件的反射光線的波段範圍，其中所述至少一反射式光學薄膜元件每一者包括一或多個反射式濾光單元，且所述一或多個反射式濾光單元各具有一共振腔，且所述共振腔係具有一深度距離，所述控制單元係能夠調整所述深度距離以決定被所述反射式濾光單元所反射之光線之主發光波長的波段範圍，其中同一所述共振腔之所述深度距離係可被調整為不同的兩個深度距離，以分別決定被所述反射式濾光單元所反射之光線之主發光波長的波段範圍為不同的兩個波段範圍，所述溫控模組係用以控制系統之一溫度，且具有一加熱模組，以及 所述分析模組係用以分析來自所述光檢測元件之一訊號。
  12. 如請求項11所述的螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統，其中所述至少一反射式光學薄膜元件，包括一第一反射式光學薄膜元件用以反射主發光波長落於激發波段範圍的出射光束及包括一第二反射式光學薄膜元件用以反射主發光波長落於檢測波段範圍的出射光束。
  13. 如請求項12所述的螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統，其中所述檢測裝置還包括一容置框架，用以容置一待測物，且所述容置框架具有一開口，用以接收主發光波長落於所述激發波段範圍內的部分所述激發光束。
  14. 如請求項11所述的螢光即時定量聚合酶連鎖反應系統，其中所述溫控模組更具有一溫度感測器與一散熱模組。
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