TWI771698B - 多工器電路、多工器及製造多工器方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 50
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 31
- 238000013461 design Methods 0.000 description 27
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 25
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 24
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 23
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 15
- 230000006870 function Effects 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 2
- 230000003542 behavioural effect Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 1
- 230000005055 memory storage Effects 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000003826 tablet Substances 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
- G06F30/392—Floor-planning or layout, e.g. partitioning or placement
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
- H03K19/02—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
- H03K19/173—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using elementary logic circuits as components
- H03K19/1733—Controllable logic circuits
- H03K19/1737—Controllable logic circuits using multiplexers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/51—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
- H03K17/56—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
- H03K17/687—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
- H03K17/693—Switching arrangements with several input- or output-terminals, e.g. multiplexers, distributors
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0207—Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
- H03K19/20—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits characterised by logic function, e.g. AND, OR, NOR, NOT circuits
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- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
- H03K19/02—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
- H03K19/08—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Architecture (AREA)
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- Time-Division Multiplex Systems (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
一種多工器電路包括各自在X軸方向上延伸之第一及第二鰭片。第一、第二、第三及第四閘極在垂直於X軸方向之Y軸方向上延伸且接觸第一及第二鰭片。第一、第二、第三及第四閘極用以分別接收第一、第二、第三及第四資料信號。第五、第六、第七及第八閘極在Y軸方向上延伸且接觸第一及第二鰭片,第五、第六、第七及第八閘極用以分別接收第一、第二、第三及第四選擇信號。輸入邏輯電路用以在中間節點處提供輸出。輸出邏輯電路用以在輸出端子處提供第一、第二、第三及第四資料信號中之所選者。多工器及製造多工器方法亦在此揭露。
Description
本揭示是關於一種半導體裝置,且特別是關於一種多工器電路。
積體電路可包括具有不同功能之許多標準單元。舉例而言,標準單元可為邏輯閘(諸如,及閘、或閘、異或閘、反閘、反及閘、反或閘以及反互斥或閘),及組合邏輯電路(諸如,多工器、正反器、加法器及計數器)。可實施標準單元以實現複雜的積體電路功能。在設計具有特定功能之積體電路時,選擇標準單元。接下來,設計者或EDA(電子設計自動化)或ECAD(電子電腦輔助設計)工具繪製出包括所選的標準單元及/或非標準單元之積體電路的設計佈局。設計佈局被轉換成光罩。接著,當各種層的圖案(藉由攝影製程用光罩限定)被轉移至基板時,可製造半導體積體電路。
為了便於積體電路設計,建立包括頻繁使用的標準單元連同其對應佈局之庫。因此,當設計積體電路時,設計者可自此庫選擇期望的標準單元,並將所選的標準單元
放置在自動放置與佈線區塊中,以使得可創建積體電路的佈局。
舉例而言,此些標準單元庫可包括數位多工器(digital multiplexor,DMUX)。DMUX可用於多種應用中。多工器為一種元件,其在若干資料輸入信號當中進行選擇,並基於選擇信號提供輸入中的所選一或更多者之單一輸出。解多工器接收單個經多工輸入並將此輸入分成複數個輸出信號。利用DMUX之實例應用包括記憶體元件及微控制器。
本揭示內容的一實施例是關於一種多工器電路,包括一第一鰭片、一第二鰭片、一第一閘極、一第二閘極、一第三閘極、一第四閘極、一第五閘極、一第六閘極、一第七閘極及一第八閘極。第一鰭片及第二鰭片各自在一X軸方向上延伸。第一閘極、第二閘極、第三閘極及第四閘極在垂直於X軸方向之一Y軸方向上延伸且接觸第一鰭片及第二鰭片,第一閘極、第二閘極、第三閘極及第四閘極用以分別接收一第一資料信號、一第二資料信號、一第三資料信號及一第四資料信號。第五閘極、第六閘極、第七閘極及第八閘極在Y軸方向上延伸且接觸第一鰭片及第二鰭片,第五閘極、第六閘極、第七閘極及第八閘極用以分別接收一第一選擇信號、一第二選擇信號、一第三選擇信號及一第四選擇信號。一輸入邏輯電路包括第一鰭片及第
二鰭片以及第一閘極、第二閘極、第三閘極、第四閘極、第五閘極、第六閘極、第七閘極及第八閘極,輸入邏輯電路用以接收第一資料信號、第二資料信號、第三資料信號及第四資料信號及第一選擇信號、第二選擇信號、第三選擇信號及第四選擇信號,並在一中間節點處提供一輸出。一第九閘極在Y軸方向上延伸且接觸第一鰭片及第二鰭片,第九閘極連接至中間節點。一輸出邏輯電路包括第一鰭片及第二鰭片以及第九閘極,輸出邏輯電路用以在一輸出端子處提供第一資料信號、第二資料信號、第三資料信號及第四資料信號中之一所選者。
本揭示內容的一實施例是關於一種多工器,多工器用以接收一第一資料信號、一第二資料信號、一第三資料信號及一第四資料信號以及一第一選擇信號、一第二選擇信號、一第三選擇信號及一第四選擇信號,且用以響應於第一選擇信號、第二選擇信號、第三選擇信號及第四選擇信號而輸出第一資料信號、第二資料信號、第三資料信號及第四資料信號中之一所選者,多工器包括一第一鰭片、一第二鰭片、一第一四輸入及-或-反相器電路、一第二四輸入及-或-反相器電路、一二輸入反及電路、一VDD端子及一VSS端子。第一鰭片及第二鰭片各自在一X軸方向上延伸。第一四輸入及-或-反相器電路包括在垂直於X軸方向之一Y軸方向上延伸的一第一多個閘極。第二四輸入及-或-反相器電路包括在Y軸方向上延伸之一第二多個閘極。二輸入反及電路包括在Y軸方向上延伸之一第三多
個閘極,第三上述閘極用以分別自第一四輸入及-或-反相器電路及第二四輸入及-或-反相器電路接收一第一輸出及一第二輸出。VDD端子在一位置處連接至第一鰭片,從而定義二輸入反及電路之一PMOS電晶體的一源極及第二四輸入及-或-反相器電路之一PMOS電晶體的一源極。VSS端子在一位置處連接至第二鰭片,從而定義二輸入反及電路之一NMOS電晶體的一源極及第二四輸入及-或-反相器電路之一NMOS電晶體的一源極。
本揭示內容的一實施例是關於一種製造多工器方法,包括:在一基板上形成一第一鰭片以在一X軸方向上延伸;在基板上形成一第二鰭片以在X軸方向上延伸;形成一第一閘極、一第二閘極、一第三閘極、一第四閘極、一第五閘極、一第六閘極、一第七閘極及一第八閘極,其在垂直於X軸方向之一Y軸方向上延伸且接觸第一鰭片及第二鰭片,以形成一多工器輸入電路之多個PMOS電晶體及多個NMOS電晶體;形成一第九閘極,其在Y軸方向上延伸且接觸第一鰭片及第二鰭片,以形成一多工器輸出電路之一第一PMOS電晶體及一第一NMOS電晶體,其中第九閘極定位成緊鄰第八閘極;形成一VDD端子,其在一第一位置處連接至第一鰭片,從而定義多工器輸入電路之一第一PMOS電晶體的一源極以及多工器輸出電路之第一PMOS電晶體的一源極;以及形成一VSS端子,其在一第二位置處連接至第二鰭片,從而定義多工器輸入電路之一第一NMOS電晶體的一源極以及多工器輸出電路之
第一NMOS電晶體的一源極。
10:處理系統
11:處理單元
12:輸入/輸出裝置
14:顯示器
16:區域網路/廣域網路(LAN/WAN)
20:中央處理單元(CPU)
22:記憶體
24:大容量儲存裝置
26:視訊適配器
28:I/O介面
30:匯流排
32:網路介面
40:製造製程
42:設計
44:合成
46:閘級網路連線表
48:庫
50:光微影遮罩
52:積體電路
60:結構
62:基底層
64:互連層
66:介電材料
100:DMUX4電路
102:AO2222電路
102a:及閘
102b:及閘
102c:及閘
102d:及閘
102e:反或閘
104:反相器電路
110:PMOS電晶體
111:PMOS電晶體
112:PMOS電晶體
113:PMOS電晶體
120:PMOS電晶體
121:PMOS電晶體
122:PMOS電晶體
123:PMOS電晶體
126:中間節點
130:NMOS電晶體
131:NMOS電晶體
132:NMOS電晶體
133:NMOS電晶體
140:NMOS電晶體
141:NMOS電晶體
142:NMOS電晶體
143:NMOS電晶體
152:PMOS電晶體
154:NMOS電晶體
160:鰭片
162:鰭片
166:金屬接線
168:金屬接線
170:多晶閘極
171:多晶閘極
172:通孔接觸件
174:「虛設」多晶矽閘極結構
200:DMUX4電路
202:第一ND2電路
204:AOI222電路
204a:及閘
204b:及閘
204c:及閘
204d:反或閘
206:第二ND2電路
210:PMOS電晶體
211:PMOS電晶體
212:PMOS電晶體
213:PMOS電晶體
220:PMOS電晶體
221:PMOS電晶體
222:PMOS電晶體
223:PMOS電晶體
226:第一中間節點
228:第二中間節點
230:NMOS電晶體
231:NMOS電晶體
232:NMOS電晶體
233:NMOS電晶體
240:NMOS電晶體
241:NMOS電晶體
242:NMOS電晶體
243:NMOS電晶體
252:PMOS電晶體
254:PMOS電晶體
256:電晶體
258:電晶體
259:輸出端子
260:鰭片
262:鰭片
266:金屬接線
268:金屬切口
270:多晶閘極
271a:多晶閘極
271b:多晶閘極
272:通孔接觸件
274:多晶結構
300:DMUX4電路
302:第一ND2電路
304:第二ND2電路
306:AOI22電路
306a:及閘
306b:及閘
306c:反或閘
308:ND3電路
310:PMOS電晶體
311:PMOS電晶體
312:PMOS電晶體
313:PMOS電晶體
320:PMOS電晶體
321:PMOS電晶體
322:PMOS電晶體
323:PMOS電晶體
326:第一中間節點
328:第二中間節點
329:第三中間節點
330:NMOS電晶體
331:NMOS電晶體
332:NMOS電晶體
333:NMOS電晶體
340:NMOS電晶體
341:NMOS電晶體
342:NMOS電晶體
343:NMOS電晶體
352:PMOS電晶體
353:PMOS電晶體
354:PMOS電晶體
356:NMOS電晶體
357:NMOS電晶體
358:NMOS電晶體
359:輸出端子
360:鰭片
362:鰭片
366:金屬接線
368:金屬切口
370:多晶閘極
371a:多晶閘極
371b:多晶閘極
371c:多晶閘極
372:通孔接觸件
374:非主動多晶結構
400:DMUX4電路
402:第一ND2電路
404:第二ND2電路
406:第三ND2電路
408:第四ND2電路
409:ND4電路
410:PMOS電晶體
411:PMOS電晶體
412:PMOS電晶體
413:PMOS電晶體
420:PMOS電晶體
421:PMOS電晶體
422:PMOS電晶體
423:PMOS電晶體
424:第一中間節點
426:第二中間節點
428:第三中間節點
429:第四中間節點
430:NMOS電晶體
431:NMOS電晶體
432:NMOS電晶體
433:NMOS電晶體
440:NMOS電晶體
441:NMOS電晶體
442:NMOS電晶體
443:NMOS電晶體
450:PMOS電晶體
451:PMOS電晶體
452:PMOS電晶體
453:PMOS電晶體
454:NMOS電晶體
455:NMOS電晶體
456:NMOS電晶體
457:NMOS電晶體
459:輸出端子
460:鰭片
462:鰭片
466:金屬接線
468:金屬切口
470:多晶閘極
471a:多晶閘極
471b:多晶閘極
471c:多晶閘極
471d:多晶閘極
472:通孔接觸件
474:多晶結構
500:DMUX4電路
500a:佈局
500b:佈局
500c:佈局
500d:佈局
502:第一AOI22電路
502a:及閘
502b:及閘
502c:反或閘
504:第二AOI22電路
504a:及閘
504b:及閘
504c:反或閘
506:ND2電路
510:PMOS電晶體
511:PMOS電晶體
512:PMOS電晶體
513:PMOS電晶體
520:PMOS電晶體
521:PMOS電晶體
522:PMOS電晶體
523:PMOS電晶體
524:第一中間節點
526:第二中間節點
530:NMOS電晶體
531:NMOS電晶體
532:NMOS電晶體
533:NMOS電晶體
540:NMOS電晶體
541:NMOS電晶體
542:NMOS電晶體
543:NMOS電晶體
552:PMOS電晶體
554:NMOS電晶體
556:NMOS電晶體
558:NMOS電晶體
559:輸出端子
560:鰭片
562:鰭片
563:鰭片
564:鰭片
566:金屬接線
570:多晶閘極
570a:多晶閘極
570b:多晶閘極
570c:多晶閘極
570d:多晶閘極
570e:多晶閘極
570f:多晶閘極
570g:多晶閘極
570h:多晶閘極
570i:多晶閘極
570j:多晶閘極
571:切割多晶
572:虛設閘極
600:方法
610:步驟
612:步驟
614:步驟
616:步驟
618:步驟
620:步驟
當結合附圖閱讀時,得以自以下詳細描述最佳地理解本揭示案之態樣。應注意,根據行業上之標準實務,各種特徵未按比例繪製。事實上,為了論述清楚,可任意地增大或減小各種特徵之尺寸。
第1圖為根據一些實施例繪示處理系統的實例之方塊圖。
第2圖為根據一些實施例繪示積體電路設計及製造製程之流程圖。
第3圖為根據一些實施例之用於四輸入多工器的真值表。
第4圖為根據一些實施例繪示示例性半導體結構的橫截面之方塊圖。
第5A圖為邏輯圖,且第5B圖為根據一些實施例繪示示例性數位多工器(DMUX)之電路圖。
第6圖為根據一些實施例繪示第5B圖中所示之DMUX的示例性標準單元佈局之佈局圖。
第7A圖為邏輯圖,且第7B圖為根據一些實施例繪示另一示例性DMUX之電路圖。
第8圖為根據一些實施例繪示第7B圖中所示之DMUX的示例性標準單元佈局之佈局圖。
第9A圖為邏輯圖,且第9B圖為根據一些實施例繪示另外示例性DMUX之電路圖。
第10圖為根據一些實施例繪示第9B圖中所示之DMUX
的示例性標準單元佈局之佈局圖。
第11A圖為邏輯圖,且第11B圖為根據一些實施例繪示又一示例性DMUX之電路圖。
第12圖為根據一些實施例繪示第11B圖中所示之DMUX的示例性標準單元佈局之佈局圖。
第13A圖為邏輯圖,且第13B圖為根據一些實施例繪示另一示例性DMUX之電路圖。
第14圖至第17圖為根據一些實施例繪示第13圖中所示之DMUX的示例性標準單元佈局之佈局圖。
第18圖為根據一些實施例繪示方法的實例之流程圖。
以下揭示內容提供用於實施所提供標的之不同特徵的許多不同實施例或實例。以下描述部件及佈置之特定實例以簡化本揭示案。當然,此些僅為實例,且並不意欲為限制性的。舉例而言,在如下描述中第一特徵在第二特徵之上或在第二特徵上方形成可包括其中第一特徵與第二特徵形成為直接接觸之實施例,且亦可包括其中額外特徵可在第一特徵與第二特徵之間形成而使得第一特徵與第二特徵可不直接接觸的實施例。另外,本揭示案可在各種實例中重複元件符號及/或字母。此重複係出於簡化及清楚目的,且其自身並不表示所論述之各種實施例及/或配置之間的關係。
另外,為了描述簡單,可在本文中使用諸如「在……
下面」、「在……下方」、「下部」、「在……上方」、「上部」及其類似術語之空間相對術語,以描述如諸圖中所繪示之一個元件或特徵與另一(其他)元件或特徵的關係。除了諸圖中所描繪之定向以外,此些空間相對術語意欲涵蓋元件在使用中或操作中之不同定向。裝置可以其他方式定向(旋轉90度或以其他定向),且可同樣相應地解釋本文中所使用之空間相對描述詞。
電子設計自動化(EDA)工具及方法促成了微電子積體電路在半導體基板上的設計、分區及放置。此製程通常包括將電路的行為描述轉換為功能描述,接著將其分解為邏輯功能並使用標準單元庫映射至單元中。在映射之後,執行合成以將結構設計轉換為實體佈局,建構時鐘樹以同步結構元件,並最佳化設計的後期佈局。
第1圖為根據本文中所揭示之一些實施例繪示處理系統10的實例之方塊圖。處理系統10可用以根據本文中所論述之各種製程來實施EDA系統。處理系統10包括處理單元11,諸如,桌上型電腦、工作站、筆記型電腦、為特定應用定製的專用單元、智慧型手機或平板電腦,等等。處理系統10可裝配有顯示器14,及一或更多個輸入/輸出(I/O)裝置12,諸如,滑鼠、鍵盤、觸控式螢幕、列印機,等等。處理單元11亦包括連接至匯流排30之中央處理單元(CPU)20、記憶體22、大容量儲存裝置24、視訊適配器26及I/O介面28。
匯流排30可為任何類型的若干匯流排架構(包括
記憶體匯流排或記憶體控制器、周邊匯流排,或視訊匯流排)中之一或更多者。CPU 20可包括任何類型的電子資料處理器,且記憶體22可包括任何類型的系統記憶體,諸如,靜態隨機存取記憶體(SRAM)、動態隨機存取記憶體(DRAM)或唯讀記憶體(ROM)。
大容量儲存裝置24可包括用以儲存資料、程式及其他資訊以及使得此資料、程式及其他資訊可經由匯流排30存取之任何類型的儲存裝置。大容量儲存裝置24可包括(例如)硬碟驅動器、磁碟驅動器、光碟驅動器、快閃記憶體或其類似者中之一或更多者。
如本文中所使用,術語電腦可讀媒體可包括諸如上述系統記憶體及儲存裝置之電腦儲存媒體。電腦儲存媒體可包括在用於資訊儲存之任何方法或技術中實施之揮發性及非揮發性的、可移除的及不可移除的媒體,該資訊諸如,電腦可讀指令、資料結構或程式模組。記憶體22及大容量儲存裝置24為電腦儲存媒體實例(例如,記憶體儲存器)。大容量儲存裝置可進一步儲存標準單元(諸如,本文中所揭示之標準單元)之庫。
電腦儲存媒體可包括RAM、ROM、電可抹除唯讀記憶體(EEPROM)、快閃記憶體或其他記憶體技術、CD-ROM、數位化通用光碟(DVD)或其他光學儲存器、磁帶盒、磁帶、磁碟儲存器或其他磁性儲存裝置,或可用以儲存資訊並可由處理系統10存取之任何其他製品。任何此種電腦儲存媒體均可為處理系統10的一部分。電腦儲存
媒體不包括載波或其他傳播或調制之資料信號。
通信媒體可由電腦可讀指令、資料結構、程式模組或經調制資料信號中之其他資料(諸如,載波或其他輸送機制)來體現,且包括任何資訊傳遞媒體。術語「經調制資料信號」可描述一種信號,此信號具有以將資訊編碼在此信號中之方式設定或改變的一或更多個特性。舉例而言且並非限制,通信媒體可包括有線媒體(諸如,有線網路或直接有線連接),及無線媒體(諸如,聲學、射頻(RF)、紅外線及其他的無線媒體)。
視訊適配器26及I/O介面28提供介面以將外部輸入及輸出裝置耦接至處理單元11。如第1圖中所繪示,輸入及輸出裝置之實例包括耦接至視訊適配器26之顯示器14,及耦接至I/O介面28之輸入/輸出裝置12(諸如,滑鼠、鍵盤、列印機及其類似者)。其他裝置可耦接至處理單元11,且可利用額外的或更少的介面卡。舉例而言,可使用串列介面卡(未示出)以提供串列介面給列印機。處理單元11亦可包括網路介面32,其可為至區域網路/廣域網路(LAN/WAN)16之有線鏈路及/或無線鏈路。
處理系統10之實施例可包括其他部件。舉例而言,處理系統10可包括電源、纜線、主機板、可移除儲存媒體、機箱,及其類似者。儘管未示出,但此些其他部件被視為處理系統10的一部分。
在一些實例中,由CPU 20執行軟體代碼以分析使用者設計,以便創建實體積體電路佈局。軟體代碼可由
CPU20經由匯流排30自記憶體22、大容量儲存裝置24或其類似者存取,或遠端地經由網路介面32存取。另外,在一些實施例中,實體積體電路佈局係基於功能積體電路設計創建的,此功能積體電路設計可根據軟體代碼所實施之各種方法及製程經由I/O介面28被接收及/或儲存在記憶體22或大容量儲存裝置24中。
標準單元可包括整個元件(諸如,電晶體、二極體、電容器、電阻器或電感器),或可包括佈置成實現某一特定功能之若干元件的群組,諸如,反相器、正反器、記憶體單元或多工器(除了其他以外)。除了使功能設計更易於概念化以外,使用標準單元還可減少IC內佈局特徵之設計規則檢查(design rule checking,DRC)的驗證時間,因為可在DRC中單次檢查在整個佈局中重複之標準單元,而非個別地檢查每一實例。基於所接收到的功能電路描述,處理系統10用以自單元庫選擇標準單元。
第2圖大體繪示出示例性積體電路設計及製造製程40,此製造製程40可由處理系統10實施用於自使用者供應之行為/功能設計產生實體佈局。使用者設計42基於施加至整體設計之輸入的各種信號或刺激指定電路之期望行為或功能,且可以適當的程式化語言寫入。設計42可由使用者經由I/O介面28上傳至處理單元11(參見第1圖)中。或者,可將設計42上傳及/或保存在記憶體22或大容量儲存裝置24上,或可經由網路介面32自遠端使用者上傳設計42。
對設計執行合成44,其中藉由將設計與標準單元(諸如,來自一或更多個單元庫48)匹配,將設計42所期望之行為及/或功能變換為功能等效之邏輯閘級電路描述。單元庫48含有預先設計的部件或功能單元(其中每一者可執行預定功能)之列表。單元作為資訊被儲存在單元庫48中,此資訊包括內部電路元件、與此些電路元件之各種連接、預先設計之實體佈局圖案、摻雜劑佈植、井,等等。另外,已儲存單元亦可包括單元的形狀、外部連接之端子位置、延遲特性、功耗,等等。合成44導致功能等效之邏輯閘級電路描述,諸如,閘級網路連線表46。單元庫48可被儲存(例如)在大容量儲存裝置24中所含有之一或更多個資料庫中。基於閘級網路連線表46,可產生光微影遮罩50,其用以製造積體電路52。
數位多工器(本文中有時稱作DMUX)為一種元件,其在若干資料輸入信號當中進行選擇,並基於選擇信號提供輸入中的所選一或更多者之單一輸出。解多工器接收單個經多工輸入並將此輸入分成複數個輸出信號。因此,例如,DMUX4代表接收四個資料輸入信號(I0至I3)及選擇信號(S0至S3)並基於資料及選擇輸入信號來輸出單一信號(Z)之數位多工器。第3圖繪示DMUX4之示例性真值表,其示出資料輸入信號I0至I3、選擇信號S0至S3及輸出信號Z。
利用DMUX之示例性應用包括積體電路元件、記憶體元件及微控制器。標準單元(諸如,儲存在第2圖中
所示之單元庫48中的標準單元)可包括各種DMUX電路,且此些DMUX單元時常在某些積體電路元件中使用率很高。
本揭示案之態樣係關於用於減少面積成本並提高利用DMUX電路之系統的總體效能之DMUX電路及佈局實施例。在一些實施例中,實施例採用DMUX設計創新來減少電晶體數量。在一些所揭示實例中,組合邏輯與佈局結構可將DMUX電路所利用之面積減小接近8%。另外,功耗及速度可得以改良。舉例而言,所揭示實施例提供使用在無傳輸閘(其通常用於已知DMUX電路中)的情況下實施之邏輯電路的各種組合之DMUX電路。
一些所揭示DMUX單元包括邏輯電路,此些邏輯電路具有使用鰭式場效應電晶體(fin field effect transistor,FinFET)架構所形成之電晶體。舉例而言,可將多晶矽或其他導電結構連接至在隔離材料上方延伸之半導體鰭片。多晶矽結構充當FinFET電晶體之閘極,以使得施加至多晶矽結構之電壓決定了在多晶矽結構的相對側上連接至鰭片的源極/汲極(S/D)接觸件之間的電子流。FinFET電晶體之閾值電壓為最小電壓,使得電晶體被視為「接通」,從而使得顯著的電流可在S/D接觸件之間流動。用於形成DMUX單元之沿鰭片長度與鰭片接觸之多晶矽結構的數目可被視為單元沿一個維度且至少部分地取決於單元密度之「間距」,通常稱為「接觸多晶矽間距」或Cpp。
第4圖為繪示可用於實施本文中所揭示之DMUX元件的示例性半導體結構的橫截面之方塊圖。在X軸及Z軸方向上示出結構60,而Y軸方向與第4圖中所繪示之橫截面的平面正交。結構60包括基底層62及互連層64。
大體而言,基底層62包括半導體基板,此半導體基板又包括多晶矽區域(例如,貫穿本揭示案亦稱為「多晶(poly)」)、擴散區域、半導體井(例如,N井、P井、深N井、深P井)等,在其中形成半導體元件(例如,電晶體、二極體等)。互連層64包括N個(例如,整數個)導電層(例如,金屬層M1至MN),此些導電層用於在互連層64中使層內元件互連且用於形成至外部元件之電連接,等等。互連層64大體包括通孔、層間介電材料、鈍化層、接合襯墊、封裝資源,等等。互連層64中之每一金屬(例如,導電)層M通常稱為金屬一、金屬二、金屬三(M1、M2、M3等)層,等等。在各種金屬層M之間的材料為用以使金屬層M絕緣之介電材料(例如,高介電常數、低介電常數之材料,等等)66。基底層62及互連層64時常分別稱為前端結構及後端結構,因為其為半導體製造製程中之相應的「前端製程(front end of line;FEOL)」及「後端製程(front end of line;BEOL)」。在一些實施例中,使用基底層62以及金屬層M中之一或更多者來建構DMUX元件。
第5A圖及第5B圖繪示DMUX4電路100,且第6圖根據一些實施例繪示DMUX4電路100之示例性標
準單元佈局圖。DMUX4電路100包括由18個電晶體一起實施之八輸入及-或(AO2222)電路102及反相器電路104。大體而言,AO2222電路102用以接收資料信號I0至I3及選擇信號S0至S3,且因此在本文中稱作多工器輸入邏輯電路。AO2222電路102進一步用以響應於選擇信號S0至S3輸出資料信號I0至I3中之所選者的反相。反相器電路104用以接收AO2222電路102之輸出,並基於所選資料信號來提供輸出信號Z,且因此在本文中稱作多工器輸出邏輯電路。
更特定而言,AO2222電路102包括分別接收資料信號及選擇信號I0/S0至I3/S3之四個2-輸入及閘102a至102d。由反或閘102e接收及閘102a至102d之輸出。反相器電路104接收反或閘102e之輸出以提供輸出信號Z。第5B圖繪示DMUX4電路100的一個實例,其中AO2222電路102包括PMOS電晶體110、111、112及113,其各自具有分別經耦接以接收資料信號I0、I1、I2及I3之閘極端。PMOS電晶體120、121、122及123各自具有分別經耦接以接收選擇信號S0、S1、S2及S3之閘極端。PMOS電晶體110至113如PMOS電晶體120至123一樣串列連接在VDD電力導軌與中間節點126之間。更特定而言,電晶體113及123具有耦接至VDD導軌之源極端,及分別連接至相鄰電晶體112及122的源極端之汲極端。類似地,電晶體112及122具有連接至電晶體111及121之相應源極端的汲極端,電晶體
111及121具有連接至電晶體110及120之相應源極端的汲極端,電晶體110及120進一步具有耦接至中間節點126之汲極端。更進一步,電晶體111、112及113之汲極端連接至電晶體121、122及123之相應汲極端。
AO2222電路102進一步包括NMOS電晶體130、131、132及133,其各自具有分別經耦接以接收資料信號I0、I1、I2及I3之閘極端。NMOS電晶體140、141、142及143各自具有分別經耦接以接收選擇信號S0、S1、S2及S3之閘極端。NMOS電晶體130至133各自具有耦接至中間節點126之汲極端,及分別耦接至NMOS電晶體140至143之汲極端的源極端。NMOS電晶體140至143中之每一者的源極端連接至VSS電力導軌。
中間節點126連接至反相器電路104之輸入,此反相器電路104包括連接在VDD及VSS導軌之間的PMOS電晶體152及NMOS電晶體154。反相器電路104提供DMUX4電路100之輸出信號Z。
因此,若選擇信號S0至S1及其對應的資料信號I0至I3中之任一者為高,則相關聯的(若干)PMOS電晶體對被停用,且中間節點126自VDD導軌被切斷。另外,相關聯的(若干)NMOS電晶體對被啟用,以將中間節點126連接至VSS導軌,從而將中間節點126拉低。藉由反相器電路104將中間節點126處之低信號反相為高。
第6圖中所示之示例性佈局圖包括在X軸方向上
延伸之第一鰭片160及第二鰭片162。可在一或更多個金屬層(例如,M1)中之金屬接線166在VDD及VSS導軌與鰭片160及162之間延伸,以如第5B圖中所示將電晶體的源極端或汲極端連接至VDD或VSS導軌。對於其中源極端或汲極端不連接至VDD或VSS端子之電晶體而言,金屬接線166可自VDD或VSS導軌被切斷或斷開。舉例而言,金屬接線166將電晶體113及123之源極端連接至VDD導軌,且將電晶體140至143之源極端連接至VSS導軌。金屬接線168使電晶體110至112及120至122之源極端與VDD導軌分離,且使電晶體131至133之源極端與VSS導軌分離。
主動多晶閘極170在Y軸方向上延伸,且連接至對應的資料信號I0至I3及選擇信號S0至S3。在所繪示實例中,閘極結構可包括主動多晶矽結構(「多晶閘極」)。應理解,在本揭示案中,將X軸及Y軸示出並描述為彼此橫向或大體上垂直。然而,由於設計、製造、由不完美的製造及量測條件引起之量測誤差/容限,X軸及Y軸實際上可能並非完全彼此垂直。一般熟習此項技術者應可認識到此描述。
多晶閘極170中之每一者接觸第一鰭片160以及第二鰭片162。另外,如第6圖中所示,多晶閘極170中之每一者接收資料信號I0至I3中之對應一者或選擇信號S0至S3中之一者。換言之,每一多晶閘極170接收一輸入信號。因此,在第6圖中所繪示之實施例中,存在八個
多晶閘極170來接收四個資料信號I0至I3及四個選擇信號S0至S3。另外,第九閘極或多晶閘極171在Y軸方向上延伸且接觸第一鰭片160及第二鰭片162。第九多晶閘極171連接至中間節點126並形成反相器電路104之電晶體152及154。
在所示實施例中,鰭片160及162具有沿X軸方向之較長維度(例如,長度),如第6圖中所示,且在Y軸方向上彼此分離。多晶閘極170及金屬接線166具有沿Y軸方向之較長維度(例如,長度),且在X軸方向上彼此分離。
通孔接觸件172經由安置在元件的其他金屬層M1至MN中之額外金屬接觸件(第6圖中未示出)使如第5B圖中所示之所繪示電晶體的各種端子互連。為了避免相鄰元件(單元)之間的洩漏,標準單元包括形成在主動區域的邊緣上之非主動閘極結構,例如,鰭片160、162。此些非主動的或「虛設」多晶矽閘極結構174亦在Y軸方向上延伸,且用以使單元彼此分離,且亦用以使一個單元的部分彼此分離。在一些實例中,非主動多晶結構稱作氧化物限定邊緣上的連續多晶(continuous poly on oxide definition edge,CPODE)圖案。亦即,非主動多晶矽結構並不作為MOS元件的閘極進行電連接,而是作為「虛設」結構,在電路中不起作用。非主動多晶結構進一步在處理期間覆蓋並保護單元中之鰭片的端部,從而在處理期間提供額外的可靠性。
第7A圖及第7B圖繪示DMUX4電路200,且第8圖根據一些實施例繪示DMUX4電路200之示例性標準單元佈局圖。DMUX4電路200利用在所繪示實例中藉由20個電晶體實施之六輸入及-或-反相器(AOI222)邏輯連同二輸入反及(ND2)邏輯。通常,DMUX4電路200包括輸入邏輯電路,此輸入邏輯電路具有第一ND2電路202及AOI222電路204。第一ND2電路202用以接收資料信號I0及選擇信號S0並在第一中間節點226處提供輸出。AOI222電路204包括三個及閘204a至204c,其用以分別接收資料信號I1至I3並分別接收選擇信號S1至S3。及閘204a至204c之輸出被反或閘204d接收,此反或閘204d用以在第二中間節點228處提供輸出。輸出邏輯電路包括第二ND2電路206,此第二ND2電路206具有連接至第一及第二中間節點之輸入以接收第一ND2電路202及AOI222電路204之輸出,並提供輸出信號Z。
更特定而言,如第7B圖中所示,第一ND2電路202包括PMOS電晶體210,此PMOS電晶體210具有經耦接以接收資料信號I0之閘極端。PMOS電晶體220具有經耦接以接收選擇信號S0之閘極端。PMOS電晶體210及PMOS電晶體220均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接中間節點226之汲極端。NMOS電晶體230及240具有分別經耦接以接收資料信號I0及選擇信號S0之閘極端。NMOS電晶體230具有耦接至中間節點226
之汲極端,及耦接至NMOS電晶體240之汲極端的源極端。NMOS電晶體240之源極端連接至VSS電力導軌。
AOI222電路204包括PMOS電晶體211、212及213,其各自具有分別經耦接以接收資料信號I1、I2及I3之閘極端。PMOS電晶體221、222及223各自具有分別經耦接以接收選擇信號S1、S2及S3之閘極端。PMOS電晶體211至213如PMOS電晶體221至223一樣串列連接在VDD電力導軌與第二中間節點228之間。更特定而言,PMOS電晶體213及223具有耦接至VDD導軌之源極端,及分別連接至相鄰PMOS電晶體212及222的源極端之汲極端。類似地,PMOS電晶體212及222具有連接至PMOS電晶體211及221之相應源極端的汲極端,PMOS電晶體211及221具有耦接至第二中間節點228之汲極端。更進一步,PMOS電晶體211、212及213之汲極端連接至PMOS電晶體221、222及223之相應汲極端。
AOI222電路204進一步包括NMOS電晶體231、232及233,其各自具有分別經耦接以接收資料信號I1、I2及I3之閘極端。NMOS電晶體241、242及243各自具有分別經耦接以接收選擇信號S1、S2及S3之閘極端。PMOS電晶體211至213各自具有耦接至第二中間節點228之汲極端,及分別耦接至NMOS電晶體241至243之汲極端的源極端。NMOS電晶體241至243中之每一者的源極端連接至VSS電力導軌。
第二ND2電路206包括:PMOS電晶體252,其具有耦接至第一中間節點226之閘極端;以及PMOS電晶體254,其具有耦接至第二中間節點228之閘極端。PMOS電晶體254及NMOS電晶體256均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至提供輸出信號Z之輸出端子259的汲極端。NMOS電晶體256及258分別具有耦接至第一及第二中間節點之閘極端。NMOS電晶體256具有耦接至輸出端子259之汲極端,及耦接至NMOS電晶體258之汲極端的源極端。NMOS電晶體258之源極端連接至VSS電力導軌。
第8圖繪示DMUX4電路200之實例標準單元佈局,此DMUX4電路200包括在X軸方向上延伸之第一鰭片260及第二鰭片262。可在一或更多個金屬層(例如,M1)中之金屬接線266在VDD及VDD導軌與鰭片260及262之間延伸,以如第8圖中所示將電晶體的源極端或汲極端連接至VDD或VSS導軌。對於其中源極端或汲極端不連接至VDD或VSS端子之電晶體而言,金屬接線266可自VDD或VSS導軌被切斷或斷開。舉例而言,金屬接線266將電晶體210、213、220、223、252及254之源極端連接至VDD導軌,且將電晶體240至243及258之源極端連接至VSS導軌。金屬切口268使電晶體211、212、221及222之源極端與VDD導軌分離,且使電晶體230至233及256之源極端與VSS導軌分離。
閘極(諸如,多晶閘極270)在Y軸方向上延伸,
且連接至對應的資料信號I0至I3及選擇信號S0至S3。多晶閘極270中之每一者接觸第一鰭片260以及第二鰭片262。在第8圖中所繪示之實施例中,多晶閘極270中之八個接收四個資料信號I0至I3及四個選擇信號S0至S3。額外的多晶閘極271a及271b連接至鰭片260及262,以形成第二ND2電路206之電晶體。
通孔接觸件272經由安置在元件的其他金屬層M1至MN中之額外金屬接觸件使如第8圖中所示之所繪示電晶體的各種端子互連。非主動多晶結構形成在鰭片260、262之邊緣上,以使單元彼此分離。額外的多晶結構274使一單元的各部分彼此分離,諸如,第二ND2電路206與第一ND2電路202分離。
第9A圖及第9B圖繪示DMUX4電路300之另一實施例,且第10圖繪示DMUX4電路300之示例性標準單元佈局。DMUX4電路300包括具有第一ND2電路302之輸入邏輯電路,此第一ND2電路302用以接收資料信號I0及選擇信號S0,並在第一中間節點326處提供輸出。第二ND2電路304用以接收資料信號I1及選擇信號S1並在第二中間節點328處提供輸出。4輸入及-或-反相器(AOI22)電路306包括及閘306a及306b,其用以分別接收資料信號I2及I3並分別接收選擇信號S2及S3。反或閘306c接收及閘306a及306b之輸出,並在第三中間節點329處提供輸出。邏輯輸出電路具有3輸入反及(ND3)電路308,其具有連接至第一中間節點326、
第二中間節點328及第三中間節點329之輸入,且用以輸出第一、第二、第三及第四資料信號I0至I3中之所選者。
更特定而言,如第9B圖中所示,第一ND2電路302包括PMOS電晶體310,此PMOS電晶體310具有經耦接以接收資料信號I0之閘極端。PMOS電晶體320具有經耦接以接收選擇信號S0之閘極端。PMOS電晶體310及PMOS電晶體320均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第一中間節點326之汲極端。NMOS電晶體330及340分別具有經耦接以接收資料信號I0及選擇信號S0之閘極端。NMOS電晶體330具有耦接至第一中間節點326之汲極端,及耦接至NMOS電晶體340之汲極端的源極端。NMOS電晶體340之源極端連接至VSS電力導軌。
第二ND2電路304包括具有經耦接以接收I1資料信號之閘極端的PMOS電晶體310。PMOS電晶體321具有經耦接以接收S1選擇信號之閘極端。PMOS電晶體311及PMOS電晶體321均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第二中間節點328之汲極端。NMOS電晶體331及341分別具有經耦接以接收資料信號I1及選擇信號S1之閘極端。NMOS電晶體331具有耦接至第二中間節點328之汲極端,及耦接至NMOS電晶體341之汲極端的源極端。NMOS電晶體341之源極端連接至VSS電力導軌。
AOI22電路306包括PMOS電晶體312及313,
其各自具有分別經耦接以接收資料信號I2及I3之閘極端。PMOS電晶體322及323各自具有分別經耦接以接收選擇信號S2及S3之閘極端。PMOS電晶體312及313如PMOS電晶體322及323一樣串列連接在VDD電力導軌與第三中間節點329之間。更特定而言,電晶體313及323具有耦接至VDD導軌之源極端,及分別連接至相鄰電晶體312及322的源極端之汲極端,電晶體312及322具有耦接至第三中間節點329之汲極端。更進一步,電晶體312及313之汲極端連接至電晶體322及323之相應汲極端。
AOI22電路306進一步包括NMOS電晶體332及333,其各自具有分別經耦接以接收資料信號I2及I3之閘極端。NMOS電晶體342及343各自具有分別經耦接以接收選擇信號S2及S3之閘極端。PMOS電晶體312及313各自具有耦接至第三中間節點329之汲極端,及分別耦接至NMOS電晶體342及343之汲極端的源極端。NMOS電晶體341及343中之每一者的源極端連接至VSS電力導軌。
ND3電路308包括具有耦接至第一中間節點326之閘極端的PMOS電晶體352、具有耦接至第二中間節點328之閘極端的PMOS電晶體353,及具有耦接至第三中間節點329之閘極端的PMOS電晶體354。PMOS電晶體352、353及354各自具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至提供輸出信號Z之輸出端子359的汲極端。
NMOS電晶體356、357及358分別具有耦接至第一中間節點326、第二中間節點328及第三中間節點329之閘極端。NMOS電晶體356具有耦接至輸出端子359之汲極端,及耦接至NMOS電晶體357之汲極端的源極端。NMOS電晶體357之源極端耦接至NMOS電晶體358之汲極端,此NMOS電晶體358具有連接至VSS電力導軌之源極端。
第10圖繪示DMUX4電路300之示例性標準單元佈局,此DMUX4電路300包括在X軸方向上延伸之第一鰭片360及第二鰭片362。可在一或更多個金屬層(例如,M1)中之金屬接線366在VDD及VSS導軌與鰭片360及362之間延伸,以如第9B圖中所示將電晶體的源極端或汲極端連接至VDD或VSS導軌。對於其中源極端或汲極端不連接至VDD或VSS端子之電晶體而言,金屬接線366可自VDD或VSS導軌被切斷或斷開。舉例而言,金屬接線366將電晶體310、311、313、320、321、323及352至354之源極端連接至VDD導軌,且將電晶體340至343及358之源極端連接至VSS導軌。金屬切口368使未連接至VDD或VSS導軌之電晶體(諸如,電晶體312、322、330、331至333、356及357)的源極端與VSS導軌分離。
閘極(諸如,多晶閘極370)在Y軸方向上延伸,且連接至對應的資料信號I0至I3及選擇信號S0至S3。多晶閘極370中之每一者接觸第一鰭片360以及第二鰭片
362。在第10圖中所繪示之實施例中,多晶閘極370中之八個接收四個資料信號I0至I3及四個選擇信號S0至S3。額外的多晶閘極371a、371b及371c連接至鰭片360及362,以形成ND3電路308之電晶體。
通孔接觸件372經由可安置在元件的其他金屬層M1至MN中之額外金屬接觸件將如第10圖中所示之所繪示電晶體的各個端子互連。非主動多晶矽結構374形成在鰭片360、362之邊緣上,以使單元彼此分離。額外的非主動多晶矽結構374使一個單元的各部分彼此分離,諸如,第二ND2電路304與第一ND2電路302分離。
第11A圖及第11B圖繪示DMUX4電路400之另一實施例,其包括用於形成ND2電路之24個電晶體以及四輸入NAND(ND4)電路。如第11A圖及第11B圖中所示,DMUX4電路400包括具有四個ND2閘極402、404、406及408之輸入電路。第一ND2電路402用以接收資料信號I0及選擇信號S0並在第一中間節點424處提供輸出。第二ND2電路404用以接收資料信號I1及選擇信號S1並在第二中間節點426處提供輸出。第三ND2電路406用以接收資料信號I2及選擇信號S2並在第三中間節點428處提供輸出。第四ND2電路408用以接收資料信號I3及選擇信號S3並在第四中間節點429處提供輸出。輸出邏輯電路具有ND4電路409,此ND4電路409具有連接至第一中間節點424、第二中間節點426、第三中間節點428及第四中間節點429之輸入端子,且用以提
供第一、第二、第三及第四資料信號I0至I3中之所選者。
更特定而言,如第11B圖中所示,第一ND2電路402包括PMOS電晶體410,此PMOS電晶體410具有經耦接以接收資料信號I0之閘極端。PMOS電晶體420具有經耦接以接收選擇信號S0之閘極端。PMOS電晶體410及PMOS電晶體420均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第一中間節點426之汲極端。NMOS電晶體430及440分別具有經耦接以接收資料信號I0及選擇信號S0之閘極端。NMOS電晶體430具有耦接至第一中間節點424之汲極端,及耦接至NMOS電晶體440之汲極端的源極端。NMOS電晶體440之源極端連接至VSS電力導軌。
第二ND2電路404包括具有經耦接以接收資料信號I1之閘極端的PMOS電晶體410。PMOS電晶體421具有經耦接以接收選擇信號S1之閘極端。PMOS電晶體411及PMOS電晶體421均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第二中間節點426之汲極端。NMOS電晶體431及441分別具有經耦接以接收資料信號I1及選擇信號S1之閘極端。NMOS電晶體431具有耦接至第二中間節點426之汲極端,及耦接至NMOS電晶體441之汲極端的源極端。NMOS電晶體441之源極端連接至VSS電力導軌。
第三ND2電路406包括具有經耦接以接收資料信號I2之閘極端的PMOS電晶體412。PMOS電晶體
422具有經耦接以接收S2選擇信號之閘極端。PMOS電晶體412及PMOS電晶體422均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第三中間節點428之汲極端。NMOS電晶體432及442分別具有經耦接以接收資料信號I2及選擇信號S2之閘極端。NMOS電晶體432具有耦接至第三中間節點428之汲極端,及耦接至NMOS電晶體442之汲極端的源極端。NMOS電晶體442之源極端連接至VSS電力導軌。
第四ND2電路408包括具有經耦接以接收資料信號I3之閘極端的PMOS電晶體413。PMOS電晶體423具有經耦接以接收S3選擇信號之閘極端。PMOS電晶體413及PMOS電晶體423均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第四中間節點429之汲極端。NMOS電晶體433及443分別具有經耦接以接收資料信號I3及選擇信號S3之閘極端。NMOS電晶體433具有耦接第四中間節點429之汲極端,及耦接至NMOS電晶體443之汲極端的源極端。NMOS電晶體443之源極端連接至VSS電力導軌。
ND4電路409包括具有耦接至第一中間節點424之閘極端的PMOS電晶體450、具有耦接至第二中間節點426之閘極端的PMOS電晶體451、具有耦接至第三中間節點428之閘極端的PMOS電晶體452,以及具有耦接至第四中間節點429之閘極端的PMOS電晶體453。PMOS電晶體450、451、452及453各自具有耦接至
VDD導軌之源極端,及連接至提供輸出信號Z之輸出端子459的汲極端。NMOS電晶體454、455、456及457分別具有耦接至第一中間節點424、第二中間節點426、第三中間節點428及第四中間節點429之閘極端。NMOS電晶體454具有耦接至輸出端子459之汲極端,及耦接至NMOS電晶體455之汲極端的源極端。NMOS電晶體456之源極端耦接至NMOS電晶體457之汲極端,此NMOS電晶體457具有連接至VSS電力導軌之源極端。
第12圖繪示DMUX4電路400之示例性標準單元佈局,此DMUX4電路400包括在X軸方向上延伸之第一鰭片460及第二鰭片462。可在一或更多個金屬層(例如,M1)中之金屬接線466在VDD及VDD導軌與鰭片460及462之間延伸,以如第12圖中所示將電晶體的源極端或汲極端連接至VDD或VSS導軌。對於其中源極端或汲極端不連接至VDD或VSS端子之電晶體而言,金屬接線466可自VDD或VSS導軌被切斷或斷開。舉例而言,金屬接線466將電晶體410至413、420至423及450至453之源極端連接至VDD導軌,且將電晶體440至443及462之源極端連接至VSS導軌。金屬切口468將未連接至VDD或VSS導軌之電晶體(諸如,電晶體430至433及454至456)的源極端與VSS導軌分離。
閘極(諸如,多晶閘極470)在Y軸方向上延伸,且連接至對應的資料信號I0至I3及選擇信號S0至S3。多晶閘極470中之每一者接觸第一鰭片460以及第二鰭片
462。在第12圖中所繪示之實施例中,多晶閘極470中之八個接收四個資料信號I0至I3及四個選擇信號S0至S3。額外的多晶閘極471a、471b、471c、471d連接至鰭片460及462,以形成ND4電路409之電晶體。
通孔接觸件472經由可安置在元件的其他金屬層M1至MN中之額外金屬接觸件將如第12圖中所示之所繪示電晶體的各個端子互連。非主動多晶矽結構形成在鰭片460、462之邊緣上,以使單元彼此分離。額外的多晶矽結構474將一單元的各部分彼此分離,諸如,第二ND2電路404與第一ND2電路402分離。
第13A圖及第13B圖繪示另一示例性DMUX4電路500,其包括用於形成AOI22邏輯電路之20個電晶體以及ND2電路。輸入邏輯電路具有第一AOI22電路502及第二AOI22電路504。第一AOI22電路502包括及閘502a及502b,其用以分別接收資料信號I0及I1且分別接收選擇信號S0及S1。反或閘502c用以接收及閘502a及502b之輸出,並在第一中間節點524處提供輸出。第二AOI22電路504包括及閘504a及504b,其用以分別接收資料信號I2及I3且分別接收選擇信號S2及S3。反或閘504c用以接收及閘504a及504b之輸出,並在第二中間節點526處提供輸出。輸出邏輯電路包括ND2電路506,此ND2電路506具有連接至第一中間節點524及第二中間節點526之輸入,且用以提供第一、第二、第三及第四資料信號I0至I3中之所選者。
更特定而言,如第13B圖中所示,第一AOI22電路502包括PMOS電晶體510,此PMOS電晶體510具有經耦接以接收資料信號I0之閘極端。PMOS電晶體520具有經耦接以接收選擇信號S0之閘極端。PMOS電晶體510及PMOS電晶體520均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第一中間節點524之汲極端。NMOS電晶體530及540分別具有經耦接以接收資料信號I0及選擇信號S0之閘極端。NMOS電晶體530具有耦接至第一中間節點524之汲極端,及耦接至NMOS電晶體540之汲極端的源極端。NMOS電晶體540之源極端連接至VSS電力導軌。
第一AOI22電路502包括具有經耦接以接收資料信號I1之閘極端的PMOS電晶體510。PMOS電晶體521具有經耦接以接收選擇信號S1之閘極端。PMOS電晶體511及PMOS電晶體521均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第二中間節點526之汲極端。NMOS電晶體531及541分別具有經耦接以接收資料信號I1及選擇信號S1之閘極端。NMOS電晶體531具有耦接至第二中間節點526之汲極端,及耦接至NMOS電晶體541之汲極端的源極端。NMOS電晶體541之源極端連接至VSS電力導軌。
第二AOI22電路504包括具有經耦接以接收資料信號I2之閘極端的PMOS電晶體512。PMOS電晶體522具有經耦接以接收S2選擇信號之閘極端。PMOS電
晶體512及PMOS電晶體522均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第三中間節點528之汲極端。NMOS電晶體532及542分別具有經耦接以接收資料信號I2及選擇信號S2之閘極端。NMOS電晶體532具有耦接至第三中間節點528之汲極端,及耦接至NMOS電晶體542之汲極端的源極端。NMOS電晶體542之源極端連接至VSS電力導軌。
第二AOI22電路504包括具有經耦接以接收資料信號I3之閘極端的PMOS電晶體513。PMOS電晶體523具有經耦接以接收選擇信號S3之閘極端。PMOS電晶體513及PMOS電晶體523均具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至第四中間節點529之汲極端。NMOS電晶體533及543分別具有經耦接以接收資料信號I3及選擇信號S3之閘極端。NMOS電晶體533具有耦接第四中間節點529之汲極端,及耦接至NMOS電晶體543之汲極端的源極端。NMOS電晶體543之源極端連接至VSS電力導軌。
ND2電路506包括具有耦接至第一中間節點524之閘極端的PMOS電晶體554、具有耦接至第二中間節點526之閘極端的PMOS電晶體552。PMOS電晶體554及552各自具有耦接至VDD導軌之源極端,及連接至提供輸出信號Z之輸出端子559的汲極端。NMOS電晶體556及558分別具有耦接至第一中間節點524及第二中間節點526之閘極端。NMOS電晶體556具有耦接至輸出
端子559之汲極端,及耦接至NMOS電晶體558之汲極端的源極端。NMOS電晶體558具有連接至VSS電力導軌之源極端。
第14圖至第17圖為繪示DMUX4電路500的各種示例性標準單元佈局500a至500d之佈局圖。第14圖至第16圖中所示之實施例各自包括在X軸方向上延伸之第一鰭片560及第二鰭片562。第17圖中所繪示之實例包括四個鰭片560、562、563、564。可在一或更多個金屬層(例如,M1)中之金屬接線566在VDD及VDD導軌與鰭片560、562、563、564之間延伸,以如第13圖中所示將電晶體的源極端或汲極端連接至VDD或VSS導軌。對於其中源極端或汲極端不連接至VDD或VSS端子之電晶體而言,金屬接線566可自VDD或VSS導軌被切斷或斷開。舉例而言,金屬接線566將電晶體511、513、521、523、552及554之源極端連接至(若干)VDD導軌,且將電晶體540、541、542、543及558之源極端連接至(若干)VSS導軌。
閘極(諸如,多晶閘極570)在Y軸方向上延伸,且連接至對應的資料信號I0至I3及選擇信號S0至S3。在第14圖至第16圖中所示之實例中,主動多晶閘極570形成DMUX4電路500中所示之各種電晶體的閘極。更特定而言,第14圖至第16圖中所示之實施例包括八個多晶閘極570a至570h,其用以連接至資料信號I0至I3及選擇信號S0至S3。現參考第14圖中所示之佈局500a,
多晶閘極570a至570d各自在Y方向上延伸並連接兩個鰭片560、562。多晶閘極570a至570d中之每一者連接至對應的輸入信號,亦即,多晶閘極570a連接至資料信號I0,多晶閘極570b連接至選擇信號S0,多晶閘極570c連接至資料信號I1,且多晶閘極570d連接至選擇信號S1。
在佈局500a的右側,多晶閘極570f及570g藉由第一鰭片560與第二鰭片562之間的切割多晶571分離開或切割開,使得多晶閘極570f及570g各自包括分別接觸第一鰭片560及第二鰭片562之分離開的上部及下部區段。另外,資料信號I3及選擇信號S2連接被拆分。舉例而言,多晶閘極570f係藉由切割多晶571切割開或分離開,而非一個連續的多晶閘極將資料信號I3提供給PMOS電晶體513以及NMOS電晶體533,且另一連續的多晶閘極將選擇信號S2提供給PMOS電晶體512以及NMOS電晶體542。多晶閘極570f之上部區段形成PMOS電晶體513之閘極,且接收在第14圖中示為與鰭片560相鄰之資料信號I3。另外,多晶閘極570f之下部區段形成NMOS電晶體542之閘極,且接收被示為與鰭片560相鄰之S3資料信號。
另外的主動多晶閘極570i及570j在Y方向上延伸,且形成ND2電路506之電晶體的閘極。多晶閘極570j緊鄰多晶閘極570f。此佈置將第二AOI22電路504之PMOS電晶體513(接收資料信號I3)及ND2電路506
之PMOS電晶體552的源極放置成彼此緊鄰,以使得其鄰接。此允許VDD連接被PMOS電晶體513及PMOS電晶體552之源極「共享」。藉由在NMOS電晶體542之同一多晶閘極570f上接收選擇信號S2,NMOS電晶體542的源極鄰接NMOS電晶體558的源極,從而允許此些源極「共享」與其的VSS連接。此減小了電路的面積,且減小了一個多晶間距。虛設閘極572位於多晶閘極570j與多晶閘極570b之間。
第15圖中所示之DMUX5 500的實例佈局500b類似於第14圖中所示之佈局500a,其中切割多晶閘極被佈置成使得VDD連接被PMOS電晶體513及PMOS電晶體552的源極共享,且VSS連接被NMOS電晶體542及NMOS電晶體558的源極共享。在第15圖中,第一資料信號I0及第一選擇信號S0的位置與自第14圖中所示之第二資料信號I1及第二選擇信號S1的位置互換。PMOS電晶體513及PMOS電晶體552以及NMOS電晶體542及NMOS電晶體558的源極之鄰接佈置減小了電路的面積且減小了一個多晶間距,因為多晶閘極570f緊鄰多晶閘極570i。換言之,在多晶閘極570f與多晶閘極570i之間不存在虛設閘極。
在第16圖中,額外地為多晶閘極570b及570c提供切割多晶571,以使得此些多晶閘極包括分別接觸第一鰭片560及第二鰭片562之上部及下部區段。選擇信號S0及資料信號I1互換,使得多晶閘極570b在其上部區
段處接收用於PMOS電晶體521之資料信號I1,且在多晶閘極570b的下部區段處接收用於NMOS電晶體540之選擇信號S0。多晶閘極570c在其上部部分處接收用於PMOS電晶體520之選擇信號S0,且在其下部部分處接收用於NMOS電晶體531之資料信號I1。
第17圖繪示具有四個鰭片560、562、563、564之實施例。多晶閘極570a至570d經連接以接收用於形成有鰭片563的PMOS電晶體510、520、511、521以及形成有鰭片564的NMOS電晶體530、540、531、541之I0、S0、I1、S1信號。切割多晶571包括在多晶閘極570c、570e之上部部分中,且資料信號I3與選擇信號S2互換。
第18圖為繪示用於產生DMUX4(諸如,本文中所揭示之各種實施例)的方法600之流程圖。參考第18圖連同第14圖之示例性佈局圖,在步驟610處,在基板上形成第一鰭片560以在X軸方向上延伸。在步驟612處,在基板上形成第二鰭片562以在X軸方向上延伸。在步驟614處形成複數個閘極(諸如,多晶閘極570)以在Y軸方向上延伸並接觸第一及第二鰭片,以便形成多工器輸入電路之複數個PMOS電晶體及複數個NMOS電晶體。如上所述,輸入電路用以接收資料及選擇輸入信號。在步驟616處形成另一多晶閘極,以在Y軸方向上延伸並接觸第一及第二鰭片,以便形成多工器輸出電路之第一PMOS電晶體及第一NMOS電晶體,此多工器輸出電路用以基於
接收到的輸入及選擇輸入信號來輸出輸出信號。多晶閘極570i定位成緊鄰多晶閘極570f。在步驟618處,形成VDD端子以在第一位置處連接至第一鰭片,從而定義多工器輸入電路之第一PMOS電晶體的源極以及多工器輸出電路之第一PMOS電晶體的源極。在步驟620處,形成VSS端子以在第二位置處連接至第二鰭片,從而定義多工器輸入電路之第一NMOS電晶體的源極以及多工器輸出電路之第一NMOS電晶體的源極。
如上所述,此佈置將第14圖中所示之PMOS電晶體513(接收資料信號I3)的源極及輸出ND2電路506之PMOS電晶體552放置成彼此緊鄰,以使得其鄰接。此允許VDD連接被PMOS電晶體513及PMOS電晶體552之源極「共享」。另外,NMOS電晶體542的源極鄰接NMOS電晶體558的源極,從而允許此些源極「共享」與其的VSS連接。此減小了電路的面積,且減小了一個多晶間距。在一些實施例中,虛設閘極進一步位於多晶閘極570j與多晶閘極570b之間。
本文中所揭示之各種DMUX4電路及標準單元佈局消除了傳輸閘極,反而使用邏輯單元的各種組合,從而簡化了設計,且時常減小了用以實施邏輯電路之電晶體的總數。所揭示之標準單元佈局減小了單元面積,從而在一些情況下消除了一或更多個多晶間距。
根據一些所揭示實例,一種多工器電路具有各自在X軸方向上延伸之第一及第二鰭片。第一、第二、第三及
第四閘極在垂直於X軸方向之Y軸方向上延伸且接觸第一及第二鰭片。第一、第二、第三及第四閘極用以分別接收第一、第二、第三及第四資料信號。第五、第六、第七及第八閘極在Y軸方向上延伸並接觸第一及第二鰭片。第五、第六、第七及第八閘極用以分別接收第一、第二、第三及第四選擇信號。輸入邏輯電路包括第一及第二鰭片,以及第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七及第八閘極。輸入邏輯電路用以接收第一、第二、第三及第四資料信號以及第一、第二、第三及第四選擇信號,並在中間節點處提供輸出。第九閘極在Y軸方向上延伸並接觸第一及第二鰭片。第九閘極連接至中間節點。輸出邏輯電路包括第一及第二鰭片以及第九閘極,且用以在輸出端子處提供第一、第二、第三及第四資料信號中之所選者。在一實施例中,多工器電路進一步包括一第一電力導軌及一第二電力導軌。其中輸入邏輯電路包括一八輸入及-或電路包括一第一PMOS電晶體、一第二PMOS電晶體、一第三PMOS電晶體、一第四PMOS電晶體、一第五PMOS電晶體、一第六PMOS電晶體、一第七PMOS電晶體、一第八PMOS電晶體、一第一NMOS電晶體、一第二NMOS電晶體、一第三NMOS電晶體、一第四NMOS電晶體、一第五NMOS電晶體、一第六NMOS電晶體、一第七NMOS電晶體及一第八NMOS電晶體。第一PMOS電晶體、第二PMOS電晶體、第三PMOS電晶體及第四PMOS電晶體具有用以分別接收第一資料信號、第二資料信號、第三資
料信號及第四資料信號之第一閘極、第二閘極、第三閘極及第四閘極。第五PMOS電晶體、第六PMOS電晶體、第七PMOS電晶體及第八PMOS電晶體具有用以分別接收第一選擇信號、第二選擇信號、第三選擇信號及第四選擇信號之第五閘極、第六閘極、第七閘極及第八閘極。第一PMOS電晶體及第五PMOS電晶體各自具有連接至中間節點之多個汲極端及彼此連接之多個源極端,第二PMOS電晶體及第六PMOS電晶體各自具有連接至第一PMOS電晶體及第五PMOS電晶體之上述源極端的多個汲極端以及彼此連接之多個源極端,第三PMOS電晶體及第七PMOS電晶體各自具有連接至第二PMOS電晶體及第六PMOS電晶體之上述源極端的多個汲極端以及彼此連接之多個源極端,第四PMOS電晶體及第八PMOS電晶體各自具有連接至第三PMOS電晶體及第七PMOS電晶體之上述源極端的多個汲極端以及連接至第一電力導軌之多個源極端。第一NMOS電晶體、第二NMOS電晶體、第三NMOS電晶體及第四NMOS電晶體具有用以分別接收第一資料信號、第二資料信號、第三資料信號及第四資料信號之一第一閘極、一第二閘極、一第三閘極及一第四閘極。第五NMOS電晶體、第六NMOS電晶體、第七NMOS電晶體及第八NMOS電晶體具有用以分別接收第一選擇信號、第二選擇信號、第三選擇信號及第四選擇信號之第五閘極、第六閘極、第七閘極及第八閘極。第一NMOS電晶體、第二NMOS電晶體、第三NMOS電晶體
及第四NMOS電晶體各自具有連接至中間節點之多個汲極端,第五NMOS電晶體、第六NMOS電晶體、第七NMOS電晶體及第八NMOS電晶體各自具有連接至第二電力導軌之多個源極端,以及第一NMOS電晶體、第二NMOS電晶體、第三NMOS電晶體及第四NMOS電晶體具有連接至第五NMOS電晶體、第六NMOS電晶體、第七NMOS電晶體及第八NMOS電晶體之相應多個汲極端的多個源極端。在一實施例中,輸出邏輯電路包括一反相器電路,包括一第九PMOS電晶體及一第九NMOS電晶體。第九PMOS電晶體具有第九閘極及連接至第一電力導軌之一源極端。第九NMOS電晶體具有第九閘極及連接至第二電力導軌之一源極端。其中輸出端子形成在第九PMOS電晶體之一汲極端與第九NMOS電晶體之一汲極端的一接面處。在一實施例中,輸入電路包括一第一二輸入反及電路及一六輸入及-或-反相器電路。第一二輸入反及電路包括用以接收第一資料信號之第一閘極,以及用以接收第一選擇信號之第五閘極,並在第一中間節點處提供一輸出。六輸入及-或-反相器電路包括用以分別接收第二資料信號、第三資料信號及第四資料信號之第二閘極、第三閘極及第四閘極,以及用以分別接收第二選擇信號、第三選擇信號及第四選擇信號之第六閘極、第七閘極及第八閘極,並在一第二中間節點處提供一輸出。在一實施例中,多工器電路進一步包括一第十閘極在Y軸方向上延伸並接觸第一鰭片及第二鰭片。其中第九閘極連接至第一中間節
點,且第十閘極連接至第二中間節點。其中輸出邏輯電路包括具有連接至第九閘極及第十閘極之輸入的一第二二輸入反及電路,且用以在輸出端子處提供第一資料信號、第二資料信號、第三資料信號及第四資料信號中之一所選者。在一實施例中,輸入電路包括一第一二輸入反及電路、一第二二輸入反及電路及一四輸入及-或-反相器電路。第一二輸入反及電路包括用以接收第一資料信號之第一閘極,以及用以接收第一選擇信號之第五閘極,並在第一中間節點處提供一輸出。第二二輸入反及電路包括用以接收第二資料信號之第二閘極,以及用以接收第二選擇信號之第六閘極,並在一第二中間節點處提供一輸出。四輸入及-或-反相器電路包括用以接收第三資料信號及第四資料信號之第三閘極及第四閘極,以及用以接收第三選擇信號及第四選擇信號之第七閘極及第八閘極,並在一第三中間節點處提供一輸出。在一實施例中,多工器電路進一步包括一第十閘極及一第十一閘極。一第十閘極在Y軸方向上延伸並接觸第一鰭片及第二鰭片。一第十一閘極在Y軸方向上延伸並接觸第一鰭片及第二鰭片。其中第九閘極連接至第一中間節點,第十閘極連接至第二中間節點,且第十一閘極連接至第三中間節點。其中輸出邏輯電路包括具有連接至第九閘極、第十閘極及第十一閘極之輸入的一三輸入反及電路,且用以在輸出端子處提供第一資料信號、第二資料信號、第三資料信號及第四資料信號中之一所選者。在一實施例中,輸入電路包括一第一二輸入反及電路、一第二
二輸入反及電路、一第三二輸入反及電路及一第四二輸入反及電路。第一二輸入反及電路包括用以接收第一資料信號之第一閘極,以及用以接收第一選擇信號之第五閘極,並在第一中間節點處提供一輸出。第二二輸入反及電路包括用以接收第二資料信號之第二閘極,以及用以接收第二選擇信號之第六閘極,並在一第二中間節點處提供一輸出。第三二輸入反及電路包括用以接收第三資料信號之第三閘極,以及用以接收第三選擇信號之第七閘極,並在一第三中間節點處提供一輸出。第四二輸入反及電路包括用以接收第四資料信號之第四閘極,以及用以接收第四選擇信號之第八閘極,並在一第四中間節點處提供一輸出。在一實施例中,多工器電路進一步包括一第十閘極、一第十一閘極及一第十二閘極。第十閘極在Y軸方向上延伸並接觸第一鰭片及第二鰭片。第十一閘極在Y軸方向上延伸並接觸第一鰭片及第二鰭片。第十二閘極在Y軸方向上延伸並接觸第一鰭片及第二鰭片。其中第九閘極連接至第一中間節點,第十閘極連接至第二中間節點,第十一閘極連接至第三中間節點,且第十二閘極連接至第四中間節點。其中輸出邏輯電路包括具有連接至第九閘極、第十閘極、第十一閘極及第十二閘極之一輸入的一四輸入反及電路,且用以在輸出端子處提供第一資料信號、第二資料信號、第三資料信號及第四資料信號中之一所選者。
本揭示案之另外態樣關於一種多工器,其用以接收第一、第二、第三及第四資料信號以及第一、第二、第三
及第四選擇信號,且用以響應於第一、第二、第三及第四選擇信號而輸出第一、第二、第三及第四資料信號中之所選者。此多工器包括各自在X軸方向上延伸之第一及第二鰭片。第一AOI22電路包括在垂直於X軸方向之Y軸方向上延伸的第一複數個閘極。第二AOI22電路包括在Y軸方向上延伸之第二複數個閘極。ND2電路包括在Y軸方向上延伸之第三複數個閘極。第三複數個閘極用以分別自第一及第二AOI22電路接收第一及第二輸出。VDD端子在一位置處連接至第一鰭片,從而定義ND2電路之PMOS電晶體的源極及第二AOI22電路之PMOS電晶體的源極。VSS端子在一位置處連接至第二鰭片,從而定義ND2電路之NMOS電晶體的源極及第二AOI22電路之NMOS電晶體的源極。在一實施例中,第一多個閘極接觸第一鰭片及第二鰭片,且包括用以接收第一資料信號及第二資料信號以及第一選擇信號及第二選擇信號之一第一閘極、一第二閘極、一第三閘極及一第四閘極。在一實施例中,第二多個閘極接觸第一鰭片及第二鰭片,且包括用以接收第三資料信號及第四資料信號以及第三選擇信號及第四選擇信號之一第五閘極、一第六閘極、一第七閘極及一第八閘極。在一實施例中,第三多個閘極包括一第九閘極及一第十閘極,第九閘極及第十閘極接觸第一鰭片及第二鰭片且用以分別接收第一輸出及第二輸出。在一實施例中,第五閘極及第六閘極各自包括一第一區段及一第二區段,第一區段及第二區段彼此分離以使得第一區段接觸第一鰭片且
第二區段接觸第二鰭片,且其中第五閘極之第一區段用以接收第四資料信號,第五閘極之第二區段用以接收第三選擇信號,第六閘極之第一區段用以接收第三選擇信號,且第六閘極之第二區段用以接收第四資料信號。在一實施例中,第五閘極及第十閘極彼此緊鄰。第五閘極之第一區段形成第二四輸入及-或-反相器電路之PMOS電晶體的一閘極。第十閘極形成二輸入反及電路之PMOS電晶體的一閘極。第二四輸入及-或-反相器電路之PMOS電晶體的源極鄰接二輸入反及電路之PMOS電晶體的源極。VDD端子在第五閘極之第一區段與第十閘極之間連接至第一鰭片。第五閘極之第二區段形成第二四輸入及-或-反相器電路之NMOS電晶體的一閘極。第十閘極形成二輸入反及電路之NMOS電晶體的一閘極。第二四輸入及-或-反相器電路之NMOS電晶體的源極鄰接二輸入反及電路之NMOS電晶體的源極。VSS端子在第五閘極之第二區段與第十閘極之間連接至第二鰭片。在一實施例中,多工器進一步包括各自在X軸方向上延伸之一第三鰭片及一第四鰭片。在一實施例中,多工器進一步包括一非主動結構,非主動結構在Y軸方向上延伸且接觸第一鰭片及第二鰭片,非主動結構位於第一多個閘極與第三多個閘極之間。
根據其他所揭示實施例,一種方法包括在基板上形成第一鰭片以在X軸方向上延伸。在此基板上形成第二鰭片以在X軸方向上延伸。形成第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七及第八閘極,其在垂直於X軸方向之Y
軸方向上延伸且接觸第一及第二鰭片,以形成多工器輸入電路之複數個PMOS電晶體及複數個NMOS電晶體。形成第九閘極,其在Y軸方向上延伸且接觸第一及第二鰭片,以形成多工器輸出電路之第一PMOS電晶體及第一NMOS電晶體。第九閘極定位成緊鄰第八閘極。形成VDD端子,其在第一位置處連接至第一鰭片,從而定義多工器輸入電路之第一PMOS電晶體的源極以及定義多工器輸出電路之第一PMOS電晶體的源極。形成VSS端子,其在第二位置處連接至第二鰭片,從而定義多工器輸入電路之第一NMOS電晶體的源極以及多工器輸出電路之第一NMOS電晶體的源極。在一實施例中,方法進一步包括形成一第十閘極,第十閘極在Y軸方向上延伸且接觸第一鰭片及第二鰭片,以形成多工器輸出電路之一第二PMOS電晶體及一第二NMOS電晶體,其中第十閘極定位成緊鄰第九閘極。在一實施例中,第一閘極用以接收一第一多工器輸入信號,方法進一步包括形成一虛設閘極,虛設閘極在Y軸方向上延伸且在第一閘極與第十閘極之間接觸第一鰭片及第二鰭片。
此揭示內容概述了若干實施例,使得熟習此項技術者可較佳地理解本揭示案之態樣。熟習此項技術者應瞭解,他們可容易地使用本揭示案作為設計或修改用於實現相同目的及/或達成本文中所介紹之實施例之相同優勢的其它製程及結構的基礎。熟習此項技術者亦應認識到,此些等效構造不脫離本揭示案之精神及範疇,且他們可在不脫離
本揭示案之精神及範疇的情況下在本文作出各種改變、代替及替換。
10:處理系統
11:處理單元
12:輸入/輸出裝置
14:顯示器
16:區域網路/廣域網路(LAN/WAN)
20:中央處理單元(CPU)
22:記憶體
24:大容量儲存裝置
26:視訊適配器
28:I/O介面
30:匯流排
32:網路介面
Claims (10)
- 一種多工器電路,包括:一第一鰭片及一第二鰭片,各自在一X軸方向上延伸;一第一閘極、一第二閘極、一第三閘極及一第四閘極,在垂直於該X軸方向之一Y軸方向上延伸且接觸該第一鰭片及該第二鰭片,該第一閘極、該第二閘極、該第三閘極及該第四閘極用以分別接收一第一資料信號、一第二資料信號、一第三資料信號及一第四資料信號;一第五閘極、一第六閘極、一第七閘極及一第八閘極,在該Y軸方向上延伸且接觸該第一鰭片及該第二鰭片,該第五閘極、該第六閘極、該第七閘極及該第八閘極用以分別接收一第一選擇信號、一第二選擇信號、一第三選擇信號及一第四選擇信號;一輸入邏輯電路,包括該第一鰭片及該第二鰭片以及該第一閘極、該第二閘極、該第三閘極、該第四閘極、該第五閘極、該第六閘極、該第七閘極及該第八閘極,該輸入邏輯電路用以接收該第一資料信號、該第二資料信號、該第三資料信號及該第四資料信號及該第一選擇信號、該第二選擇信號、該第三選擇信號及該第四選擇信號,並在一中間節點處提供一輸出;一第九閘極,在該Y軸方向上延伸且接觸該第一鰭片及該第二鰭片,該第九閘極連接至該中間節點;以及一輸出邏輯電路,包括該第一鰭片及該第二鰭片以及該第九閘極,該輸出邏輯電路用以在一輸出端子處提供該第 一資料信號、該第二資料信號、該第三資料信號及該第四資料信號中之一所選者。
- 如請求項1所述之多工器電路,進一步包括一第一電力導軌及一第二電力導軌;其中該輸入邏輯電路包括一八輸入及-或電路,包括:一第一PMOS電晶體、一第二PMOS電晶體、一第三PMOS電晶體及一第四PMOS電晶體,具有用以分別接收該第一資料信號、該第二資料信號、該第三資料信號及該第四資料信號之該第一閘極、該第二閘極、該第三閘極及該第四閘極;一第五PMOS電晶體、一第六PMOS電晶體、一第七PMOS電晶體及一第八PMOS電晶體,具有用以分別接收該第一選擇信號、該第二選擇信號、該第三選擇信號及該第四選擇信號之該第五閘極、該第六閘極、該第七閘極及該第八閘極;該第一PMOS電晶體及該第五PMOS電晶體各自具有連接至該中間節點之複數個汲極端及彼此連接之複數個源極端,該第二PMOS電晶體及該第六PMOS電晶體各自具有連接至該第一PMOS電晶體及該第五PMOS電晶體之該些源極端的複數個汲極端以及彼此連接之複數個源極端,該第三PMOS電晶體及該第七PMOS電晶體各自具有連接至該第二PMOS電晶體及該第六PMOS電晶體之該些源極端的複數個汲極端以及 彼此連接之複數個源極端,該第四PMOS電晶體及該第八PMOS電晶體各自具有連接至該第三PMOS電晶體及該第七PMOS電晶體之該些源極端的複數個汲極端以及連接至該第一電力導軌之複數個源極端;一第一NMOS電晶體、一第二NMOS電晶體、一第三NMOS電晶體及一第四NMOS電晶體,具有用以分別接收該第一資料信號、該第二資料信號、該第三資料信號及該第四資料信號之一第一閘極、一第二閘極、一第三閘極及一第四閘極;一第五NMOS電晶體、一第六NMOS電晶體、一第七NMOS電晶體及一第八NMOS電晶體,具有用以分別接收該第一選擇信號、該第二選擇信號、該第三選擇信號及該第四選擇信號之該第五閘極、該第六閘極、該第七閘極及該第八閘極;該第一NMOS電晶體、該第二NMOS電晶體、該第三NMOS電晶體及該第四NMOS電晶體各自具有連接至該中間節點之複數個汲極端,該第五NMOS電晶體、該第六NMOS電晶體、該第七NMOS電晶體及該第八NMOS電晶體各自具有連接至該第二電力導軌之複數個源極端,以及該第一NMOS電晶體、該第二NMOS電晶體、該第三NMOS電晶體及該第四NMOS電晶體具有連接至該第五NMOS電晶體、該第六NMOS電晶體、該第七NMOS電晶體及該第八NMOS電晶體之相應複數個汲 極端的複數個源極端。
- 如請求項2所述之多工器電路,其中該輸出邏輯電路包括一反相器電路,包括:一第九PMOS電晶體,具有該第九閘極及連接至該第一電力導軌之一源極端;一第九NMOS電晶體,具有該第九閘極及連接至該第二電力導軌之一源極端;以及其中該輸出端子形成在該第九PMOS電晶體之一汲極端與該第九NMOS電晶體之一汲極端的一接面處。
- 如請求項1所述之多工器電路,其中該輸入邏輯電路包括:一第一二輸入反及電路,包括用以接收該第一資料信號之該第一閘極,以及用以接收該第一選擇信號之該第五閘極,並在一第一中間節點處提供一輸出;以及一六輸入及-或-反相器電路,包括用以分別接收該第二資料信號、該第三資料信號及該第四資料信號之該第二閘極、該第三閘極及該第四閘極,以及用以分別接收該第二選擇信號、該第三選擇信號及該第四選擇信號之該第六閘極、該第七閘極及該第八閘極,並在一第二中間節點處提供一輸出。
- 如請求項4所述之多工器電路,進一步包括: 一第十閘極,在該Y軸方向上延伸並接觸該第一鰭片及該第二鰭片;其中該第九閘極連接至該第一中間節點,且該第十閘極連接至該第二中間節點;以及其中該輸出邏輯電路包括具有連接至該第九閘極及該第十閘極之輸入的一第二二輸入反及電路,且用以在該輸出端子處提供該第一資料信號、該第二資料信號、該第三資料信號及該第四資料信號中之一所選者。
- 如請求項1所述之多工器電路,其中該輸入邏輯電路包括:一第一二輸入反及電路,包括用以接收該第一資料信號之該第一閘極,以及用以接收該第一選擇信號之該第五閘極,並在一第一中間節點處提供一輸出;一第二二輸入反及電路,包括用以接收該第二資料信號之該第二閘極,以及用以接收該第二選擇信號之該第六閘極,並在一第二中間節點處提供一輸出;以及一四輸入及-或-反相器電路,包括用以接收該第三資料信號及該第四資料信號之該第三閘極及該第四閘極,以及用以接收該第三選擇信號及該第四選擇信號之該第七閘極及該第八閘極,並在一第三中間節點處提供一輸出。
- 如請求項6所述之多工器電路,進一步包括:一第十閘極,在該Y軸方向上延伸並接觸該第一鰭片及 該第二鰭片;以及一第十一閘極,在該Y軸方向上延伸並接觸該第一鰭片及該第二鰭片;其中該第九閘極連接至該第一中間節點,該第十閘極連接至該第二中間節點,且該第十一閘極連接至該第三中間節點;其中該輸出邏輯電路包括具有連接至該第九閘極、該第十閘極及該第十一閘極之輸入的一三輸入反及電路,且用以在該輸出端子處提供該第一資料信號、該第二資料信號、該第三資料信號及該第四資料信號中之一所選者。
- 如請求項1所述之多工器電路,其中該輸入邏輯電路包括:一第一二輸入反及電路,包括用以接收該第一資料信號之該第一閘極,以及用以接收該第一選擇信號之該第五閘極,並在一第一中間節點處提供一輸出;一第二二輸入反及電路,包括用以接收該第二資料信號之該第二閘極,以及用以接收該第二選擇信號之該第六閘極,並在一第二中間節點處提供一輸出;一第三二輸入反及電路,包括用以接收該第三資料信號之該第三閘極,以及用以接收該第三選擇信號之該第七閘極,並在一第三中間節點處提供一輸出;以及一第四二輸入反及電路,包括用以接收該第四資料信號之該第四閘極,以及用以接收該第四選擇信號之該第八閘 極,並在一第四中間節點處提供一輸出。
- 一種多工器,用以接收一第一資料信號、一第二資料信號、一第三資料信號及一第四資料信號以及一第一選擇信號、一第二選擇信號、一第三選擇信號及一第四選擇信號,且用以響應於該第一選擇信號、該第二選擇信號、該第三選擇信號及該第四選擇信號而輸出該第一資料信號、該第二資料信號、該第三資料信號及該第四資料信號中之一所選者,該多工器包括:一第一鰭片及一第二鰭片,各自在一X軸方向上延伸;一第一四輸入及-或-反相器電路,包括在垂直於該X軸方向之一Y軸方向上延伸的一第一複數個閘極;一第二四輸入及-或-反相器電路,包括在該Y軸方向上延伸之一第二複數個閘極;一二輸入反及電路,包括在該Y軸方向上延伸之一第三複數個閘極,該第三複數個閘極用以分別自該第一四輸入及-或-反相器電路及該第二四輸入及-或-反相器電路接收一第一輸出及一第二輸出;一VDD端子,在一位置處連接至該第一鰭片,從而定義該二輸入反及電路之一PMOS電晶體的一源極及該第二四輸入及-或-反相器電路之一PMOS電晶體的一源極;以及一VSS端子,在一位置處連接至該第二鰭片,從而定義該二輸入反及電路之一NMOS電晶體的一源極及該第二四輸入及-或-反相器電路之一NMOS電晶體的一源極。
- 一種製造多工器方法,包括:在一基板上形成一第一鰭片以在一X軸方向上延伸;在該基板上形成一第二鰭片以在該X軸方向上延伸;形成一第一閘極、一第二閘極、一第三閘極、一第四閘極、一第五閘極、一第六閘極、一第七閘極及一第八閘極,該第一閘極、該第二閘極、該第三閘極、該第四閘極、該第五閘極、該第六閘極、該第七閘極及該第八閘極在垂直於該X軸方向之一Y軸方向上延伸且接觸該第一鰭片及該第二鰭片,以形成一多工器輸入電路之複數個PMOS電晶體及複數個NMOS電晶體;形成一第九閘極,該第九閘極在該Y軸方向上延伸且接觸該第一鰭片及該第二鰭片,以形成一多工器輸出電路之一第一PMOS電晶體及一第一NMOS電晶體,其中該第九閘極定位成緊鄰該第八閘極;形成一VDD端子,該VDD端子在一第一位置處連接至該第一鰭片,從而定義該多工器輸入電路之一第一PMOS電晶體的一源極以及該多工器輸出電路之該第一PMOS電晶體的一源極;以及形成一VSS端子,該VSS端子在一第二位置處連接至該第二鰭片,從而定義該多工器輸入電路之一第一NMOS電晶體的一源極以及該多工器輸出電路之該第一NMOS電晶體的一源極。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201962861649P | 2019-06-14 | 2019-06-14 | |
US62/861,649 | 2019-06-14 | ||
US16/883,524 US11392743B2 (en) | 2019-06-14 | 2020-05-26 | Multiplexer |
US16/883,524 | 2020-05-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202107850A TW202107850A (zh) | 2021-02-16 |
TWI771698B true TWI771698B (zh) | 2022-07-21 |
Family
ID=73744599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW109119936A TWI771698B (zh) | 2019-06-14 | 2020-06-12 | 多工器電路、多工器及製造多工器方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11392743B2 (zh) |
TW (1) | TWI771698B (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102020115154A1 (de) * | 2019-06-14 | 2020-12-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Multiplexer |
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Publication number | Publication date |
---|---|
US20200395938A1 (en) | 2020-12-17 |
TW202107850A (zh) | 2021-02-16 |
US11392743B2 (en) | 2022-07-19 |
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