TWI766675B - 光學成像系統、取像模組及電子裝置 - Google Patents

光學成像系統、取像模組及電子裝置 Download PDF

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TWI766675B TW110116439A TW110116439A TWI766675B TW I766675 B TWI766675 B TW I766675B TW 110116439 A TW110116439 A TW 110116439A TW 110116439 A TW110116439 A TW 110116439A TW I766675 B TWI766675 B TW I766675B
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Abstract

本發明提供一種光學成像系統、取像模組及電子裝置。所述光學成像系統由物側到像側依次包括第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡及第五透鏡，所述光學成像系統滿足以下條件式：11°/mm<FOV/TTL<13°/mm；0.35mm<TL5<0.52mm；FOV為光學成像系統的視場角，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光学成像系統的成像面在光軸上的距离，TL5為第五透鏡的物側面至光學成像系統的成像面在光軸上的距離，FOV為光學成像系統的視場角。上述的光學成像系統具有较大視场角與较小的总长。

Description

光學成像系統、取像模組及電子裝置
本申請涉及光學成像技術領域，具體涉及一種光學成像系統、取像模組及電子裝置。
近年來，隨著電子產品科技的發展，具有照相或偵測等功能的小型化光學裝置的應用領域也越來越廣。多數的光學裝置常在可見光的電磁波範圍進行取像，但在某些領域中(如偵測、辨識等)需要在可見光以外波長的電磁波(例如紅外線等)進行取像。然而，這些可見光以外波長的電磁波常因亮度不足而使光學裝置需要另外搭配一個光源進行拍攝、偵測等。
目前常用紅外線的波長範圍因為在使用上有安全的疑慮(例如會對對紅外線較為敏感的眼睛等人體部位造成影響)，而需限制光源的強度，進而造成應用上的限制。對此，其中一種克服方法為採用波長較長的紅外線光源，如此光學裝置即可搭配強度較強的紅外線光源。但現有的各種小型化光學裝置因為採用的波長範圍差別過大，且其所需拍攝的影像特性不同，故一些小型化光學裝置不適合應用在所述波長較長的紅外線範圍。
鑒於上述狀況，有必要提供一種光學成像系統、取像模組及電子裝置，以解決上述問題。
本申請的實施例提供了一種光學成像系統，由物側到像側依次包括第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡及第五透鏡，所述光學成像系統滿足以下條件式：11°/mm<FOV/TTL<13°/mm；0.35mm<TL5<0.52mm；其中，FOV為所述光學成像系統的最大視場角，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光學成像系統的成像面在光軸上的距離，TL5為所述第五透鏡的物側面至其像側面在光軸上的距離。
上述的光學成像系統可在較大視場角的同時具有較小的總長，且控制第五透鏡的厚度有利於壓縮光學成像系統的總長，以進一步實現小型化的特點；且具有不同的光學特徵以應用在波長較長的紅外線範圍，以實現在偵測、辨識等領域的拍攝。
本申請的實施例還提出了一種取像模組，包括：上述的光學成像系統；及感光元件，所述感光元件設置在所述光學成像系統的像側。
本申請的實施例還提出了一種電子裝置，包括：殼體；及如上述的取像模組，所述取像模組安裝在所述殼體上。
L1:第一透鏡
L2:第二透鏡
L3:第三透鏡
L4:第四透鏡
L5:第五透鏡
L6:濾光片
STO:光闌
IMA:成像面
S2、S5、S7、S9、S11、S13:物側面
S3、S6、S8、S10、S12、S14:像側面
10:光學成像系統
20:感光元件
100:取像模組
200:電子裝置
210:殼體
圖1為本申請第一實施例的光學成像系統的結構圖。
圖2為本申請第一實施例的光學成像系統的類比MTF對視場角性能資料圖。
圖3為本申請第一實施例的光學成像系統的場曲及畸變曲線圖。
圖4為本申請第二實施例的光學成像系統的結構圖。
圖5為本申請第二實施例的光學成像系統的類比MTF對視場角性能資料圖。
圖6為本申請第二實施例的光學成像系統的場曲及畸變曲線圖。
圖7為本申請第三實施例的光學成像系統的結構圖。
圖8為本申請第三實施例的光學成像系統的類比MTF對視場角性能資料圖。
圖9為本申請第三實施例的光學成像系統的場曲及畸變曲線圖。
圖10為本申請實施例的取像模組的結構示意圖。
圖11為本申請實施例的電子裝置的結構示意圖。
請參見圖1，本申請的實施例提出了一種光學成像系統10，從物側至像側依次包括光闌STO、第一透鏡L1、第二透鏡L2、第三透鏡L3、第四透鏡L4及第五透鏡L5。
所述第一透鏡L1具有物側面S2與像側面S3，所述第二透鏡L2具有物側面S5與像側面S6，所述第三透鏡L3具有物側面S7與像側面S8，所述第四透鏡L4具有物側面S9與像側面S10，所述第五透鏡L5具有物側面S11與像側面S12。
所述光學成像系統滿足以下條件式：11°/mm<FOV/TTL<13°/mm；0.35mm<TL5<0.52mm；其中，FOV為所述光學成像系統10的最大視場角，TTL為所述第一透鏡L1的物側面S2至所述光學成像系統10的成像面IMA在光軸上的距離，TL5為所述第五透鏡L5的物側面S11至其像側面S12在光軸上的距離。
上述的光學成像系統10可在較大視場角的同時具有較小的總長，且控制第五透鏡L5的厚度有利於壓縮光學成像系統10的總長，以進一步實現小型化的特點；且具有不同的光學特徵以應用在波長較長的紅外線範圍，以實現在偵測、辨識等領域的拍攝。
在一實施例中，光學成像系統10滿足條件式：1.0<SD22/SD12<1.1；其中，SD22為所述第二透鏡L2的像側面S6的有效半直徑，SD12為所述第一透鏡L1的像側面S3的有效半直徑。滿足上述關係式時，有利於光學成像系統10的前端頭部口徑尺寸做小，實現小型化的特點。
在一實施例中，光學成像系統10滿足條件式：6.3<R5/CT3<7.0；其中，R5為所述第三透鏡L3的物側面S7在近光軸處的曲率半徑，CT3為所述第三透鏡L3的物側面S7至所述第三透鏡L3的像側面S8在光軸上的距離。藉由滿足 條件式的限定，可近一步彙聚光線，使第三透鏡L3面型平滑，可降低不同視場光線入射角及出射角的偏差，從而降低敏感度；而藉由設置較厚的第三透鏡L3可以減小加工難度且降低厚度公差敏感度，提升良率。
在一些實施例中，所述光學成像系統10滿足以下關係式：15.5°/mm<FOV/f<18.5°/mm；其中，FOV為所述光學成像系統10的最大視場角，f為所述光學成像系統10的有效焦距。如此，能夠有效控制光學成像系統10在滿足合適的有效焦距的條件下，達到短總長的目的，滿足光學成像系統10的輕薄化的需求。
在一些實施例中，所述光學成像系統10滿足以下關係式：0.7<|RS7+RS8|/|RS7-RS8|<1.3；其中，RS7為所述第四透鏡L4的物側面S9在近光軸處的曲率半徑，RS8為所述第四透鏡L4的像側面S10在近光軸處的曲率半徑。如此，第四透鏡L4的曲率半徑可影響第四透鏡L4的彎曲程度；滿足上述條件式時，可有效校正光學成像系統10的邊緣像差，抑制像散的產生，減小周邊視角的主光線射入像面的角度。
在一些實施例中，所述光學成像系統10滿足以下條件式：4<vd1-vd2<5；其中，vd1為所述第一透鏡L1的阿貝數，vd2為所述第二透鏡L2的阿貝數。如此，合理選擇透鏡材料，能有效修正光學成像系統10的色差，提高光學成像系統10的成像清晰度，從而提升光學成像系統10的成像品質。
在一些實施例中，所述光學成像系統10滿足以下條件式：1.2<FNO<1.4；其中，FNO為所述光學成像系統10的光圈數。如此，可保證光學成像系統10的通光量，提高光學成像系統10的成像清晰度，從而提升光學成像系統10的成像品質。
在一些實施例中，光學成像系統10還包括濾光片L6，濾光片L6具有物側面S13與像側面S14，濾光片L6設置在第一透鏡L1的物側，濾光片L6可以為紅外濾光片，以濾除例如可見光等其他波段的光線，而僅讓紅外光藉由，以使光學成像系統10能夠在昏暗的環境及其他特殊的應用場景下也能成像。可以理解地，濾光片L6的材質可為塑膠，也可為玻璃。
第一實施例
請繼續參見圖1，本實施例中的光學成像系統10中，從物側至像側包括光闌STO、具有屈折力的第一透鏡L1、具有屈折力的第二透鏡L2、具有屈折 力的第三透鏡L3、具有屈折力的第四透鏡L4、具有屈折力的第五透鏡L5及濾光片L6。
所述第一透鏡L1的物側面S2在近光軸處為凸面，所述第一透鏡L1的像側面S3在近光軸處為凹面。所述第二透鏡L2的物側面S5在近光軸處為凹面，所述第二透鏡L2的像側面S6在近光軸處為凸面。所述第三透鏡L3的物側面S7在近光軸處為凸面，所述第三透鏡L3的像側面S8在近光軸處為凹面。所述第四透鏡L4的物側面S9在近光軸處為凹面，所述第四透鏡L4的像側面S10在近光軸處為凸面。所述第五透鏡L5的物側面S11在近光軸處為凹面，所述第五透鏡L5的像側面S12在近光軸處為凹面。
當光學成像系統10用於成像時，被攝物發出或反射的光線從物側方向進入光學成像系統10，並依次穿過光闌STO、第一透鏡L1、第二透鏡L2、第三透鏡L3、第四透鏡L4、第五透鏡L5及濾光片L6，最終彙聚到成像面IMA上。
表1示出了本實施例的光學成像系統10的特性，f為光學成像系統10的有效焦距，FOV為光學成像系統10的最大視場角，有效焦距、折射率及阿貝數的參考波長為1550nm，曲率半徑、厚度、淨口徑及機械半直徑的單位均為毫米(mm)。
Figure 110116439-A0305-02-0007-1
表2
Figure 110116439-A0305-02-0008-2
需要說明的為，光學成像系統10的第一透鏡L1至第物透鏡L5的物側面與像側面均為非球面，各非球面的表面對應的圓錐常數k與非球面係數如表2所示，對於這些非球面的表面，非球面表面的非球面方程為：
Figure 110116439-A0305-02-0008-3
其中，Z表示透鏡面中與Z軸平行的高度，r表示從頂點起的徑向距離，c表示頂點處表面的曲率，k表示圓錐常數，K2、K4、K6、K8、K10、K12分別表示2階、4階、6階、8階、10階、12階對應階次的非球面係數。
圖2為本實施例中的光學成像系統10的類比MTF對視場角性能資料圖。橫坐標表示Y場偏移角度，即光學系統100的視場相對於光軸所成的角度，單位為度；縱坐標表示OTF係數；S1與T1表示空間頻率為25cyc/mm下的曲線，S2與T2表示空間頻率為50cyc/mm下的曲線，S3與T3表示空間頻率為67cyc/mm，S4與T4表示空間頻率為100cyc/mm；其中S1與T1分別表示空間頻率為25cyc/mm在，S方向與T方向的曲線，曲線S1與T1為較低頻率下的曲線，能夠反映光學系統100的反差特性，而曲線S4與T4為較高頻率下的曲線，能夠反映光學系統100的解析度特性。
圖3由左至右依次為本實施例中光學成像系統10的場曲曲線圖及畸變曲線圖，參考波長為1550nm。
由圖2與圖3的曲線可得知，光學成像系統10弧矢場曲值及子午場曲值被控制在-0.15mm~0.15mm之間，透鏡的製作更容易，降低製作成本；光學成像系統10的畸變被控制在0~10%以內，即光學成像系統10所成圖像的變形較小。由此，光學成像系統100反映類比MTF上有良好的數值，光學成像系統10具備良好的成像性能。
第二實施例
請參見圖4，本實施例中的光學成像系統10中，從物側至像側包括光闌STO、具有屈折力的第一透鏡L1、具有屈折力的第二透鏡L2、具有屈折力的第三透鏡L3、具有屈折力的第四透鏡L4、具有屈折力的第五透鏡L5及濾光片L6。
所述第一透鏡L1的物側面S2在近光軸處為凸面，所述第一透鏡L1的像側面S3在近光軸處為凹面。所述第二透鏡L2的物側面S5在近光軸處為凹面，所述第二透鏡L2的像側面S6在近光軸處為凸面。所述第三透鏡L3的物側面S7在近光軸處為凸面，所述第三透鏡L3的像側面S8在近光軸處為凹面。所述第四透鏡L4的物側面S9在近光軸處為凹面，所述第四透鏡L4的像側面S10在近光軸處為凸面。所述第五透鏡L5的物側面S11在近光軸處為凹面，所述第五透鏡L5的像側面S12在近光軸處為凹面。
當光學成像系統10用於成像時，被攝物發出或反射的光線從物側方向進入光學成像系統10，並依次穿過光闌STO、第一透鏡L1、第二透鏡L2、第三透鏡L3、第四透鏡L4、第五透鏡L5及濾光片L6，最終彙聚到成像面IMA上。
表3示出了本實施例的光學成像系統10的特性，f為光學成像系統10的有效焦距，FOV為光學成像系統10的最大視場角，有效焦距、折射率及阿貝數的參考波長為1550nm，曲率半徑、厚度、淨口徑及機械半直徑的單位均為毫米(mm)。
Figure 110116439-A0305-02-0009-4
Figure 110116439-A0305-02-0010-5
Figure 110116439-A0305-02-0010-6
圖5為本實施例中的光學成像系統10的類比MTF對視場角性能資料圖。其中，橫坐標表示Y場偏移角度，即光學系統100的視場相對於光軸所成的角度，單位為度；縱坐標表示OTF係數；S1與T1表示空間頻率25cyc/mm下的曲線，S2與T2表示空間頻率為50cyc/mm下的曲線，S3與T3表示空間頻率為67cyc/mm，S4與T4表示空間頻率為100cyc/mm；其中S1與T1分別表示空間頻率為25cyc/mm在，S方向與T方向的曲線，曲線S1與T1為較低頻率下的曲線，能夠反映光學系統100的反差特性，而曲線S4與T4為較高頻率下的曲線，能夠反映光學系統100的解析度特性。
圖6由左至右依次為本實施例中光學成像系統10的場曲曲線圖及畸變曲線圖，參考波長為1550nm。
由圖5與圖6的曲線可得知，光學成像系統10弧矢場曲值及子午場曲值被控制在-0.15mm~0.15mm之間，透鏡的製作更容易，降低製作成本；光學成像系統10的畸變被控制在0~10%以內，即光學成像系統10所成圖像的變形較小。由此，光學成像系統100反映類比MTF上有良好的數值，光學成像系統10具備良好的成像性能。
第三實施例
請參見圖7，本實施例中的光學成像系統10中，從物側至像側包括光闌STO、具有屈折力的第一透鏡L1、具有屈折力的第二透鏡L2、具有屈折力的第三透鏡L3、具有屈折力的第四透鏡L4、具有屈折力的第五透鏡L5及濾光片L6。
所述第一透鏡L1的物側面S2在近光軸處為凸面，所述第一透鏡L1的像側面S3在近光軸處為凹面。所述第二透鏡L2的物側面S5在近光軸處為凹面， 所述第二透鏡L2的像側面S6在近光軸處為凸面。所述第三透鏡L3的物側面S7在近光軸處為凸面，所述第三透鏡L3的像側面S8在近光軸處為凹面。所述第四透鏡L4的物側面S9在近光軸處為凹面，所述第四透鏡L4的像側面S10在近光軸處為凸面。所述第五透鏡L5的物側面S11在近光軸處為凹面，所述第五透鏡L5的像側面S12在近光軸處為凹面。
當光學成像系統10用於成像時，被攝物發出或反射的光線從物側方向進入光學成像系統10，並依次穿過光闌STO、第一透鏡L1、第二透鏡L2、第三透鏡L3、第四透鏡L4、第五透鏡L5及濾光片L6，最終彙聚到成像面IMA上。
表5示出了本實施例的光學成像系統10的特性，f為光學成像系統10的有效焦距，FOV為光學成像系統10的最大視場角，有效焦距、折射率及阿貝數的參考波長為1550nm，曲率半徑、厚度、淨口徑及機械半直徑的單位均為毫米(mm)。
Figure 110116439-A0305-02-0011-7
Figure 110116439-A0305-02-0011-8
Figure 110116439-A0305-02-0012-9
圖8為本實施例中的光學成像系統10的類比MTF對視場角性能資料圖。橫坐標表示Y場偏移角度，即光學系統100的視場相對於光軸所成的角度，單位為度；縱坐標表示OTF係數；S1與T1表示空間頻率為25cyc/mm下的曲線，S2與T2表示空間頻率為50cyc/mm下的曲線，S3與T3表示空間頻率為67cyc/mm，S4與T4表示空間頻率為100cyc/mm；其中S1與T1分別表示空間頻率為25cyc/mm在，S方向與T方向的曲線，曲線S1與T1為較低頻率下的曲線，能夠反映光學系統100的反差特性，而曲線S4與T4為較高頻率下的曲線，能夠反映光學系統100的解析度特性。
圖9由左至右依次為本實施例中光學成像系統10的場曲曲線圖及畸變曲線圖，參考波長為1550nm。
由圖8與圖9的曲線可得知，光學成像系統10弧矢場曲值及子午場曲值被控制在-0.15mm~0.15mm之間，透鏡的製作更容易，降低製作成本；光學成像系統10的畸變被控制在0~10%以內，即光學成像系統10所成圖像的變形較小。由此，光學成像系統100反映類比MTF上有良好的數值，光學成像系統10具備良好的成像性能。
表7示出了第一實施例至第三實施例的光學成像系統中FOV/TTL、TL5、FNO、SD22/SD12、R5/CT3、FOV/f、|RS7+RS8|/|RS7-RS8|及vd1-vd2的值。
Figure 110116439-A0305-02-0012-10
請參見圖10，本申請實施例的光學成像系統10可應用於本申請實施例的取像模組100。取像模組100包括感光元件20及上述任一實施例的光學成像系統10。感光元件20設置在光學成像系統10的像側。
感光元件20可以採用互補金屬氧化物半導體(MMOS，Complementary Metal Oxide Semiconductor)影像感測器或者電荷耦合元件(CCD，Charge-coupled Device)。
上述取像模組100中的光學成像系統10可在較大視場角的同時具有較小的總長，且控制第五透鏡L5的厚度有利於壓縮光學成像系統10的總長，以進一步實現小型化的特點；且具有不同的光學特徵以應用在波長較長的紅外線範圍，以實現在偵測、辨識等領域的拍攝。
請參見圖11，本申請實施例的取像模組100可應用於本申請實施例的電子裝置200。電子裝置200包括殼體210及取像模組100，取像模組100安裝在殼體210上。
本申請實施例的電子裝置200包括但不限於為行車記錄儀、智慧手機、平板電腦、筆記型電腦、電子書籍閱讀器、便攜多媒體播放機(PMP)、便攜電話機、視頻電話機、數碼靜物相機、移動醫療裝置、可穿戴式設備、智慧門鈴偵測裝置，智慧家電偵測裝置等支援成像的電子裝置。
上述電子裝置200中的光學成像系統10可在較大視場角的同時具有較小的總長，且控制第五透鏡L5的厚度有利於壓縮光學成像系統10的總長，以進一步實現小型化的特點；且具有不同的光學特徵以應用在波長較長的紅外線範圍，以實現在偵測、辨識等領域的拍攝。
綜上所述，本發明符合發明專利要件，爰依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施例，舉凡熟悉本案技藝之人士，在爰依本發明精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下之如申請專利範圍內。
L0:虛擬面
L1:第一透鏡
L2:第二透鏡
L3:第三透鏡
L4:第四透鏡
L5:第五透鏡
L6:濾光片
STO:光闌
IMA:成像面
S2、S5、S7、S9、S11、S13:物側面
S3、S6、S8、S10、S12、S14:像側面
10:光學成像系統

Claims (9)

  1. 一種光學成像系統，其改良在於，由物側到像側依次包括第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡及第五透鏡，所述第一透鏡的物側面在近光軸處為凸面，所述第一透鏡的像側面在近光軸處為凹面；所述第二透鏡的物側面在近光軸處為凹面，所述第二透鏡的像側面在近光軸處為凸面；所述第三透鏡的物側面在近光軸處為凸面，所述第三透鏡的像側面在近光軸處為凹面；所述第四透鏡的物側面在近光軸處為凹面，所述第四透鏡的像側面在近光軸處為凸面；所述第五透鏡的物側面在近光軸處為凹面，所述第五透鏡的像側面在近光軸處為凹面，所述光學成像系統滿足以下條件式：11°/mm<FOV/TTL<13°/mm；0.35mm<TL5<0.52mm；其中，FOV為所述光學成像系統的最大視場角，TTL為所述第一透鏡的物側面至所述光學成像系統的成像面在光軸上的距離，TL5為所述第五透鏡的物側面至其像側面在光軸上的距離。
  2. 如請求項1所述之光學成像系統，所述光學成像系統滿足以下條件式：1.0<SD22/SD12<1.1；其中，SD22為所述第二透鏡的像側面的有效半直徑，SD12為所述第一透鏡的像側面的有效半直徑。
  3. 如請求項1所述之光學成像系統，所述光學成像系統滿足以下條件式：6.3<R5/CT3<7.0；其中，R5為所述第三透鏡的物側面在近光軸處的曲率半徑，CT3為所述第三透鏡的物側面至所述第三透鏡的像側面在光軸上的距離。
  4. 如請求項1所述之光學成像系統，所述光學成像系統滿足以下關係式：15.5°/mm<FOV/f<18.5°/mm；其中，FOV為所述光學成像系統的最大視場角，f為所述光學成像系統的有效焦距。
  5. 如請求項1所述之光學成像系統，所述光學成像系統滿足以下關係式：0.7<|RS7+RS8|/|RS7-RS8|<1.3；其中，RS7為所述第四透鏡的物側面在近光軸處的曲率半徑，RS8為所述第四透鏡的像側面在近光軸處的曲率半徑。
  6. 如請求項1所述之光學成像系統，所述光學成像系統滿足以下條件式：4<vd1-vd2<5；其中，vd1為所述第一透鏡的阿貝數，vd2為所述第二透鏡的阿貝數。
  7. 如請求項1所述之光學成像系統，所述光學成像系統滿足以下條件式：1.2<FNO<1.4；其中，FNO為所述光學成像系統的光圈數。
  8. 一種取像模組，包括：請求項1至7中任意一項所述的光學成像系統；及感光元件，所述感光元件設置在所述光學成像系統的像側。
  9. 一種電子裝置，包括：殼體；及如請求項8所述的取像模組，所述取像模組安裝在所述殼體上。
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