TWI760681B - 氣體偵測清淨裝置 - Google Patents

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Abstract

一種氣體偵測清淨裝置，設置於室內空間中，包含：一本體，具有至少一進氣口、至少一出氣口及一外接插口，且該進氣口與該出氣口之間設有一氣體流道；一淨化單元，設置在該氣體流道中，以過濾該氣體流道所導入之一氣體；一導風機，設置在該氣體流道中，且設置於該淨化單元一側，導引該氣體由該進氣口導入通過該淨化單元進行過濾淨化，最後由該出氣口導出；一氣體偵測模組，由該外接插口插入與該本體連接成一體，以及由該外接插口抽離與該本體分離拆開；一控制驅動模組，設置於該本體內，供與該導風機電性連接控制實施啟動和關閉狀態之操作。

Description

氣體偵測清淨裝置
本案關於一種氣體偵測清淨裝置，尤指一種實施應用室內空間中之氣體偵測清淨裝置。
現代人對於生活周遭的氣體品質的要求愈來愈重視，例如一氧化碳、二氧化碳、揮發性有機物(Volatile Organic Compound，VOC)、PM2.5、一氧化氮、一氧化硫等等氣體，甚至於氣體中含有的微粒，都會在環境中暴露影響人體健康，嚴重的甚至危害到生命。因此環境氣體品質好壞紛紛引起各國重視，如何監測去避免遠離，是當前重視的課題。
如何確認氣體品質的好壞，利用一種氣體感測器來監測周圍環境氣體是可行的。若又能即時提供監測資訊，警示處在有害環境中的人，使其能夠即時預防或逃離，避免其因暴露於環境中的有害氣體中而造成健康的影響及傷害，利用氣體感測器來監測周圍環境可說是非常好的應用。而空氣清淨裝置為現代人防止吸入有害氣體的空汙解決方案，因此將空氣清淨裝置與氣體監測器結合，以利於隨時隨地即時監測空氣品質，並提供淨化空氣品質的效益，是本案所研發的主要課題。
本案之主要目的係提供一種空氣清淨裝置，藉由一外接可插組或拆卸之氣體偵測模組嵌設於氣體清淨裝置內，隨時偵測氣體清淨裝置周圍環境空氣品質，即時將空氣品質資訊傳遞至外部裝置上，獲得氣體偵 測之資訊及一通報警示，避免其因暴露於環境中的有害氣體中而造成健康的影響及傷害，更可進一步利用淨化單元提供淨化空氣品質的效益。
本案之一廣義實施態樣為一種氣體偵測清淨裝置，包含：一本體，具有至少一進氣口、至少一出氣口及一外接插口，且該進氣口與該出氣口之間設有一氣體流道；一淨化單元，設置在該氣體流道中，以過濾該氣體流道所導入之一氣體；一導風機，設置在該氣體流道中，且設置於該淨化單元一側，導引該氣體由該進氣口導入通過該淨化單元進行過濾淨化，最後由該出氣口導出；一氣體偵測模組，由該外接插口插入與該本體連接成一體，以及由該外接插口抽離與該本體分離拆開；一控制驅動模組，設置於該本體內，供與該導風機電性連接控制實施啟動和關閉狀態之操作，並具有一連接座，供該氣體偵測模組插置電性連接而驅動，促使該氣體偵測模組偵測該本體外氣體而獲得一氣體偵測數據，並輸出給該控制驅動模組控制該導風機實施啟動和關閉狀態之操作。
1:本體
11:進氣口
12:出氣口
13:氣體流道
14:外接插口
2:淨化單元
2a:濾網
2b:光觸媒
2c:紫外線燈
2d:奈米光管
2e:電極線
2f:集塵板
2g:升壓電源器
2h:電場上護網
2i:吸附濾網
2j:高壓放電極
2k:電場下護網
3:導風機
30:致動泵
301:進流板
301a:進流孔
301b:匯流排槽
301c:匯流腔室
302:共振片
302a:中空孔
302b:可動部
302c:固定部
303:壓電致動器
303a:懸浮板
303b:外框
303c:支架
303d:壓電元件
303e:間隙
303f:凸部
304:第一絕緣片
305:導電片
306:第二絕緣片
307:腔室空間
4:氣體偵測模組
4a:殼體
4b:氣體偵測主體
41:基座
41a:進氣口
411:第一表面
412:第二表面
413:雷射設置區
414:進氣溝槽
414a:進氣通口
414b:透光窗口
415:導氣組件承載區
415a:通氣孔
415b:定位凸塊
416:出氣溝槽
416a:出氣通口
416b:第一區間
416c:第二區間
417:光陷阱區
417a:光陷阱結構
42:壓電致動器
42a:出氣口
421:噴氣孔片
4210:懸浮片
4211:中空孔洞
4212:空隙
422:腔體框架
423:致動體
4231:壓電載板
4232:調整共振板
4233:壓電板
4234:壓電接腳
424:絕緣框架
425:導電框架
4251:導電接腳
4252:導電電極
426:共振腔室
427:氣流腔室
43:驅動電路板
44:雷射組件
45:微粒傳感器
46:外蓋
461:側板
461a:進氣框口
461b:出氣框口
47a:第一揮發性有機物傳感器
47b:第二揮發性有機物傳感器
4c:控制電路單元
41c:微處理器
42c:通信器
43c:電源模組
4d:外接連接器
5:控制驅動模組
51:連接座
6:外部裝置
7:供電裝置
D:光陷阱距離
第1A圖為本案氣體偵測清淨裝置之立體示意圖。
第1B圖為本案氣體偵測清淨裝置之氣體偵測模組組配關係示意圖。
第1C圖為本案氣體偵測清淨裝置之氣體偵測模組外觀示意圖。
第1D圖為本案氣體偵測清淨裝置之氣體偵測模組內部相關構件示意圖。
第2A圖為本案氣體偵測清淨裝置之淨化單元第一實施例剖面示意圖。
第2B圖為本案氣體偵測清淨裝置之淨化單元第二實施例剖面示意圖。
第2C圖為本案氣體偵測清淨裝置之淨化單元第三實施例剖面示意圖。
第2D圖為本案氣體偵測清淨裝置之淨化單元第四實施例剖面示意圖。
第2E圖為本案氣體偵測清淨裝置之淨化單元第五實施例剖面示意圖。
第3A圖為本案氣體偵測清淨裝置之致動泵相關構件由一正面角度視得之分解示意圖。
第3B圖為本案氣體偵測清淨裝置之致動泵形式之相關構件由一背面角度視得之分解示意圖。
第4A圖為本案氣體偵測清淨裝置之致動泵剖面示意圖。
第4B圖為本案氣體偵測清淨裝置之致動泵另一實施例剖面示意圖。
第4C圖至第4E圖為第4A圖之氣體偵測清淨裝置之致動泵作動示意圖。
第5A圖為本案氣體偵測主體之外觀立體示意圖。
第5B圖為本案氣體偵測主體另一角度之外觀立體示意圖。
第5C圖為本案氣體偵測主體之分解立體示意圖。
第6A圖為本案氣體偵測主體之基座立體示意圖。
第6B圖為本案氣體偵測主體之基座另一角度立體示意圖。
第7圖為本案氣體偵測主體之基座容置雷射組件及微粒傳感器立體示意圖。
第8A圖為本案氣體偵測主體之壓電致動器結合基座分解立體示意圖。
第8B圖為本案氣體偵測主體之壓電致動器結合基座立體示意圖。
第9A圖為本案氣體偵測主體之壓電致動器分解立體示意圖。
第9B圖為本案氣體偵測主體之壓電致動器另一角度分解立體示意圖。
第10A圖為本案氣體偵測主體之壓電致動器結合於導氣組件承載區之剖面示意圖。
第10B圖及第10C圖為第10A圖之壓電致動器作動示意圖。
第11A圖至第11C圖為氣體偵測主體之氣體路徑示意圖。
第12圖所示為本案氣體偵測主體之雷射組件發射光束路徑示意圖。
第13圖所示為本案氣體偵測模組之控制電路單元與相關構件配置關係方塊示意圖。
體現本案特徵與優點的實施例將在後段的說明中詳細敘述。應理解的是本案能夠在不同的態樣上具有各種的變化，其皆不脫離本案的範圍，且其中的說明及圖示在本質上當作說明之用，而非用以限制本案。
請參閱第1A圖至第1B圖及第2A圖所示，本案提供一種氣體偵測清淨裝置，包含一本體1、一淨化單元2、一導風機3、一氣體偵測模組4及一控制驅動模組5。其中本體1具有至少一進氣口11、至少一出氣口12、一氣體流道13及一外接插口14，而氣體流道13設置於進氣口11與出氣口12之間；淨化單元2設置在氣體流道13中，以過濾氣體流道13所導入之一氣體；導風機3設置在氣體流道13中，且設置於淨化單元2一側，導引氣體由進氣口11導入通過淨化單元2進行過濾淨化，最後由出氣口12導出；氣體偵測模組4可由外接插口14插入與本體1連接成一體，或由外接插口14抽離與本體1分離拆開，有利於個別維修更換；控制驅動模組5設置於本體1內，供與導風機3電性連接控制實施啟動和關閉狀態之操作，並具有一連接座51，供氣體偵測模組4插置電性連接而驅動，促使氣體偵測模組4偵測本體1外氣體而獲得一氣體偵測數據，並輸出給控制驅動模組5控制導風機3實施啟動和關閉狀態之操作。
請參閱第1C圖、第1D圖及第13圖所示，氣體偵測模組4包含一殼體4a、一氣體偵測主體4b、一控制電路單元4c及一外接連接器4d。其中氣體偵測主體4b、控制電路單元4c及外接連接器4d透過殼體4a包覆加以保護，使外接連接器4d外露於殼體4a外，供以對控制驅動模組5之連接座 51對應連接，而讓氣體偵測模組4電性連接及傳輸資料，又殼體4a具有至少一進氣口41a、至少一出氣口42a；氣體偵測主體4b設置於殼體4a內與控制電路單元4c封裝成一體，並與殼體4a之進氣口41a及出氣口42a連通，供以偵測由殼體4a外導入之氣體而獲得氣體偵測數據；控制電路單元4c上設有一微處理器41c、一通信器42c及一電源模組43c封裝成一體電性連接，其中電源模組43c能透過一供電裝置7以無線傳輸接收儲存一電能提供給微處理器41c運作，而微處理器41c能接收氣體偵測主體4b之氣體偵測信號，並將其運算處理轉換成一氣體偵測數據，而通信器42c用以接收微處理器41c所輸出氣體偵測數據，並能將偵測數據對外透過通信傳輸至一外部裝置6予以儲存，促使外部裝置6產生一氣體偵測之資訊及一通報警示；以及外接連接器4d封裝設置於控制電路單元4c上成一體電性連接；如此氣體偵測模組4可透過外接連接器4d與外接插口14插入與本體1連接成一體，促使氣體偵測主體4b偵測本體1外氣體產生氣體偵測信號給微處理器41c接收作運算處理轉換成一氣體偵測數據，並輸出給控制驅動模組5控制導風機3實施啟動和關閉狀態之操作。相對地，氣體偵測模組4可透過外接連接器4d與外接插口14抽離與本體1分離拆開，有利於氣體偵測模組4獨立拆卸個別維修更換。上述之外部裝置6可為一雲端系統、一可攜式行動裝置、一電腦系統等；上述之通信傳輸可以是透過有線之通信傳輸，例如：USB連接通信傳輸，或者是透過無線之通信傳輸，例如：Wi-Fi通信傳輸、藍芽通信傳輸、無線射頻辨識通信傳輸、一近場通訊傳輸等。
再請參閱第2A圖至第2E圖所示，上述之淨化單元2置位於氣體流道13中，可以是多種實施樣態。例如，如第2A圖所示，淨化單元2的第一實施例樣態為一種濾網單元，包含一濾網2a，使氣體透過導風機3控制導 入氣體流道13中，受濾網2a吸附氣體中所含化學煙霧、細菌、塵埃微粒及花粉，以達過濾導入之氣體進行過濾淨化之效果，其中濾網2a可為靜電濾網、活性碳濾網或高效濾網(HEPA)之其中之一。
如第2B圖所示，淨化單元2的第二實施例樣態可為一種光觸媒單元，包含一光觸媒2b及一紫外線燈2c，分別置設氣體流道13中保持一間距，使氣體透過導風機3控制導入氣體流道13中，且光觸媒2b透過紫外線燈2c照射得以將光能轉換化學能對氣體分解有害氣體及消毒殺菌，以達過濾導入之氣體進行過濾淨化之效果。當然淨化單元2為一種光觸媒單元時也可配合如第2A圖所示在氣體流道13中設置濾網2a，以加強淨化氣體之效果，其中濾網2a可為靜電濾網、活性碳濾網或高效濾網(HEPA)。
如第2C圖所示，淨化單元2的第三實施例樣態可為一種光等離子單元，包含一奈米光管2d，置設氣體流道13中，使氣體透過導風機3控制導入氣體流道13中，透過奈米光管2d照射，得以將氣體中的氧分子及水分子分解成具高氧化性光等離子，具有破壞有機分子的離子氣流，將氣體中含有揮發性甲醛、甲苯、揮發性有機氣體(VOC)等氣體分子分解成水和二氧化碳，以過濾導入之氣體進行過濾淨化之效果。當然淨化單元2為一種光等離子單元也可配合如第2A圖所示在氣體流道13中設置濾網2a，以加強淨化氣體之效果，其中濾網2a可為靜電濾網、活性碳濾網或高效濾網(HEPA)。
如第2D圖所示，淨化單元2的第四實施例樣態可為一種負離子單元，包含至少一電極線2e、至少一集塵板2f及一升壓電源器2g，每個電極線2e、每個集塵板2f置設氣體流道13中，而升壓電源器2g提供每個電極線2e高壓放電，每個集塵板2f帶有負電荷，使氣體透過導風機3控制導入 氣體流道13中，透過每個電極線2e高壓放電，得以將氣體中所含微粒帶正電荷附著在帶負電荷的每個集塵板2f上，以達過濾導入之氣體進行過濾淨化之效果。當然淨化單元2為一種負離子單元也可配合如第2A圖所示在氣體流道13中設置濾網2a，以加強淨化氣體之效果，其中濾網2a可為靜電濾網、活性碳濾網或高效濾網(HEPA)。
如第2E圖所示，淨化單元2的第五實施例樣態可為一種電漿離子單元，包含一電場上護網2h、一吸附濾網2i、一高壓放電極2j、一電場下護網2k及一升壓電源器2g，其中電場上護網2h、吸附濾網2i、高壓放電極2j及電場下護網2k置設氣體流道13中，且吸附濾網2i、高壓放電極2j夾置設於電場上護網2h、電場下護網2k之間，而升壓電源器2g提供高壓放電極2j高壓放電，以產生高壓電漿柱帶有電漿離子，使氣體透過導風機3控制導入氣體流道13中，透過電漿離子使得氣體中所含氧分子與水分子電離生成陽離子(H+)和陰離子(O2-)，且離子周圍附著有水分子的物質附著在病毒和細菌的表面之後，在化學反應的作用下，會轉化成強氧化性的活性氧(羥基，OH基)，從而奪走病毒和細菌表面蛋白質的氫，將其分解(氧化分解)，以達過濾導入之氣體進行過濾淨化之效果。當然淨化單元2為一種負離子單元也可配合如第2A圖所示在氣體流道13中設置濾網2a，以加強淨化氣體之效果，其中濾網2a可為靜電濾網、活性碳濾網或高效濾網(HEPA)。
上述之導風機3可為一風扇，例如，渦漩風扇、離心風扇等，或者為如第3A圖、第3B圖、第4A圖及第4B圖所示，導風機3可為一致動泵30。上述之致動泵30由一進流板301、一共振片302、一壓電致動器303、一第一絕緣片304、一導電片305及一第二絕緣片306依序堆疊組成。其中進流板301具有至少一進流孔301a、至少一匯流排槽301b及一匯流腔室 301c，進流孔301a供導入氣體，進流孔301a對應貫通匯流排槽301b，且匯流排槽301b匯流到匯流腔室301c，使進流孔301a所導入氣體得以匯流至匯流腔室301c中。於本實施例中，進流孔301a與匯流排槽301b之數量相同，進流孔301a與匯流排槽301b之數量分別為4個，並不以此為限，4個進流孔301a分別貫通4個匯流排槽301b，且4個匯流排槽301b匯流到匯流腔室301c。
請參閱第3A圖、第3B圖及第4A圖所示，上述之共振片302透過貼合方式組接於進流板301上，且共振片302上具有一中空孔302a、一可動部302b及一固定部302c，中空孔302a位於共振片302的中心處，並與進流板301的匯流腔室301c對應，而可動部302b設置於中空孔302a的周圍且與匯流腔室301c相對的區域，而固定部302c設置於共振片302的外周緣部分而貼固於進流板301上。
請繼續參閱第3A圖、第3B圖及第4A圖所示，上述之壓電致動器303包含有一懸浮板303a、一外框303b、至少一支架303c、一壓電元件303d、至少一間隙303e及一凸部303f。其中，懸浮板303a為一正方形型態，懸浮板303a之所以採用正方形，乃相較於圓形懸浮板之設計，正方形懸浮板303a之結構明顯具有省電之優勢，因在共振頻率下操作之電容性負載，其消耗功率會隨頻率之上升而增加，又因邊長正方形懸浮板303a之共振頻率明顯較圓形懸浮板低，故其相對的消耗功率亦明顯較低，亦即本案所採用正方形設計之懸浮板303a，具有省電優勢之效益；外框303b環繞設置於懸浮板303a之外側；至少一支架303c連接於懸浮板303a與外框303b之間，以提供彈性支撐懸浮板303a的支撐力；以及一壓電元件303d具有一邊長，邊長小於或等於懸浮板303a之一邊長，且壓電元件303d貼附於懸浮板303a之一表面上，用以施加電壓以驅動懸 浮板303a彎曲振動；而懸浮板303a、外框303b與支架303c之間構成至少一間隙303e，用以供氣體通過；凸部303f為設置於懸浮板303a貼附壓電元件303d之表面的相對之另一表面，凸部303f於本實施例中，可為透過於懸浮板303a利用一蝕刻製程製出一體成形突出於貼附壓電元件303d之表面的相對之另一表面上形成之一凸狀結構。
請繼續參閱第3A圖、第3B圖及第4A圖所示，上述之進流板301、共振片302、壓電致動器303、第一絕緣片304、導電片305及第二絕緣片306依序堆疊組合，其中懸浮板303a與共振片302之間需形成一腔室空間307，腔室空間307可利用於共振片302及壓電致動器303之外框303b之間的間隙填充一材質形成，例如：導電膠，但不以此為限，以使共振片302與懸浮板303a之間可維持一定深度形成腔室空間307，進而可導引氣體更迅速地流動，且因懸浮板303a與共振片302保持適當距離使彼此接觸干涉減少，促使噪音產生可被降低，當然於另一實施例中，亦可藉由壓電致動器303之外框303b高度加高來減少共振片302及壓電致動器303之外框303b之間的間隙所填充導電膠之厚度，如此致動泵整體結構組裝不因導電膠之填充材質會因熱壓溫度及冷卻溫度而間接影響到，避免導電膠之填充材質因熱脹冷縮因素影響到成型後腔室空間307之實際間距，但不以此為限。另外，腔室空間307將會影響致動泵30的傳輸效果，故維持一固定的腔室空間307對於致動泵30提供穩定的傳輸效率是十分重要。
因此於第4B圖所示，另一些壓電致動器303實施例中，懸浮板303a可以採以沖壓成形使其向外延伸一距離，其向外延伸距離可由至少一支架303c成形於懸浮板303a與外框303b之間所調整，使在懸浮板303a上的凸部303f的表面與外框303b的表面兩者形成非共平面，利用於外框303b 的組配表面上塗佈少量填充材質，例如：導電膠，以熱壓方式使壓電致動器303貼合於共振片302的固定部302c，進而使得壓電致動器303得以與共振片302組配結合，如此直接透過將上述壓電致動器303之懸浮板303a採以沖壓成形構成一腔室空間307的結構改良，所需的腔室空間307得以透過調整壓電致動器303之懸浮板303a沖壓成形距離來完成，有效地簡化了調整腔室空間307的結構設計，同時也達成簡化製程，縮短製程時間等優點。此外，第一絕緣片304、導電片305及第二絕緣片306皆為框型的薄型片體，依序堆疊於壓電致動器303上即組構成致動泵30整體結構。
為了瞭解上述致動泵30提供氣體傳輸之輸出作動方式，請繼續參閱第4C圖至第4E圖所示，請先參閱第4C圖，壓電致動器303的壓電元件303d被施加驅動電壓後產生形變帶動懸浮板303a向下位移，此時腔室空間307的容積提升，於腔室空間307內形成了負壓，便汲取匯流腔室301c內的氣體進入腔室空間307內，同時共振片302受到共振原理的影響被同步向下位移，連帶增加了匯流腔室301c的容積，且因匯流腔室301c內的氣體進入腔室空間307的關係，造成匯流腔室301c內同樣為負壓狀態，進而通過進流孔301a及匯流排槽301b來吸取氣體進入匯流腔室301c內；請再參閱第4D圖，壓電元件303d帶動懸浮板303a向上位移，壓縮腔室空間307，同樣的，共振片302被懸浮板303a因共振而向上位移，迫使同步推擠腔室空間307內的氣體往下通過間隙303e向下傳輸，以達到傳輸氣體的效果；最後請參閱第4E圖，當懸浮板303a回復原位時，共振片302仍因慣性而向下位移，此時的共振片302將使壓縮腔室空間307內的氣體向間隙303e移動，並且提升匯流腔室301c內的容積，讓氣體能夠持續地通過進流孔301a及匯流排槽301b來匯聚於匯流腔室 301c內，透過不斷地重複上述第4C圖至第4E圖所示之致動泵30提供氣體傳輸作動步驟，使致動泵30能夠使氣體連續自進流孔301a進入進流板301及共振片302所構成流道產生壓力梯度，再由間隙303e向下傳輸，使氣體高速流動，達到致動泵30傳輸氣體輸出的作動操作。
又如第5A圖至第5C圖、第6A圖至第6B圖、第7圖及第8A圖至第8B圖所示，上述氣體偵測主體4b包含一基座41、一壓電致動器42、一驅動電路板43、一雷射組件44、一微粒傳感器45及一外蓋46。其中，基座41具有一第一表面411、一第二表面412、一雷射設置區413、一進氣溝槽414、一導氣組件承載區415及一出氣溝槽416。第一表面411及第二表面412為相對設置之兩個表面。雷射設置區413自第一表面411朝向第二表面412挖空形成。進氣溝槽414自第二表面412凹陷形成，且鄰近雷射設置區413。進氣溝槽414設有一進氣通口414a，連通於基座41的外部，並與外蓋46的進氣框口461a對應，以及兩側壁貫穿一透光窗口414b，與雷射設置區413連通。因此，基座41的第一表面411被外蓋46貼附封蓋，第二表面412被驅動電路板43貼附封蓋，致使進氣溝槽414定義出一進氣路徑(如第7圖及第11A圖所示)。
又如第6A圖至第6B圖所示，上述之導氣組件承載區415由第二表面412凹陷形成，並連通進氣溝槽414，且於底面貫通一通氣孔415a。而上述之出氣溝槽416設有一出氣通口416a，出氣通口416a與外蓋46的出氣框口461b對應設置。出氣溝槽416包含由第一表面411對應於導氣組件承載區415的垂直投影區域凹陷形成的一第一區間416b，以及於非導氣組件承載區415的垂直投影區域所延伸的區域，且由第一表面411至第二表面412挖空形成的第二區間416c，其中第一區間416b與第二區間416c相連以形成段差，且出氣溝槽416的第一區間416b與導氣組件承載區 415的通氣孔415a相通，出氣溝槽416的第二區間416c與出氣通口416a連通。因此，當基座41的第一表面411被外蓋46貼附封蓋，第二表面412被驅動電路板43貼附封蓋時，致使出氣溝槽416定義出一出氣路徑(如第11B圖至第11C圖所示)。
又如第5C圖及第7圖所示，上述之雷射組件44及微粒傳感器45皆設置於驅動電路板43上，且位於基座41內，為了明確說明雷射組件44及微粒傳感器45與基座41之位置，故特意於第4圖中省略驅動電路板43。再參閱第5C圖、第6B圖、第7圖及第12圖所示，雷射組件44容設於基座41的雷射設置區413內，微粒傳感器45容設於基座41的進氣溝槽414內，並與雷射組件44對齊。此外，雷射組件44對應到透光窗口414b，透光窗口414b供雷射組件44所發射的雷射光穿過，使雷射光照射至進氣溝槽414內。雷射組件44所發出射出之光束路徑為穿過透光窗口414b且與進氣溝槽414形成正交方向。雷射組件44發射光束通過透光窗口414b進入進氣溝槽414內，進氣溝槽414內的氣體中所含懸浮微粒被照射，當光束接觸到懸浮微粒時會散射並產生投射光點，微粒傳感器45接收散射所產生的投射光點進行計算以獲取氣體中所含懸浮微粒之粒徑及濃度的相關資訊。其中微粒傳感器45為PM2.5傳感器。
又如第8A圖及第8B圖所示，上述之壓電致動器42容設於基座41的導氣組件承載區415，導氣組件承載區415呈一正方形，其四個角分別設有一定位凸塊415b，壓電致動器42通過四個定位凸塊415b設置於導氣組件承載區415內。此外，如第6A圖、第6B圖、第11B圖及第11C圖所示，導氣組件承載區415與進氣溝槽414相通，當壓電致動器42作動時，汲取進氣溝槽414內的氣體進入壓電致動器42，並將氣體通過導氣組件承載區415的通氣孔415a，進入至出氣溝槽416。
又如第5A圖及第5B圖所示，上述之驅動電路板43封蓋貼合於基座41的第二表面412。雷射組件44設置於驅動電路板43上，並與驅動電路板43電性連接。微粒傳感器45亦設置於驅動電路板43上，並與驅動電路板43電性連接。外蓋46罩蓋基座41，且貼附封蓋於基座41的第一表面411上，並具有一側板461。側板461具有一進氣框口461a及一出氣框口461b。當外蓋46罩蓋基座41時，進氣框口461a對應到基座41之進氣通口414a(第8A圖所示)，出氣框口461b對應到基座41之出氣通口416a(第8C圖所示)。
以及參閱第9A圖及第9B圖所示，上述之壓電致動器42包含一噴氣孔片421、一腔體框架422、一致動體423、一絕緣框架424及一導電框架425。其中，噴氣孔片421為具有可撓性之材料製作，具有一懸浮片4210、一中空孔洞4211。懸浮片4210為可彎曲振動之片狀結構，其形狀與尺寸大致對應導氣組件承載區415的內緣，但不以此為限，懸浮片4210之形狀亦可為方形、圓形、橢圓形、三角形及多角形其中之一；中空孔洞4211係貫穿於懸浮片4210之中心處，以供氣體流通。
上述之腔體框架422疊設於噴氣孔片421，且其外型與噴氣孔片421對應。致動體423疊設於腔體框架422上，並與腔體框架422、懸浮片4210之間定義一共振腔室426。絕緣框架424疊設於致動體423，其外觀與腔體框架422近似。導電框架425疊設於絕緣框架424，其外觀與絕緣框架424近似，且導電框架425具有一導電接腳4251及一導電電極4252，導電接腳4251自導電框架425的外緣向外延伸，導電電極4252自導電框架425內緣向內延伸。此外，致動體423更包含一壓電載板4231、一調整共振板4232及一壓電板4233。壓電載板4231承載疊置於腔體框架422上。調整共振板4232承載疊置於壓電載板4231上。壓電板4233承載疊 置於調整共振板4232上。而調整共振板4232及壓電板4233容設於絕緣框架424內，並由導電框架425的導電電極4252電連接壓電板4233。其中，壓電載板4231、調整共振板4232皆為可導電的材料所製成，壓電載板4231具有一壓電接腳4234，壓電接腳4234與導電接腳4251連接驅動電路板43上的驅動電路(未圖示)，以接收驅動訊號(驅動頻率及驅動電壓)，驅動訊號得以由壓電接腳4234、壓電載板4231、調整共振板4232、壓電板4233、導電電極4252、導電框架425、導電接腳4251形成一迴路，並由絕緣框架424將導電框架425與致動體423之間阻隔，避免短路發生，使驅動訊號得以傳遞至壓電板4233。壓電板4233接受驅動訊號(驅動頻率及驅動電壓)後，因壓電效應產生形變，來進一步驅動壓電載板4231及調整共振板4232產生往復式地彎曲振動。
承上所述，調整共振板4232位於壓電板4233與壓電載板4231之間，作為兩者之間的緩衝物，可調整壓電載板4231的振動頻率。基本上，調整共振板4232的厚度大於壓電載板4231的厚度，且調整共振板4232的厚度可變動，藉此調整致動體423的振動頻率。
請同時參閱第9A圖、第9B圖及第10A圖所示，噴氣孔片421、腔體框架422、致動體423、絕緣框架424及導電框架425依序對應堆疊並設置定位於導氣組件承載區415內，促使壓電致動器42承置定位於導氣組件承載區415內，並以底部固設於定位凸塊415b上支撐定位，因此壓電致動器42在懸浮片4210及導氣組件承載區415的內緣之間定義出空隙4212環繞，以供氣體流通。
請先參閱第10A圖所示，上述之噴氣孔片421與導氣組件承載區415之底面間形成一氣流腔室427。氣流腔室427透過噴氣孔片421之中空孔洞4211，連通致動體423、腔體框架422及懸浮片4210之間的共振腔室 426，透過控制共振腔室426中氣體之振動頻率，使其與懸浮片4210之振動頻率趨近於相同，可使共振腔室426與懸浮片4210產生亥姆霍茲共振效應(Helmholtz resonance)，俾使氣體傳輸效率提高。
又，第10B圖及第10C圖為第10A圖之壓電致動器作動示意圖，請先參閱第10B圖所示，當壓電板4233向遠離導氣組件承載區415之底面移動時，壓電板4233帶動噴氣孔片421之懸浮片4210以遠離導氣組件承載區415之底面方向移動，使氣流腔室427之容積急遽擴張，其內部壓力下降形成負壓，吸引壓電致動器42外部的氣體由複數個空隙4212流入，並經由中空孔洞4211進入共振腔室426，使共振腔室426內的氣壓增加而產生一壓力梯度；再如第10C圖所示，當壓電板4233帶動噴氣孔片421之懸浮片4210朝向導氣組件承載區415之底面移動時，共振腔室426中的氣體經中空孔洞4211快速流出，擠壓氣流腔室427內的氣體，並使匯聚後之氣體以接近白努利定律之理想氣體狀態快速且大量地噴出導入導氣組件承載區415的通氣孔415a中。是以，透過重複第10B圖及第10C圖的動作後，使壓電板4233往復式地振動，依據慣性原理，排氣後的共振腔室426內部氣壓低於平衡氣壓會導引氣體再次進入共振腔室426中，如此控制共振腔室426中氣體之振動頻率與壓電板4233之振動頻率趨近於相同，以產生亥姆霍茲共振效應，俾實現氣體高速且大量的傳輸。
又如第11A圖至第11C圖所示為氣體偵測主體4b的氣體路徑示意圖，首先參閱第11A圖所示，氣體皆由外蓋46的進氣框口461a進入，通過進氣通口414a進入至基座41的進氣溝槽414，並流至微粒傳感器45的位置。再如第8B圖所示，壓電致動器42持續驅動會吸取進氣路徑之氣體，以利外部氣體快速導入且穩定流通，並通過微粒傳感器45上方，此時雷 射組件44發射光束通過透光窗口414b進入進氣溝槽414內，進氣溝槽414通過微粒傳感器45上方的氣體被照射其中所含懸浮微粒，當照射光束接觸到懸浮微粒時會散射並產生投射光點，微粒傳感器45接收散射所產生的投射光點進行計算以獲取氣體中所含懸浮微粒之粒徑及濃度的相關資訊，而微粒傳感器45上方的氣體也持續受壓電致動器42驅動傳輸而導入導氣組件承載區415的通氣孔415a中，進入出氣溝槽416的第一區間416b。最後如第8C圖所示，氣體進入出氣溝槽416的第一區間416b後，由於壓電致動器42會不斷輸送氣體進入第一區間416b，於第一區間416b的氣體將會被推引至第二區間416c，最後通過出氣通口416a及出氣框口461b向外排出。
再參閱第12圖所示，基座41更包含一光陷阱區417，光陷阱區417自第一表面411至第二表面412挖空形成，並對應至雷射設置區413，且光陷阱區417經過透光窗口414b而使雷射組件44所發射之光束能投射到其中，光陷阱區417設有一斜椎面之光陷阱結構417a，光陷阱結構417a對應到雷射組件44所發射之光束的路徑；此外，光陷阱結構417a使雷射組件44所發射之投射光束在斜椎面結構反射至光陷阱區417內，避免光束反射至微粒傳感器45的位置，且光陷阱結構417a所接收之投射光束之位置與透光窗口414b之間保持有一光陷阱距離D，此光陷阱距離D需大於3mm以上，當光陷阱距離D小於3mm時會導致投射在光陷阱結構417a上投射光束反射後因過多雜散光直接反射回微粒傳感器45的位置，造成偵測精度的失真。
請繼續參閱第5C圖及第12圖所示，本案之氣體偵測模組4不僅可針對氣體中微粒進行偵測，更可進一步針對導入氣體之特性做偵測，例如氣體為甲醛、氨氣、一氧化碳、二氧化碳、氧氣、臭氧等。因此本案之 氣體偵測模組4更包含第一揮發性有機物傳感器47a，定位設置於驅動電路板43上並與其電性連接，容設於出氣溝槽416中，對出氣路徑所導出之氣體做偵測，用以偵測出氣路徑的氣體中所含有之揮發性有機物的濃度或特性。或者，本案之氣體偵測模組4更包含一第二揮發性有機物傳感器47b，定位設置於驅動電路板43上並與其電性連接，而第二揮發性有機物傳感器47b容設於光陷阱區417，對於通過進氣溝槽414的進氣路徑且經過透光窗口414b而導入光陷阱區417內的氣體中所含有揮發性有機物的濃度或特性。
綜上所述，本案所提供之氣體偵測清淨裝置，藉由一外接可插組或拆卸之氣體偵測模組嵌設於氣體清淨裝置裝置內，隨時偵測氣體清淨裝置周圍環境空氣品質，即時將空氣品質資訊傳遞至外部裝置上，獲得氣體偵測之資訊及一通報警示，避免其因暴露於環境中的有害氣體中而造成健康的影響及傷害，更可進一步利用淨化單元提供淨化空氣品質的效益，極具產業利用性。
本案得由熟知此技術之人士任施匠思而為諸般修飾，然皆不脫如附申請專利範圍所欲保護者。
1:本體
11:進氣口
12:出氣口
14:外接插口
4:氣體偵測模組

Claims (28)

  1. 一種氣體偵測清淨裝置，包含：一本體，具有至少一進氣口、至少一出氣口及一外接插口，且該進氣口與該出氣口之間設有一氣體流道；一淨化單元，設置在該氣體流道中，以過濾該氣體流道所導入之一氣體；一導風機，設置在該氣體流道中，且設置於該淨化單元一側，導引該氣體由該進氣口導入通過該淨化單元進行過濾淨化，最後由該出氣口導出；一氣體偵測模組，由該外接插口插入與該本體連接成一體，以及由該外接插口抽離與該本體分離拆開；一控制驅動模組，設置於該本體內，供與該導風機電性連接控制實施啟動和關閉狀態之操作，並具有一連接座，供該氣體偵測模組插置電性連接而驅動，促使該氣體偵測模組偵測該本體外氣體而獲得一氣體偵測數據，並輸出給該控制驅動模組控制該導風機實施啟動和關閉狀態之操作。
  2. 如請求項1所述之氣體偵測清淨裝置，其中該淨化單元為一濾網單元，包含一濾網，透過該濾網得以過濾導入該氣體進行過濾淨化。
  3. 如請求項2所述之氣體偵測清淨裝置，其中該濾網為一靜電濾網、一活性碳濾網及一高效濾網之其中之一。
  4. 如請求項1所述之氣體偵測清淨裝置，其中該淨化單元為一光觸媒單元，包含一光觸媒及一紫外線燈，該光觸媒透過該紫外線燈照射以淨化該氣體。
  5. 如請求項1所述之氣體偵測清淨裝置，其中該淨化單元為一光等離子單元，包含一奈米光管，透過該奈米光管照射氣體中含有揮發性甲醛、 甲苯及揮發性有機氣體以淨化該氣體。
  6. 如請求項1所述之氣體偵測清淨裝置，其中該淨化單元為一負離子單元，包含至少一電極線、至少一集塵板及一升壓電源器，透過該電極線高壓放電，將導入氣體中所含微粒帶正電荷附著在帶負電荷的該集塵板上，以淨化該氣體。
  7. 如請求項1所述之氣體偵測清淨裝置，其中該淨化單元為一電漿離子單元，包含一電場上護網、一吸附濾網、一高壓放電極、一電場下護網及一升壓電源器，該升壓電源器提供該高壓放電極高壓放電以產生高壓電漿柱帶有電漿離子，透過電漿離子淨化該氣體。
  8. 如請求項1所述之氣體偵測清淨裝置，其中該導風機為一風扇。
  9. 如請求項1所述之氣體偵測清淨裝置，其中該導風機為一致動泵。
  10. 如請求項9所述之氣體偵測清淨裝置，其中該致動泵包含：一進流板，具有至少一進流孔、至少一匯流排槽及一匯流腔室，其中該進流孔供導入氣體，該進流孔對應貫通該匯流排槽，且該匯流排槽匯流到該匯流腔室，使該進流孔所導入氣體得以匯流至該匯流腔室中；一共振片，接合於該進流板上，具有一中空孔、一可動部及一固定部，該中空孔位於該共振片中心處，並與該進流板的該匯流腔室對應，而該可動部設置於該中空孔周圍且與該匯流腔室相對的區域，而該固定部設置於該共振片的外周緣部分而貼固於該進流板上；以及一壓電致動器，接合於該共振片上相對應設置；其中，該共振片與該壓電致動器之間具有一腔室空間，以使該壓電致動器受驅動時，使氣體由該進流板之該進流孔導入，經該匯流排槽匯集至該匯流腔室中，再流經該共振片之該中空孔，由該壓電致動器與該共振片之該可動部產生共振傳輸氣體。
  11. 如請求項10所述之氣體偵測清淨裝置，其中該壓電致動器包含： 一懸浮板，具有一正方形型態，可彎曲振動；一外框，環繞設置於該懸浮板之外側；至少一支架，連接於該懸浮板與該外框之間，以提供該懸浮板彈性支撐；以及一壓電元件，具有一邊長，該邊長小於或等於該懸浮板之一邊長，且該壓電元件貼附於該懸浮板之一表面上，用以施加電壓以驅動該懸浮板彎曲振動。
  12. 如請求項10所述之氣體偵測清淨裝置，其中該致動泵進一步包含一第一絕緣片、一導電片及一第二絕緣片，其中該進流板、該共振片、該壓電致動器、該第一絕緣片、該導電片及該第二絕緣片依序堆疊結合設置。
  13. 如請求項10所述之氣體偵測清淨裝置，其中該壓電致動器包含：一懸浮板，具有一正方形型態，可彎曲振動；一外框，環繞設置於該懸浮板之外側；至少一支架，連接成形於該懸浮板與該外框之間，以提供該懸浮板彈性支撐，並使該懸浮板之一表面與該外框之一表面形成為非共平面結構，且使該懸浮板之一表面與該共振板保持一腔室空間；以及一壓電元件，具有一邊長，該邊長小於或等於該懸浮板之一邊長，且該壓電元件貼附於該懸浮板之一表面上，用以施加電壓以驅動該懸浮板彎曲振動。
  14. 如請求項1所述之氣體偵測清淨裝置，其中該氣體偵測模組，包含：一殼體，具有至少一進氣口、至少一出氣口；一氣體偵測主體，設置於該殼體內，並與該殼體之該進氣口及該出氣口連通，供以偵測由該殼體外導入之氣體而獲得該氣體偵測數據；一控制電路單元，該控制電路單元與該氣體偵測主體封裝成一體， 該控制電路單元設有一微處理器、一通信器及一電源模組封裝成一體電性連接；以及一外接連接器，封裝設置於該控制電路單元上成一體電性連接；其中，該氣體偵測主體、該控制電路單元及該外接連接器透過該殼體包覆加以保護，使該外接連接器外露於該殼體外，供以對該控制驅動模組之該連接座對應連接，而讓該氣體偵測模組電性連接，以及該氣體偵測主體啟動偵測該本體外氣體產生氣體偵測信號給該微處理器接收作運算處理轉換成該氣體偵測數據，並輸出給該控制驅動模組控制該導風機實施啟動和關閉狀態之操作。
  15. 如請求項14所述之氣體偵測清淨裝置，其中該氣體偵測主體包含：一基座，具有：一第一表面；一第二表面，相對於該第一表面；一雷射設置區，自該第一表面朝向該第二表面挖空形成；一進氣溝槽，自該第二表面凹陷形成，且鄰近於該雷射設置區，該進氣溝槽設有一進氣口，連通該基座外部，以及兩側壁貫穿一透光窗口，與該雷射設置區連通；一導氣組件承載區，自該第二表面凹陷形成，並連通該進氣溝槽，且於底面貫通一通氣孔，以及該導氣組件承載區之四個角分別具有一定位凸塊；以及一出氣溝槽，自該第一表面對應到該導氣組件承載區底面處凹陷，並於該第一表面未對應到該導氣組件承載區之區域自該第一表面朝向該第二表面挖空而形成，與該通氣孔連通，並設有一出氣口，連通該基座外部；一壓電致動器，容設於該導氣組件承載區； 一驅動電路板，封蓋貼合該基座之該第二表面上；一雷射組件，定位設置於該驅動電路板上與其電性連接，並對應容設於該雷射設置區中，且所發射出之一光束路徑穿過該透光窗口並與該進氣溝槽形成正交方向；一微粒傳感器，定位設置於該驅動電路板上與其電性連接，並對應容設於該進氣溝槽與該雷射組件所投射之該光束路徑之正交方向位置處，以對通過該進氣溝槽且受該雷射組件所投射光束照射之微粒做偵測；以及一外蓋，罩蓋於該基座之該第一表面上，且具有一側板，該側板對應到該基座之該進氣口及該出氣口之位置分別設有一進氣框口及一出氣框口；其中，該基座之該第一表面上罩蓋該外蓋，該第二表面上封蓋該驅動電路板，以使該進氣溝槽定義出一進氣路徑，該出氣溝槽定義出一出氣路徑，藉以使該壓電致動器加速導引外部之氣體由該進氣框口進入該進氣溝槽所定義之該進氣路徑，並通過該微粒傳感器上，以偵測出氣體中之微粒濃度，且氣體透過該壓電致動器導送，更由該通氣孔排入該出氣溝槽所定義之該出氣路徑，最後由該出氣框口排出。
  16. 如請求項15所述之氣體偵測清淨裝置，其中該基座更包含一光陷阱區，自該第一表面朝該第二表面挖空形成且對應於該雷射設置區，該光陷阱區設有具斜錐面之一光陷阱結構，設置對應到該光束路徑。
  17. 如請求項16所述之氣體偵測清淨裝置，其中該光陷阱結構所接收之投射光源之位置與該透光窗口保持有一光陷阱距離。
  18. 如請求項17所述之氣體偵測清淨裝置，其中該光陷阱距離大於3mm。
  19. 如請求項15所述之氣體偵測清淨裝置，其中該微粒傳感器為PM2.5傳感器。
  20. 如請求項15所述之氣體偵測清淨裝置，其中該壓電致動器包含有：一噴氣孔片，包含一懸浮片及一中空孔洞，該懸浮片可彎曲振動，而該中空孔洞形成於該懸浮片的中心位置；一腔體框架，承載疊置於該懸浮片上；一致動體，承載疊置於該腔體框架上，以接受電壓而產生往復式地彎曲振動；一絕緣框架，承載疊置於該致動體上；以及一導電框架，承載疊設置於該絕緣框架上；其中，該噴氣孔片固設於該導氣組件承載區內之該定位凸塊支撐定位，促使該噴氣孔片與該導氣組件承載區之內緣間定義出空隙環繞，供氣體流通，且該噴氣孔片與該導氣組件承載區底部間形成一氣流腔室，而該致動體、該腔體框架及該懸浮片之間形成一共振腔室，透過驅動該致動體以帶動該噴氣孔片產生共振，使該噴氣孔片之該懸浮片產生往復式地振動位移，以吸引該氣體通過該空隙進入該氣流腔室再排出，實現該氣體之傳輸流動。
  21. 如請求項20所述之氣體偵測清淨裝置，其中該致動體包含有：一壓電載板，承載疊置於該腔體框架上；一調整共振板，承載疊置於該壓電載板上；以及一壓電板，承載疊置於該調整共振板上，以接受電壓而驅動該壓電載板及該調整共振板產生往復式地彎曲振動。
  22. 如請求項15所述之氣體偵測清淨裝置，進一步包含有一第一揮發性有機物傳感器，定位設置於該驅動電路板上電性連接，容設於該出氣溝槽中，對該出氣路徑所導出氣體做偵測。
  23. 如請求項16所述之氣體偵測清淨裝置，進一步包含有一第二揮發性有機物傳感器，定位設置於該驅動電路板上電性連接，容設於該光陷阱 區，對通過該進氣溝槽之該進氣路徑且經過該透光窗口而導入於該光陷阱區之氣體做偵測。
  24. 如請求項15所述之氣體偵測清淨裝置，其中該微處理器能接收該氣體偵測主體之氣體偵測信號作運算處理轉換成該氣體偵測數據，而該通信器用以接收該微處理器所輸出該氣體偵測數據，並能將該偵測數據對外透過通信傳輸至一外部裝置予以儲存，促使該外部裝置產生一氣體偵測之資訊及一通報警示。
  25. 如請求項24所述之氣體偵測清淨裝置，其中該通信傳輸為透過有線通信傳輸，該有線通信傳輸為USB連接通信傳輸。
  26. 如請求項24所述之氣體偵測清淨裝置，其中該通信傳輸為透過無線通信傳輸，該無線通信傳輸為Wi-Fi通信傳輸、藍芽通信傳輸、無線射頻辨識通信傳輸及一近場通訊傳輸之其中之一。
  27. 如請求項24所述之氣體偵測清淨裝置，其中該外部裝置為一雲端系統、一可攜式行動裝置及一電腦系統之其中之一。
  28. 如請求項15所述之氣體偵測清淨裝置，其中該電源模組能透過一供電裝置以無線傳輸接收儲存一電能提供給該微處理器運作。
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