TWI760366B - 基質處理系統、儲存媒體以及資料處理方法 - Google Patents
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Abstract
一種基質處理系統,包括:創建日誌檔(log file)之模組控制器,在上述日誌檔,對應至操作資料取樣時序之資料計數被添加至以既定之取樣周期取樣之模組之操作資料;主要控制裝置,連接至模組控制器,從模組控制器接收日誌檔及指示收集包含在日誌檔之操作資料開始之開始時間,將資料計數轉換成從開始時間資訊算起之時間戳記,並創建包含時間戳記和操作資料之資料檔案;以及主機電腦,接收從主要控制裝置提供之資料檔案。
Description
本發明有關於一種用於處理基質之基質處理系統、儲存媒體以及資料處理方法。
專利文件1:US2009/055013 A公佈著一種具有主要控制裝置(獨特平台控制器(UPC))和模組控制器之基質處理系統。主要控制裝置和模組控制器,控制複數之模組。
有模組之操作資料被傳送至主機電腦,使用者可使用主機電腦分析操作資料之情況。考慮到使用者分析波形資料,例如,以每10毫秒取樣之操作資料會比每100毫秒取樣之操作資料較佳。也就是說,以較短之周期對操作資料作取樣是較好的。但是根據組成上述基質處理系統之裝置,會有資料無法在短周期內被傳送之問題,例如,10毫秒。
本發明係用來解決上述問題之發明,其目的在於提供一種能夠供應以短周期取樣之操作資料至主機電腦之基質處理系統、儲存媒體以及資料處理方法。
本發明之特徵與優點,可總結為如下。
根據本發明之一觀點,一種基質處理系統,包括:創建日誌檔(log file)之模組控制器,在上述日誌檔,對應至操作資料取樣時序之資料計數被添加至以既定之取樣周期取樣之模組之操作資料;主要控制裝置,連接至模組控制器,從模組控制器接收日誌檔及指示收集包含在日誌檔之操作資料開始之開始時間,將資料計數轉換成從開始時間資訊算起之時間戳記,並創建包含時間戳記和操作資料之資料檔案;以及主機電腦,接收從主要控制裝置提供之資料檔案。
根據本發明之另一觀點,一種電腦可讀取之記錄媒體,記錄了程式,上述程式使電腦執行下列步驟:創建日誌檔之步驟,在上述日誌檔中,對應至操作資料取樣之時序之資料計數被添加至以既定之取樣周期取樣之模組之操作資料;創建資料檔案之步驟,將資料計數轉換成從開始時間資訊算起之時間戳記,上述開始時間資訊表示在此時間,開始收集包含在述日誌檔之操作資料,並創建包含時間戳記及操作資料之資料檔案;以及傳送資料檔案至主機電腦之步驟。
根據本發明之另一觀點,一種資料處理方法包括:以既定之取樣周期獲取模組之操作資料之步驟;創建日誌檔之步驟,在上述日誌檔中,對應至操作資料取樣之時序之資料計數被添加至操作資料;將資料計數轉換成從開始時間資訊算起之時間戳記之步驟,上述開始時間資訊表示在此時間,開始收集包含在日誌檔之操作資料,並創建包含時間戳記及操作資料之資料檔案;以及將資料檔案傳送至主機電腦之步驟。
本發明之其他和進一步之目的、特徵、優點將會 在下面的說明中更加地呈現出來。
10:主控制裝置
10a、12a:記錄媒體
10b、12b:CPU
12:模組控制器
14:主機電腦
20、22、24、26、28、30:模組
32:連接線
40:PLC記錄器
50:記錄單元
[第1圖]係根據第一實施例之基質處理系統之方塊圖。
[第2圖]係日誌檔之內容之範例圖。
[第3圖]係將資料計數轉換成時間戳記之方法之範例圖。
[第4圖]係資料檔案之範例圖。
[第5圖]係根據第二實施例之基質處理系統之方塊圖。
[第6圖]係表示配方(recipe)資料之範例表格。
參照圖面,來說明根據本發明之實施例之基質處理系統、儲存媒體以及資料處理方法。相同或相當之部件,附加了相同之參考符號,而省略其重複之說明。
[第一實施例]
第一圖,係根據第一實施例之基質處理系統之方塊圖。基質處理系統具有主控制裝置10。主控制裝置10,例如,由UPC所構成。模組控制器12和主機電腦14被連接至主控制裝置10。模組控制器12,可以是控制轉送系統模組之轉送模組控制器,但在此,模組控制器12被認為是處理模組控制器(PMC)。
根據本發明之第一實施例之基質處理系統,包括複數之模組。模組20,係一測量反應室之壓力之壓力計。模組22,係偵測電漿之能量之電漿光電感知器(plasma photosensor)。模組24係觀察RF電壓之行進波(前進功率 (forward power))之測量儀器。模組26為一觀察一反射波之測量儀器。模組28和模組30,係測量RF相關資料之測量儀器。
模組20、24、26、28及30被連接至模組控制器12。模組控制器12和模組24、26、28及30,經由ADS板被連接,但是模組控制器12和模組20,例如,經由OMRON公司製造之裝置網被連接。需要精確地和配方同步之模組,通常被連接至ADS板,而不需要精確地和配方同步之模組,則被連接至裝置網。
PLC(Programmable logic array)40,經由連接線32,被連接至模組20、24、26、28及30。PLC40作為記錄儀之功能,對上述模組測量之操作資料作取樣及儲存。由模組20至30所取樣之操作資料,係反應室之RF資料。因此,例如,電漿光之發射強度、前進功率或和此類似的,可成為操作資料。PLC40能夠以任何之特定之取樣周期對模組20至30之操作資料作取樣,例如,100毫秒、10毫秒或1毫秒。然而,PLC40無法即時地將以短之取樣周期,例如10毫秒來取樣之操作資料,傳送至模組控制器12。
模組控制器12被連接至PLC40。模組控制器12控制上模組20、24、26、28及30,並同時對來自模組20、24、26、28及30之操作資料作取樣。更特殊地,模組控制器12,經由ADS板或裝置網,對來自上述模組20、24、26、28及30之操作資料,以例如100毫秒作取樣。UPC10即時地監督被取樣之操作資料之波形。以100毫秒之次方之資料取樣周期,是足夠來即時監督。因為模組控制器12與ADS板間之資料交換 周期至少為50毫秒,所以不可能在較短之週期內提供資料至模組控制器12。
根據本發明之第一實施例之基質處理系統,除了如此之即時監督之外,將以短周期取樣之操作資料提供至主機電腦14,以讓使用者使用主機電腦14詳細分析操作資料。在本發明之第一實施例,以短周期取樣之操作資料,例如,10毫秒,被假定是一資料檔案,並且上述資料檔案被提供至主機電腦14。以下,說明產生資料檔案之過程。(資料檔案產生過程)
首先,PLC40,以既定之取樣周期對模組20至30之操作資料作取樣。在第一實施例,PLC40以10毫秒之取樣周期對模組20至30之操作資料作取樣。每次PLC40對一定數量之部分操作資料作取樣,PLC40就將操作資料提供至模組控制器12。例如,PLC40每100毫秒集體地將上述操作資料提供至模組控制器12。
接著,模組控制器12將根據操作資料取樣時序之資料計數,添加至模組20至30之操作資料,從而產生日誌檔。第2圖,係日誌檔之內容範例圖。“DI資料”指的是當對操作資料作取樣時,上述RF是開或關之資料。“RF資料”係RF相關資料。“額外AI資料”是由,例如,模組20測得之反應室之壓力。操作資料包括DI資料、RF資料以及額外AI資料。資料計數“0”被添加至第一操作資料,資料計數“1”被添加至第二取樣之操作資料。資料計數“2”被添加至第三取樣之操作資料。如此,資料計數按照操作資料取樣時序被添加。用這種方 式,產生操作資料和資料計數項相互關聯之日誌檔。
第2圖,亦說明“RF開啟時間”。“RF開啟時間”係開始時間資訊,表示開始收集包含在日誌檔之操作資料之時間,收集操作資料之開始之時間點,可被定在藉由遵循配方之操作,RF第一次被開啟之時間點。在第2圖之情況下,可看到分配到資料計數“0”之操作資料,由PLC40在15:45:36.78取樣。在一種實施例,在獲取操作資料之初期,PLC40能夠傳輸訊號至模組控制器12。然後,模組控制器12產生對應至模組控制器12接收訊號時之時間點之開始時間資訊。
接著,模組控制器12將日誌檔和開始時間資訊,傳送至主控制裝置10。或者,模組控制器12在主控制裝置10創建日誌檔和開始時間資訊。然後,主控制裝置10將上述資料計數,轉換為從開始時間資訊算起之時間戳記,並創建具有時間戳記和操作資料之資料檔案。
第3圖,係將資料計數轉換成時間戳記之方法之範例圖。資料計數為“0”之一個時間點,是要吻合開始時間資訊15:45:36.78所造成的。之後,每次增加10毫秒,資料計數增加1,以獲得第3圖中右方所示之時間戳記。
主控制裝置10用時間戳記來替換資料計數,而產生資料檔案。第4圖,係資料檔案之範例圖。資料檔案包括時間戳記和操作資料。時間戳記被添加至所有之操作資料。如第4圖所示,每一時間戳記最好包括日期與時間。藉由將日期資料添加至第2圖上之開始時間資訊與單純地將日期資料合併至每一資料檔案,如此之日期資訊可被添加至之每一資料檔案。
接著,主控制裝置10,將資料檔案送至主機電腦14。主控制裝置10將上述資料檔案送至主機電腦14之時間點,最好和根據配方之操作結束之時間點一致。亦即,在一個處理結束之時間點上,將資料檔案送至主機電腦14。
基於被記錄在電腦可讀取之記錄媒體之程式,如此之系列之處理被執行。這樣之程式被記錄在,例如,模組控制器12之記錄媒體12a及主控制裝置10之記錄媒體10a。記錄在記錄媒體12a及記錄媒體10a之程式,使由CPU組成之電腦12b和由CPU組成之電腦10b,執行以下步驟。
(1)日誌檔創建步驟,使模組控制器12創建資料計數被添加至模組之操作資料之日誌檔
(2)資料檔案創建步驟,使主控制裝置10將資料計數,轉換為從開始時間資訊算起之時間戳記,並創建包含時間戳記和操作資料之資料檔案。
(3)傳送步驟,使主控制裝置10將資料檔案傳送至主機電腦14。
被記錄在記錄媒體12a之程式,使電腦12b執行日誌檔創建步驟。被記錄在記錄媒體10a之程式,使電腦10b執行上述資料檔案創建步驟及傳送步驟。
基於上述程式之如此處理,例如在以配方為基準之處理啟動之時間被啟動。注意到記錄媒體12a及電腦12b,可設置在模組控制器12之外,而記錄媒體10a及電腦10b可設置在主控制裝置10之外。
在根據本發明之第一實施例之基質處理系統中,模組控制器12將日誌檔送至主控制裝置10,上述主控制裝置10將時間戳記添加至操作資料,來創建資料檔案。主機電腦14無法按原樣分析資料計數,但是添加時間戳記允許主機電腦14來分析操作資料。
如以上之說明,PLC40無法將以短的取樣周期例如,10毫秒,來取樣之操作資料即時傳送至模組控制器12。但是,在根據本發明之第一實施例之基質處理系統中,PLC40統一將操作資料傳送至模組控制器12。PLC40能夠提供10個之以短的取樣周間來取樣之操作資料至模組控制器12,例如在100毫秒期間以10毫秒取樣。這允許主機電腦14處置以短周期來取樣之操作資料,作為分析目標。
再者,如第3圖所示,可以使用計算式,統一地將資料計數轉換為時間戳記,因此能夠有效率地創建資料檔案。藉靠更改計算式之增量10毫秒,可以簡單地適用在操作資料之取樣周期之更改。例如,如果將計算式之增量設定為1毫秒,則可以將以較短周期取樣之操作資料提供給主機電腦14。增量設定為1毫秒之計算式如下:Time stamp=start time+1msec × data count
在本發明之第一實施例,假設反應室之RF資料為操作資料。然而,其他資料亦可假設為操作資料。亦即,使用者想要詳細分析的資料可被假設為操作資料。例如,PT-BT(Pressure transducer bottle)(壓力傳感器瓶)之資料可被 假設為操作資料。PT-BT之資料是一個介於填充了氣體之瓶子與反應室之間之輸送管之壓力資料。藉由假定從瓶子之第二側來監視反應室內之壓力之壓力傳感器之偵測值為操作資料,可以來監視反應室與瓶子之間輸送管之壓力,以免過壓。
雖然,模組之操作資料由上述PLC40取樣,但對操作資料作取樣之實體並不侷限於PLC40。亦即,操作資料能被不同於PLC40之電腦來取樣。PLC40對操作資料取樣之取樣周期被設定為10毫秒,但是任何已知之周期皆可設定作為取樣周期。例如,能將取樣周期設定為1毫秒。
根據以下之實施例,這些修改,示情況而定,適用於基質處理系統、儲存媒體以及資料處理方法。注意到根據以下實施例,上述基質處理系統、上述儲存媒體及上述資料處理方法,和第一實施例有很多共通點,因此以下之說明主要是針對和第一實施例不同之部分。
[第二實施例]
第5圖,係根據第二實施例之基質處理系統之方塊圖。此基質處理系統具備經由連接線32連接至模組20至30之記錄單元50(logging unit)。記錄單元50以既定之取樣周期對來自模組20至30之操作資料作取樣。除了有和在第一實施例之PLC40同樣之功能之外,記錄單元50亦能夠接收由模組控制器12提供之配方資料,並且根據配方資料更改取樣周期。
第6圖,係表示由模組控制器12提供給記錄單元50之配方資料之範例表格。步驟000至007在第6圖之上方列說明,而包含步驟013至016之步驟006則在第6圖之下方列 說明。日誌檔在步驟005、006及007被創建。步驟005和步驟007是穩定反應室中之氣體之步驟,不需要由主機電腦14詳細分析,所以操作資料不需要以短周期被取樣。
步驟013係RF運用之準備步驟。步驟014係稱作“原料來源(Source feed)”之供給原料氣體之步驟。步驟015係稱作“來源清除(source purge)”之清除步驟。步驟016係將RF應用到RF板之RF步驟。在步驟013至015,操作資料之取樣周期被設定為相對較小之值,如50毫秒。在步驟016,操作資料之取樣周期被設定為小之值,如10毫秒。
如此,記錄單元50,根據上述接收之配方資料,更改操作資料之取樣周期。更具體而言,在需要詳細之操作資料之步驟,縮短取樣周期,而在不需要詳細之操作資料或操作資料本身之取樣不被執行之步驟,增加取樣周期。上述之操作是可能的,例如,藉由使記錄在記錄媒體12a之程式,根據述配方更改取樣周期。
在第6圖所示之配方,記錄開始旗標被併入在步驟005,而記錄結束旗標被併入在步驟007。記錄開始旗標被併入之步驟被稱為“第一步驟”,記錄結束旗標被併入之步驟被稱為“第二步驟”。記錄單元50記錄從上述第一步驟至上述第二步驟之操作資料,而在其他步驟不做記錄。
通過這種方式,模組控制器12將配方資料傳送至記錄單元50後,記錄單元50根據上述配方資料之內容,更改操作資料之取樣周期。亦即,在操作資料之取樣周期之資訊被添加至配方之每一步驟,記錄單元50讀取每一步驟之操作資料之取樣周期,並在取樣周期對操作資料作取樣。因此可以在需要詳細分析之步驟,如在產生電漿時,以短周期來對操作資料作取樣,而在其他步驟增加對操作資料之取樣周期。
在上面說明之基礎上,明顯地本發明可以有很多修改及變型。因此可在專利申請範圍之內,實踐本發明,除非有具體說明。
10:主控制裝置
10a、12a:記錄媒體
10b、12b:CPU
12:模組控制器
14:主機電腦
20、22、24、26、28、30:模組
32:連接線
40:PLC記錄器
Claims (11)
- 一種基質處理系統,包括:創建日誌檔之模組控制器,在上述日誌檔中,對應至操作資料取樣時序之資料計數被添加至一模組之上述操作資料中,其中該模組以既定之取樣周期取樣;主要控制裝置,連接至上述模組控制器,並從上述模組控制器,接收日誌檔及指示開始收集包含在上述日誌檔中之上述操作資料之開始時間資訊,將上述資料計數轉換成從上述開始時間資訊算起之時間戳記,並創建包含上述時間戳記和上述操作資料之資料檔案;以及主機電腦,接收從上述主要控制裝置提供之上述資料檔案。
- 如申請專利範圍第1項所述之基質處理系統,其中上述取樣周期為10毫秒或小於10毫秒。
- 如申請專利範圍第1項所述之基質處理系統,其中上述操作資料係反應室之RF資料。
- 如申請專利範圍第1項所述之基質處理系統,其中上述操作資料,係在填充了氣體之瓶子與反應室間之輸送管之壓力。
- 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之基質處理系統,又包括:可程式化邏輯控制器,以上述取樣周期對上述操作資料作取樣;連接線,連接上述可程式化邏輯控制器和上述模組;以及ADS板,連接上述模組控制器和上述模組; 其中,上述可程式化邏輯控制器統一將上述操作資料傳送至上述模組控制器。
- 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之基質處理系統,又包括:記錄單元,以上述取樣周期對上述操作資料作取樣;以及連接線,連接上述記錄單元和上述模組;其中,上述模組控制器將配方資料傳送至上述記錄單元,並且上述記錄單元根據上述配方資料更改上述取樣周期。
- 如申請專利範圍第6項所述之基質處理系統,其中,上述配方資料包括記錄開始旗標被併入之第一步驟,與記錄結束旗標被併入之第二步驟;上述記錄單元,記錄從上述第一步驟至上述第二步驟之上述操作資料。
- 一種電腦可讀取之儲存媒體,記錄了程式,上述程式使電腦執行下列步驟:創建日誌檔之創建步驟,在上述日誌檔中,對應至操作資料取樣時序之資料計數被添加至一模組之上述操作資料中,其中該模組以既定之取樣周期取樣;創建資料檔案之步驟,將上述資料計數轉換成從開始時間資訊算起之時間戳記,上述開始時間資訊表示在此時間,開始收集包含在日誌檔之上述操作資料,並創建包含上述時間戳記及上述操作資料之資料檔案;以及傳送上述資料檔案至主機電腦之步驟。
- 如申請專利範圍第8項所述之儲存媒體,其中上述程式根 據配方更改上述取樣周期。
- 一種資料處理方法,包括:以既定之取樣周期獲取模組之操作資料之步驟;創建日誌檔之步驟,在上述日誌檔中,對應至上述操作資料取樣之時序之資料計數被添加至上述操作資料;資料檔案創建步驟,將上述資料計數轉換成從開始時間資訊算起之時間戳記,上述開始時間資訊表示在此時間,開始收集包含在日誌檔之上述操作資料,並創建包含上述時間戳記及上述操作資料之資料檔案;以及將上述資料檔案傳送至主機電腦之步驟。
- 如申請專利範圍第10項所述之資料處理方法,其中上述取樣周期,根據配方被更改。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101373375A (zh) * | 2007-08-21 | 2009-02-25 | Asm日本公司 | 用于控制半导体处理设备的方法 |
US20100117829A1 (en) * | 2008-11-12 | 2010-05-13 | Felix Mayer | Method for operating a flow sensor subjected to thermal and/or chemical treatments |
US20130110790A1 (en) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Hitachi, Ltd. | Information processing system and file restoration method using same |
TWI514131B (zh) * | 2014-10-20 | 2015-12-21 | Inventec Corp | 計算機系統的啟動方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100498797C (zh) * | 2002-12-23 | 2009-06-10 | 西门子能量及自动化公司 | 利用plc的存储设备的方法 |
JP4899511B2 (ja) | 2006-02-08 | 2012-03-21 | 富士通株式会社 | システム分析プログラム、システム分析装置、およびシステム分析方法 |
JP2008257314A (ja) | 2007-04-02 | 2008-10-23 | Ulvac Japan Ltd | プロセス管理システム |
CN101706748B (zh) * | 2009-11-26 | 2011-07-27 | 成都市华为赛门铁克科技有限公司 | 日志记录方法、系统和单板管理控制器 |
US8615683B2 (en) * | 2011-06-24 | 2013-12-24 | Rockwell Automation Technologies, Inc. | Capturing data during operation of an industrial controller for the debugging of control programs |
JP2015035158A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-02-19 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | データ処理システム |
CN103712966B (zh) * | 2013-12-27 | 2016-04-06 | 中国科学院国家授时中心 | 原子束荧光实时自动减偏探测器 |
-
2016
- 2016-11-28 US US15/362,363 patent/US10331115B2/en active Active
-
2017
- 2017-09-20 TW TW106132224A patent/TWI760366B/zh active
- 2017-10-20 CN CN201710984694.0A patent/CN108121282B/zh active Active
- 2017-10-26 KR KR1020170140385A patent/KR102298688B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101373375A (zh) * | 2007-08-21 | 2009-02-25 | Asm日本公司 | 用于控制半导体处理设备的方法 |
US20100117829A1 (en) * | 2008-11-12 | 2010-05-13 | Felix Mayer | Method for operating a flow sensor subjected to thermal and/or chemical treatments |
US20130110790A1 (en) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Hitachi, Ltd. | Information processing system and file restoration method using same |
TWI514131B (zh) * | 2014-10-20 | 2015-12-21 | Inventec Corp | 計算機系統的啟動方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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