TWI759142B - 吸音結構體及其形成方法 - Google Patents

Abstract

本案揭露一種吸音結構體，其係藉由線切割加工方式而形成一固定結構與至少一活動結構，至少一活動結構包括一連接結構與一可位移結構，其中連接結構與固定結構相連接成一體，而可位移結構可彈性地抵頂或分離於固定結構。當活動結構之至少一活動結構表面突出於固定結構之至少一固定結構表面時，該至少一活動結構表面與該至少一固定結構表面之間呈現一非齊平狀態，以形成一吸音表面。如此一來，吸音結構體能藉由固定結構與活動結構的設計，而滿足多種不同實際使用需求的實施態樣。

Description

吸音結構體及其形成方法

本案係提供一種吸音結構體，特別是一種可藉由線切割加工方式，而形成具有固定結構與活動結構之吸音結構體。

隨著社會快速的發展，居住人口大量地提升，於都市中總是充斥著大量的噪音污染，例如：汽機車運行的噪音、工廠生產或工地施工的機械噪音。且，隨著人們的娛樂型態轉為更多元化，於音樂廳、電影院或餐廳等多種娛樂休閒的公共場所皆有隔音或吸音的實際使用需求。

然而，以現有的隔音板(例如，壓克力板或木板或泡棉板)設計來說，於實際應用中仍存在著諸多的缺失與不便。舉例來說， 既有的隔音板，由於材料特性關係，一般而言板體本身厚度很薄，因此，往往得利用多片疊加方式以增加隔音板的厚度來降低噪音的強度，依此，在習知製作上需切割多個隔音板體後，再以膠水層層地黏貼而堆疊形成多層的隔音板結構，且於物流運輸時亦因體積過於龐大而造成載送不便且搬運困難，此舉不但材料成本提高、製程步驟繁瑣，且運送困難搬運不便，組裝時極為耗時費力，實乃不便。

另一方面，現有的隔音板的設計樣式一旦被製作完成，即很不容易或需以高成本方式因應使用環境的機動變化而做出適性的調整變動。

有鑒於此，對於如何形成一吸音結構體而可廣泛地應用於多種使用環境中，實仍須設計出一種新穎與製程方便的吸音結構體，以解決前述習知技術於應用上所產生的缺失。

本案之目的在於提供一種新穎的吸音結構體及其形成方法，以達到形成工法簡易、降低成本、簡單施工與便利操作等多功效。

本案之吸音結構體係藉由線切割加工方式而形成固定結構與活動結構，且活動結構藉由連接結構與固定結構相連接成一體，而可位移結構可彈性地抵頂或分離於另一活動結構及/或固定結構，而形成多種實施態樣的吸音結構體，以滿足不同的實際使用需求，從而具有使用多元化且具備較佳的商業價值。

於第一較佳實施例中，本案之吸音結構體一種吸音結構體，其具有複數吸音結構體單元，其中任一吸音結構體單元至少包括：一固定結構，其具有一第一固定結構表面以及一第二固定結構表面，且該第一固定結構表面相對應於該第二固定結構表面；以及一活動結構，包括一連接結構 以及一可位移結構，該活動結構之該連接結構與該固定結構相連接成一體，且該活動結構具有一第一活動結構表面以及一第二活動結構表面，而該第一活動結構表面相對應於該第二活動結構表面；其中，當該活動結構之該可位移結構位於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面之間時，該第一活動結構表面與該第二活動結構表面各自分別齊平或接近齊平於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面；而當部分之該可位移結構位於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面之間，且另一部分之該可位移結構突出於該第一固定結構表面及/或該第二固定結構表面時，該第一固定結構表面與該第一活動結構表面之間及/或該第二固定結構表面與該第二活動結構表面之間各自具有至少一夾角，以共同形成一吸音表面。

較佳者，其中，當該第一活動結構表面與該第二活動結構表面各自分別齊平或接近齊平於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面時，該第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現或接近於一齊平狀態，抑或當該活動結構之該第一活動結構表面及/或該第二活動結構表面分別突出於該第一固定結構表面及/或該第二固定結構表面時，該第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現一非齊平狀態。

較佳者，其中，該至少一夾角之角度係為15度、30度、45度、60度、75度 中之一者或其他角度及其組合。

較佳者，其中，該吸音表面係朝向一開放側，該吸音表面之外緣形狀係為一波浪曲面、一弧形曲面、一凹凸曲面、一球型曲面中之一者或其他幾何曲面及其組合。

較佳者，其中，該固定結構之外緣形狀係為一圓形輪廓形狀、一方形輪廓形狀、一橢圓形輪廓形狀、一建築物輪廓形狀、一植物輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀。

較佳者，其中，該連接結構係指該活動結構與該固定結構相連接成一體之交接處。

較佳者，其中，以一線切割加工方式所形成的該可位移結構，可彈性地抵頂或分離於該固定結構，及/或可彈性地抵頂或分離於與其相鄰之另一活動結構。

較佳者，其中，切割形成的該可位移結構之非封閉式外緣輪廓形狀的一輪廓形狀起始點及/或一輪廓形狀終止點，係位於該連接結構之至少一側面；其中，該非封閉式外緣輪廓形狀係為一I字型輪廓形狀、一L字型輪廓形狀、一U字型輪廓形狀、一C字型輪廓形狀、一E字型輪廓形狀、一同心圓輪廓形狀、一同心矩形輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀。

較佳者，其中，該吸音結構體係為一多孔纖維性結構體 。

於第二較佳實施例中，本案之吸音結構體，一種吸音結構體，其至少包括：一固定結構，其具有一第一固定結構表面以及一第二固定結構表面，且該第一固定結構表面相對應於該第二固定結構表面；以及複數活動結構，每一活動結構包括一連接結構以及一可位移結構，每一該活動結構之該連接結構與該固定結構相連接成一體，且每一該活動結構具有一第一活動結構表面以及一第二活動結構表面，而該第一活動結構表面相對應於該第二活動結構表面；其中，當該些活動結構皆位於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面之間時，該些第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該些第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現或接近於一齊平狀態；而當至少一活動結構之該第一活動結構表面及/或該第二活動結構表面分別突出於該第一固定結構表面及/或該第二固定結構表面時，該些第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該些第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現一非齊平狀態，以共同形成一吸音表面。

較佳者，其中，該非齊平狀態係指該第一固定結構表面與任一該活動結構之該第一活動結構表面之間，及/或該第二固定結構表面與任一該活動結構之該第二活動結構表面之間各自具有至少一夾角；其中，該至少一夾角之角度係為15度、30度、45度、60度、75度中之一者或其他角度及其組合。

較佳者，其中，該連接結構係指該活動結構與該固定結構相連接成一體之交接處。

較佳者，其中，該可位移結構具有一非封閉式外緣輪廓形狀，且該非封閉式外緣輪廓形狀的一輪廓形狀起始點及/或一輪廓形狀終止點，係位於該連接結構之至少一側面；其中，該非封閉式外緣輪廓形狀係為一I字型輪廓形狀、一L字型輪廓形狀、一U字型輪廓形狀、一C字型輪廓形狀、一E字型輪廓形狀、一同心圓輪廓形狀、一同心矩形輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀。

較佳者，其中，該吸音結構體係為一多孔纖維性結構體。

於第三較佳實施例中，本案之吸音結構體之形成方法，其步驟至少包括：提供一吸音結構體：執行一線切割加工程序，以使該吸音結構體形成一固定結構與複數活動結構；其中，至少一活動結構中包括可彈性地抵頂或分離於該固定結構之一可位移結構 ，以及該至少一活動結構與該固定結構相連接成一體之一連接結構；以及施壓至少部分之該可位移結構，以使該至少一活動結構之至少一活動結構表面與該固定結構之至少一固定結構表面之間具有至少一夾角，以共同形成一吸音表面。

較佳者，其中，該線切割加工程序係藉由一線切割加工機構，執行一單次性之一切割動作，以使每一活動結構形成該連接結構以及該可位移結構；其中，該線切割加工機構中之一切割刀具的寬度，不會大於0.5公厘(mm)。

較佳者，其中，於執行該單次性之該切割動作之步驟之後，可使該可位移結構具有一 非封閉式外緣輪廓形狀，且該非封閉式外緣輪廓形狀的一輪廓形狀起始點及/或一輪廓形狀終止點，係位於該連接結構之至少一側面；其中，該非封閉式外緣輪廓形狀係為一I字型輪廓形狀、一L字型輪廓形狀、一U字型輪廓形狀、一C字型輪廓形狀、一E字型輪廓形狀、一同心圓輪廓形狀、一同心矩形輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀

較佳者，其中，該連接結構係指該活動結構與該固定結構相連接成一體之交接處。

較佳者，其中，該可位移結構彈性地抵頂或分離於該固定結構，及/或彈性地抵頂或分離於與該可位移結構相鄰之另一活動結構。

較佳者，於該施壓至少部分之該可位移結構的步驟更包括：因應一外力，而使該至少一活動結構之該第一活動結構表面及/或該第二活動結構表面分別突出於該第一固定結構表面及/或該第二固定結構表面，以使該第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現一非齊平狀態。

較佳者，其中，該至少一夾角之角度係為15度、30度、45度、60度、75度中之一者或其他角度及其組合。

較佳者，其中，該吸音表面係朝向一開放側，該吸音表面之外緣形狀係為一波浪曲面、一弧形曲面、一凹凸曲面、一球型曲面中之一者或其他幾何曲面及其組合；而該吸音結構體或該固定結構之外緣形狀係為一圓形輪廓形狀、一方形輪廓形狀、一橢圓形輪廓形狀、一建築物輪廓形狀、一植物輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀。

較佳者，其中，該吸音結構體係為一多孔纖維性結構體，該多孔纖維性結構體係為一聚亞胺酯(Polyurethane)結構體、一玻璃纖維結構體（Glass Fiber Panel, Glass Fiber Board）、一聚酯纖維結構體、一聚酯複合棉結構體及一毛氈結構體中之一者或及其組合；其中，該聚酯纖維結構體係為一硬質聚酯纖維吸音板體。

以下係提出實施例進行詳細說明，實施例僅用以作為範例說明，並不會限縮本案欲保護之範圍。此外，實施例中之圖式係省略不必要或以通常技術即可完成之元件，以清楚顯示本案之技術特點。以下，茲以本案之較佳實施例並配合圖式作進一步說明。

請參閱第1A圖至第1D圖，其中第1A圖係為應用本案發明概念之吸音結構體的第一較佳實施概念示意圖與局部放大圖，第1B圖係為第1A圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，第1C圖係為第1A圖中第一較佳實施概念之使用狀態的立體示意圖與局部放大圖，第1D圖係為第1C圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，並將以前述該些圖式說明本案之吸音結構體的第一較佳實施例的發明概念。

如第1A圖及第1B圖所示，本案之吸音結構體10係經由一線切割加工程序而切割形成，吸音結構體10具有多個吸音結構體單元100，其中任一吸音結構體單元(即，部分之吸音結構體)100包括：多個固定結構110以及多個活動結構120，其中每一固定結構110至少包括第一固定結構表面110a以及第二固定結構表面110b，且第一固定結構表面110a相對應於第二固定結構表面110b。而每一活動結構120至少包括連接結構121以及可位移結構122，連接結構121與固定結構110相連接成一體，其中活動結構120還具有第一活動結構表面120a以及第二活動結構表面120b，而第一活動結構表面120a相對應於第二活動結構表面120b。

其中，當活動結構120之可位移結構122係位於第一固定結構表面110a與第二固定結構表面110b之間時，第一活動結構表面120a與第二活動結構表面120b各自分別齊平或接近齊平於第一固定結構表面110a與第二固定結構表面110b，相當於第一活動結構表面120a與第一固定結構表面110a之間，及/或第二活動結構表面120b與第二固定結構表面110b之間各自呈現或接近於一齊平狀態。

詳細來說，吸音結構體10可係為多孔纖維性結構體，例如：聚亞胺酯(Polyurethane)結構體、玻璃纖維結構體(Glass Fiber Panel, Glass Fiber Board)、聚酯纖維結構體、聚酯複合棉結構體及毛氈結構體中之一者或及其組合；其中，聚酯纖維結構體可係為硬質聚酯纖維吸音板體，而此第一較佳實施例便是運用硬質聚酯纖維吸音板體。

此外，固定結構110之外緣形狀可係為圓形輪廓形狀、方形輪廓形狀、橢圓形輪廓形狀、建築物輪廓形狀、植物輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀等，而本較佳實施例之固定結構110的外緣形狀係為方形輪廓形狀，如同於第1A圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

連接結構121係指活動結構120與固定結構110相連接成一體之交接處。可位移結構122係以線切割加工方式所形成，並因應前述多孔纖維性結構體的多孔結構及材料特性(例如，彈性復原力與摩擦力等等材料特性)，從而可彈性地抵頂或分離於固定結構110或與其相鄰之另一活動結構(將於後述較佳實施例再作說明)。其中，線切割加工程序係藉由線切割加工機構，執行單次性之一切割動作，以使每一活動結構120形成連接結構121以及可位移結構122。

舉例來說，本案之吸音結構體10可藉由精密的線切割程序以形成連接結構121以及可位移結構122。其中，本案線切割程序中所採用之線切割加工機構之切割刀具的寬度，不會大於0.5公厘(mm)，並可運用讓切割刀具以上/下運動並搭配水平移動的方式，完成前述平面切割動作，進而將吸音結構體10中之部分材料切開而形成固定結構110與活動結構120，但並不使固定結構110與活動結構120完全分離，且不會有切割離縫，而被切割之活動結構120中的可位移結構122可因應外力的推壓而彈性地產生彎曲或形變，以抵頂或分離於相鄰接之其餘活動結構120及/或固定結構110。

再則，在本案實施例中的一較佳做法，單一片吸音結構體10的厚度即可以達到至少9公厘(mm)至12公厘(mm)以上，便可以有效增加吸音率，降低噪音強度，而無需如習知作法般需層層地疊加。當然，如是為了更進一步強化增加吸音率或降躁效果，也可以用少量的多片大厚度的吸音結構體予以疊加即可，整體效果依然遠優於習知技術的大量多片疊加的做法。

詳細來說，上述可位移結構122之非封閉式外緣輪廓形狀1221包括一輪廓形狀起始點1221a以及一輪廓形狀終止點1221b，其係分別位於連接結構121之至少一側面的兩端(圖未標號，但即為與輪廓形狀起始點1221a及輪廓形狀終止點1221b所交接之處)；其中，於實際應用中，非封閉式外緣輪廓形狀1221可係為一I字型輪廓形狀、L字型輪廓形狀、U字型輪廓形狀、C字型輪廓形狀、E字型輪廓形狀、同心圓輪廓形狀、同心矩形輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀等，而本較佳實施例之可位移結構122的非封閉式外緣輪廓形狀1221係為C字型輪廓形狀，如同於第1C圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

接續，請再搭配參閱第1C圖及第1D圖，將以前述圖式說明本案之吸音結構體10的使用狀態。如第1C圖及第1D圖所示，吸音結構體10係因應一外力而使該些活動結構120之第一活動結構表面120a突出於該第一固定結構表面110a；其中，當部分之可位移結構122位於第一固定結構表面110a與第二固定結構表面110b之間，且另一部分之可位移結構122則突出於第一固定結構表面110a時，第一固定結構表面110a與第一活動結構表面120a之間具有第一夾角θ11，而第二固定結構表面110b與第二活動結構表面120b之間則具有第二夾角θ12，以共同形成一吸音表面10a。

也就是說，當第一活動結構表面120a突出於第一固定結構表面110a時，第一活動結構表面120a與第一固定結構表面110a之間，以及第二活動結構表面120b與第二固定結構表面110b之間可各自呈現一非齊平狀態。

其中，上述之第一夾角θ11與第二夾角θ12可分別為15度、30度、45度、60度、75度、90度中之一者，或是第一夾角θ11與第二夾角θ12的角度係為相同的角度，但本案不以此為限。

要特別說明的是，吸音表面10a係朝向一開放側，依此本例之活動結構220中的可位移結構122可被外力推壓，而突出位於開放側的空間之中，以增加吸音結構體10接觸開放側空間之整體面積，從而達到較佳的吸音效果。

舉例來說，吸音結構體10可運用於一般家庭、幼稚園、國小、電影院、親子餐廳等公共場所，吸音結構體10可設置於一牆面上或作為一立板，而吸音結構體10之吸音表面10a則可朝向於喧鬧的人群，其中吸音表面10a係因應活動結構120之可位移結構122被外力的推壓，而形成波浪曲面、弧形曲面、凹凸曲面、球型曲面中之一者或其他幾何曲面及其組合。而本較佳實施例之吸音表面10a係因應外力的推壓而被形成為波浪曲面10a，且波浪曲面10a中突出之凸曲面相當於可位移結構122，其中朝向開放側之凸曲面的表面相似於一具有C字型輪廓形狀之一弧形表面，如同於第1C圖與第1D圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

再者，本案之吸音結構體可因應不同的實際使用需求，而調整吸音結構體中之活動結構的設計，例如：調整活動結構因應切割而形成之可位移結構的非封閉式外緣輪廓形狀，以形成不同實施態樣的吸音表面，將以下列第二較佳實施例作為說明。

請參閱第2A圖至第2D圖，其中第2A圖係為應用本案發明概念之吸音結構體的第二較佳實施概念示意圖與局部放大圖，第2B圖係為第2A圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，第2C圖係為第2A圖中第二較佳實施概念之使用狀態的立體示意圖與局部放大圖，第2D圖係為第2C圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，並將以前述該些圖式說明本案之吸音結構體的第二較佳實施例的發明概念。

如第2A圖至第2D圖所示，本案之吸音結構體20相同地係經由線切割加工程序而切割形成，以吸音結構體20中多個吸音結構體單元200之任一吸音結構體單元200包括：一個固定結構210以及多個活動結構220，其中固定結構210包括第一固定結構表面210a以及第二固定結構表面210b，且第一固定結構表面210a相對應於第二固定結構表面210b。而每一活動結構220至少包括連接結構221以及可位移結構222，連接結構221與固定結構210相連接成一體，其中每一活動結構220還具有第一活動結構表面220a以及第二活動結構表面220b，而第一活動結構表面220a相對應於第二活動結構表面220b。

其中，當活動結構220之可位移結構222係位於第一固定結構表面210a與第二固定結構表面210b之間時，而第一活動結構表面220a與第二活動結構表面220b各自分別齊平或接近齊平於第一固定結構表面210a與第二固定結構表面210b，而呈現或接近於一齊平狀態，如同第2B圖所示者。

當然，此第二較佳實施例中之連接結構221相同地係指活動結構220與固定結構210相連接成一體之交接處，可位移結構222仍係以前述之線切割加工方式而形成。

然而，要特別說明的式，此例與前例不同之處在於，被切割形成之可位移結構222的非封閉式外緣輪廓形狀2221係為L字型輪廓形狀，依此非封閉式外緣輪廓形狀2221的一輪廓形狀起始點2221a及一輪廓形狀終止點2221b係分別位於連接結構221之兩端(圖未標號，但即為與輪廓形狀起始點2221a及輪廓形狀終止點2221b所交接之處)，如同於第2C圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

接續說明，請再搭配參閱第2D圖，將以此例中之前述圖式來說明本案之吸音結構體20的使用狀態。如第2C圖及第2D圖所示，吸音結構體20係因應外力而使該些活動結構220之第二活動結構表面220b突出於該第二固定結構表面210b；其中，當部分之可位移結構222位於第一固定結構表面210a與第二固定結構表面210b之間，且另一部分之可位移結構222則突出於第二固定結構表面210b時，第一固定結構表面210a與第一活動結構表面220a之間具有第一夾角θ21，而第二固定結構表面210b與第二活動結構表面220b之間則具有第二夾角θ22，以共同形成吸音表面20a。

其中，因應前述本例之可位移結構222的非封閉式外緣輪廓形狀2221係為L字型輪廓形狀的設計，因此吸音表面20a係因應外力的推壓，而形成凹凸曲面20a，而凹凸曲面20a中突出之凸曲面相當於可位移結構222，且可位移結構222朝向開放側之凸曲面的表面相似於一具有L字型輪廓形狀之三角形表面，如同於第2C圖與第2D圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

當然，本案之吸音曲面仍可有其他不同的實施態樣，例如：吸音曲面可再藉由調整吸音結構體中之活動結構的設計，以滿足不同的實際使用需求。舉例來說，實際應用上，因為使用環境必須提升消音或吸音的需求，因此需要增加吸音表面朝向開放側的吸音面積，而有第三較佳實施例的實施態樣，將於後述中說明。

請參閱第3A圖至第3D圖，其中第3A圖係為應用本案發明概念之吸音結構體的第三較佳實施概念示意圖與局部放大圖，第3B圖係為第3A圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，第3C圖係為第3A圖中第三較佳實施概念之使用狀態的立體示意圖與局部放大圖，第3D圖係為第3C圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，並將以前述該些圖式說明本案之吸音結構體的第三較佳實施例的發明概念。

如第3A圖至第3D圖所示，本案之吸音結構體30中多個吸音結構體單元300之任一吸音結構體單元300相同地包括：一個固定結構310以及多個活動結構320，其中固定結構310包括第一固定結構表面310a以及第二固定結構表面310b，且第一固定結構表面310a相對應於第二固定結構表面310b。而每一活動結構320至少包括連接結構321以及可位移結構322，連接結構321與固定結構310相連接成一體，其中每一活動結構320還具有第一活動結構表面320a以及第二活動結構表面320b，而第一活動結構表面320a相對應於第二活動結構表面320b。

其中，當活動結構320之可位移結構322係位於第一固定結構表面310a與第二固定結構表面310b之間時，第一活動結構表面320a與第二活動結構表面320b各自分別齊平或接近齊平於第一固定結構表面310a與第二固定結構表面310b，而呈現或接近於一齊平狀態，如同第3B圖所示者。

由於本案之吸音結構體30仍基於前述該些較佳實施例之相同的發明概念，因此運用於本案發明概念中相似的其餘技術內容，在此將不再贅述。

然而，要特別說明的是，此第三較佳實施例與前述該些較佳實施例不同之處在於，切割形成的可位移結構322之非封閉式外緣輪廓形狀3221係為U字型輪廓形狀或ㄇ字型輪廓形狀，依此非封閉式外緣輪廓形狀3221的一輪廓形狀起始點3221a及一輪廓形狀終止點3221b，係分別位於連接結構321之兩端(圖未標號，但即為與輪廓形狀起始點3221a及輪廓形狀終止點3221b所交接之處)，如同於第3C圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

接續，請再搭配參閱第3D圖，將以此例中之前述該些圖式來說明本案之吸音結構體30的使用狀態。如第3C圖及第3D圖所示，吸音結構體30係因應外力而使該些活動結構320之第二活動結構表面320b突出於該第二固定結構表面310b；其中，當部分之可位移結構322位於第一固定結構表面310a與第二固定結構表面310b之間，且另一部分之可位移結構322則突出於第二固定結構表面310b時，第一固定結構表面310a與第一活動結構表面320a之間具有第一夾角θ31，第二固定結構表面310b與第二活動結構表面320b之間具有第二夾角θ32，以共同形成吸音表面30a。

其中，因應前述本例之可位移結構322的非封閉式外緣輪廓形狀3221係為U字型輪廓形狀或ㄇ字型輪廓形狀的設計，因此吸音表面30a係因應外力的推壓，而形成凹凸曲面30a，而凹凸曲面30a中突出之凸曲面相當於可位移結構322，且可位移結構322朝向開放側之凸曲面的表面相似於一具有U字型輪廓形狀或ㄇ字型輪廓形狀之一方形表面，如同於第3C圖與第3D圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

接著，請一併參閱第2D圖與第3D圖，將以兩圖式說明第二較佳實施例與第三較佳實施例中之兩吸音表面20a、30a的差異處：

其一在於，由第2D圖與第3D圖中可得知，此第三較佳實施例中之第一夾角θ31與第二夾角θ32明顯地大於前例第二較佳實施例中之第一夾角θ21與第二夾角θ22，依此以使本例之吸音表面30a形成為表面起伏更大之凹凸曲面30a，而具有表面起伏差異較大之凹凸曲面30a係具有較佳的吸音效果。詳細來說，當入射聲波接觸凹凸曲面30a時，由於凹凸曲面30a之表面起伏較大，此舉有利於改變入射聲波反射後之聲波反射路徑，而使反射聲波漫射與擴散，以分散聲波。

其二在於，本例之凸曲面的方形表面的面積明顯地大於前例之凸曲面的三角形表面的面積，相當於本例之可位移結構的體積同樣明顯地大於前例之可位移結構的體積，基此本例之可位移結構322所接觸之開放側空間的面積亦明顯地大於前例之可位移結構222所接觸之開放側空間的面積，從而提升整體的吸音功效，以達到更優化的吸音效果。

由上述可得知，本案可調整活動結構中之可位移結構的非封閉式外緣輪廓形狀設計，以滿足實際應用中不同吸音效果的使用需求。除此之外，除了調整活動結構中之可位移結構，還可變化活動結構中之連接結構的設計。

請參閱第4A圖至第4D圖，其中第4A圖係為應用本案發明概念之吸音結構體的第四較佳實施概念示意圖與局部放大圖，第4B圖係為第4A圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，第4C圖係為第4A圖中第四較佳實施概念之使用狀態的立體示意圖與局部放大圖，第4D圖係為第4C圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，並將以前述該些圖式說明本案之吸音結構體的第四較佳實施例的發明概念。

如第4A圖至第4D圖所示，本案之吸音結構體40中多個吸音結構體單元400之任一吸音結構體單元400相同地包括：一個固定結構410以及多個活動結構420，其中固定結構410包括第一固定結構表面410a以及第二固定結構表面410b，且第一固定結構表面410a相對應於第二固定結構表面410b。而每一活動結構420至少包括兩個連接結構431、432以及一個可位移結構44，兩連接結構431、432與固定結構410相連接成一體，其中每一活動結構420還具有第一活動結構表面420a以及第二活動結構表面420b，而第一活動結構表面420a相對應於第二活動結構表面420b。

其中，當活動結構420之可位移結構44係位於第一固定結構表面410a與第二固定結構表面410b之間時，第一活動結構表面420a與第二活動結構表面420b各自分別齊平或接近齊平於第一固定結構表面410a與第二固定結構表面410b，而呈現或接近於齊平狀態，如同第4B圖所示者。

由於本案之吸音結構體40仍基於前述該些較佳實施例之相同的發明概念，因此應用於本案發明概念中相似的其餘技術內容，在此將不再贅述。

然而，要特別說明的是，此第四較佳實施例與前述該些較佳實施例不同之處在於，可位移結構44係經由兩連接結構431、432而形成，以使可位移結構44係包括兩個非封閉式外緣輪廓形狀441、442，而兩非封閉式外緣輪廓形狀441、442係為I字型輪廓形狀441,442。再者，兩I字型輪廓形狀441、442之輪廓形狀起始點及輪廓形狀終止點係各自分別為可位移結構44之四個輪廓形狀交接點44a-44d，相當於活動結構420與固定結構410相連接為一體之交接處，如同於第4C圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

接續，請再搭配參閱第4D圖，將以此例中之前述該些圖式來說明本案之吸音結構體40的使用狀態。如第4C圖及第4D圖所示，吸音結構體40係可因應外力而使該些活動結構420之第一活動結構表面420a突出於該第一固定結構表面410a；其中，當部分之可位移結構44位於第一固定結構表面410a與第二固定結構表面410b之間，且另一部分之可位移結構44則突出於第一固定結構表面410a時，因應可位移結構44之兩I字型輪廓形狀441、442，而使第一固定結構表面410a與第一活動結構表面420a之間具有兩第一夾角θ411、θ412，第二固定結構表面410b與第二活動結構表面420b之間具有兩第二夾角θ421、θ422，以共同形成吸音表面40a。

其中，上述之兩第一夾角θ411、θ412與兩第二夾角θ421、θ422可各自分別為15度、30度、45度、60度、75度、90度中之一者，或是兩第一夾角θ411、θ412與兩第二夾角θ421、θ422的角度分別係為相同的角度，抑或兩第一夾角θ411、θ412與兩第二夾角θ421、θ422的角度皆為相同的角度。要特別說明的是，可位移結構44可藉由調整前述該些夾角θ411、θ412、θ421、θ422的角度，以使吸音表面40a中所突出之可位移結構44交錯排列，而形成更具有變化差異之波浪曲面、弧形曲面、凹凸曲面、球型曲面中之一者或其他幾何曲面及其組合，進而提升整體吸音的品質。其中，本例中之兩第一夾角θ411，θ412係為相互對應且為相同的角度，而兩第二夾角θ421，θ422亦相同。

接續說明，因應前述本例中之該些夾角θ411、θ412、θ421、θ422與兩I字型輪廓形狀441，442的設計，因此吸音表面40a係因應外力的推壓，而形成弧形曲面40a，而弧形曲面40a中突出之凸曲面相當於可位移結構44，且可位移結構44朝向開放側之凸曲面的表面相似於一具有兩I字型輪廓形狀之一方形表面，如同於第4C圖與第4D圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

當然，本案之吸音曲面除了可調整固定結構表面與活動結構表面之間的多個夾角之外，還可藉由多個活動結構的改良設計，從而增加吸音曲面的變化性與美感，以滿足多元化的實際使用需求。

請參閱第5A圖至第5D圖，其中第5A圖係為應用本案發明概念之吸音結構體的第五較佳實施概念示意圖與局部放大圖，第5B圖係為第5A圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，第5C圖係為第5A圖中第五較佳實施概念之使用狀態的立體示意圖與局部放大圖，第5D圖係為第5C圖中之部分吸音結構體單元的局部剖面放大圖，並將以前述該些圖式說明本案之吸音結構體的第五較佳實施例的發明概念。

如第5A圖至第5D圖所示，本案之吸音結構體50包括多個吸音結構體單元500，其中任一吸音結構體單元500包括：一個固定結構510以及多個活動結構521-523，其中固定結構510包括第一固定結構表面510a以及第二固定結構表面510b，且第一固定結構表面510a相對應於第二固定結構表面510b。

而每一活動結構521-523各自包括至少一個連接結構5211、5221、5231以及一個可位移結構531-533，每一活動結構521-523藉由自身之至少一連接結構5211,5221,5231連接與其相鄰之另一活動結構521-523，而多個活動結構521-523中之至少一者的連接結構5211、5221、5231與固定結構510相連接成一體，據此多個活動結構521-523可藉由連接結構5211、5221、5231的設計，而間接地連接於固定結構510，亦即多個活動結構521-523並未分離於固定結構510。

其中，每一活動結構521-523各自還具有第一活動結構表面521a-523a以及第二活動結構表面521b-523b，且每一第一活動結構表面521a-523a分別相對應於第二活動結構表面521b-523b。且，多個第一活動結構表面521a-523a係形成吸音結構體50之整體第一活動結構表面52a，而多個第二活動結構表面521b-523b係形成吸音結構體50之整體第二活動結構表面52b。

要特別說明的是，此第五較佳實施例之吸音結構體50仍係以線切割加工程序藉由線切割加工機構，以執行單次性之切割動作，而使每一吸音結構體單元500形成單一固定結構510與多個活動結構521-523，其中多個活動結構521-523可因應多孔纖維性結構體的材質特性，而可因應外力的推壓，從而彈性地抵頂或分離於與其相鄰之另一活動結構521-523及/或固定結構510，也就是說本例之每一活動結構521-523能被推壓而移動於其餘活動結構521-523及/或固定結構510之間。

請再搭配參閱第5A圖，由於多個活動結構521-523之可位移結構531-533的設計皆為相同，因此將以第一活動結構521之可位移結構531來作為說明，而其餘的(圖未標號)則以此類推。

其中，可位移結構531中之至少一非封閉式外緣輪廓形狀54包括一輪廓形狀起始點54a以及一輪廓形狀終止點54b，其係分別位於連接結構5211之兩端(圖未標號，但即為與輪廓形狀起始點54a及輪廓形狀終止點54b所交接之處)，而可位移結構531之非封閉式外緣輪廓形狀54係相似於一具有缺口的口字型輪廓形狀54，其中缺口處即為連接結構5211，如同於第5A圖所示者，但實際應用上，並不以本例為限制。

據此，多個可位移結構531-533的非封閉式外緣輪廓形狀54皆係為具有缺口的口字型輪廓形狀54，且多個具有缺口的口字型輪廓形狀54以同心圓方式向外由小至大的排列，從而於吸音結構體單元500上形成同心矩形輪廓形狀。當然，於其他較佳實施例中，非封閉式外緣輪廓形狀的設計還可係為具有缺口的O字型輪廓形狀，並相同地將多個具有缺口的O字型輪廓形狀以同心圓方式向外由小至大的排列，從而於另一吸音結構體單元上形成同心圓輪廓形狀，因此並不以本例為限制。

當每一活動結構521-523之可位移結構531-533皆係位於第一固定結構表面510a與第二固定結構表面510b之間時，第一活動結構表面52a與第二活動結構表面52b各自分別齊平或接近齊平於第一固定結構表面510a與第二固定結構表面510b，而呈現或接近於齊平狀態，如同第5B圖所示者。

接續，請再搭配參閱第5C圖及第5D圖，將以此例中之前述該些圖式來說明本案之吸音結構體50的使用狀態。如第5C圖及第5D圖所示，吸音結構體50係可因應外力的推壓，而使多個吸音結構體單元500之多個第一活動結構表面521a-523a與多個第二活動結構表面521b-523b各自分別突出於第一固定結構表面510a與第二固定結構表面510b，從而使整體第一活動結構表面52a與第一固定結構表面510a之間，及整體第二活動結構表面52b與第二固定結構表面510b之間各自呈現一非齊平狀態，相當於多個可位移結構531-533彼此之間能彈性地交錯抵頂與分離於與其相鄰接之另一可位移結構531-533及/或固定結構510，以共同形成吸音表面50a。其中，吸音表面50a之外緣形狀係為幾何曲面，但實際應用上，並不以本例為限制。

由於本案之吸音結構體50仍基於前述該些較佳實施例之相同的發明概念，因此應用於本案發明概念中相似的其餘技術內容，在此將不再贅述。

基此，請再搭配參閱第6A圖至第6D圖，其中第6A圖係為本案發明概念之吸音結構體的形成方法之一較佳實施概念流程圖，第6B圖係為第6A圖中之執行線切割加工程序的部分較佳實施概念流程圖，第6C圖係為第6A圖中之施壓至少部分之該可位移結構的部分較佳實施概念流程圖，第6D圖係為第6A圖中之另一使用狀態的較佳實施概念流程圖，並以前述該些圖式來說明本案之吸音結構體的形成方法。

本案之吸音結構體的形成方法S1-S3係為，執行步驟S1：提供一吸音結構體，相當於入料流程；執行步驟S2：執行一線切割加工程序，以使該吸音結構體形成一固定結構與複數活動結構；其中，至少一活動結構中包括可彈性地抵頂或分離於該固定結構之一可位移結構，以及該至少一活動結構與該固定結構相連接成一體之一連接結構；執行步驟S3：施壓至少部分之該可位移結構，以使該至少一活動結構之至少一活動結構表面與該固定結構之至少一固定結構表面之間具有至少一夾角，以共同形成一吸音表面。

再者，上述步驟S2還可包括下列步驟S21-S22，其中更包括：執行步驟S21：藉由一線切割加工機構，執行一單次性之一切割動作，以使該吸音結構體形成該固定結構與該些活動結構；執行步驟S22：形成每一該活動結構具有一連接結構與一可位移結構；其中，該可位移結構具有一非封閉式外緣輪廓形狀，且該非封閉式外緣輪廓形狀的一輪廓形狀起始點及/或一輪廓形狀終止點，係位於該連接結構之至少一側面。

較佳者，該線切割加工機構中之一切割刀具的寬度，不會大於0.5公厘(mm)。

此外，前述步驟S3還可包括執行步驟S31：因應一外力，而使該至少一活動結構之該第一活動結構表面及/或該第二活動結構表面分別突出於該第一固定結構表面及/或該第二固定結構表面，以使該第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現一非齊平狀態。

當然，於本案之吸音結構體的另一使用狀態下，前述步驟S3之後還可包括執行步驟S4：該些活動結構皆位於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面之間時，該些第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該些第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現或接近於一齊平狀態。

要特別說明的是，本案之吸音結構體可因應不同的實際使用需求或運作情境，而自由地選擇執行上述該些步驟S1-S4、S21-S22、S31。舉例來說，當吸音結構體在成品出廠或是回收丟棄時，必須減少吸音結構體的整體體積以利於載送運輸，便可執行步驟S4而利於物流或廠商堆疊運送，抑或當於施工現場須進行組裝或設置吸音結構體時，則執行步驟S1-S3，S21-S22、S31，以達到簡單施工與便利操作等功效。如此一來，本案之吸音結構體的形成工法流程簡易，且因應結構材料的特性，不但能降低成本且施工操作方便，還能重複地多次運用，確實適用於不同的使用環境並具備較佳的商業價值。

以上所述僅為本案之較佳實施例，並非用以限定本案之申請專利範圍，因此凡其它未脫離本案所揭示之精神下所完成之等效改變或修飾，均應包含於本案之申請專利範圍內。

10:吸音結構體 10a:吸音表面 100:吸音結構體單元 110:固定結構 110a:第一固定結構表面 110b:第二固定結構表面 120:活動結構 120a:第一活動結構表面 120b:第二活動結構表面 121:連接結構 122:可位移結構 1221:非封閉式外緣輪廓形狀 1221a:輪廓形狀起始點 1221b:輪廓形狀終止點 θ11-θ12:夾角 20:吸音結構體 20a:吸音表面 200:吸音結構體單元 210:固定結構 210a:第一固定結構表面 210b:第二固定結構表面 220:活動結構 220a:第一活動結構表面 220b:第二活動結構表面 221:連接結構 222:可位移結構 2221:非封閉式外緣輪廓形狀 2221a:輪廓形狀起始點 2221b:輪廓形狀終止點 θ21-θ22:夾角 30:吸音結構體 30a:吸音表面 300:吸音結構體單元 310:固定結構 310a:第一固定結構表面 310b:第二固定結構表面 320:活動結構 320a:第一活動結構表面 320b:第二活動結構表面 321:連接結構 322:可位移結構 3221:非封閉式外緣輪廓形狀 3221a:輪廓形狀起始點 3221b:輪廓形狀終止點 θ31-θ32:夾角 40:吸音結構體 40a:吸音表面 400:吸音結構體單元 410:固定結構 410a:第一固定結構表面 410b:第二固定結構表面 420:活動結構 420a:第一活動結構表面 420b:第二活動結構表面 431,432:連接結構 44:可位移結構 441,442:非封閉式外緣輪廓形狀 44a-44d:輪廓形狀交接點 θ411-θ412,θ421-θ422:夾角 50:吸音結構體 50a:吸音表面 500:吸音結構體單元 510:固定結構 510a:第一固定結構表面 510b:第二固定結構表面 520,521-523:活動結構 52a:整體第一活動結構表面 521a-523a:第一活動結構表面 52b:整體第二活動結構表面 521b-523b:第二活動結構表面 5211,5221,5231:連接結構 531,532,533:可位移結構 54:非封閉式外緣輪廓形狀 54a:輪廓形狀起始點 54b:輪廓形狀終止點 S1-S4,S21-S22,S31:流程步驟

第1A圖至第1D圖：係為應用本案發明概念之吸音結構體的第一較佳實施概念示意圖。 第2A圖至第2D圖：係為應用本案發明概念之吸音結構體的第二較佳實施概念示意圖。 第3A圖至第3D圖：係為應用本案發明概念之吸音結構體的第三較佳實施概念示意圖。 第4A圖至第4D圖：係為應用本案發明概念之吸音結構體的第四較佳實施概念示意圖。 第5A圖至第5D圖：係為應用本案發明概念之吸音結構體的第五較佳實施概念示意圖。 第6A圖至第6D圖：係為形成本案發明概念之吸音結構體的一較佳實施流程圖。

100:吸音結構體單元

110:固定結構

110a:第一固定結構表面

110b:第二固定結構表面

120:活動結構

121:連接結構

122:可位移結構

1221:非封閉式外緣輪廓形狀

1221a:輪廓形狀起始點

1221b:輪廓形狀終止點

Claims (23)

1. 一種吸音結構體，其具有複數吸音結構體單元，其中任一吸音結構體單元至少包括： 一固定結構，其具有一第一固定結構表面以及一第二固定結構表面，且該第一固定結構表面相對應於該第二固定結構表面；以及 一活動結構，包括一連接結構以及一可位移結構，該活動結構之該連接結構與該固定結構相連接成一體，且該活動結構具有一第一活動結構表面以及一第二活動結構表面，而該第一活動結構表面相對應於該第二活動結構表面； 其中，當該活動結構之該可位移結構位於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面之間時，該第一活動結構表面與該第二活動結構表面各自分別齊平或接近齊平於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面； 而當部分之該可位移結構位於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面之間，且另一部分之該可位移結構突出於該第一固定結構表面及/或該第二固定結構表面時，該第一固定結構表面與該第一活動結構表面之間及/或該第二固定結構表面與該第二活動結構表面之間各自具有至少一夾角，以共同形成一吸音表面。
2. 如請求項1所述之吸音結構體，其中，當該第一活動結構表面與該第二活動結構表面各自分別齊平或接近齊平於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面時，該第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現或接近於一齊平狀態，抑或當該活動結構之該第一活動結構表面及/或該第二活動結構表面分別突出於該第一固定結構表面及/或該第二固定結構表面時，該第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現一非齊平狀態。
3. 如請求項1所述之吸音結構體，其中，該至少一夾角之角度係為15度、30度、45度、60度、75度中之一者或其他角度及其組合。
4. 如請求項1所述之吸音結構體，其中，該吸音表面係朝向一開放側，該吸音表面之外緣形狀係為一波浪曲面、一弧形曲面、一凹凸曲面、一球型曲面中之一者或其他幾何曲面及其組合。
5. 如請求項1所述之吸音結構體，其中，該固定結構之外緣形狀係為一圓形輪廓形狀、一方形輪廓形狀、一橢圓形輪廓形狀、一建築物輪廓形狀、一植物輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀。
6. 如請求項1所述之吸音結構體，其中，該連接結構係指該活動結構與該固定結構相連接成一體之交接處。
7. 如請求項6所述之吸音結構體，其中，以一線切割加工方式所形成的該可位移結構，可彈性地抵頂或分離於該固定結構，及/或可彈性地抵頂或分離於與其相鄰之另一活動結構。
8. 如請求項7所述之吸音結構體，其中，切割形成的該可位移結構之非封閉式外緣輪廓形狀的一輪廓形狀起始點及/或一輪廓形狀終止點，係位於該連接結構之至少一側面；其中，該非封閉式外緣輪廓形狀係為一I字型輪廓形狀、一L字型輪廓形狀、一U字型輪廓形狀、一C字型輪廓形狀、一E字型輪廓形狀、一同心圓輪廓形狀、一同心矩形輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀。
9. 如請求項1所述之吸音結構體，其中，該吸音結構體係為一多孔纖維性結構體。
10. 一種吸音結構體，其至少包括： 一固定結構，其具有一第一固定結構表面以及一第二固定結構表面，且該第一固定結構表面相對應於該第二固定結構表面；以及 複數活動結構，每一活動結構包括一連接結構以及一可位移結構，每一該活動結構之該連接結構與該固定結構相連接成一體，且每一該活動結構具有一第一活動結構表面以及一第二活動結構表面，而該第一活動結構表面相對應於該第二活動結構表面； 其中，當該些活動結構皆位於該第一固定結構表面與該第二固定結構表面之間時，該些第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該些第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現或接近於一齊平狀態； 而當至少一活動結構之該第一活動結構表面及/或該第二活動結構表面分別突出於該第一固定結構表面及/或該第二固定結構表面時，該些第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該些第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現一非齊平狀態，以共同形成一吸音表面。
11. 如請求項10所述之吸音結構體，其中，該非齊平狀態係指該第一固定結構表面與任一該活動結構之該第一活動結構表面之間，及/或該第二固定結構表面與任一該活動結構之該第二活動結構表面之間各自具有至少一夾角；其中，該至少一夾角之角度係為15度、30度、45度、60度、75度中之一者或其他角度及其組合。
12. 如請求項10所述之吸音結構體，其中，該連接結構係指該活動結構與該固定結構相連接成一體之交接處。
13. 如請求項12所述之吸音結構體，其中，該可位移結構具有一非封閉式外緣輪廓形狀，且該非封閉式外緣輪廓形狀的一輪廓形狀起始點及/或一輪廓形狀終止點，係位於該連接結構之至少一側面；其中，該非封閉式外緣輪廓形狀係為一I字型輪廓形狀、一L字型輪廓形狀、一U字型輪廓形狀、一C字型輪廓形狀、一E字型輪廓形狀、一同心圓輪廓形狀、一同心矩形輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀。
14. 如請求項10所述之吸音結構體，其中，該吸音結構體係為一多孔纖維性結構體。
15. 一種吸音結構體之形成方法，其步驟至少包括： 提供一吸音結構體： 執行一線切割加工程序，以使該吸音結構體形成一固定結構與複數活動結構；其中，至少一活動結構中包括可彈性地抵頂或分離於該固定結構之一可位移結構，以及該至少一活動結構與該固定結構相連接成一體之一連接結構；以及 施壓至少部分之該可位移結構，以使該至少一活動結構之至少一活動結構表面與該固定結構之至少一固定結構表面之間具有至少一夾角，以共同形成一吸音表面。
16. 如請求項15所述之吸音結構體之形成方法，其中，該線切割加工程序係藉由一線切割加工機構，執行一單次性之一切割動作，以使每一活動結構形成該連接結構以及該可位移結構；其中，該線切割加工機構中之一切割刀具的寬度，不會大於0.5公厘(mm)。
17. 如請求項16所述之吸音結構體之形成方法，其中，於執行該單次性之該切割動作之步驟之後，可使該可位移結構具有一非封閉式外緣輪廓形狀，且該非封閉式外緣輪廓形狀的一輪廓形狀起始點及/或一輪廓形狀終止點，係位於該連接結構之至少一側面；其中，該非封閉式外緣輪廓形狀係為一I字型輪廓形狀、一L字型輪廓形狀、一U字型輪廓形狀、一C字型輪廓形狀、一E字型輪廓形狀、一同心圓輪廓形狀、一同心矩形輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀。
18. 如請求項17所述之吸音結構體之形成方法，其中，該連接結構係指該活動結構與該固定結構相連接成一體之交接處。
19. 如請求項15所述之吸音結構體之形成方法，其中，該可位移結構彈性地抵頂或分離於該固定結構，及/或彈性地抵頂或分離於與該可位移結構相鄰之另一活動結構。
20. 如請求項15所述之吸音結構體之形成方法，於該施壓至少部分之該可位移結構的步驟更包括： 因應一外力，而使該至少一活動結構之該第一活動結構表面及/或該第二活動結構表面分別突出於該第一固定結構表面及/或該第二固定結構表面，以使該第一活動結構表面與該第一固定結構表面之間，及/或該第二活動結構表面與該第二固定結構表面之間各自呈現一非齊平狀態。
21. 如請求項15所述之吸音結構體之形成方法，其中，該至少一夾角之角度係為15度、30度、45度、60度、75度中之一者或其他角度及其組合。
22. 如請求項15所述之吸音結構體之形成方法，其中，該吸音表面係朝向一開放側，該吸音表面之外緣形狀係為一波浪曲面、一弧形曲面、一凹凸曲面、一球型曲面中之一者或其他幾何曲面及其組合；而該吸音結構體或該固定結構之外緣形狀係為一圓形輪廓形狀、一方形輪廓形狀、一橢圓形輪廓形狀、一建築物輪廓形狀、一植物輪廓形狀或其他幾何輪廓形狀。
23. 如請求項15所述之吸音結構體之形成方法，其中，該吸音結構體係為一多孔纖維性結構體，該多孔纖維性結構體係為一聚亞胺酯(Polyurethane)結構體、一玻璃纖維結構體（Glass Fiber Panel, Glass Fiber Board）、一聚酯纖維結構體、一聚酯複合棉結構體及一毛氈結構體中之一者或及其組合；其中，該聚酯纖維結構體係為一硬質聚酯纖維吸音板體。

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