TWI750752B - 發光鍵盤 - Google Patents

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TWI750752B
TWI750752B TW109125885A TW109125885A TWI750752B TW I750752 B TWI750752 B TW I750752B TW 109125885 A TW109125885 A TW 109125885A TW 109125885 A TW109125885 A TW 109125885A TW I750752 B TWI750752 B TW I750752B
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王百祥
高憲國
蔡耀萱
吳俊潭
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群光電子股份有限公司
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Abstract

一種發光鍵盤,包括基板、複數個按鍵及導光板。基板包括複數個組裝區,各組裝區具有一透光部。多個按鍵排列設置於基板之多個組裝區上方。導光板設置於基板下方,導光板包括發光區以對應於多個組裝區的其中一者,發光區內設有一刻線圖案,刻線圖案包括第一刻線線段與第二刻線線段,第一刻線線段具有一第一凹槽斷面,第二刻線線段具有一第二凹槽斷面,且第一凹槽斷面的尺寸不同於第二凹槽斷面的尺寸。

Description

發光鍵盤
本發明係關於一種鍵盤,特別是指一種發光鍵盤。
鍵盤為目前十分常見的輸入裝置,通常是搭配電子裝置使用,例如桌上型電腦、筆記型電腦、智慧型手機或平板電腦等等。此外,為了因應光照不足的使用環境,遂發展出一種具有發光功能之發光鍵盤。
市面上之發光鍵盤主要是利用背光模組(backlight module)作為發光源,背光模組透過其導光板導引光線並由各按鍵的底部向上發出。此外,為了提高發光效益,導光板上常會設置導光微結構,例如在導光板的表面上印刷網點以萃取光能量。
然而,目前已知的導光微結構並無法有效萃取光能量,導致光能量無法妥善利用而無法提升背光模組的發光效益。舉例來說,導光板的表面上所印刷的網點大多都是平均分佈,造成不需要發光的區域也產生光能量萃取,導致光能量之浪費而降低發光效益。
鑒於上述,於一實施例中,提供一種發光鍵盤,包括基板、複數個按鍵及導光板。基板包括複數個組裝區,各組裝區具有一透光部。多個按鍵排列設置於基板之多個組裝區上方。導光板設置於基板下方,導光板包括發光區以對應於多個組裝區的其中一者,發光區內設有一刻線圖案,刻線圖案包括第一刻線線段與第二刻線線段,第一刻線線段具有一第一凹槽斷面,第二刻線線段具有一第二凹槽斷面,且第一凹槽斷面的尺寸不同於第二凹槽斷面的尺寸。
綜上,根據本發明實施例之發光鍵盤,透過導光板對應於每個按鍵之發光區內的刻線圖案具有區域性的尺寸變化,即刻線圖案包括第一刻線線段與第二刻線線段,第一刻線線段具有一第一凹槽斷面,第二刻線線段具有一第二凹槽斷面,且第一凹槽斷面的尺寸不同於第二凹槽斷面的尺寸,可達到有效增加光萃取效率而提高發光鍵盤之發光效益,並能減少光源設置的數量而進一步降低成本。
以下提出各種實施例進行詳細說明,然而,實施例僅用以作為範例說明,並不會限縮本發明欲保護之範圍。此外,實施例中的圖式省略部份元件,以清楚顯示本發明的技術特點。在所有圖式中相同的標號將用於表示相同或相似的元件。
圖1為本發明發光鍵盤1第一實施例之分解立體圖。如圖1所示,本實施例之發光鍵盤1包括基板10、多個按鍵20及導光板30,在圖1中僅顯示局部之發光鍵盤1,以清楚看見各部件(即上述基板10、按鍵20及導光板30)之具體結構,先此敘明。上述多個按鍵20排列設置於基板10上方,導光板30則設置於基板10下方,也就是說,導光板30設置於基板10遠離按鍵20的一側。
如圖1所示,基板10可為金屬(例如鋁、鋼、合金等)或塑料材質所製成之硬質板體而具有支撐組件之功能。在本實施例中,基板10包括複數個組裝區11,各組裝區11為基板10的局部板件並且供各按鍵20對應組裝(例如圖1中是以虛線框格區域標示多個組裝區11)。在本實施例中,每個組裝區11與每個按鍵20之間組設有一連接件22,其中連接件22可為剪刀式連接件(如圖1所示)、蝶式連接件或機械式開關等,連接件22一端連接按鍵20,另一端連接基板10,藉此將按鍵20組裝於基板10,並且導引按鍵20,使按鍵20能相對於基板10進行上、下位移之動作。在一些實施例中,發光鍵盤1可包括設置於基板10與按鍵20之間的一薄膜電路板(未繪示),以及設置於上述薄膜電路板與按鍵20之間的一復位件(例如橡膠圓頂、金屬圓頂、磁性復位件等)(未繪示)。
再如圖1所示,基板10的各組裝區11更具有一透光部12,在本實施例中,透光部12包括貫穿基板10之相對二表面的多個透光孔121(在此透光孔121的數量為五個,但此並不侷限)。
如圖1所示,導光板30可由導光材料所製成而具有導引光線之功能,例如導光板30可由聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、壓克力塑膠(Polymethyl Methacrylate,PMMA)或玻璃材料所製成之板體。當外部光線進入導光板30後,可使導光板30整體發亮而產生光線並由基板10的多個透光孔121向上透出,以對應照射於各按鍵20,而能因應光照不足的使用環境。在本實施例中,導光板30的一側設有一光源40(例如LED光源、螢光光源或紅外線光源等)以發出光線進入導光板30中,但此並不侷限,上述光源40的數量與設置位置可視產品需求而定,舉例來說,光源40亦可埋入設置於導光板30內部(例如埋設在導光板30的中心處或其他部位)。此外,光源40的數量亦可為二個以上,多個光源40可分別設置在導光板30上的不同位置或者多個光源40亦可彼此排列設置。
如圖1所示,導光板30疊置於基板10的表面,且導光板30包括相對的第一表面31與第二表面36,在本實施例中,第一表面31面向基板10而相對於第二表面36鄰近各按鍵20,但此並不侷限,導光板30的設置亦可由第二表面36面向基板10,而構成第二表面36相對於第一表面31鄰近各按鍵20,此並不侷限。
如圖1與圖2所示,其中圖2為本發明發光鍵盤1第一實施例之局部俯視圖。在本實施例中,導光板30的第一表面31包括多個發光區32以分別對應於基板10的多個組裝區11與多個按鍵20,其中各發光區32為第一表面31的局部表面區域(例如圖1中是以虛線框格區域標示多個發光區32)。
如圖1與圖2所示,導光板30之第一表面31的每個發光區32皆可設有刻線圖案。以最靠近光源40的其中一個發光區32為例,發光區32內設有一刻線圖案33,其中刻線圖案33為具有一定深度之至少一條刻線所構成,例如在本實施例中,刻線圖案33是由一條刻線所構成之連續圖案(例如弧形圖案、波浪形圖案、鋸齒型圖案、方形圖案或其他不規則圖案),但此並不侷限,在一些實施例中,刻線圖案亦可由多條刻線所構成,例如圖10所示,此實施例之刻線圖案35是由多條刻線351相交而形成網格狀圖案。即刻線圖案35包括複數條刻線351與至少一個格狀區域,複數條刻線351彼此相交以形成上述之至少一個格狀區域,且格狀區域對應於透光部,達到刻線圖案35能有效萃取來自不同角度的光線而利於光源的配置並提高發光效益。此實施例中,複數條刻線351係為直線,但不以此為限,刻線351亦可為曲線。
在一些實施例中,導光板30之第二表面36亦可包括分別對應於上述多個發光區32之多個局部區域,各局部區域也可設有上述刻線圖案。
上述導光板30之刻線圖案33的製程可為但不限於以下方式,舉例來說,可利用雷射加工機或機械加工機在導光板30的製造模具上預先加工形成上述刻線圖案33,再透過熱壓或UV轉印等方式將刻線圖案33轉印至導光板30上。或者,亦可利用雷射加工機或機械加工機在導光板30的第一表面31上直接加工以形成上述刻線圖案33,此並不侷限。
上述發光區32內的刻線圖案33是用於萃取光能量,舉例來說,如圖1所示,光源40發出光線進入導光板30後,光線會在導光板30內反射傳遞,其中部分光線傳遞至發光區32上的刻線圖案33時,刻線圖案33會改變光線的行進方向而集中朝各按鍵20照射,達到光能量萃取之目的以提高發光效益。
此外,如圖1與圖2所示,導光板30之不同發光區32上方所對應之結構(例如按鍵20的結構、基板10之透光孔121的數量、位置或尺寸、或者連接件22的結構與尺寸)都不盡相同。舉例來說,不同發光區32所對應到的不同按鍵20與光源40之間的距離不同,不同發光區32所對應到的不同按鍵20上的字符面積、數量與位置也都不同,且部分按鍵20(例如Caps Lock鍵、Shift鍵、Ctrl鍵、Enter鍵或Backspace鍵)的長度也大於其他部份按鍵20(例如字母鍵與數字鍵)的長度,故不同長度之按鍵20所對應的連接件22之結構、位置或數量也會不同。基於此,本發明實施例之導光板30在各發光區32內的刻線圖案33更具有區域性的尺寸變化,達到各發光區32之刻線圖案33能夠根據其上方所對應之結構進行調整與配置,有效增加光萃取效率而提高發光鍵盤1之發光效益,此配合圖式詳述如下。
圖3為圖2沿3-3線段之剖視圖,圖4為圖2沿4-4線段之剖視圖,圖5為圖2沿5-5線段之剖視圖。如圖1與圖2所示,以最靠近光源40的其中一個發光區32為例,發光區32內的刻線圖案33包括一第一刻線線段331(以實線繪示)與一第二刻線線段335(以虛線繪示),其中第一刻線線段331與第二刻線線段335分別為刻線圖案33位於不同位置之局部線段。如圖3所示,第一刻線線段331沿圖2之3-3線段剖切後具有第一凹槽斷面332,如圖4所示,第二刻線線段335沿圖2之4-4線段剖切後具有第二凹槽斷面336,且第一凹槽斷面332的尺寸不同於第二凹槽斷面336的尺寸,藉此,發光區32內之刻線圖案33的不同刻線線段即可具有不同尺寸變化。在一些實施例中,第一刻線線段331可沿其延伸方向具有一致的截斷面,第二刻線線段335可沿其延伸方向具有一致的截斷面,但此並不侷限。
在一些實施例中,上述第一刻線線段331之第一凹槽斷面332與第二刻線線段335之第二凹槽斷面336的深度、寬度、形狀或其組合可互不相同而構成尺寸不同,使刻線圖案33具有區域性的尺寸變化,且不同發光區32之刻線圖案33的區域性尺寸變化亦可互不相同,此配合圖式詳述如下。
一般來說,導光板30中的光線傳遞至不同尺寸之第一刻線線段331與第二刻線線段335時,會分別產生不同的光能量萃取效果,基本上,刻線線段的深度越深或者寬度越寬,所能萃取到的光能量越多且亮度越高。
如圖2至圖4所示,在本實施例中,第一刻線線段331之第一凹槽斷面332的尺寸包括第一槽深D1(即第一刻線線段331的深度),第二刻線線段335之第二凹槽斷面336的尺寸包括第二槽深D2(即第二刻線線段335的深度),且第一槽深D1不同於第二槽深D2,也就是說,第一凹槽斷面332可與第二凹槽斷面336的深度不同而構成第一刻線線段331與第二刻線線段335彼此的尺寸不同,使第一刻線線段331與第二刻線線段335萃取到的光能量不同。
承上,如圖2、圖3及圖4所示,在本實施例中,發光區32上之刻線圖案33的區域性尺寸變化是根據基板10之組裝區11的結構進行配置。具體而言,基板10對應於發光區32之組裝區11更具有一遮光部13,所述遮光部13為基板10未受到鏤空之實體板件部位而遮蔽於導光板30與按鍵20之間。在此,發光區32之刻線圖案33的第一刻線線段331對應基板10的其中一個透光孔121而未受遮蔽,第二刻線線段335則對應於基板10的遮光部13而受到遮蔽,其中第一刻線線段331之第一凹槽斷面332的第一槽深D1(如圖3所示)可大於第二刻線線段335之第二凹槽斷面336的第二槽深D2(如圖4所示),使第一刻線線段331所萃取的光能量大於第二刻線線段335所萃取的光能量,也就是說,刻線圖案33受到基板10之遮光部13所遮蔽的刻線線段所萃取的光能量較小,從而能減少光能量的浪費並提高通過透光孔121之光線的亮度,以增加光萃取效率而提高發光效益。此外,基於光萃取效率與發光效益的提高,更能夠進一步減少光源40設置的數量而進一步降低成本。
然而,上述實施例僅為舉例,第一刻線線段331之第一凹槽斷面332的第一槽深D1亦可小於第二刻線線段335之第二凹槽斷面336的第二槽深D2,視實際產品需求而定。
如圖2、圖3及圖4所示,在一些實施例中,上述第一刻線線段331之第一凹槽斷面332的尺寸包括第一槽寬W1(即第一刻線線段331的寬度),第二刻線線段335之第二凹槽斷面336的尺寸包括第二槽寬W2(即第二刻線線段335的寬度),第一槽寬W1亦可不同於第二槽寬W2(例如第一槽寬W1大於或小於第二槽寬W2),以根據實際需求調整光能量萃取。舉例來說,第一刻線線段331對應基板10的其中一個透光孔121而未受遮蔽,第二刻線線段335則對應於基板10的遮光部13而受到遮蔽,在第一刻線線段331之第一凹槽斷面332的第一槽寬W1(如圖3所示)大於第二刻線線段335之第二凹槽斷面336的第二槽寬W2(如圖4所示)的條件下,可使第一刻線線段331所萃取的光能量大於第二刻線線段335所萃取的光能量,受到遮蔽的第二刻線線段335萃取較少的光能量,從而能減少光能量的浪費以增加光萃取效率而提高發光效益。
請對照圖2與圖5所示,在一些實施例中,發光區32內的刻線圖案33可包括有多個第一刻線線段331與多個第二刻線線段335,多個第一刻線線段331分別對應於多個透光孔121而未受到基板10遮蔽(多個第一刻線線段331如圖2之刻線圖案33中以實線標示的多個線段),多個第二刻線線段335分別對應於遮光部13而受到基板10遮蔽(多個第二刻線線段335如圖2之刻線圖案33中以虛線標示的多個線段),其中每個第一刻線線段331的深度及/或寬度可皆大於每個第二刻線線段335的深度及/或寬度,以更有效增加光萃取效率而提高發光效益。
再請對照圖3與圖4所示,上述刻線圖案33之第一刻線線段331之第一凹槽斷面332的形狀亦可與第二刻線線段335之第二凹槽斷面336的形狀不同而構成尺寸不同,例如在本實施例中,第一凹槽斷面332為方形凹槽斷面,第二凹槽斷面336為三角形凹槽斷面,使導光板30內之光線傳遞至第一刻線線段331與第二刻線線段335時,能夠形成不同的光路而產生不同的光能量萃取效果。
圖6為本發明發光鍵盤1第二實施例之局部俯視圖,圖7為圖6沿7-7線段之剖視圖,圖8為圖6沿8-8線段之剖視圖。如圖6至圖8所示,在本實施例中,發光區32內的刻線圖案33’包括一第一刻線線段331’與一第二刻線線段335’,其中第一刻線線段331’與第二刻線線段335’分別為刻線圖案33’位於不同位置之局部線段。如圖7所示,第一刻線線段331’沿圖6之7-7線段剖切後具有第一凹槽斷面332’,如圖8所示,第二刻線線段335’沿圖6之8-8線段剖切後具有第二凹槽斷面336’,且第一凹槽斷面332’的尺寸不同於第二凹槽斷面336’的尺寸。
承上,如圖6至圖8所示,在本實施例中,第一刻線線段331’之第一凹槽斷面332’的尺寸包括第一槽深D3與第一槽寬W3,第二刻線線段335’之第二凹槽斷面336’的尺寸包括第二槽深D4與第二槽寬W4,在此,第一槽深D3不同於第二槽深D4,第一槽寬W3也不同於第二槽寬W4,也就是說,在本實施例中,第一凹槽斷面332’與第二凹槽斷面336’的深度與寬度皆不同而構成第一刻線線段331’與第二刻線線段335’彼此的尺寸不同,使第一刻線線段331’與第二刻線線段335’萃取到的光能量不同。在一些實施例中,第一刻線線段331’可沿其延伸方向具有一致的截斷面,第二刻線線段335’可沿其延伸方向具有一致的截斷面,但此並不侷限。
如圖6所示,在本實施例中,發光區32上之刻線圖案33’的區域性尺寸變化是根據按鍵20的結構進行配置。具體而言,對應於發光區32之按鍵20具有一字符21(在此字符為字母A),且第一刻線線段331’相對於第二刻線線段335’鄰近字符21。由於第一刻線線段331’之第一凹槽斷面332’的第一槽深D3與第一槽寬W3分別大於第二刻線線段335’之第二凹槽斷面336’的第二槽深D4與第二槽寬W4,使鄰近字符21之第一刻線線段331’所萃取的光能量大於第二刻線線段335’所萃取的光能量,而能減少光能量的浪費並提高字符21的亮度,以增加光萃取效率而提高發光效益。
在一些實施例中,第一刻線線段331’的第一槽深D3大於第二刻線線段335’的第二槽深D4,而第一刻線線段331’之第一槽寬W3實質上相等於第二刻線線段335’之第二槽寬W4。或者,在一些實施例中,第一刻線線段331’的第一槽深D3實質上相等於第二刻線線段335’的第二槽深D4,而第一刻線線段331’之第一槽寬W3大於第二刻線線段335’之第二槽寬W4。上述配置亦可使鄰近字符21之第一刻線線段331’所萃取的光能量大於第二刻線線段335’所萃取的光能量,增加光萃取效率且提高發光效益,以提高字符21的亮度。
然而,上述實施例僅為舉例,第一刻線線段331’之第一凹槽斷面332’的第一槽深D3亦可小於第二刻線線段335’之第二凹槽斷面336’的第二槽深D4,或者第一刻線線段331’之第一凹槽斷面332’的第一槽寬W3亦可小於第二刻線線段335’之第二凹槽斷面336’的第二槽寬W4,視實際產品需求而定。
如圖9所示,為本發明發光鍵盤第三實施例之局部俯視圖,在本實施例中,發光區32上之刻線圖案34的區域性尺寸變化是根據連接件22的結構進行配置。具體而言,刻線圖案34包括多個第一刻線線段341與多個第二刻線線段342,其中多個第一刻線線段341為未受到連接件22遮蔽之局部線段(如圖9中以網點填充之線段),多個第二刻線線段342則為受到連接件22遮蔽之局部線段(如圖9中以虛線標示的線段),其中各第一刻線線段341與各第二刻線線段342的尺寸(例如深度、寬度或形狀)不同,以根據連接件22的結構產生不同的光能量萃取效果。
承上,舉例來說,各第一刻線線段341的深度及/或寬度可大於各第二刻線線段342的深度及/或寬度,使刻線圖案34未受連接件22遮蔽的第一刻線線段341所萃取的光能量大於受到連接件22遮蔽之第二刻線線段342所萃取的光能量,從而能減少光能量在受到連接件22遮蔽之第二刻線線段342的浪費並提高通過連接件22之光線的亮度,以增加光萃取效率而提高發光效益。
在一些實施例中,上述導光板30之各發光區32內的刻線圖案33、33’、34可同時考量上述基板10之組裝區11的結構、按鍵20之結構及連接件22之結構中至少二者進行區域性尺寸變化。然而,上述實施例僅為舉例,導光板30之各發光區32內的刻線圖案33、33’、34亦可根據發光鍵盤1的其他結構(例如彈性體或平衡桿)調整區域性尺寸變化,此並不侷限。
再如圖1所示,導光板30不同發光區32上的刻線圖案可根據光源40的遠近而互不相同。例如在本實施例中,光源40設置於導光板30一側,導光板30之第一表面31對應不同發光區32設有不同之刻線圖案33、33A、33B,其中刻線圖案33相對於刻線圖案33A更靠近光源40,刻線圖案33A相對於刻線圖案33B更靠近光源40,且刻線圖案33、刻線圖案33A及刻線圖案33B可互不相同,例如刻線圖案33、刻線圖案33A及刻線圖案33B可具有不同區域性尺寸變化而互不相同,或者刻線圖案33、刻線圖案33A及刻線圖案33B之平均深度、平均寬度或總長度互不相同。
舉例來說,如圖1所示,刻線圖案33的平均深度、平均寬度或總長度可小於刻線圖案33A的平均深度、平均寬度或總長度,刻線圖案33A的平均深度、平均寬度或總長度可小於刻線圖案33B的平均深度、平均寬度或總長度,構成光能量萃取率由小到大依序為刻線圖案33、刻線圖案33A及刻線圖案33B,也就是說,越靠近光源40之刻線圖案之光能量萃取率越低,以提高導光板30整體的發光均勻性。
綜上,根據本發明實施例之發光鍵盤,透過導光板對應於每個按鍵之發光區內的刻線圖案具有區域性的尺寸變化,即刻線圖案包括第一刻線線段與第二刻線線段,第一刻線線段具有一第一凹槽斷面,第二刻線線段具有一第二凹槽斷面,且第一凹槽斷面的尺寸不同於第二凹槽斷面的尺寸,可達到有效增加光萃取效率而提高發光鍵盤之發光效益,並能減少光源設置的數量而進一步降低成本。
雖然本發明的技術內容已經以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神所作些許之更動與潤飾,皆應涵蓋於本發明的範疇內,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1:發光鍵盤 10:基板 11:組裝區 12:透光部 121:透光孔 13:遮光部 20:按鍵 21:字符 22:連接件 30:導光板 31:第一表面 32:發光區 33,33’,33A,33B:刻線圖案 331,331’:第一刻線線段 332,332’:第一凹槽斷面 D1,D3:第一槽深 W1,W3:第一槽寬 335,335’:第二刻線線段 336,336’:第二凹槽斷面 D2,D4:第二槽深 W2,W4:第二槽寬 34,35:刻線圖案 341:第一刻線線段 342:第二刻線線段 351:刻線 36:第二表面 40:光源
[圖1]係本發明發光鍵盤第一實施例之分解立體圖。 [圖2]係本發明發光鍵盤第一實施例之局部俯視圖。 [圖3]係圖2沿3-3線段之剖視圖。 [圖4]係圖2沿4-4線段之剖視圖。 [圖5]係圖2沿5-5線段之剖視圖。 [圖6]係本發明發光鍵盤第二實施例之局部俯視圖。 [圖7]係圖6沿7-7線段之剖視圖。 [圖8]係圖6沿8-8線段之剖視圖。 [圖9]係本發明發光鍵盤第三實施例之局部俯視圖。 [圖10]係本發明發光鍵盤第四實施例之局部俯視圖。
1:發光鍵盤
10:基板
11:組裝區
12:透光部
121:透光孔
13:遮光部
20:按鍵
22:連接件
30:導光板
31:第一表面
32:發光區
33,33A,33B:刻線圖案
36:第二表面
40:光源

Claims (12)

  1. 一種發光鍵盤,包括:一基板,包括複數個組裝區,各該組裝區具有一透光部;複數個按鍵,分別設置於該基板之該些組裝區上方,使各該組裝區對應於各該按鍵;以及一導光板,設置於該基板下方,包括一發光區以對應於該些組裝區的其中一者,該發光區內設有一刻線圖案,該刻線圖案包括一第一刻線線段與一第二刻線線段,其中該第一刻線線段具有一第一凹槽斷面,該第二刻線線段具有一第二凹槽斷面,且該第一凹槽斷面的尺寸不同於該第二凹槽斷面的尺寸;其中該基板對應於該發光區之該組裝區更具有一遮光部,該第一刻線線段對應於該透光部,該第二刻線線段對應於該遮光部。
  2. 如請求項1所述之發光鍵盤,其中該導光板包括相對的一第一表面與一第二表面,該第一表面面向該基板且相對於該第二表面鄰近該些按鍵,該第一表面包括該發光區。
  3. 如請求項1所述之發光鍵盤,其中該第一凹槽斷面的尺寸包括一第一槽深,該第二凹槽斷面的尺寸包括一第二槽深,該第一槽深不同於該第二槽深。
  4. 如請求項1或2所述之發光鍵盤,其中該第一凹槽斷面的尺寸包括一第一槽寬,該第二凹槽斷面的尺寸包括一第二槽寬,該第一槽寬不同於該第二槽寬。
  5. 如請求項1所述之發光鍵盤,其中該第一凹槽斷面的形狀不同於該第二凹槽斷面的形狀。
  6. 一種發光鍵盤,包括:一基板,包括複數個組裝區,各該組裝區具有一透光部;複數個按鍵,分別設置於該基板之該些組裝區上方,使各該組裝區對應於各該按鍵;以及一導光板,設置於該基板下方,包括一發光區以對應於該些組裝區的其中一者,該發光區內設有一刻線圖案,該刻線圖案包括一第一刻線線段與一第二刻線線段,其中該第一刻線線段具有一第一凹槽斷面,該第二刻線線段具有一第二凹槽斷面,且該第一凹槽斷面的尺寸不同於該第二凹槽斷面的尺寸;其中對應於該發光區之該按鍵具有一字符,該第一刻線線段相對於該第二刻線線段鄰近該字符。
  7. 如請求項1、請求項5或請求項6所述之發光鍵盤,其中該第一凹槽斷面的尺寸包括一第一槽深,該第二凹槽斷面的尺寸包括一第二槽深,該第一槽深大於該第二槽深。
  8. 如請求項1、請求項5或請求項6所述之發光鍵盤,其中該第一凹槽斷面的尺寸包括一第一槽寬,該第二凹槽斷面的尺寸包括一第二槽寬,該第一槽寬大於該第二槽寬。
  9. 一種發光鍵盤,包括:一基板,包括複數個組裝區,各該組裝區具有一透光部; 複數個按鍵,分別設置於該基板之該些組裝區上方,使各該組裝區對應於各該按鍵;以及一導光板,設置於該基板下方,包括一發光區以對應於該些組裝區的其中一者,該發光區內設有一刻線圖案,該刻線圖案包括一第一刻線線段與一第二刻線線段,其中該第一刻線線段具有一第一凹槽斷面,該第二刻線線段具有一第二凹槽斷面,且該第一凹槽斷面的尺寸不同於該第二凹槽斷面的尺寸;其中對應於該發光區之該按鍵與該基板之間更組設有一連接件,該連接件遮蔽該第二刻線線段但不遮蔽該第一刻線線段。
  10. 如請求項1、請求項6或請求項9所述之發光鍵盤,更包括一光源,該光源設置於該導光板一側,該導光板包括另一發光區,該另一發光區對應於該些組裝區的另一者,該發光區相對於該另一發光區鄰近該光源,且該另一發光區內設有另一刻線圖案,該另一刻線圖案不同於該刻線圖案。
  11. 如請求項10所述之發光鍵盤,其中該另一刻線圖案的一平均深度、一平均寬度或一總長度大於該刻線圖案的一平均深度、一平均寬度或一總長度。
  12. 一種發光鍵盤,包括:一基板,包括複數個組裝區,各該組裝區具有一透光部;複數個按鍵,分別設置於該基板之該些組裝區上方,使各該組裝區對應於各該按鍵;以及 一導光板,設置於該基板下方,包括一發光區以對應於該些組裝區的其中一者,該發光區內設有一刻線圖案,該刻線圖案包括一第一刻線線段與一第二刻線線段,其中該第一刻線線段具有一第一凹槽斷面,該第二刻線線段具有一第二凹槽斷面,且該第一凹槽斷面的尺寸不同於該第二凹槽斷面的尺寸;其中該刻線圖案為一網格狀圖案。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TW201330041A (zh) * 2012-01-11 2013-07-16 Zippy Tech Corp 高均勻亮度之發光鍵盤
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