TWI745142B - 廢氣處理點火裝置之水冷結構 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種廢氣處理點火裝置之水冷結構，係包括有一座體及一套體及一組體，該座體上設置有一第一電極件及形成有一槽部，該第一電極件內形成有一氣流通道，而該套體係組設於該座體上且底部形成有至少一導流塊相對容置於所述槽部內，又該套體於外側邊形成有一氮氣入口及一入水通道，並該套體內部設置有一氣環且形成有一進氣空間連通所述氮氣入口，另該組體係設置於所述套體上且底部設置有一第二電極件並與氣環間形成有一導流空間，另該組體外側邊形成有一進水通道及一出水通道，又該組體內部形成有一水流通道與一迴流通道，藉此，所述第一電極件與第二電極件接電導通使其作動產生電漿電弧且點燃氣體產生電漿火焰，而冷卻水從進水通道進入到水流通道，再由水流通道流至迴流通道且由出水通道送出至入水通道，而通過所述入水通道後送至槽部且由負壓進入引道再由排水通道送出，而其通過水流通道與引道之冷卻水便可降低其第一電極件與第二電極件之溫度，進而達到可冷卻其第一電極件與第二電極件且可儲水以避免燒毀之功效者。

Description

廢氣處理點火裝置之水冷結構

本發明係有關於一種水冷結構，尤指一種可冷卻且可儲水以避免燒毀之廢氣處理點火裝置之水冷結構。

按，大多數電子產業在進行生產或製造的過程當中，會產生各種不同的有害氣體，特別於生產或製造晶圓、半導體等需要進行蝕刻製程的產品之過程中，勢必會產生一定數量之有害氣體，但行政院環境保護署為了保護國人身體健康及保護環境等因素，係明文規定有害氣體需要先加以處理，不得直接排放於大氣中，世界上亦有許多國家具備相關機構及法規，因此，於市面上研發出各種不同的廢氣處理模組，而其中現今廢氣處理模組中會使用電漿點火裝置來進行廢氣的燃燒，而習用電漿點火裝置包含有至少一陰極元件，及至少一與其相對應設置之陽極元件，且將陰極元件及陽極元件接電導通，藉此讓兩者之間產生電漿電弧，並讓氮氣通過電漿電弧以產生極高溫的電漿火焰，但一般習知之電漿點火裝置所產生之極高溫電漿火焰在長時間使用與經常性的以高溫燃燒後，往往會造成陰極元件及陽極元件燒毀之現象發生，但目前市面上並無有效降溫之技術，更且一般習知之電漿點火裝置之各部件間需以多種專用工具與繁瑣步驟來進行組裝，因此，在替換陰極元件及陽極元件時，則需要多種專用的工具來針對電漿點火裝置進行拆裝，進而造成耗費材料成本與組裝成本高等問題發生。

故，如何將上述缺失問題加以改進，乃為本案發明人所欲解決之技術困難點之所在。

爰此，為有效解決上述之問題，本發明之主要目的在於提供一種可冷卻且可儲水以避免燒毀之廢氣處理點火裝置之水冷結構。

本發明之另一目的，在於提供一種可快速定位組裝之廢氣處理點火裝置之水冷結構。

為達上述目的，本發明係提供一種廢氣處理點火裝置之水冷結構，係包括有一座體及一套體及一組體，其中該座體上設置有一第一電極件，該第一電極件內形成有一氣流通道，又該座體上形成有一槽部，而該第一電極件相對設置於所述槽部上，而該套體係組設於該座體上並套設所述第一電極件，且該套體底部形成有至少一導流塊，該導流塊相對容置於所述槽部內，又該套體於外側邊形成有一氮氣入口及一入水通道，並該套體內部設置有一氣環且與氣環間形成有一進氣空間連通所述氮氣入口，另該組體係設置於所述套體上，且該組體底部設置有一第二電極件，該第二電極件相對容置於所述氣流通道內，並該組體與該氣環間形成有一導流空間，另該組體外側邊形成有一進水通道及一出水通道，又該組體內部形成有一水流通道連通所述進水通道，與形成有一迴流通道連通所述出水通道，該出水通道設置有一管道連通所述入水通道，藉此，所述第一電極件與第二電極件接電導通使其作動產生電漿電弧且點燃氣體產生電漿火焰，而冷卻水從進水通道進入到水流通道，再由水流通道流至迴流通道且由出水通道送出至入水通道，而通過所述入水通道後送至槽部且由負壓進入引道再由排水通道送出，而其通過水流通道與引道之冷卻水便可降低其第一 電極件與第二電極件之溫度，進而達到可冷卻其第一電極件與第二電極件且可儲水以避免燒毀之功效者。

根據本發明廢氣處理點火裝置之水冷結構之一實施例，其中所述套體內側相對第一電極件外側形成有一引道，而該入水通道連通所述槽部。

根據本發明廢氣處理點火裝置之水冷結構之一實施例，其中所述第二電極件端緣形成有一點火部，而該點火部相對容置於所述氣流通道內。

根據本發明廢氣處理點火裝置之水冷結構之一實施例，其中所述套體內具有一磁力件相對設置於所述第一電極件外側。

根據本發明廢氣處理點火裝置之水冷結構之一實施例，其中所述氣環上形成有至少一導孔。

根據本發明廢氣處理點火裝置之水冷結構之一實施例，其中所述導孔連通所述進氣空間與導流空間，該導流空間又連通所述氣流通道。

根據本發明廢氣處理點火裝置之水冷結構之一實施例，其中所述套體外側形成有一排水通道，該排水通道連通所述引道。

根據本發明廢氣處理點火裝置之水冷結構之一實施例，其中所述座體中央位置處形成有一通孔連通所述氣流通道。

1:廢氣處理點火裝置

2:座體

21:第一電極件

211:氣流通道

22:槽部

23:通孔

3:套體

31:引道

32:導流塊

33:氮氣入口

34:入水通道

35:排水通道

36:氣環

361:導孔

37:進氣空間

38:磁力件

4:組體

41:第二電極件

411:點火部

42:導流空間

43:進水通道

44:出水通道

441:管道

45:水流通道

46:迴流通道

第1圖係本發明較佳實施例之立體組合示意圖。

第2圖係本發明較佳實施例之剖視示意圖。

第3圖係本發明氣體燃燒之實施示意圖。

第4圖係本發明冷卻水流動之實施示意圖。

本發明之上述目的及其結構與功能上的特性，將依據所附圖式之較佳實施例予以說明。

首先，請參閱第1圖及第2圖所示，係為本發明廢氣處理點火裝置之立體組合示意圖及剖視示意圖，由圖中可清楚看出，其中所述廢氣處理點火裝置1係包括有一座體2及一套體3及一組體4。

其中所述座體2於中央位置處設置有一第一電極件21，其中該第一電極件21係為陽極或陰極，且該座體2上方位置處形成有一槽部22，並該座體2於中央位置處貫穿有一通孔23，而該第一電極件21內形成有一氣流通道211，該氣流通道211底端連通所述通孔23。

其中所述套體3係組設於該座體2上且套設所述第一電極件21，又該套體3內形成有一引道31且形成有至少一導流塊32，另該套體3側邊形成有一氮氣入口33及一入水通道34及一排水通道35，該入水通道34連通所述槽部22，而該排水通道35與該槽部22連通所述引道31，又該套體3內設置有一氣環36且形成一進氣空間37連通所述氮氣入口33，又該氣環36上形成有至少一導孔361，另該套體3內具有一磁力件38。

其中所述組體4係設置於所述套體3上，且該組體4底部設置有一第二電極件41，該第二電極件41係為相反該第一電極件21之陰極或陽極，且該第二電極件41相對容置於所述氣流通道211內，並該第二電極件41端緣形成有一點火部411，該點火部411相對容置於所述氣流通道211內，且該第二電極件41與該點火部411係相對容置於該第一電極件21頂部之氣流通道211內，並該組體4與該氣環36間形成有一導流空間42，且該導孔361連通所述進氣空間37與導流空間42，該導流空間42又連通所述氣流通道211，另該組體4側邊形成有一進水通道43及一出水通道44，及於內部形成 有一水流通道45連通所述進水通道43，與形成有一迴流通道46連通所述水流通道45及出水通道44，該出水通道44設置有一管道441連通所述入水通道34。

另請參閱第3圖所示，係為本發明氣體燃燒之實施示意圖，其中所述廢氣處理點火裝置1使用時，係先將該第一電極件21與第二電極件41連接，使第一電極件21與第二電極件41導通產生電漿電弧，而該氮氣入口33內填充有氮氣，其氮氣導流進導流空間42內，而其導流空間42內之氮氣便會往點火部411移動並與電漿電弧接觸，電漿電弧則點燃氮氣以產生高溫電漿火焰，而高溫電漿火焰係透過接觸使其周遭產生高溫熱氣，藉由磁力件38將高溫電漿產生的旋轉火焰向四周擴散由通孔32送出，以使高溫電漿火焰及擴散高溫熱氣進行廢氣燃燒處理。

另請參閱第4圖所示，係為本發明冷卻水流動之實施示意圖，其中所述廢氣處理點火裝置1進行廢氣燃燒處理時，其進水通道43內填充有冷卻水，且其排水通道35外係呈現負壓的狀態，而於其排水通道35外係呈現負壓的狀態時，冷卻水會由進水通道43進入所述水流通道45且往第二電極件41方向流動，而後受第二電極件41限位之狀況下，其冷卻水會往迴流通道46送去且由出水通道44排出，而由出水通道44排出之冷卻水便會通過管道441送往入水通道34，另由入水通道34送出之冷卻水便會流至槽部22內，而槽部22內的冷卻水會在透過其導流塊32進行導流且透過負壓進入引道31，且其冷卻水於引道31內可透過所述導流塊32導流沿著第一電極件21外側旋繞，以提升對其第一電極件21之冷卻效率，而進入引導之冷卻水再由排水通道35送出，藉此，其通過水流通道45與引道31之冷卻水可降低其第一電極件21與第二電極件41之溫度，進而達到可冷卻其第一電極件21與第二電極件41之功效者，再者，若遇到燃燒環境停電之情況且停止送冷卻 水時，其引道31內的冷卻水便不再受負壓影響而送入排水通道35，以使其引道31內儲存有冷卻水，進而達到該廢氣處理點火裝置1可儲水以避免第一電極件21與第二電極件41燒毀之功效者。

以上已將本發明做一詳細說明，惟以上所述者，僅為本發明之一較佳實施例而已，當不能限定本發明實施之範圍，即凡依本發明申請範圍所作之均等變化與修飾等，皆應仍屬本發明之專利涵蓋範圍。

1:廢氣處理點火裝置

2:座體

21:第一電極件

211:氣流通道

22:槽部

23:通孔

3:套體

31:引道

32:導流塊

34:入水通道

35:排水通道

36:氣環

37:進氣空間

38:磁力件

4:組體

41:第二電極件

411:點火部

42:導流空間

43:進水通道

44:出水通道

441:管道

45:水流通道

46:迴流通道

Claims (8)

1. 一種廢氣處理點火裝置之水冷結構，係包括：一座體，該座體上設置有一第一電極件，且該座體上形成有一槽部，該第一電極件內形成有一氣流通道；一套體，該套體係組設於該座體上並套設所述第一電極件，且該套體底部形成有至少一導流塊相對容置於槽部內，並該套體側邊形成有一氮氣入口及一入水通道，又該套體內設置有一氣環且於該氣環外側形成一進氣空間連通所述氮氣入口；一組體，該組體係設置於所述套體上，且該組體底部設置有一第二電極件相對容置於所述氣流通道內，並該組體與該氣環間形成有一導流空間，另該組體側邊形成有一進水通道及一出水通道，又該組體內部形成有一水流通道連通所述進水通道，與形成有一迴流通道連通所述出水通道，該出水通道設置有一管道連通所述入水通道。
2. 如請求項1所述之廢氣處理點火裝置之水冷結構，其中所述套體內側相對第一電極件外側形成有一引道，而該入水通道連通所述槽部。
3. 如請求項1所述之廢氣處理點火裝置之水冷結構，其中所述第二電極件端緣形成有一點火部，而該點火部相對容置於所述氣流通道內。
4. 如請求項1所述之廢氣處理點火裝置之水冷結構，其中所述套體內具有一磁力件相對設置於所述第一電極件外側。
5. 如請求項1所述之廢氣處理點火裝置之水冷結構，其中所述氣環上形成有至少一導孔。
6. 如請求項5所述之廢氣處理點火裝置之水冷結構，其中所述導孔連通所述進氣空間與導流空間，該導流空間又連通所述氣流通道。
7. 如請求項2所述之廢氣處理點火裝置之水冷結構，其中所述套體外側形成有一排水通道，該排水通道連通所述引道。
8. 如請求項1所述之廢氣處理點火裝置之水冷結構，其中所述座體中央位置處形成有一通孔連通所述氣流通道。

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