TWI742030B - 適合於檢測圖像的裝置 - Google Patents

適合於檢測圖像的裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI742030B
TWI742030B TW105144265A TW105144265A TWI742030B TW I742030 B TWI742030 B TW I742030B TW 105144265 A TW105144265 A TW 105144265A TW 105144265 A TW105144265 A TW 105144265A TW I742030 B TWI742030 B TW I742030B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
memory
electronic system
signal
patent application
ray
Prior art date
Application number
TW105144265A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201740136A (zh
Inventor
曹培炎
程華斌
劉雨潤
Original Assignee
大陸商深圳幀觀德芯科技有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 大陸商深圳幀觀德芯科技有限公司 filed Critical 大陸商深圳幀觀德芯科技有限公司
Publication of TW201740136A publication Critical patent/TW201740136A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI742030B publication Critical patent/TWI742030B/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/76—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using address translation or modifications
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N5/00—Details of television systems
    • H04N5/30—Transforming light or analogous information into electric information
    • H04N5/32—Transforming X-rays
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/80—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout
    • G11C29/808—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved layout using a flexible replacement scheme
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
    • G11C29/84—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved access time or stability
    • G11C29/846—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved access time or stability by choosing redundant lines at an output stage
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/86—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring in serial access memories, e.g. shift registers, CCDs, bubble memories
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/30—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from X-rays
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
    • H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
    • H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
    • H04N25/771—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising storage means other than floating diffusion
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11C—STATIC STORES
    • G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/18—Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
    • G11C29/24—Accessing extra cells, e.g. dummy cells or redundant cells

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)

Abstract

本文公開適合於檢測圖像的裝置，其包括：多個圖元，其配置成在暴露於輻射時產生電信號；電子系統，其與圖元中的每個關聯，其中電子系統包括第一信號路徑上的第一記憶體和第二信號路徑上的第二記憶體，兩個信號路徑在電子系統的輸入端子與輸出端子之間；其中第一記憶體和第二記憶體中的每個配置成存儲由電子系統與之關聯的圖元產生的電信號、配置成存儲在另一個圖元中產生的電信號並且配置成將電子系統中存儲的電信號傳送到另一個圖元；其中電子系統包括開關，其配置成選擇信號路徑中的一個。

Description

適合於檢測圖像的裝置
本公開涉及從半導體圖像檢測器、特別是半導體X射線圖像檢測器讀取資料的方法。
X射線檢測器可以是用於測量X射線的通量、空間分佈、光譜或其他性質的設備。
X射線檢測器可用於許多應用。一個重要應用是成像。配置成檢測X射線圖像的X射線檢測器可叫作X射線成像檢測器。X射線成像是放射攝影技術並且可以用於揭示組成不均勻和不透明物體(例如人體)的內部結構。
早期用於成像的X射線檢測器包括照相底片和照相膠片。照相底片可以是具有感光乳劑塗層的玻璃底片。儘管照相底片被照相膠片取代，由於它們所提供的優越品質和它們的極端穩定性而仍可在特殊情形中使用它們。照相膠片可以是具有感光乳劑塗層的塑膠膠片(例如，帶或片)。
在20世紀80年代，出現了光激勵螢光板(PSP板)。PSP板可包含在它的晶格中具有色心的螢光材料。在將PSP板暴露於X射線時，X射線激發的電子被困在色心中直到它們受到在板表面上掃描的雷射光束的激勵。在鐳射掃描板時，捕獲的激發電子發出光，其被光電倍增管收集。收集的光轉換成數位圖像。與照相底片和照相膠片相比，PSP可以被重複使用。
另一種X射線檢測器是X射線圖像增強器。X射線圖像增強器的部件通常 在真空中密封。與照相底片、照相膠片和PSP板相比，X射線圖像增強器可產生即時圖像，即不需要曝光後處理來產生圖像。X射線首先撞擊輸入螢光體(例如，碘化銫)並且被轉換成可見光。可見光然後撞擊光電陰極(例如，包含銫和銻複合物的薄金屬層)並且促使電子發射。發射電子數量與入射X射線的強度成比例。發射電子通過電子光學器件投射到輸出螢光體上並且促使該輸出螢光體產生可見光圖像。
閃爍體的操作與X射線圖像增強器有些類似之處在於閃爍體(例如，碘化鈉)吸收X射線並且發射可見光，其然後可以被對可見光合適的圖像感測器檢測到。在閃爍體中，可見光在各個方向上傳播和散射並且從而降低空間解析度。 使閃爍體厚度減少有助於提高空間解析度但也減少X射線吸收。閃爍體從而必須在吸收效率與解析度之間達成妥協。
半導體X射線檢測器通過將X射線直接轉換成電信號而在很大程度上克服該問題。半導體X射線檢測器可包括半導體層，其在感興趣波長吸收X射線。 當在半導體層中吸收X射線光子時，產生多個載荷子(例如，電子和空穴)並且在朝向半導體層上的電觸點的電場下掃過它們。當前可用半導體X射線檢測器(例如，Medipix)中需要的繁瑣的熱管理可能使得具有大面積和大量圖元的檢測器難以生產或不可能生產。
本文公開適合於檢測圖像的裝置，其包括：多個圖元，其配置成在暴露於輻射時產生電信號；電子系統，其與圖元中的每個關聯，其中電子系統包括第一信號路徑上的第一記憶體和第二信號路徑上的第二記憶體，兩個信號路徑在電子系統的輸入端子與輸出端子之間；其中第一記憶體和第二記憶體中的每個 配置成存儲由電子系統與之關聯的圖元產生的電信號、配置成存儲在另一個圖元中產生的電信號並且配置成將電子系統中存儲的電信號傳送到另一個圖元；其中電子系統包括開關，其配置成選擇信號路徑中的一個。
根據實施例，輸入端子配置成接收進入電子系統的信號並且輸出端子配置成將存儲在電子系統中的信號傳送到下游電路。
根據實施例，選擇第一信號路徑除非第一記憶體有缺陷。
根據實施例，在第一記憶體有缺陷時選擇第二信號路徑。
根據實施例，裝置配置成檢測X射線圖像。
根據實施例，電子系統包括記憶體，其配置成存儲代表有缺陷狀態和信號路徑選擇的代碼。記憶體可具有冗餘。
根據實施例，記憶體是非易失性記憶體。
根據實施例，裝置進一步包括記憶體，其配置成存儲代表多個電子系統的有缺陷狀態和信號路徑選擇的代碼。
根據實施例，記憶體是非易失性記憶體。
根據實施例，裝置進一步包括控制器，其配置成基於代表有缺陷狀態和信號路徑選擇的代碼以在多個電子系統中選擇信號路徑。代表有缺陷狀態和信號路徑選擇的代碼可存儲在記憶體中，該記憶體配置成存儲這些代碼。裝置可配置成統一對一組電子系統在冗餘記憶體之間選擇。
根據實施例，記憶體是可移動加密鎖。
根據實施例，裝置被停用除非存在可移動加密鎖。
根據實施例，電子系統包括旁路路徑，其連接輸入端子和輸出端子，而在 該旁路路徑上沒有記憶體；其中電子系統包括開關，其配置成選擇第一信號路徑、第二信號路徑或旁路路徑。
本文公開適合於檢測圖像的裝置，其包括：多個圖元，其配置成在暴露於輻射時產生電信號；與圖元中的每個關聯的電子系統，其中電子系統包括電子系統的輸入端子與輸出端子之間的信號路徑上的第一記憶體，其中該第一記憶體配置成存儲由電子系統與之關聯的圖元產生的電信號、配置成存儲在另一個圖元中產生的電信號並且配置成將存儲在電子系統中的電信號傳送到另一個圖元；其中電子系統包括旁路路徑，其連接輸入端子和輸出端子，而在該旁路路徑上沒有記憶體；其中電子系統包括開關，其配置成選擇信號路徑或旁路路徑。
根據實施例，輸入端子配置成接收到電子系統內的信號並且輸出端子配置成將存儲在電子系統中的信號傳送到下游電路。
根據實施例，選擇信號路徑除非第一記憶體有缺陷。
根據實施例，裝置配置成檢測X射線圖像。
根據實施例，電子系統包括記憶體，其配置成存儲代表有缺陷狀態和信號路徑或旁路路徑的選擇的代碼。
根據實施例，記憶體是非易失性記憶體。
根據實施例，裝置進一步包括記憶體，其配置成存儲代表多個電子系統的有缺陷狀態和信號路徑或旁路路徑的選擇的代碼。
根據實施例，記憶體是非易失性記憶體。
根據實施例，裝置進一步包括包括控制器，該控制器配置成基於代碼在多個電子系統中選擇信號路徑或旁路路徑。
100:X射線圖像檢測器
110:X射線吸收層
111:第一摻雜區
112:本征區
113:第二摻雜區
114:離散部分
119A:電觸點
119B:電觸點
120:電子層
121:電子系統
122:襯底
123:再分佈層
124:第一表面
125:電觸點
126:通孔
126A:通孔
126B:通孔
127:傳輸線
128:第二表面
129:通孔
130:填充材料
131:通孔
150:圖元
199:焊料凸點
511、512、513、514、522、523、524、531、532、533、534:圖元
521:電子系統
601:輸入端子
602:輸出端子
610:單刀多擲開關
620:單刀多擲開關
631:信號路徑
632:信號路徑
633:旁路路徑
641、642、810、810A、810B、910、911:記憶體
671、672、673、674、675、676、677、678、679、680、681、682:電子系統
920:控制器
1201:X射線源
1202:物體
1301:X射線源
1302:物體
1401:X射線源
1402:物體
1501:X射線源
1502:行李
1601:X射線源
1602:人
1701:X射線源
1801:電子源
1802:樣本
1803:電子光學系統
圖1A示意示出根據實施例的X射線成像檢測器的橫截面圖。
圖1B示意示出根據實施例的檢測器的詳細橫截面圖。
圖1C示意示出根據實施例的檢測器的備選詳細橫截面圖。
圖2示意示出根據實施例設備可具有圖元陣列。
圖3A示意示出根據實施例的電子層。
圖3B示意示出根據實施例的電子層。
圖3C示意示出根據實施例的電子層。
圖4A、圖4B和圖4C各自示出圖3A中的RDL的備選頂視圖。
圖5A、圖5B和圖5C各自示出失效模式。
圖6A示出根據實施例的電子系統的功能框圖。
圖6B示出根據實施例的電子系統的功能框圖。
圖6C示出根據實施例的電子系統的功能框圖。
圖6D示意示出十二個電子系統鏈。
圖7示意示出圖6B的電子系統的記憶體可具有四個不同的有缺陷狀態。
圖8A示意示出代表電子系統的有缺陷狀態的代碼可存儲在電子系統本身中。
圖8B示意示出用於存儲代表電子系統的有缺陷狀態的代碼的記憶體可具有冗餘。
圖9A示意示出代表電子系統鏈的信號路徑的代碼可存儲在檢測器的記憶體中。
圖9B示意示出用於存儲代表的有缺陷狀態的代碼的冗餘記憶體之間的選擇可在一組電子系統中統一切換。
圖10示意示出代表電子系統鏈的信號路徑的代碼可存儲在加密鎖中。
圖11示意示出根據實施例適合於醫學成像(例如胸部X射線放射攝影、腹部X射線放射攝影等)的系統，其包括本文描述的半導體X射線檢測器。
圖12示意示出根據實施例適合於牙齒X射線放射攝影的系統，其包括本文描述的半導體X射線檢測器。
圖13示意示出根據實施例的貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統，其包括本文描述的半導體X射線檢測器。
圖14示意示出根據實施例的另一個貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統，其包括本文描述的半導體X射線檢測器。
圖15示意示出根據實施例的全身掃描器系統，其包括本文描述的半導體X射線檢測器。
圖16示意示出根據實施例的X射線電腦斷層攝影(X射線CT)系統，其包括本文描述的半導體X射線檢測器。
圖17示意示出根據實施例的電子顯微鏡，其包括本文描述的半導體X射線檢測器。
圖1A示意示出根據實施例的X射線圖像檢測器100的橫截面圖。該檢測器 100可包括X射線吸收層110和電子層120(例如，ASIC)，用於處理或分析入射X射線在X射線吸收層110中產生的電信號。在實施例中，檢測器100不包括閃爍體。X射線吸收層110可包括半導體材料，例如矽、鍺、GaAs、CdTe、CdZnTe或其組合。半導體對於感興趣的X射線能量可具有高的品質衰減係數。
如在圖1B中的檢測器100的詳細橫截面圖中示出的，根據實施例，X射線吸收層110可包括由第一摻雜區111、第二摻雜區113的一個或多個離散區114形成的一個或多個二極體(例如，p-i-n或p-n)。第二摻雜區113可通過本征區112(可選)而與第一摻雜區111分離。離散部分114通過第一摻雜區111或本征區112而彼此分離。第一摻雜區111和第二摻雜區113具有相反類型的摻雜(例如，區111是p型並且區113是n型，或區111是n型並且區113是p型)。在圖1B中的示例中，第二摻雜區113的離散區114中的每個與第一摻雜區111和本征區112(可選)一起形成二極體。即，在圖1B中的示例中，X射線吸收層110具有多個二極體，其具有第一摻雜區111作為共用電極。第一摻雜區111還可具有離散部分。
在X射線光子撞擊X射線吸收層110(其包括二極體)時，X射線光子可被吸收並且通過許多機制產生一個或多個載荷子。一個X射線光子可產生10至100000個載荷子。載荷子可在電場下向二極體中的一個的電極漂移。場可以是外部電場。電觸點119B可包括離散部分，其中的每個與離散區114電接觸。在實施例中，載荷子可在多個方向上漂移使得單個X射線光子產生的載荷子大致未被兩個不同離散區114共用(“大致未被共用”在這裡意指這些載荷子中不到2%、不到0.5%、不到0.1%或不到0.01%流向與餘下載荷子不同的離散區114中的一個)。在這些離散區114中的一個的足跡周圍入射的X射線光子產生的載荷子大致未與這些離散區114中的另一個共用。與離散區114關聯的圖元150可 以是圍繞離散區114的區域，其中由其中入射的X射線光子產生的載荷子中的大致全部(超過98%、超過99.5%、超過99.9%或超過99.99%)流向離散區114。即，這些載荷子中不到2%、不到1%、不到0.1%或不到0.01%流到圖元外。
如在圖1C中的檢測器100的備選詳細橫截面圖中示出的，根據實施例，X射線吸收層110可包括具有半導體材料(例如矽、鍺、GaAs、CdTe、CdZnTe或其組合)的電阻器，但不包括二極體。半導體對於感興趣的X射線能量可具有高的品質衰減係數。
在X射線光子撞擊X射線吸收層110(其包括電阻器但不包括二極體)時，它可被吸收並且通過許多機制產生一個或多個載荷子。一個X射線光子可產生10至100000個載荷子。載荷子可在電場下向電觸點119A和119B漂移。場可以是外部電場。電觸點119B包括離散部分。在實施例中，載荷子可在多個方向上漂移使得單個X射線光子產生的載荷子大致未被電觸點119B的兩個不同離散部分共用(“大致未被共用”在這裡意指這些載荷子中不到2%、不到0.5%、不到0.1%或不到0.01%流向與餘下載荷子不同的離散區114中的一個)。在電觸點119B的這些離散部分中的一個的足跡周圍入射的X射線光子產生的載荷子大致未與電觸點119B的這些離散部分中的另一個共用。與電觸點119B的離散部分關聯的圖元150可以是圍繞離散部分的區域，其中由其中入射的X射線光子產生的載荷子中的大致全部(超過98%、超過99.5%、超過99.9%或超過99.99%)流向電觸點119B的離散部分。即，這些載荷子中不到2%、不到0.5%、不到0.1%或不到0.01%流到與電觸點119B的一個離散部分關聯的圖元外。
電子層120可包括電子系統121，其適合於處理或解釋X射線吸收層110上入射的X射線光子產生的信號。電子系統121可包括例如濾波網路、放大器、 積分器和比較器等類比電路或例如微處理器等數位電路和記憶體。電子系統121可包括圖元共用的部件或專用於單個圖元的部件。例如，電子系統121可包括專用於每個圖元的放大器和在所有圖元之間共用的微處理器。電子系統121可通過通孔131電連接到圖元。通孔之間的空間可用填充材料130填充，其可使電子層120到X射線吸收層110的連接的機械穩定性增加。在不使用通孔的情況下使電子系統121連接到圖元的其他接合技術是可能的。電子系統121可配置成通過圖元對X射線光子計數或配置成測量圖元處累積的載荷子數量(例如，通過使用圖元共用的模數轉換器(ADC))。
圖2示意示出檢測器100可具有圖元150的陣列。陣列可以是矩形陣列、蜂窩狀陣列、六邊形陣列或任何其他適合的陣列。每個圖元150可配置成檢測其上入射的X射線光子、測量X射線光子的能量或兩者兼而有之。例如，每個圖元150可配置成在一段時間內對其上入射的、能量落在多個倉中的X射線光子的數目計數。所有圖元150可配置成在相同時段內對其上入射的、能量在多個倉內的X射線光子的數目計數。每個圖元150可具有它自己的模數轉換器(ADC)，其配置成使代表入射X射線光子的能量的類比信號數位化為數位信號。ADC可具有10位或更高的解析度。每個圖元150可配置成測量它的暗電流，例如在每個X射線光子入射在其上之前或與之併發。每個圖元150可配置成從其上入射的X射線光子的能量減去暗電流的貢獻。圖元150可配置成平行作業。 例如，在一個圖元150測量入射X射線光子時，另一個圖元150可等待X射線光子到達。圖元150可以但不必獨立可定址。
圖3A示意示出根據實施例的電子層120。電子層120包括襯底122，其具有第一表面124和第二表面128。如本文使用的“表面”不一定被暴露，而可以全部或部分被掩埋。電子層120包括第一表面124上的一個或多個電觸點125。該 一個或多個電觸點125可配置成電連接到X射線吸收層110的一個或多個電觸點119B。電子系統121可在襯底122中或襯底122上。電子層120包括一個或多個通孔126，其從第一表面124延伸到第二表面128。電子層120可包括第二表面128上的再分佈層(RDL)123。RDL 123可包括一個或多個傳輸線127。電子系統121通過通孔126電連接到電觸點125和傳輸線127。RDL 123可包括一個或多個通孔129，其配置成使傳輸線127電連接到電子層120外部的電路。
襯底122可以是變薄襯底。例如，襯底可具有750微米或更少、200微米或更少、100微米或更少、50微米或更少、20微米或更少或5微米或更少的厚度。 襯底122可以是矽襯底或其他適合的半導體或絕緣體襯底。襯底122可通過將較厚襯底研磨到期望厚度而產生。
一個或多個電觸點125可以是金屬或摻雜半導體的層。例如，電觸點125可以是金、銅、鉑、鈀、摻雜矽等。
通孔126經過襯底122並且使第一表面124上的電部件(例如，電觸點125)電連接到第二表面128上的電部件(例如，RDL)。通孔126有時稱為“矽直通孔”，但它們可在除矽以外的材料的襯底中製造。
RDL 123可包括一個或多個傳輸線127。這些傳輸線127使襯底122中的電部件(例如，通孔126)在襯底122上的其他位點電連接到接合墊。傳輸線127可與襯底122電隔離，但在某些通孔126和某些接合墊處除外。傳輸線127可以是對於感興趣的X射線能量具有小的品質衰減係數的材料(例如Al)。RDL 123可將電連接再分佈到更多便利位點。RDL 123在檢測器100具有大量圖元時尤其有用。如果檢測器100沒有大量圖元，RDL123可被省略並且來自圖元的信號可在第一表面124上路由。
圖3A進一步示意示出在電觸點119B和電觸點125處X射線吸收層110與電子層120之間的接合。該接合可以通過適合的技術，例如直接接合或倒裝接合。
直接接合是沒有任何額外中間層(例如，焊料凸點)的晶圓接合工藝。接合工藝基於兩個表面之間的化學接合。直接接合可在升高的溫度下進行但不一定如此。
倒裝接合使用沉積到接觸墊(例如X射線吸收層110的電觸點119B，或電觸點125)上的焊料凸點199。X射線吸收層110或電子層120翻轉並且X射線吸收層110的電觸點119B與電觸點125對齊。焊料凸點199可熔融以將電觸點119B和電觸點125焊接在一起。焊料凸點199之間的任何空隙空間可用絕緣材料填充。
圖3B示意示出根據實施例的電子層120。圖3B中示出的電子層120與圖3A中示出的電子層120在下列方面不同。電子系統121掩埋在襯底122中。電子層120包括一個或多個通孔126A，其從第一表面124延伸到第二表面128。通孔126A使電觸點125電連接到第二表面128上的RDL 123中的傳輸線127。電子層120進一步包括一個或多個通孔126B，其從第二表面128延伸到電子系統121。通孔126B使傳輸線127電連接到電子系統121。X射線吸收層110和電子層120也可通過例如直接接合或倒裝接合等適合的技術接合在一起(例如，在電觸點119B和電觸點125處)。
圖3C示意示出根據實施例的電子層120。圖3C中示出的電子層120與圖3A中示出的電子層120在下列方面不同。電子系統121掩埋在襯底122中。電子層120在第一表面124上不包括一個或多個電觸點125。相反，包括掩埋電子 系統121的襯底122通過直接接合而接合到X射線吸收層110。在襯底123中形成孔並且用金屬填充它來形成將電觸點119B電佈線到第二表面128的通孔126A並且形成將電子系統121電佈線到第二表面128的通孔126B。然後在第二表面128上形成RDL 123使得傳輸線127使通孔126A和126B電連接來完成從電觸點119B到電子系統121的電連接。X射線吸收層110可包括多個離散晶片。這些晶片中的每個可獨立或統一接合到電子層120。包括多個離散晶片的X射線吸收層110可有助於適應X射線吸收層110與電子層120的材料的熱膨脹係數之間的差異。
如在圖3A、圖3B或圖3C中示出的電子層120僅僅是示例。對於從電子系統121的信號讀出不需要RDL(例如，123)、通孔(例如，126、126A、126B、129)和傳輸線(例如，127)。圖4A、圖4B和圖4C中示出的信號讀出方案可在不使用RDL、通孔或傳輸線的情況下實現。
來自檢測器100的信號可被逐列讀出。例如，來自一個圖元的信號可存儲在與它關聯的電子系統121中的記憶體中；信號可依次從一個列移到下一個，並且最終到其他處理電路。根據實施例，如果存在RDL 123，圖4A示出圖3A中的RDL 123的頂視圖來圖示通孔126和傳輸線127相對於電觸點125和電子系統121的位置。電觸點125、電子系統121和傳輸線127因為它們在該視圖中並不直接可見而以虛線示出。如在圖5A中示出的，如果一個圖元514的電子系統121有缺陷(如由折線符號標記的)，從上游所有圖元(例如，511-513)的信號讀出可未能到相同列中的圖元514。例如，如果圖元514的電子系統121中的記憶體有缺陷，從上游圖元移入有缺陷記憶體的任何信號可被丟失。
來自檢測器100的信號可被逐圖元讀出。例如，來自一個圖元的信號可存 儲在與它關聯的電子系統121中的記憶體中；信號可依次從與一個圖元關聯的電子系統121移到與下一個圖元關聯的電子系統121，並且最終到其他處理電路。根據實施例，如果存在RDL 123，圖4B示出圖3A中的RDL 123的頂視圖來圖示通孔126和傳輸線127相對於電觸點125和電子系統121的位置。電觸點125、電子系統121和傳輸線127因為它們在該視圖中並不直接可見而以虛線示出。如在圖5B中示出的，如果一個圖元524的電子系統121有缺陷(如由折線符號標記的)，從上游所有圖元(例如，521-523)的信號讀出可未能到圖元524。 例如，如果圖元524的電子系統121中的記憶體有缺陷，從上游圖元移入有缺陷記憶體的任何信號可被丟失。
來自檢測器100的信號可被逐區讀出。例如，來自一個圖元的信號可存儲在與它關聯的電子系統121中的記憶體中；信號可依次從與一個圖元關聯的電子系統121移到與相同區中的下一個圖元關聯的電子系統121，並且最終到其他處理電路。根據實施例，如果存在RDL 123，圖4C示出圖3A中的RDL 123的頂視圖來圖示通孔126和傳輸線127相對於電觸點125和電子系統121的位置。 信號可通過RDL 123中的通孔129被引導到其他處理電路。電觸點125、電子系統121和傳輸線127因為它們在該視圖中並不直接可見而以虛線示出。如在圖5C中示出的，如果一個圖元534的電子系統121有缺陷(如由折線符號標記的)，從上游所有圖元(例如，531-533)的信號讀出可未能到相同區中的圖元534。例如，如果圖元534的電子系統121中的記憶體有缺陷，從上游圖元移入有缺陷記憶體的任何信號可被丟失。
電子系統121可配置成使丟失從上游無缺陷圖元到有缺陷圖元的信號的機會減少或防止丟失這樣的信號。圖6A示出根據實施例的電子系統121的功能框圖。電子系統121可在電子系統121的記憶體中具有冗餘。例如，電子系統121 可具有多個記憶體(例如，641和642)。記憶體可配置成存儲來自電子系統121與之關聯的圖元的信號或存儲移自上游圖元的信號。記憶體可以在電子系統121的輸入端子601與輸出端子602之間的獨立且電並聯信號路徑(例如，631和632)上。輸入端子601配置成接收到電子系統121內的信號，例如來自電子系統121與之關聯的圖元或上游圖元。輸出端子602配置成將存儲在電子系統121中的信號傳送到下游電路，例如下游圖元。電子系統121可具有開關(例如，兩個單刀多擲開關610和620)，其選擇多個信號路徑中的一個。例如，可預設選擇信號路徑631並且預設使用記憶體641，除非記憶體641有缺陷；如果記憶體641有缺陷，可選擇信號路徑632並且因此使用記憶體642。利用電子系統121的記憶體中的冗餘，即使多個記憶體之間一個記憶體有缺陷，電子系統121仍然運作並且來自上游圖元的信號仍可以移進和移出電子系統121。
圖6B示出根據實施例的電子系統121的功能框圖。除多個記憶體(例如，641和642)和其上具有記憶體的多個信號路徑(例如，631和632)外，電子系統121還可具有旁路路徑(例如，633)，其連接輸入端子601和輸出端子602而在其上沒有記憶體。在所有記憶體有缺陷時可通過多刀多擲開關610和620來選擇旁路路徑。在選擇旁路路徑時，來自上游圖元的信號直接移到下游圖元。在選擇旁路路徑時，來自電子系統121與之關聯的圖元的信號可未被讀出。
圖6C示意示出根據實施例的電子系統121的功能框圖。電子系統121在信號路徑631上可僅具有一個記憶體641，和旁路路徑(例如，633)，該旁路路徑連接輸入端子601和輸出端子602而在其上沒有記憶體。在所有記憶體有缺陷時可通過多刀多擲開關610和620來選擇旁路路徑。在選擇旁路路徑時，來自上游圖元的信號直接移到下游圖元。在選擇旁路路徑時，來自電子系統121與之關聯的圖元的信號可未被讀出。
圖6D示意示出根據圖6B的實施例的十二個電子系統(671-682)鏈，電子系統中的每個與圖元關聯。有缺陷記憶體用折線符號標記。在圖6D中示出的該示例中，儘管十二個電子系統中有八個(672-675、677、679、681和682)有缺陷，鏈未斷裂(即，從上游圖元到這十二個電子系統121的信號仍可以經過該鏈)。例如，在具有至少一個有缺陷記憶體的那些電子系統(672、673、675、677、679和682)中，例如通過多刀多擲開關來選擇無缺陷記憶體中的一個，使得無缺陷記憶體仍可以存儲來自這些電子系統與之關聯的圖元的信號並且允許來自上游圖元的信號移進和移出這些電子系統。在其中所有記憶體有缺陷的那些電子系統(674和681)中，例如通過多刀多擲開關來選擇旁路信號直通，使得來自上游圖元的信號直接移到下游圖元。
電子系統中的有缺陷狀態和信號路徑選擇可由代碼表示。例如，如在圖7中示出的，圖6B的電子系統的記憶體可具有四個不同的有缺陷狀態：記憶體641有缺陷並且記憶體642有缺陷，記憶體641有缺陷但記憶體642沒有缺陷，記憶體641沒有缺陷但記憶體642有缺陷，以及記憶體641沒有缺陷且記憶體642沒有缺陷。在該示例中，這些狀態由代碼“11”、“10”、“01”和“00”表示。在可以從有缺陷狀態確定信號路徑選擇時，這些代碼也可以代表信號路徑選擇。在該示例中，代碼“11”、“10”、“01”和“00”可以分別代表選擇信號路徑633、632、631和631。這些代碼可級聯來代表整個電子系統鏈的信號路徑。例如，圖6D的鏈的信號路徑可以由代碼“00 10 01 11 10 00 01 00 01 00 11 01”表示。
圖8A示意示出代表電子系統121的有缺陷狀態(或開關的對應狀態)的代碼可存儲在電子系統121本身中。電子系統121可包括與記憶體(例如，圖6A和圖6B中的641和642)分離以用於存儲信號的記憶體810。記憶體810可以是 非易失性記憶體。在圖6A和6C的示例中，記憶體810可具有一個位或更多。在圖6B的示例中，記憶體810可具有兩個位或更多。
圖8B示意示出用於存儲代表電子系統121的有缺陷狀態(或開關的對應狀態)的代碼的記憶體可具有冗餘，以在該記憶體中預防有任何失效來存儲代碼。例如，可存在兩個記憶體810A和810B來存儲該代碼。可存在額外記憶體來存儲在冗餘記憶體810A與810B之間的選擇。
圖9A示意示出代表電子系統121鏈的信號路徑的代碼可存儲在檢測器100的記憶體中。記憶體910可以是非易失性記憶體。檢測器100的控制器920可配置成基於記憶體910中存儲的代碼來選擇鏈的信號路徑。代表電子系統121鏈的信號路徑的代碼可用作檢測器100的金鑰，例如用於控制對檢測器100的訪問、確定使用時間或計費。
圖9B示意示出用於存儲代表有缺陷狀態(或開關的對應狀態)的代碼的冗餘記憶體之間的選擇可在一組電子系統121中統一切換。選擇可存儲在另一個記憶體911中。例如，存儲在該組電子系統121的每個記憶體810A(參見圖8B)中的代碼可用于代表有缺陷狀態，或存儲在該組電子系統121的每個記憶體810B(參見圖8B)中的代碼可用于代表有缺陷狀態。例如，對於統一切換的每組電子系統121，代表在冗余記憶體之間選擇的一個代碼可存儲在記憶體911中。例如，對於具有選擇810A、810A、810B、810A、810A、810A、810B、810B…的組集，代表存儲在記憶體911中的這些選擇的代碼可以是00100011…(“0”代表選擇810A並且“1”代表選擇810B)。檢測器100的控制器920可配置成基於記憶體911中存儲的代碼而在冗餘記憶體(例如，810A和810B)之間選擇。存儲在記憶體911中代碼可用作檢測器100的金鑰，例如用於控制對檢測器100的 訪問、確定使用時間或計費。
圖10示意示出代表電子系統121鏈的信號路徑的代碼可存儲在可移動加密鎖中，其可以採用存儲卡或存儲條的形式。在可使用檢測器100之前可需要加密鎖的物理存在。其他功能可以集成到加密鎖內。例如，加密鎖可以充當需要定期更新的許可證；加密鎖可在其上記錄金額來對檢測器100的每次使用收費。
圖11示意示出這樣的系統，其包括本文描述的檢測器100。該系統可用于醫學成像，例如胸部X射線放射攝影、腹部X射線放射攝影等。系統包括X射線源1201。從X射線源1201發射的X射線穿過物體1202(例如，例如胸部、肢體、腹部等人體部位)、由於物體1202的內部結構(例如，骨頭、肌肉、脂肪和器官等)而衰減不同程度並且被投射到檢測器100。半導體X射線檢測器100通過檢測X射線的強度分佈來形成圖像。
圖12示意示出這樣的系統，其包括本文描述的檢測器100。該系統可用于醫學成像，例如牙齒X射線放射攝影。系統包括X射線源1301。從X射線源1301發射的X射線穿過物體1302，其是哺乳動物(例如，人類)口腔的部分。物體1302可包括上顎骨、顎骨、牙齒、下顎或舌頭。X射線由於物體1302的不同結構而衰減不同程度並且被投射到檢測器100。檢測器100通過檢測X射線的強度分佈來形成圖像。牙齒比齲齒、感染和牙周膜吸收更多的X射線。牙科患者接收的X射線輻射的劑量典型地是小的(對於全口系列是近似0.150mSv)。
圖13示意示出貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統，其包括本文描述的檢測器100。系統可用於在例如海運集裝箱、車輛、輪船、行李等傳輸系統中檢查和識別物品。系統包括X射線源1401。從X射線源1401發射的X射線可從物體1402(例如，海運集裝箱、車輛、輪船等)背散射並且被投射到檢測器100。 物體1402的不同內部結構可有差異地背散射X射線。半導體X射線檢測器100通過檢測背散射X射線的強度分佈和/或背散射X射線光子的能量來形成圖像。
圖14示意示出另一個貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統，其包括本文描述的測器100。系統可用於公交站和機場處的行李篩查。系統包括X射線源1501。從X射線源1501發射的X射線可穿過行李1502件、由於行李的內含物而有差異地衰減並且被投射到半導體X射線檢測器100。檢測器100通過檢測透射的X射線的強度分佈來形成圖像。系統可揭示行李的內含物並且識別公共交通上禁用的專案，例如槍支、毒品、鋒利武器、易燃物。
圖15示意示出全身掃描器系統，其包括本文描述的檢測器100。該全身掃描器系統可為了安全篩查目的來檢測人體上的物體而不物理脫衣或進行物理接觸。全身掃描器系統可能夠檢測非金屬物體。全身掃描器系統包括X射線源1601。從X射線源1601發射的X射線可從被篩查的人1602和其上的物體背散射，並且被投射到檢測器100。物體和人體可有差異地背散射X射線。半導體X射線檢測器100通過檢測背散射X射線的強度分佈來形成圖像。檢測器100和X射線源1601可配置成在線性或旋轉方向上掃描人。
圖16示意示出X射線電腦斷層攝影(X射線CT)系統。X射線CT系統使用電腦處理的X射線來產生被掃描物體的特定區域的斷層攝影圖像(虛擬“切片”)。斷層攝影圖像在各種醫學學科中可用於診斷和治療目的，或用於缺陷檢測、失效分析、計量、元件分析和逆向工程。X射線CT系統包括本文描述的檢測器100和X射線源1701。檢測器100和X射線源1701可配置成沿一個或多個圓形或螺旋形路徑同步旋轉。
圖17示意示出電子顯微鏡。該電子顯微鏡包括電子源1801(也叫作電子 槍)，其配置成發射電子。電子源1801可具有各種發射機制，例如熱離子、光電陰極、冷發射或等離子體源。發射的電子經過電子光學系統1803，其可配置成使電子成形、加速或聚焦。電子然後到達樣本1802並且圖像檢測器可從其處形成圖像。電子顯微鏡可包括本文描述的檢測器100，用於進行能量色散X射線光譜分析(EDS)。EDS是用於樣本的元素分析或化學表徵的分析技術。當電子入射在樣本上時，它們促使從樣本發射特徵X射線。入射電子可激發樣本中原子的內殼層中的電子、從殼層逐出電子，同時在電子所在的地方形成電子空穴。 來自外部較高能量殼層的電子然後填充該空穴，並且較高能量殼層與較低能量殼層之間的能量差可採用X射線的形式釋放。從樣本發射的X射線的數量和能量可以被檢測器100測量。
這裡描述的半導體X射線檢測器100可具有其他應用，例如在X射線望遠鏡、X射線乳房攝影、工業X射線缺陷檢測、X射線顯微鏡或顯微放射攝影、X射線鑄件檢查、X射線無損檢驗、X射線焊縫檢查、X射線數位減影血管攝影等中。可使用該檢測器100來代替照相底片、照相膠片、PSP板、X射線圖像增強器、閃爍體或另一個半導體X射線檢測器。
儘管本文公開各種方面和實施例，其他方面和實施例對於本領域內技術人員將變得明顯。本文公開的各種方面和實施例是為了說明目的而不意在為限制性的，其真正範圍和精神由下列權利要求指示。
671、672、673、674、675、676、677、678、679、680、681、682:電子系統

Claims (23)

  1. 一種適合於檢測圖像的裝置，其包括：多個圖元，其配置成在暴露於輻射時產生電信號；電子系統，其與所述圖元中的每個關聯，其中所述電子系統包括第一信號路徑上的第一記憶體和第二信號路徑上的第二記憶體，兩個信號路徑在所述電子系統的輸入端子與輸出端子之間；其中所述第一記憶體和所述第二記憶體中的每個配置成存儲由所述電子系統與之關聯的圖元產生的電信號、配置成存儲在另一個圖元中產生的電信號並且配置成將所述電子系統中存儲的電信號傳送到另一個圖元；其中所述電子系統包括開關，其配置成選擇所述信號路徑中的一個。
  2. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中所述輸入端子配置成接收進入所述電子系統的信號並且所述輸出端子配置成將存儲在所述電子系統中的信號傳送到下游電路。
  3. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中選擇所述第一信號路徑除非所述第一記憶體有缺陷。
  4. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中在所述第一記憶體有缺陷時選擇所述第二信號路徑。
  5. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中所述裝置配置成檢測X射線圖像。
  6. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中所述電子系統包括記憶體，其配置成存儲代表有缺陷狀態和所述信號路徑選擇的代碼。
  7. 如申請專利範圍第6項之裝置，其中所述存儲器具有冗餘。
  8. 如申請專利範圍第1項之裝置，其包括記憶體，所述記憶體配置成存儲代表所述多個電子系統的有缺陷狀態和信號路徑選擇的代碼。
  9. 如申請專利範圍第8項之裝置，其中所述記憶體是非易失性記憶體。
  10. 如申請專利範圍第8項之裝置，其包括控制器，所述控制器配置成基於所述代碼在所述多個電子系統中選擇所述信號路徑。
  11. 如申請專利範圍第10項之裝置，其中所述記憶體是可移動加密鎖。
  12. 如申請專利範圍第11項之裝置，其中所述裝置被停用除非存在所述可移動加密鎖。
  13. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中所述電子系統包括旁路路徑，其連接所述輸入端子和所述輸出端子，而在所述旁路路徑上沒有記憶體；其中所述電子系統包括開關，其配置成選擇所述第一信號路徑、所述第二信號路徑或所述旁路路徑。
  14. 如申請專利範圍第7項之裝置，其中所述裝置配置成統一對一組電子系統在所述冗餘記憶體之間選擇。
  15. 一種適合於檢測圖像的裝置，其包括：多個圖元，其配置成在暴露於輻射時產生電信號；電子系統，其與所述圖元中的每個關聯，其中所述電子系統包括所述電子系統的輸入端子與輸出端子之間的信號路 徑上的第一記憶體，其中所述第一記憶體配置成存儲由所述電子系統與之關聯的圖元產生的電信號、配置成存儲在另一個圖元中產生的電信號並且配置成將存儲在所述電子系統中的電信號傳送到另一個圖元；其中所述電子系統包括旁路路徑，其連接所述輸入端子和所述輸出端子，而在所述旁路路徑上沒有記憶體；其中所述電子系統包括開關，其配置成選擇所述信號路徑或所述旁路路徑。
  16. 如申請專利範圍第15項之裝置，其中所述輸入端子配置成接收到所述電子系統內的信號並且所述輸出端子配置成將存儲在所述電子系統中的信號傳送到下游電路。
  17. 如申請專利範圍第15項之裝置，其中選擇所述信號路徑除非所述第一記憶體有缺陷。
  18. 如申請專利範圍第15項之裝置，其中所述裝置配置成檢測X射線圖像。
  19. 如申請專利範圍第15項之裝置，其中所述電子系統包括記憶體，其配置成存儲代表有缺陷狀態和所述信號路徑或所述旁路路徑的選擇的代碼。
  20. 如申請專利範圍第19項之裝置，其中所述記憶體是非易失性記憶體。
  21. 如申請專利範圍第15項之裝置，其包括記憶體，所述記憶體配置成存儲代表所述多個電子系統的有缺陷狀態和所述信號路徑或所述旁路路徑的選擇的代碼。
  22. 如申請專利範圍第21項之裝置，其中所述記憶體是非易失性記憶體。
  23. 如申請專利範圍第21項之裝置，其包括控制器，所述控制器配置成基於所述代碼在所述多個電子系統中選擇所述信號路徑或所述旁路路徑。
TW105144265A 2016-02-26 2016-12-30 適合於檢測圖像的裝置 TWI742030B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/CN2016/074663 WO2017143584A1 (en) 2016-02-26 2016-02-26 Methods of data output from semiconductor image detector
WOPCT/CN2016/074663 2016-02-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201740136A TW201740136A (zh) 2017-11-16
TWI742030B true TWI742030B (zh) 2021-10-11

Family

ID=59684963

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW105144265A TWI742030B (zh) 2016-02-26 2016-12-30 適合於檢測圖像的裝置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11122221B2 (zh)
EP (1) EP3420560B1 (zh)
CN (1) CN108701490B (zh)
TW (1) TWI742030B (zh)
WO (1) WO2017143584A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102567134B1 (ko) * 2018-10-01 2023-08-16 삼성전자주식회사 엑스선 조사량 측정 장치, 이를 포함하는 반도체 메모리 장치 및 반도체 메모리 장치의 테스트 방법
JP7271209B2 (ja) * 2019-02-06 2023-05-11 キヤノン株式会社 放射線撮像装置、放射線撮像システムおよび放射線撮像装置の制御方法
EP4004605A4 (en) * 2019-07-26 2023-04-19 Shenzhen Xpectvision Technology Co., Ltd. RADIATION DETECTOR WITH SCINTILLATOR

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070079052A1 (en) * 2005-09-29 2007-04-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit, design support software system and automatic test pattern generation system
US20130284927A1 (en) * 2012-04-10 2013-10-31 Ud Holdings, Llc Infrared detector having at least one switch positioned therein for modulation and/or bypass
US20140206994A1 (en) * 2011-07-29 2014-07-24 Koninklijke Philips N.V. Accurate visualization of soft tissue motion on x-ray
US20150243791A1 (en) * 2012-10-01 2015-08-27 Sharp Kabushiki Kaisha Circuit board and display device
US20150338531A1 (en) * 2014-05-22 2015-11-26 Konica Minolta, Inc. Radiographic image capturing apparatus
TW201606766A (zh) * 2014-05-09 2016-02-16 半導體能源研究所股份有限公司 記憶體裝置以及電子裝置

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4254477A (en) 1978-10-25 1981-03-03 Mcdonnell Douglas Corporation Reconfigurable memory circuit
JPS5788446A (en) * 1980-11-20 1982-06-02 Toshiba Corp X-ray cine-stereo photographing device
JPS58152542A (ja) * 1982-03-05 1983-09-10 株式会社東芝 Ｘ線診断装置
US5063378A (en) * 1989-12-22 1991-11-05 David Sarnoff Research Center, Inc. Scanned liquid crystal display with select scanner redundancy
GB9219836D0 (en) * 1992-09-18 1992-10-28 Philips Electronics Uk Ltd Electronic drive circuits for active matrix devices,and a method of self-tasting and programming such circuits
CN101086898A (zh) * 1999-03-19 2007-12-12 株式会社东芝 半导体存储装置
US7202894B2 (en) 2002-06-04 2007-04-10 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for real time identification and correction of pixel defects for image sensor arrays
KR100535636B1 (ko) * 2003-02-24 2005-12-08 매그나칩 반도체 유한회사 불량 화소 보상 기능을 갖는 이미지센서
JP2006068512A (ja) * 2004-08-06 2006-03-16 Canon Inc 撮像装置、撮像システム、撮像方法、およびコンピュータプログラム
US7852391B2 (en) * 2004-12-14 2010-12-14 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. Substitution of defective readout circuits in imagers
JP4847202B2 (ja) * 2006-04-27 2011-12-28 キヤノン株式会社 撮像装置及び放射線撮像システム
JP5038031B2 (ja) * 2006-07-11 2012-10-03 キヤノン株式会社 放射線撮影装置、その駆動方法及び放射線撮影システム
JP5038101B2 (ja) * 2007-11-12 2012-10-03 キヤノン株式会社 放射線撮像装置、その駆動方法及びプログラム
KR101932664B1 (ko) * 2012-08-27 2018-12-26 삼성전자 주식회사 리던던시 셀을 포함하는 반도체 메모리 장치 및 시스템
KR20140000477A (ko) * 2012-06-22 2014-01-03 삼성디스플레이 주식회사 엑스레이 검출기, 엑스레이 검출기를 포함하는 엑스레이 촬영 시스템 및 엑스레이 검출기 구동 방법
US10679763B2 (en) 2012-10-30 2020-06-09 California Institute Of Technology Fourier ptychographic imaging systems, devices, and methods
JP5816316B2 (ja) * 2013-03-29 2015-11-18 富士フイルム株式会社 放射線画像検出装置およびその作動方法、並びに放射線撮影装置
US20140361189A1 (en) * 2013-06-05 2014-12-11 Canon Kabushiki Kaisha Radiation imaging system
KR101534098B1 (ko) * 2013-09-13 2015-07-07 삼성전자주식회사 Ｃｔ 장치 및 이를 이용한 엑스선 제어 방법
KR101684448B1 (ko) * 2014-01-07 2016-12-08 삼성전자주식회사 방사선 디텍터, 그에 따른 단층 촬영 장치, 및 x 선 촬영 장치
US9445027B2 (en) 2014-02-20 2016-09-13 Semiconductor Components Industries, Llc Image sensors with column memory repair circuitry
US20150288907A1 (en) * 2014-04-03 2015-10-08 Raytheon Company Method and system for managing defects in focal plane arrays using redundant components
JP3193542U (ja) * 2014-07-28 2014-10-09 株式会社島津製作所 Ｘ線検査装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070079052A1 (en) * 2005-09-29 2007-04-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor integrated circuit, design support software system and automatic test pattern generation system
US20140206994A1 (en) * 2011-07-29 2014-07-24 Koninklijke Philips N.V. Accurate visualization of soft tissue motion on x-ray
US20130284927A1 (en) * 2012-04-10 2013-10-31 Ud Holdings, Llc Infrared detector having at least one switch positioned therein for modulation and/or bypass
US20150243791A1 (en) * 2012-10-01 2015-08-27 Sharp Kabushiki Kaisha Circuit board and display device
TW201606766A (zh) * 2014-05-09 2016-02-16 半導體能源研究所股份有限公司 記憶體裝置以及電子裝置
US20150338531A1 (en) * 2014-05-22 2015-11-26 Konica Minolta, Inc. Radiographic image capturing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
EP3420560A4 (en) 2020-03-25
US20200280686A1 (en) 2020-09-03
WO2017143584A1 (en) 2017-08-31
CN108701490A (zh) 2018-10-23
EP3420560B1 (en) 2023-05-10
CN108701490B (zh) 2022-07-12
US11122221B2 (en) 2021-09-14
TW201740136A (zh) 2017-11-16
EP3420560A1 (en) 2019-01-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11009614B2 (en) Semiconductor X-ray detector
US11063082B2 (en) Methods of making semiconductor X-ray detector
TWI776834B (zh) 具有ｘ射線檢測器的圖像傳感器
TWI676814B (zh) 製作半導體ｘ射線檢測器的方法
TWI652499B (zh) 用於製作ｘ射線檢測器的方法
US10353086B2 (en) Semiconductor X-ray detector capable of dark current correction
US11901244B2 (en) Methods of making a radiation detector
TWI742030B (zh) 適合於檢測圖像的裝置