TWI735850B - 自由曲面離軸三反成像系統 - Google Patents

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TWI735850B TW108106771A TW108106771A TWI735850B TW I735850 B TWI735850 B TW I735850B TW 108106771 A TW108106771 A TW 108106771A TW 108106771 A TW108106771 A TW 108106771A TW I735850 B TWI735850 B TW I735850B
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Abstract

本發明涉及一種自由曲面離軸三反成像系統包括：一主鏡，一次鏡，一三鏡，以及一探測器，光線依次經過所述主鏡、次鏡和三鏡的反射後，被所述探測器接收到並成像，該自由曲面離軸三反成像系統包括兩個視場範圍的通道，第一視場範圍通道和第二視場範圍通道，不同通道焦距不同，第一視場範圍中心為0°，視場大小為2°×2°；第二視場範圍中心為4°，視場大小為1.71°×1.71°，兩個視場範圍通道成像於同一探測器。

Description

自由曲面離軸三反成像系統
本發明涉及光學設計領域，尤其涉及一種自由曲面離軸三反成像系統。
自由曲面是指無法用球面或非球面係數來表示的非傳統曲面，通常是非回轉對稱的，結構靈活，變數較多，為光學設計提供了更多的自由度，可以大大降低光學系統的像差，減小系統的體積、重量與鏡片數量，可以滿足現代成像系統的需要，有著廣闊的發展應用前景。由於自由曲面有非對稱面並提供了更多的設計自由度，他們常被用在離軸非對稱系統中。
先前的自由曲面離軸三反光學系統工作在一個特定焦距下，不同視場的光線彙聚於探測器不同位置，同一位置的探測器只能以一定的焦距觀察一個視場範圍的物體。
綜上所述，確有必要提供一種能夠在將不同視場範圍的物體成像在同一探測器位置的自由曲面離軸三反成像系統。
一種自由曲面離軸三反成像系統，包括：一主鏡，以所述主鏡的頂點為第一原點定義一第一三維直角坐標系(X，Y，Z)，在該第一三維直角坐標系(X，Y，Z)中，所述主鏡的反射面為一xy多項式自由曲面；一次鏡，該次鏡包括第一自由曲面和第二自由曲面，其中，第一自由曲面的頂點為第二原點定義一第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')，且該第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')由所述第一三維直角坐標系(X,Y,Z)沿Z軸負方向和Y軸正方向平移得到，在該第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')中，所述自由曲面的反射面為一x'y'多項式自由曲面，第二自由曲面的頂點為第三原點定義一第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")，且該第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")由所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')沿Z'軸正方向和Y'軸負方向平移得到，在該第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")中，所述自由曲面的反射面為一x"y" 多項式自由曲面；一三鏡，以所述三鏡的頂點為第四原點定義一第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')，且該第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')，由所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)沿Z軸負方向和Y軸正方向平移得到，在該第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')中，所述三鏡的反射面為一x'''y'''多項式自由曲面；以及一探測器，光線依次經過所述主鏡、次鏡和三鏡的反射後，被該探測器接收到並成像，其中，所述自由曲面離軸三反成像系統進一步包括一光闌，該光闌設置在次鏡上，且孔徑光闌能夠在第二三維直角坐標系原點與第三三維直角坐標系原點之間平移，該自由曲面離軸三反成像系統包括一第一視場範圍和一第二視場範圍，所述第一視場範圍的中心為0°，視場大小為2°×2°；第二視場範圍中心為4°，視場大小為1.71°×1.71°。
相較於先前技術，本發明提供的自由曲面離軸三反光學系統具有兩個視場範圍，不同視場範圍具有不同的焦距，通過平移光闌可以實現視場範圍的切換。因此，本發明提供的自由曲面離軸三反光學系統可以將不同視場的物按不同焦距成像在同一探測器上。
100:自由曲面離軸三反成像系統
102:主镜
104:次镜
104a:第一自由曲面
104b:第二自由曲面
108:光阑
110:三镜
112:探测器
圖1為本發明實施例提供的自由曲面離軸三反成像系統的光路圖。
圖2為本發明實施例提供的自由曲面離軸三反成像系統，在光闌在次鏡第一自由曲面處的工作狀態下的MTF曲線。
圖3為本發明實施例提供的自由曲面離軸三反成像系統，在光闌在次鏡第二自由曲面處的工作狀態下的MTF曲線。
圖4為本發明實施例提供的自由曲面離軸三反成像系統，在光闌在次鏡第一自由曲面處的工作狀態下的波像差圖。
圖5為本發明實施例提供的自由曲面離軸三反成像系統，在光闌在次鏡第二自由曲面處的工作狀態下的波像差圖。
請參閱圖1，本發明實施例提供一種自由曲面離軸三反成像系統100。其中，該自由曲面離軸三反成像系統100包括相鄰且間隔設置的一主鏡102、一次鏡104，一光闌108以及一三鏡110，該光闌108設置在次鏡上。所述次鏡104為一集成次鏡，其包括一第一自由曲面104a和第二自由曲面104b。第 一自由曲面104a和第二自由曲面104b集成在同一基底上構成所述次鏡104。所述光闌108為一可移動光闌，其能夠在第一自由曲面104a和第二自由曲面104b之間移動。所述主鏡102、次鏡104和三鏡110的面形均為自由曲面。從光源出射的光線依次經過所述主鏡102、次鏡104以及三鏡110的反射後，被一探測器112接收到並成像。為了描述方便，將所述主鏡102所處的空間定義一第一三維直角坐標系(X，Y，Z)、所述次鏡104的第一自由曲面104a所處的空間定義一第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')、所述次鏡104的第二自由曲面104b所處的空間定義一第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")、所述三鏡110所處的空間定義一第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')。
所述主鏡102的頂點為所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)的原點，通過主鏡102頂點的一條水準方向的直線為Z軸，向左為負向右為正，Y軸在圖8所示的平面內，垂直於Z軸向上為正向下為負，X軸垂直於YZ平面，垂直YZ平面向裡為正向外為負。
在所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)中，所述主鏡102的反射面為xy的多項式自由曲面，該xy多項式自由曲面的方程式可表達為：
Figure 108106771-A0305-02-0005-1
其中，z為曲面矢高，c為曲面曲率，k為二次曲面係數，A i 是多項式中第i項的係數。由於所述自由曲面離軸三反成像系統100關於YZ平面對稱，因此，可以僅保留X的偶次項。優選的，所述主鏡102的反射面一xy多項式自由曲面，所述xy多項式為x的偶次多項式，x的最高次數為5次，該xy多項式自由曲面的方程式可表達為：
Figure 108106771-A0305-02-0005-2
本實施例中，所述主鏡102反射面的xy多項式中曲率c、二次曲面係數k以及各項係數A i 的值請參見表1。可以理解，曲率c、二次曲面係數k以及各項係數A i 的值也不限於表1中所述，本領域技術人員可以根據實際需要調整。
Figure 108106771-A0305-02-0006-3
所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')的原點為第一自由曲面104a的頂點。所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')為所述第一三維直角坐標系(X,Y,Z)沿Z軸負方向和Y軸正方向平移得到。本實施例中，所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')由所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)沿Y軸正方向平移約154.876mm，再沿Z軸反方向平移約134.412mm，然後以X軸為旋轉軸沿順時針方向的旋轉角度約為69.835°得到。所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)的原點到所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')的原點的距離約為205.068mm。
在所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')中，所述第一自由曲面104的反射面為x'y'的多項式自由曲面，該x'y'多項式自由曲面的方程式可以表達為：
Figure 108106771-A0305-02-0006-4
其中，z'為曲面矢高，c'為曲面曲率，k'為二次曲面係數，A i '是多項式中第i項的係數。由於所述自由曲面離軸三反成像系統100關於Y'Z'平面對稱，因此，可以僅保留X'的偶次項。優選的，所述次鏡104的反射面為一x'y'多項式自由曲面，所述x'y'多項式為x'的偶次多項式，x'的最高次數為5次，該x'y'多項式自由曲面的方程式可表達為：
Figure 108106771-A0305-02-0006-5
本實施例中，所述第一自由曲面104a的反射面的x'y'多項式中曲率c'、二次曲面係數k'以及各項係數A i '的值請參見表2。可以理解，曲率c'、二次曲面係數k'以及各項係數A i '的值也不限於表2中所述，本領域技術人員可以根據實際需要調整。
Figure 108106771-A0305-02-0007-6
所述第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")的原點為所述第二自由曲面104b的頂點。所述第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")為所述第二三維直角坐標系(X',Y',Z')沿Z'軸正方向和Y'軸負方向平移得到。本實施例中，所述第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")由所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')沿Y'軸負方向平移約2.863mm，再沿Z'軸正方向平移約12.739mm，然後以X'軸為旋轉軸沿逆時針方向的旋轉角度約為3.636°得到。所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')的原點到所述第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")的原點的距離約為13.057mm。
在所述第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")中，所述第自由曲面104b的反射面為x"y"的多項式自由曲面，該x"y"多項式自由曲面的方程式可以表達為：
Figure 108106771-A0305-02-0007-7
其中，z"為曲面矢高，c"為曲面曲率，k"為二次曲面係數，A i "是多項式中第i項的係數。由於所述自由曲面離軸三反成像系統100關於Y"Z"平面對稱，因 此，可以僅保留X"的偶次項。優選的，所述次鏡106的反射面為一x"y"多項式自由曲面，所述x"y"多項式為x"的偶次多項式，x"的最高次數為5次，該x"y"多項式自由曲面的方程式可表達為：
Figure 108106771-A0305-02-0008-8
本實施例中，所述第二自由曲面106反射面的x"y"多項式中曲率c"、二次曲面係數k"以及各項係數A i "的值請參見表2。可以理解，曲率c"、二次曲面係數k"以及各項係數A i "的值也不限於表3中所述，本領域技術人員可以根據實際需要調整。
Figure 108106771-A0305-02-0008-9
所述光闌108包括一圓形通孔，圓形通孔的半徑約為10.576mm。當所述自由曲面三反成像系統100用於觀察中心視場為0°，視場大小為2°×2°的視場範圍時，所述光闌108位於次鏡104的第一自由曲面上，光闌108通孔的中心位於第二三維坐標系中心，此時自由曲面三反成像系統100的焦距為120mm；當所述自由曲面三反成像系統100用於觀察中心視場為4°，視場大小為1.71°×1.71°的視場範圍時，所述光闌108位於次鏡104的第二自由曲面上，光闌108通孔的中心位於第三三維坐標系中心，此時系統焦距為140mm。該光闌108可以在第二三維坐標系中心和第三三維坐標系中心選擇性移動。
所述第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')的原點為所述第三反射鏡的頂點。該第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')為所述第一三維直角坐標系 (X，Y，Z)沿Z軸負方向和Y軸負方向平移得到。本實施例中，所述第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')為所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)沿Z軸負方向平移約123.525mm，再沿Y軸負方向平移約18.584mm，然後繞X軸順時針旋轉角度約為71.121°得到。所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)的原點到所述第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')的原點的距離約為124.915mm。
在所述第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')中，所述三鏡110的反射面為x'''y'''的多項式自由曲面，該x'''y'''多項式曲面的方程式可以表達為：
Figure 108106771-A0305-02-0009-10
其中，z'''為曲面矢高，c'''為曲面曲率，k'''為二次曲面係數，A i '''是多項式中第i項的係數。由於所述自由曲面離軸三反成像系統100關於Y'''Z'''平面對稱，因此，可以僅保留x'''的偶次項。優選的，所述三鏡110的反射面一x'''y'''多項式自由曲面，所述x'''y'''多項式為x'''的偶次多項式，x'''的最高次數為5次，該x'''y'''多項式自由曲面的方程式可表達為：
Figure 108106771-A0305-02-0009-11
本實施例中，所述三鏡110反射面面形的x'''y'''多項式中，曲率c'''、二次曲面係數k'''以及各項係數A i '''的值請參見表4。可以理解，曲率c'''、二次曲面係數k'''以及各項係數A i '''的值也不限於表4中所述，本領域技術人員可以根據實際需要調整。
Figure 108106771-A0305-02-0009-12
Figure 108106771-A0305-02-0010-13
所述主鏡102、次鏡104和三鏡110的材料不限，只要保證其具有較高的反射率即可。所述主鏡102、次鏡104和三鏡110可選用鋁、銅等金屬材料，也可選用碳化矽、二氧化矽等無機非金屬材料。為了進一步增加所述主鏡102、次鏡104和三鏡110的反射率，可在其各自的反射面鍍一增反膜。所述主鏡102、次鏡104和三鏡110的尺寸不限。
在第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')中，所述探測器112的中心與所述三鏡110的頂點沿Z'''軸反方向的距離約為158.283mm，所述探測器112的中心沿Y'''軸負方向偏離Z'''軸，偏離量約為17.259mm。所述探測器112與XY平面沿順時針方向的角度約為6.568°。所述探測器112的尺寸根據實際需要進行設計。
所述自由曲面離軸三反成像系統100的每一視場通道等效入瞳直徑為20毫米。
所述自由曲面離軸三反成像系統100在子午方向上採用了離軸視場。本實施例中，所述自由曲面離軸三反成像系統100的第一視場範圍中心為0°，視場大小為2°×2°，其中，在弧矢方向的角度為-1°至1°，在子午方向的角度為-1°至1°，焦距為120mm。第二視場範圍中心為4°，視場大小為1.71°×1.71°，其中，子午方向工作在3.145°到4.855°視場，在弧失方向工作在-0.855°到0.855°。
所述自由曲面離軸三反成像系統100的工作波長範圍為400納米到700納米。當然，所述自由曲面離軸三反成像系統100的工作波長並不限於本實施例，本領域技術人員可以根據實際需要調整。
請參閱圖2和圖3，為自由曲面離軸三反成像系統100在可見光波段下不同視場範圍部分視場角的調製傳遞函數MTF圖。圖2評價了光闌108在次鏡104第一自由曲面104a處，自由曲面離軸三反成像系統100焦距為120mm的工作狀態下的MTF圖線。圖3評價了光闌108在次鏡104第二自由曲面104b處，自由曲面離軸三反成像系統100焦距為140mm的工作狀態下的MTF圖線。從圖2和圖3中可以看出，兩種工作狀態處MTF曲線都基本達到了衍射極限，表明該自由曲面離軸三反成像系統100具有很高的成像品質。
請參閱圖4和圖5，為自由曲面離軸三反成像系統100在可見光波段下不同工作距處部分視場角的波像差圖。圖4評價了光闌108在次鏡104第一自由曲面104a處，系統焦距為120mm的工作狀態下的波像差圖。圖5評價了光闌108在次鏡104第二自由曲面104b處，系統焦距為140mm的工作狀態下的波像差圖。在上述兩種工作狀態下，波像差平均值小於0.034λ，其中λ=546.1nm。以上說明該自由曲面離軸三反成像系統100的成像品質很好。
本發明提供的自由曲面離軸三反成像系統100採用離軸三反系統，沒有中心遮攔，具有兩個視場範圍，不同視場範圍具有不同的焦距，且不同視場範圍的物體成像在同一探測器位置；該自由曲面離軸三反成像系統100的結構緊湊。
本發明提供的自由曲面離軸三反成像系統100應用領域涉及到對地觀測、空間目標探測、天文觀測、多光譜熱成像、立體測繪等。本發明提供的自由曲面離軸三反成像系統100在可見光波段達到了衍射極限。
綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施例，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡習知本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
100:自由曲面離軸三反成像系統
102:主镜
104:次镜
104a:第一自由曲面
104b:第二自由曲面
108:光阑
110:三镜
112:探测器

Claims (10)

  1. 一種自由曲面離軸三反成像系統，其中，包括：一主鏡，以所述主鏡的頂點為第一原點定義一第一三維直角坐標系(X，Y，Z)，在該第一三維直角坐標系(X，Y，Z)中，所述主鏡的反射面為一xy多項式自由曲面；一次鏡，該次鏡包括第一自由曲面和第二自由曲面，其中，第一自由曲面的頂點為第二原點定義一第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')，且該第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')由所述第一三維直角坐標系(X,Y,Z)沿Z軸負方向和Y軸正方向平移得到，在該第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')中，所述自由曲面的反射面為一x'y'多項式自由曲面；所述第二自由曲面的頂點為第三原點定義一第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")，且該第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")由所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')沿Z'軸正方向和Y'軸負方向平移得到，在該第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")中，所述自由曲面的反射面為一x"y"多項式自由曲面；一三鏡，以所述三鏡的頂點為第四原點定義一第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')，且該第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')，由所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)沿Z軸負方向和Y軸正方向平移得到，在該第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')中，所述三鏡的反射面為一x'''y'''多項式自由曲面；一探測器，光線依次經過所述主鏡、次鏡和三鏡的反射後，被該探測器接收到並成像，所述自由曲面離軸三反成像系統進一步包括一光闌，該光闌設置在次鏡上，且光闌能夠在第二三維直角坐標系原點與第三三維直角坐標系原點之間平移，該自由曲面離軸三反成像系統包括一第一視場範圍和一第二視場範圍。
  2. 如請求項1所述之自由曲面離軸三反成像系統，其中，所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')由所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)沿Y軸正方向平移約154.876mm，再沿Z軸反方向平移約134.412mm，然後以X軸為旋轉軸沿順時針方向的旋轉角度約為69.835°得到。
  3. 如請求項1所述之自由曲面離軸三反成像系統，其中，所所述第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")由所述第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')沿 Y'軸負方向平移約2.863mm，再沿Z'軸正方向平移約12.739mm，然後以X'軸為旋轉軸沿逆時針方向的旋轉角度約為3.636°得到。
  4. 如請求項1所述之自由曲面離軸三反成像系統，其中，所述第四三維直角坐標系(X'''，Y'''，Z''')為所述第一三維直角坐標系(X，Y，Z)沿Z軸負方向平移約123.525mm，再沿Y軸負方向平移約18.584，然後繞X軸順時針旋轉角度約為71.121°得到。
  5. 如請求項1所述之自由曲面離軸三反成像系統，其中，所述第一原點到所述第二原點的距離為205.068mm，所述第二原點到所述第三原點的距離為13.057mm，所述第三原點到所述第四原點的距離為124.915mm。
  6. 如請求項1所述之自由曲面離軸三反成像系統，其中，所述第一視場範圍的中心為0°，視場大小為2°×2°。
  7. 如請求項1所述之自由曲面離軸三反成像系統，其中，所述第二視場範圍中心為4°，視場大小為1.71°×1.71°。
  8. 如請求項1所述之自由曲面離軸三反成像系統，其中，在第二三維直角坐標系(X'，Y'，Z')中，所述次鏡的第一自由曲面反射面為一x'y'多項式自由曲面，所述x'y'多項式為x'的偶次多項式，x'的最高次數為5次，該x'y'多項式自由曲面的方程式為：
    Figure 108106771-A0305-02-0014-14
     其中，c'=2.9050135953E-03，k'=-2.0000000000E+01，A2'=-4.1074509329E-01，A3'=-2.0823946458E-03，A5'=-2.6447846390E-03，A7'=2.7184263806E-05，A9'=1.2986485221E-05，A10'=4.1507879401E-08，A12'=8.4956081916E-08，A14'=2.5155613779E-08，A16'=9.3423798571E-10以及A18'=1.7086690206E-09。
  9. 如請求項1所述之自由曲面離軸三反成像系統，其中，第三三維直角坐標系(X"，Y"，Z")中，所述次鏡的第二自由曲面的反射面為一x"y"多項式自由曲面，所述x"y"多項式為x"的偶次多項式，x"的最高次數為5次，該x"y"多項式自由曲面的方程式為：
    Figure 108106771-A0305-02-0015-15
     其中，c"=-1.7198715496E-03，k"=-2.0000000000E+01，A2"=-2.8476156510E-01，A3"=-8.1816431466E-06，A5"=-6.1295856898E-04，A7"=2.4682320767E-05，A9"=1.1543822730E-05，A10"=-2.9325409902E-08，A12"=-6.4494233230E-08，A14"=-3.9424838348E-08，A16"=7.3676644654E-11以及A18"=-1.6543729895E-10。
  10. 如請求項1所述之自由曲面離軸三反成像系統，其中，在第四三維直角坐標系(X''',Y''',Z''')中，所述探測器的中心與所述三鏡的頂點沿Z'''軸負方向的距離為158.283mm；所述探測器的中心沿Y'''軸負方向偏離Z'''軸，偏離量為17.259mm；且所述探測器與XY平面沿順時針方向的角度為6.568°。
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