TWI733308B - 光源模組及其製造方法與使用此光源模組之背光模組和顯示裝置 - Google Patents

光源模組及其製造方法與使用此光源模組之背光模組和顯示裝置 Download PDF

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TWI733308B
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Abstract

一種光源模組及其製造方法與使用此光源模組之背光模組和顯示裝置,此製造方法包含以下步驟。首先,提供參考光源模組。參考光源模組包含基板以及複數個發光單元排列於基板上。接著,取得任二相鄰之發光單元之間之複數個光學趨勢。然後,計算每一光學趨勢占參考光源模組之總光學趨勢之比例。接著,根據比例計算分別對應任二相鄰之發光單元之間之複數個目標間距,並根據目標間距來調整對應任二相鄰之發光單元之間的間距,以獲得目標光源模組。

Description

光源模組及其製造方法與使用此光源模組之背光模組和顯示裝置
本揭露是有關於一種光源模組及其應用,且特別是有關於一種光源模組及其製造方法以及使用此光源模組之背光模組與顯示裝置。
請參照圖1,其係繪示現有之一種光源模組。一般用於直下式背光模組的光源模組100主要包含基板110以及數個等間距陣列於基板110上的發光單元120,這些發光單元120所產生的光線可進一步透過光學膜片混光而形成面光源。
然而,請參照圖2,圖2為使用現有之光源模組之光學趨勢模擬圖。由圖2可知,光源模組100靠近中央區域的亮度是來自於位於中央區域之發光單元120所提供之來 自各方向的光線,故具有較高的亮度(例如靠近光源模組100中央的深灰色區域)。然而,光源模組100靠近邊緣區域的亮度僅來自於位於邊緣區域之發光單元120所提供之部分方向的光線,故具有較低的亮度(例如靠近光源模組100邊緣的淺灰色區域),這會導致整體背光模組的外觀看起來亮度對比明顯且不均勻。
因此,本揭露之實施例之一目的是在提供一種光源模組之製造方法,其係根據欲改善之光源模組所產生之光學趨勢,來重新分配每一個發光單元之間距,進而使得調整後的光源模組能夠產生亮度均勻之光線,以提升背光模組之光學外觀。
根據本揭露之實施例之上述目的,提出一種光源模組之製造方法。此光源模組之製造方法包含以下步驟。首先,提供參考光源模組,其中參考光源模組包含基板以及複數個發光單元排列於基板上。取得任二相鄰之發光單元之間之複數個光學趨勢。接著,計算每一光學趨勢占參考光源模組之總光學趨勢之比例。然後,根據比例計算分別對應任二相鄰之發光單元之間之複數個目標間距,並根據目標間距來調整對應任二相鄰之發光單元之間的間距,以獲得目標光源模組。
根據本揭露之實施例之上述目的,另提出一種光源模組,此光源模組包含一基板以及複數個發光單元。其中, 該光源模組具有一總光學趨勢,以及複數個光學趨勢,每一該些光學趨勢是由該些發光單元之任二相鄰發光單元之間所取得,該總光學趨勢是該些光學趨勢的加總。其中,任二相鄰之發光單元之間具有一目標間距,所述目標間距相對於所述發光單元之總間距的所佔比例,是依據對應上述任二相鄰之發光單元的該些光學趨勢相對於該總光學趨勢的所佔比例而設定。
根據本揭露之實施例之上述目的,另提出一種光源模組,此光源模組包含一基板以及複數個發光單元。其中,該光源模組具有一總光學趨勢,以及複數個光學趨勢,每一該些光學趨勢是由該些發光單元中排列成同一行或同一列中任二相鄰發光單元之間所取得,該總光學趨勢是排列成所述同一行或所述同一列的該些光學趨勢的加總。其中,所述同一行或所述同一列中任二相鄰之發光單元之間具有一目標間距,所述目標間距相對於所述同一行或所述同一列的發光單元之總間距的所佔比例,是依據對應上述任二相鄰之發光單元的該些光學趨勢相對於該總光學趨勢的所佔比例而設定。
依據本揭露之一實施例,上述之每一光學趨勢是根據一關係式計算而得,其中關係式為
Figure 109101254-A0101-12-0003-1
;其中,fi為光學趨勢,Bri為各任二相鄰之發光單元之間的輝度值或一照度值,
Figure 109101254-A0101-12-0003-2
為參考光源模組所產生之平均輝度或一平均照度。
依據本揭露之一實施例,上述之每一光學趨勢是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
Figure 109101254-A0101-12-0004-3
Figure 109101254-A0101-12-0004-4
;其中,fi為該光學趨勢,Bri為沿著一方向排列之該些發光單元中各任二相鄰之發光單元之間的輝度值或照度值,
Figure 109101254-A0101-12-0004-60
為沿著該方向排列之該些發光單元所產生之平均輝度或平均照度,n為目標間距的個數。
依據本揭露之一實施例,上述之每一該些目標間距是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
Figure 109101254-A0101-12-0004-5
;其中,P’i為該目標間距,fi為該光學趨勢,Pi為該參考光源模組之各任二相鄰之該些發光單元間之初始間距。
根據本揭露之實施例之上述目的,提出另一種光源模組之製造方法。此光源模組之製造方法包含以下步驟。首先,提供參考光源模組,其中參考光源模組包含基板以及複數個發光單元排列於基板上。發光單元排列成平行第一方向之複數個列,且發光單元排列成平行第二方向之複數個行。接著,分別取得每一行與列中任二相鄰之發光單元之間的複數個光學趨勢。然後,計算每一光學趨勢占參考光源模組之總光學趨勢之比例。根據比例計算分別對應每一行與列中之任二相鄰之發光單元之間之複數個目標間距,並根據目標間距來沿著每一列之延伸方向調整每一列 中對應任二相鄰之發光單元之間的間距、以及沿著每一行之延伸方向調整每一行中對應任二相鄰之發光單元之間的間距,以獲得目標光源模組。
依據本揭露之一實施例,上述之每一該些光學趨勢是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
Figure 109101254-A0101-12-0005-6
Figure 109101254-A0101-12-0005-7
Figure 109101254-A0101-12-0005-8
;其中,fi為該光學趨勢,Bri為每一行或列中之各任二相鄰之發光單元之間的輝度值或照度值,
Figure 109101254-A0101-12-0005-61
為每一行或列中之發光單元所產生之平均輝度或平均照度,n為目標間距的個數。
依據本揭露之一實施例,每一個目標間距是根據一關係式計算而得,其中關係式為:
Figure 109101254-A0101-12-0005-9
;其中,P’i為該目標間距,fi為該光學趨勢,Pi為該參考光源模組之每一行或列中之各任二相鄰之發光單元間之初始間距。
根據本揭露之實施例之上述目的,提出一種背光模組。此背光模組包含利用前述光源模組或前述之製造方法所製作之光源模組以及光學膜片。光學膜片設置在光源模組的上方。
依據本揭露之一實施例,上述之光源模組之基板的形狀為矩形、圓形、橢圓形或扇形,且光學膜片的形狀對應基板的形狀。
依據本揭露之一實施例,上述之目標光源模組中之任二相鄰之發光單元之間的間距不完全相等。
依據本揭露之一實施例,上述之目標光源模組中之靠近基板邊緣之任二相鄰之發光單元之間的間距小於靠近基板中心之任二相鄰之發光單元之間的間距。
根據本揭露之實施例之上述目的,另提出一種顯示裝置。顯示裝置包含前述之背光模組以及顯示面板。其中,顯示面板設置在背光模組的上方。
由上述可知,本揭露是以欲改善之光源模組做為參考光源模組,並以參考光源模組所產生之光學趨勢來重新調整每一個發光單元之間距,進而達到在不增加發光單元的情況下,使得調整後的光源模組能夠產生亮度分布均勻之光線。
100‧‧‧光源模組
110‧‧‧基板
120‧‧‧發光單元
200‧‧‧光源模組
210‧‧‧基板
220‧‧‧發光單元
300‧‧‧參考光源模組
310‧‧‧基板
320‧‧‧發光單元
400‧‧‧光源模組
420‧‧‧發光單元
500‧‧‧參考光源模組
510‧‧‧基板
520‧‧‧發光單元
600‧‧‧光源模組
620‧‧‧發光單元
700‧‧‧背光模組
710‧‧‧光學膜片
800‧‧‧顯示裝置
810‧‧‧光學膜片
820‧‧‧顯示面板
B1‧‧‧間距
B2‧‧‧間距
B3‧‧‧間距
B4‧‧‧間距
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
D3‧‧‧第一方向
D4‧‧‧第二方向
D5‧‧‧第一方向
D6‧‧‧第二方向
G1‧‧‧間距
G2‧‧‧間距
G3‧‧‧間距
G4‧‧‧間距
S1‧‧‧製造方法
S11‧‧‧步驟
S12‧‧‧步驟
S13‧‧‧步驟
S14‧‧‧步驟
S2‧‧‧製造方法
S21‧‧‧步驟
S22‧‧‧步驟
S23‧‧‧步驟
S24‧‧‧步驟
為了更完整了解實施例及其優點,現參照結合所附圖式所做之下列描述,其中:
〔圖1〕係繪示現有之一種光源模組;
〔圖2〕為使用現有之光源模組之光學趨勢模擬圖;
〔圖3〕係繪示依照本揭露之第一實施方式之一種光源模組之裝置示意圖;
〔圖4〕為使用本揭露之第一實施方式之光源模組之光學趨勢模擬圖;
〔圖5〕係繪示依照本揭露之一種光源模組之製造方法之流程圖;
〔圖6〕係繪示分別沿著目標光源模組與參考光源模組之X方向的光學趨勢圖;
〔圖7〕係繪示目標光源模組與參考光源模組中之發光單元行數與發光單元之間的間距的關係示意圖;
〔圖8〕係繪示依照本揭露之一種光源模組之製造方法之流程圖;
〔圖9〕為使用一種參考光源模組之光學趨勢模擬圖;
〔圖10〕係繪示參考光源模組中之平行第二方向的其中二行發光單元之光學趨勢圖;
〔圖11〕係繪示參考光源模組中之平行第一方向的其中三列發光單元之光學趨勢圖;
〔圖12〕為使用本揭露之第二實施方式之光源模組之光學趨勢模擬圖;
〔圖13〕係繪示根據〔圖10〕所示之光學趨勢所計算出之對應之平行第二方向的其中二行發光單元之目標間距;
〔圖14〕係繪示根據〔圖11〕所示之光學趨勢所計算出之對應之平行第一方向的其中三列發光單元之目標間距;
〔圖15〕為使用一種參考光源模組之光學趨勢模擬圖;
〔圖16〕係繪示參考光源模組中之平行第二方向的其中二行發光單元之光學趨勢圖;
〔圖17〕係繪示參考光源模組中之平行第一方向的其中三列發光單元之光學趨勢圖;
〔圖18〕為使用本揭露之第三實施方式之光源模組之光學趨勢模擬圖;
〔圖19〕係繪示根據〔圖16〕所示之光學趨勢所計算出之對應之平行第二方向的其中二行發光單元之目標間距;
〔圖20〕係繪示根據〔圖17〕所示之光學趨勢所計算出之對應之平行第一方向的其中三列發光單元之目標間距;
〔圖21〕為使用本揭露之一實施方式之背光模組之裝置示意圖;以及
〔圖22〕為使用本揭露之一實施方式之顯示裝置之裝置示意圖。
請同時參照圖3及圖4,其中圖3係繪示依照本揭露之第一實施方式之一種光源模組之裝置示意圖,圖4為使用本揭露之第一實施方式之光源模組之光學趨勢模擬圖。在本實施方式中,光源模組200主要包含基板210以及複數個發光單元220。其中,發光單元220排列於基板210上,且這些發光單元220中任二相鄰之發光單元220間的間距並不完全相等。在本實施例中,光源模組200中之靠近基板210邊緣之任二相鄰之發光單元220之間的間距G1小於靠近基板210中心之任二相鄰之該些發光單元220之間的間距G2。因此,如圖4所示,光源模組200靠近中央區域的 深灰色區域面積明顯小於圖2所示之深灰色區域面積,這表示光源模組200的出光較光源模組100的出光均勻。
在本實施例中,光源模組200是根據圖5所示之製造方法所得到。具體而言,光源模組200的發光單元220中,任二相鄰之發光單元220間的間距是以圖1所示之光源模組100所產生的光學趨勢做為參考來設計。
請同時參照圖1及圖5,其中圖5係繪示依照本揭露之一種光源模組之製造方法之流程圖。在圖5的製造方法S1中,首先進行步驟S11,提供一參考光源模組。在步驟S11中,是以圖1所示之光源模組100作為參考光源模組。如圖1所示,光源模組100的發光單元120是沿著第一方向D1以及第二方向D2等間距地排列在基板110上。具體而言,沿著第一方向D1排列之任二相鄰之發光單元120具有間距B1,沿著第二方向D2排列之任二相鄰之發光單元120具有間距B2,且間距B1等於間距B2。
請繼續參照圖1及圖5,在進行步驟S11後,接著進行步驟S12,以取得光源模組100中任二相鄰之發光單元120之間之數個光學趨勢。在一些實施例中,光學趨勢是可根據關係式(1)、關係式(2)、或關係式(3)計算而得,其中關係式(1)、關係式(2)、與關係式(3)分別為:
Figure 109101254-A0101-12-0009-10
Figure 109101254-A0101-12-0009-11
Figure 109101254-A0101-12-0010-12
其中fi為光學趨勢,Bri為各任二相鄰之發光單元120之間的輝度值或照度值,
Figure 109101254-A0101-12-0010-13
為參考光源模組(也就是光源模組100)所產生之平均輝度或平均照度,
Figure 109101254-A0101-12-0010-63
為每一行或每一列中之發光單元120所產生之平均輝度或平均照度,
Figure 109101254-A0101-12-0010-14
為發光單元120所產生之輝度或照度的方均根,其中,n為任二相鄰之發光單元120間距數量。其中,輝度值與照度值是分別利用輝度計與照度計直接量測而得。欲陳明者,在關係式(1)中,平均輝度與平均照度分別是指光源模組100中之所有發光單元120所產生之總輝度與總照度的平均值。在關係式(2)中,平均輝度或平均照度則是指單一行或單一列中之發光單元120所產生之的總輝度或總照度的平均值。在一個實施例中,任二相鄰之發光單元120之間的輝度值或照度值則是包含了同一個方向排列之各任二相鄰之發光單元120之間的輝度值或照度值,即沿著第一方向D1或第二方向D2排列之各任二相鄰之發光單元120之間的輝度值或照度值。欲陳明者,本揭露所用以評估光學趨勢之參數並不限於前述所列之輝度值或照度值,只要能夠用以測量發光單元之亮度者,即可適用。
在取得任二相鄰之發光單元120之間之數個光學趨勢後,接著進行步驟S13,以計算每一個光學趨勢占參 考光源模組之總光學趨勢之比例。在獲得任二相鄰之發光單元120之間的光學趨勢佔參考光源模組(即光源模組100)之總光學趨勢之比例後,接著進行步驟S14,以根據比例調整對應任二相鄰之發光單元120之間的相對位置,進而改變發光單元120之間的間距,得到如圖3所示之光源模組200(目標光源模組)。
請再次參照圖1及圖5,步驟S14中,首先計算參考光源模組(也就是光源模組100)中之同一行(或同一列)中任二相鄰之發光單元120之間的所有間距的長度總和ΣPi。然後,將長度總和ΣPi乘上同一行(或同一列)中任二相鄰之發光單元120之間的光學趨勢fi佔參考光源模組(光源模組100)之總光學趨勢之比例,即可獲得數個目標間距P’i,且所計算出的目標間距P’i即為光源模組200中之任二相鄰之發光單元220之間距(例如間距G1或G2)的長度。因此,目標間距P’i的計算方式可以關係式(4)表示:
Figure 109101254-A0101-12-0011-15
其中,fi為任二相鄰之發光單元120之間的光學趨勢,Pi為參考光源模組(即光源模組100)之各任二相鄰之發光單元120間之初始間距(例如發光單元120間之間距B1及B2)。由此可知,目標間距P’i是透過將同一行(或同一列)中任二相鄰之發光單元120之間的所有間距的總和ΣPi依照每一個發光單元120之間的光學趨勢所佔比例來重新分配而得。
舉例而言,請同時參照圖2、圖6及圖7所示,其中圖6係繪示分別沿著目標光源模組與參考光源模組之X方向的光學趨勢圖,圖7係繪示目標光源模組與參考光源模組中之發光單元行數與發光單元之間的間距的關係示意圖。以圖2的參考光源模組(即光源模組100)為例,以基板110的中心作為原點,共有四行發光單元120沿著+X軸方向排列。其中,如圖1及圖7所示,在每一行發光單元120中,任二相鄰之發光單元120的間距B2的長度均為7mm,故所產生的光學趨勢如圖6的參考光源模組折線所示。根據參考光源模組(即光源模組100)所產生的光學趨勢計算出之對應這四行發光單元120之目標間距P’i分別約為7.25mm、7.29mm、7.05mm及6.55mm(如圖7所示),故可根據這些目標間距P’i分別調整這四行發光單元120之相對位置。經過調整的目標光源模組所產生的光學趨勢如圖6所示。根據圖6可知,目標光源模組所產生的光線較參考光源模組所產生光線均勻。
綜上所述,本揭露之光源模組200中的任二相鄰之發光單元120的間距是以圖1所示之光源模組100所產生的光學趨勢作為參考來設計,其參考原則是將光源模組100中之所述二相鄰發光單元120之間的光學趨勢標準化(standardization)或歸一化(normalization)後,並於光源模組100中之任二相鄰之發光單元120的連線上,確認所述任二相鄰發光單元120之間的光線貢獻度,以調整 所述任二相鄰發光單元120的間距,進而獲得本揭露之光源模組220。
以下以表一為例,在一6 x 6的發光單元矩陣排列的例子中,同一行(或同一列)中沿同一方向上排列的6個發光單元之間有5個間距且每一個間距給予序號1至5。在尚未調整的情況下,這5個間距(初始間距)分別是5cm。先固定同一行(或同一列)中最接近側牆的兩個發光單元,依照前述關係式(1)及(4)獲得每個間距的光學趨勢fi及目標間距P’i。同理,本例亦可利用關係式(2)及(3)所得出的光學趨勢fi來重新分配目標間距。此外,同一組光源陣列中,亦可於不同方向排列的發光單元,重複上述的標準化步驟,據以調整另一方向上的目標間距P’i。在一些例子中,若只考慮單行(或單列)中之發光單元所產生的光線,可使用關係式(2)或(3)來計算單行(或單列)中之發光單元之間的光學趨勢,再利用關係式(4)來計算目標間距P’i。若考慮到二維方向的發光單元之光線貢獻度,可使用關係式(1)來計算發光單元之間的光學趨勢,再利用關係式(4)來計算目標間距P’i
Figure 109101254-A0101-12-0013-16
Figure 109101254-A0101-12-0014-17
欲陳明者,光源模組的基板形狀除了前述之矩形外,亦可為圓形、橢圓形或扇形等不規則形狀之異型模組。不論是何種形狀的光源模組,均可使用如圖5或圖8所示之製造方法來完成。請同時參照圖8及圖9,其中圖8係繪示依照本揭露之一種光源模組之製造方法之流程圖,圖9為使用一種參考光源模組之光學趨勢模擬圖。在圖8的製造方法S2中,首先進行步驟S21,提供如圖9所示之參考光源模組300。如圖9所示,參考光源模組300包含基板310以及數個發光單元320,其中發光單元320是沿著第一方向D3以及第二方向D4等間距地排列在基板310上。具體而言,這些發光單元320排列成平行於第一方向D3之數個列,且排列成平行於第二方向D4之數個行。其中,在這些發光單元320中,沿著第一方向D3排列之任二相鄰之發光單元320具有間距B3,沿著第二方向D4排列之任二相鄰之發光單元320具有間距B4,且間距B3等於間距B4。因此,如圖9所示,參考光源模組300靠近中央區域會產生較高的亮度(例如靠近參考光源模組300中央的深灰色區域),這會導致整體背光模組的外觀看起來亮度對比明顯。
在進行步驟S21後,接著進行步驟S22,以分別取得每一行或每一列中任二相鄰之發光單元320之間的數個 光學趨勢。在一些實施例中,光學趨勢可根據前述關係式(1)~(3)計算而得。
欲陳明者,光學趨勢是一種相對值,是指局部區域的輝度(或照度)與整體輝度(或照度)的關係。在步驟S22中之光學趨勢的計算是使用關係式(2)來計算,以參考光源模組300中的一行(或一列)為單位,將每一行或每一列中之任二相鄰之發光單元320間的輝度(或照度)除以該行或該列的整體平均輝度(或照度)所得到。例如圖10及圖11所示,圖10及圖11分別表示圖9的參考光源模組300中之其中二行發光單元以及其中三列的中的任二相鄰之發光單元320間的輝度值,從輝度值之間的相對關係可以計算出每一行與每一列中之光學趨勢。在其他實施方式中,圖8中之步驟S22亦可替換為圖5的步驟S12,透過將任二相鄰之發光單元320除以整個參考光源模組300的平均輝度後,再開根號來計算光學趨勢。
在取得每一行或每一列中之任二相鄰之發光單元320之間之數個光學趨勢後,接著進行步驟S23,以計算同一行或同一列中之任二相鄰之發光單元320之間光學趨勢占參考光源模組300之該行或該列之總光學趨勢之比例。在獲得任二相鄰之發光單元320之間的光學趨勢佔參考光源模組300之總光學趨勢之比例後,接著進行步驟S24,以根據比例調整每一行或每一列中任二相鄰之發光單元320之間的相對位置,進而改變每一行或每一列中之發光單元 320之間的間距,得到如圖12所示之光源模組400(目標光源模組)。
在步驟S24中,首先計算參考光源模組300中之每一行與每一列中之任二相鄰之發光單元320之間的所有間距的長度總和ΣPi。以圖9的參考光源模組300中行1的發光單元320為例,可先計算行1中之任二相鄰之發光單元320之間的所有間距的長度總和ΣPi。然後,將行1的長度總和ΣPi分別乘上行1中之任二相鄰之發光單元320之間的光學趨勢佔參考光源模組300之行1的總光學趨勢之比例,即可獲得數個目標間距P’i,且所計算出的目標間距P’i即為光源模組400中之行1任二相鄰之發光單元420之間距(例如間距G3)的長度。因此,目標間距P’i的計算方式可以關係式(5)表示:
Figure 109101254-A0101-12-0016-18
在關係式(5)中,fi為任二相鄰之發光單元320之間的光學趨勢,Pi為參考光源模組300之每一列與每一行中各任二相鄰之發光單元320間之初始間距(例如發光單元320間之間距B3與間距B4)。由此可知,目標間距P’i是透過將同一行(或同一列)中任二相鄰之發光單元320之間的所有間距的總和ΣPi依照該行中每一個發光單元320之間的間距的光學趨勢所佔比例來重新分配而得。
舉例而言,請同時參照圖9至圖14所示,其中圖13係繪示根據圖10所示之光學趨勢所計算出之對應之平行第 二方向D4的其中二行發光單元之目標間距,圖14係繪示根據圖11所示之光學趨勢所計算出之對應之平行第一方向D3的其中三列發光單元之目標間距。在圖9的參考光源模組300中,發光單元320為等間距排列,且任二相鄰之發光單元320間距B3及B4的長度均為6.6mm,故參考光源模組300之行1及行2中的發光單元320所產生的光學趨勢如圖10所示,且參考光源模組300之列1、列2及列3中的發光單元320所產生的光學趨勢如圖11所示。
根據參考光源模組300所產生的光學趨勢並利用前述之關係式(5)所計算出之對應行1及行2之目標間距如圖13所示,根據參考光源模組300所產生的光學趨勢計算出之對應列1、列2及列3之目標間距如圖14所示。藉此,根據這些目標間距分別沿著列1、列2及列3的延伸方向來調整列1、列2及列3中的發光單元320的相對位置,並根據這些目標間距分別沿著行1、行2的延伸方向來調整行1及行2中的發光單元320的相對位置。經過調整的目標光源模組所產生的光學趨勢如圖12所示,目標光源模組400所產生的光線較圖9之參考光源模組300所產生光線均勻。
以下舉另一例子說明利用圖8所示之製造方法S2製作扇形之光源模組。請先參照圖8以及圖15,其中圖15為使用一種參考光源模組之光學趨勢模擬圖。在圖8的製造方法S2中,首先進行步驟S21,提供如圖15所示之參考光源模組500。如圖15所示,參考光源模組500包含基板510以及數個發光單元520,其中發光單元520是沿著第一方向 D5以及第二方向D6等間距地排列在基板510上。具體而言,這些發光單元520排列成平行於第一方向D5之數個列,且排列成平行於第二方向D6之數個行。其中,在這些發光單元520中,沿著第一方向D5排列之任二相鄰之發光單元520具有間距B5,沿著第二方向D6排列之任二相鄰之發光單元520具有間距B6。因此,如圖15所示,參考光源模組500靠近中央區域會產生較高的亮度(例如靠近參考光源模組500中央的深灰色區域),這會導致整體背光模組的外觀看起來亮度對比明顯且不均勻。
在進行步驟S21後,接著進行步驟S22,以分別取得每一行與每一列中任二相鄰之發光單元520之間的數個光學趨勢。在一些實施例中,光學趨勢是根據前述之關係式(2)或(3)計算而得。例如圖16及圖17所示,圖16及圖17分別表示圖15的參考光源模組500中之其中二行發光單元以及其中三列的中的任二相鄰之發光單元520間的輝度值,從輝度值之間的相對關係可以計算出每一行與每一列中之光學趨勢。
在取得每一行與每一列中之任二相鄰之發光單元520之間之數個光學趨勢後,接著進行步驟S23,以計算同一行或同一列中之任二相鄰之發光單元520之間光學趨勢占參考光源模組500之該行或該列之總光學趨勢之比例。在獲得任二相鄰之發光單元520之間的光學趨勢佔參考光源模組500之總光學趨勢之比例後,接著進行步驟S24,以根據比例調整每一行與每一列中任二相鄰之發光單元520 之間的相對位置,進而改變每一行與每一列中之發光單元520之間的間距,得到如圖18所示之光源模組600(目標光源模組)。
在步驟S24中,首先計算參考光源模組500中之每一行與每一列中之任二相鄰之發光單元520之間的所有間距的長度總和ΣPi。以圖15的參考光源模組500中行1的發光單元520為例,可先計算行1中之任二相鄰之發光單元520之間的所有間距的長度總和ΣPi。然後,將行1的長度總和ΣPi分別乘上行1中之任二相鄰之發光單元520之間的光學趨勢佔參考光源模組500之行1的總光學趨勢之比例,即可獲得數個目標間距P’i,且所計算出的目標間距P’i即為光源模組600中之行1任二相鄰之發光單元620之間距(例如間距G4)的長度。
在本實施例中,請同時參照圖15至圖20所示,其中圖19係繪示根據圖16所示之光學趨勢所計算出之對應之平行第二方向D6的其中二行發光單元之目標間距,圖20係繪示根據圖17所示之光學趨勢所計算出之對應之平行第一方向D5的其中三列發光單元之目標間距。在圖15的參考光源模組500中,沿著第二方向D6排列的發光單元520之間為等間距排列,且間距B6為6.6mm,故參考光源模組500之行1及行2中的發光單元520所產生的光學趨勢如圖16所示。在圖15的參考光源模組500中,沿著第一方向D5排列的發光單元520之間為等間距排列,且間距B5為 7mm,故參考光源模組500之列1、列2及列3中的發光單元520所產生的光學趨勢如圖17所示。
根據參考光源模組500所產生的光學趨勢並利用前述關係式(5)所計算出之對應行1及行2之目標間距如圖19所示,根據參考光源模組500所產生的光學趨勢計算出之對應列1、列2及列3之目標間距如圖20所示。藉此,根據這些目標間距分別沿著列1、列2及列3的延伸方向來調整列1、列2及列3中的發光單元520的相對位置,並根據這些目標間距分別沿著行1、行2的延伸方向來調整行1及行2中的發光單元520的相對位置。經過調整的目標光源模組所產生的光學趨勢如圖18所示,光源模組600所產生的光線較如圖15所示之參考光源模組500所產生光線均勻。
另請參照圖21,其係繪示依照本揭露之一實施方式之一種背光模組之裝置示意圖。本實施方式之背光模組700包含圖3所示之光源模組200以及至少一光學膜片710。光學膜片710設置在光源模組200上方,故光源模組200產生之光線可射入光學膜片710中,而從光學膜片710出光。在本實施例中,光學膜片710的形狀是對應光源模組200之基板210的形狀,並覆蓋於光源模組200的可視區域。欲陳明者,本實施例以圖3所示之光源模組200應用於背光模組中作為示範說明用,並非用以限制本揭露。前述其他實施例的之光源模組,例如圖12所示之光源模組400、或圖18所示之光源模組600亦可應用於背光模組中,以產生同樣之效果。
另請參照圖22,其係繪示依照本揭露之一實施方式之一種顯示裝置之裝置示意圖。本實施方式之顯示裝置800主要包含如圖3所示之光源模組200、至少一光學膜片810、以及顯示面板820。其中,光學膜片810設置在光源模組200上方,顯示面板820設置在光學膜片810的上方。因此,光源模組200產生之光線可射入光學膜片810中,進而進入顯示面板820而從顯示面板820出光。在本實施例中,光學膜片810與顯示面板820的形狀是對應光源模組200之基板210的形狀,並覆蓋於光源模組200的可視區域。欲陳明者,本實施例以圖3所示之光源模組200應用於顯示裝置中作為示範說明用,並非用以限制本揭露。前述其他實施例的之光源模組,例如圖12所示之光源模組400、或圖18所示之光源模組600亦可應用於顯示裝置中,以產生同樣之效果。
由前述本揭露實施方式可知,本揭露是以欲改善之光源模組做為參考光源模組,並以參考光源模組所產生之光學趨勢來重新調整每一個發光單元之間距,進而達到在不增加發光單元的情況下,使得調整後的光源模組能夠產生亮度分布均勻之光線。具體而言,本揭露是先固定參考光源模組中之最靠近側牆的發光單元,然後再利用本揭露之關係式來計算這些發光單元之間的光學趨勢與目標間距,最後再根據目標間距來調整這些發光單元之間的距離。因此,本揭露在不需要增加發光單元的數量與佈設成本的條件下,可以達到優化亮度分布,使得亮度分布更為 均勻。欲陳明者,在本實施例中,是以發光單元為等間距排列之光源模組作為欲改善之光源模組(也就是參考光源模組)來說明。在其他例子中,參考光源模組亦可為發光單元為不等距排列的光源模組。
另一方面,由於習知發光單元的排列原則是較暗區域中的發光單元會排列得較靠近,而較亮區域中的發光單元會排列的較遠。例如,若一個區域的輝度相對其他區域的輝度少3%,發光單元之間的距離就調近3%,相鄰區域的輝度多5%,發光單元之間的距離就調遠5%。也就是說,習知的發光單元的排列間距是根據其所在區域的輝度相對其他區域的輝度差值來等比例調整。然而,此種方式並無法使得發光單元產生良好的亮度分配效果,且會產生疏密變化過於劇烈的狀態。反觀本揭露,本揭露之發光單元之間的距離並非直接參考其所在區域的輝度與其他區域的輝度差值來調整,而是根據相鄰發光單元之間距中的輝度相對平均輝度的比例來計算發光單元的目標間距,故利用本揭露之發光單元的排列方式可使得整體疏密變化不會改變過於劇烈,整體亮度分布也能更為平滑化。
雖然本揭露之實施例已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本揭露之實施例,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本揭露之實施例的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本揭露之實施例的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
S1‧‧‧製造方法
S11‧‧‧步驟
S12‧‧‧步驟
S13‧‧‧步驟
S14‧‧‧步驟

Claims (21)

  1. 一種光源模組之製造方法,包含:提供一參考光源模組,其中該參考光源模組包含一基板以及複數個發光單元排列於該基板上;取得任二相鄰之該些發光單元之間之複數個光學趨勢;計算每一該些光學趨勢占該參考光源模組之一總光學趨勢之一比例;以及根據該些比例計算分別對應任二相鄰之該些發光單元之間之複數個目標間距,並根據該些目標間距來調整對應任二相鄰之該些發光單元之間的間距,以獲得一目標光源模組;其中每一該些目標間距是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0028-1
    其中,P’i為該目標間距,fi為該光學趨勢,Pi為該參考光源模組之各任二相鄰之該些發光單元間之一初始間距。
  2. 如請求項1所述之光源模組之製造方法,其中每一該些光學趨勢是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0028-2
    其中,fi為該光學趨勢,Bri為各任二相鄰之該些發光單元之間 的一輝度值或一照度值,
    Figure 109101254-A0305-02-0029-15
    為該參考光源模組所產生之一平均輝度或一平均照度。
  3. 如請求項1所述之光源模組之製造方法,其中每一該些光學趨勢是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0029-3
    其中,fi為該光學趨勢,Bri為沿著一方向排列之該些發光單元中各任二相鄰之該些發光單元之間的一輝度值或一照度值,
    Figure 109101254-A0305-02-0029-14
    為沿著該方向排列之該些發光單元所產生之一平均輝度或一平均照度,n為該些目標間距的個數。
  4. 一種光源模組之製造方法,包含:提供一參考光源模組,其中該參考光源模組包含一基板以及複數個發光單元排列於該基板上,其中該些發光單元排列成平行一第一方向之複數個列,且該些發光單元排列成平行一第二方向之複數個行;分別取得每一該些行與列中任二相鄰之該些發光單元之間的複數個光學趨勢;計算每一該些光學趨勢占該參考光源模組之一總光學趨勢之一比例;以及根據該些比例計算分別對應每一該些行與列中之任二相鄰之該些發光單元之間之複數個目標間距,並根據該些 目標間距來沿著每一該些列之延伸方向調整每一該些列中對應任二相鄰之該些發光單元之間的間距、以及沿著每一該些行之延伸方向調整每一該些行中對應任二相鄰之該些發光單元之間的間距,以獲得一目標光源模組;其中每一該些目標間距是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0030-4
    其中,P’i為該目標間距,fi為該光學趨勢,Pi為該參考光源模組之每一該些行或列中之各任二相鄰之該些發光單元間之一初始間距。
  5. 如請求項4所述之光源模組之製造方法,其中每一該些光學趨勢是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0030-5
    其中,fi為該光學趨勢,Bri為每一該些行或列中之各任二相鄰之該些發光單元之間的一輝度值或一照度值,
    Figure 109101254-A0305-02-0030-16
    為每一該些行或列中之該些發光單元所產生之一平均輝度或一平均照度,n為該些目標間距的個數。
  6. 一種光源模組,包含一基板以及複數個發光單元,其中,該光源模組具有一總光學趨勢,以及複數個光學趨勢,每一該 些光學趨勢是由該些發光單元之任二相鄰發光單元之間所取得,該總光學趨勢是該些光學趨勢的加總,其中,任二相鄰之發光單元之間具有一目標間距,所述目標間距相對於所述發光單元之總間距的所佔比例,是依據對應上述任二相鄰之發光單元的該些光學趨勢相對於該總光學趨勢的所佔比例而設定。
  7. 如請求項6所述之光源模組,其中每一該些光學趨勢是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0031-6
    其中,fi為該光學趨勢,Bri為各任二相鄰之該些發光單元之間的一輝度值或一照度值,
    Figure 109101254-A0305-02-0031-8
    為該光源模組所產生之一平均輝度或一平均照度。
  8. 如請求項6所述之光源模組,其中每一該些光學趨勢是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0031-7
    其中,fi為該光學趨勢,Bri為沿著一方向排列之該些發光單元中各任二相鄰之該些發光單元之間的一輝度值或一照度值,
    Figure 109101254-A0305-02-0031-9
    為沿著該方向排列之該些發光單元所產生之一平均輝度或一平均照度,n為該些目標間距的個數。
  9. 如請求項6至請求項8中任一項所述之光源模組,其中每一該些目標間距是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0032-10
    其中,P’i為該目標間距,fi為該光學趨勢,Pi為該光源模組之各任二相鄰之該些發光單元間之一初始間距。
  10. 一種光源模組,包含一基板以及複數個發光單元,其中,該光源模組具有一總光學趨勢,以及複數個光學趨勢,每一該些光學趨勢是由該些發光單元中排列成同一行或同一列中任二相鄰發光單元之間所取得,該總光學趨勢是排列成所述同一行或所述同一列的該些光學趨勢的加總,其中,所述同一行或所述同一列中任二相鄰之發光單元之間具有一目標間距,所述目標間距相對於所述同一行或所述同一列的發光單元之總間距的所佔比例,是依據對應上述任二相鄰之發光單元的該些光學趨勢相對於該總光學趨勢的所佔比例而設定。
  11. 如請求項10所述之光源模組,其中每一該些光學趨勢是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0032-11
    其中,fi為該光學趨勢,Bri為每一該些行或列中之各任二相鄰之該些發光單元之間的一輝度值或一照度值,
    Figure 109101254-A0305-02-0032-12
    為每一該些行或列 中之該些發光單元所產生之一平均輝度或一平均照度,n為該些目標間距的個數。
  12. 如請求項10或請求項11所述之光源模組,其中每一該些目標間距是根據一關係式計算而得,其中該關係式為:
    Figure 109101254-A0305-02-0033-13
    其中,P’i為該目標間距,fi為該光學趨勢,Pi為該光源模組之每一該些行或列中之各任二相鄰之該些發光單元間之一初始間距。
  13. 一種背光模組,包含:一利用請求項1至請求項5中任一項所述之製造方法所製作之光源模組;以及一光學膜片,設置在該光源模組上方。
  14. 如請求項13所述之背光模組,其中該光源模組之該基板的形狀為矩形、圓形、橢圓形或扇形,且該光學膜片的形狀對應該基板的形狀。
  15. 如請求項13所述之背光模組,其中該光源模組中之任二相鄰之該些發光單元之間的間距不完全相等。
  16. 如請求項13所述之背光模組,其中該光源模組中之靠近該基板邊緣之任二相鄰之該些發光單元之間的間距小於靠近 該基板中心之任二相鄰之該些發光單元之間的間距。
  17. 一種背光模組,包含:一利用請求項6至請求項12中任一項所述之光源模組;以及一光學膜片,設置在該光源模組上方。
  18. 如請求項17所述之背光模組,其中該光源模組之該基板的形狀為矩形、圓形、橢圓形或扇形,且該光學膜片的形狀對應該基板的形狀。
  19. 如請求項17所述之背光模組,其中該光源模組中之任二相鄰之該些發光單元之間的間距不完全相等。
  20. 如請求項17所述之背光模組,其中該光源模組中之靠近該基板邊緣之任二相鄰之該些發光單元之間的間距小於靠近該基板中心之任二相鄰之該些發光單元之間的間距。
  21. 一種顯示裝置,包含:一利用請求項13至請求項20中任一項所述之背光模組;以及一顯示面板,設置在該光學膜片上方。
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