TWI725446B - 用於顯示器可視側的光學膜 - Google Patents

用於顯示器可視側的光學膜 Download PDF

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Abstract

一種用於顯示器可視側的光學膜，包括一基板以及複數個光偏折結構。基板具有一表面。光偏折結構位於基板的表面並具有斜率變化。

Description

用於顯示器可視側的光學膜
本發明是有關於一種光學膜，且特別是有關於一種用於顯示器可視側的光學膜。
隨著現代人對於顯示器的使用需求增加，對於顯示器之顯示品質亦愈來愈重視。由於一般的顯示器在人眼光觀賞時仍具有一些問題(例如是液晶顯示器之灰階反轉、大視角色偏、大視角暗畫面漏光以及有機發光二極體顯示器的大視角色偏等等的問題)，市面上採用光學膜以進行改善。然而，目前的光學膜還具有一些需要克服的光學問題。
因此，現在仍亟需開發一種能夠改善顯示品質的方法，以提供可改善顯示品質的光學膜。
本發明係有關於一種用於顯示器可視側的光學膜。由於本發明之用於顯示器可視側的光學膜包括具有斜率變化的光偏折結 構，使得顯示器之部分光學問題(例如疊紋(Moiré))可獲得改善，故可提供顯示器之較佳之顯示品質。
根據本發明之一方面，提出一種用於顯示器可視側的光學膜。此用於顯示器可視側的光學膜包括一基板以及複數個光偏折結構。基板具有一表面。光偏折結構位於基板的表面並具有斜率變化。
為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解，下文特舉實施例，並配合所附圖式詳細說明如下：
10、20、30、40、50、60、70:光學膜
100:基板
100a:表面
200、300、400、500、600、700、800:光偏折結構
201、203、301、303、401、403、501、503、601、603、701、703、801、803:第一光偏折結構
200T、400T:厚度
202、204、302、304、402、404、502、504、602、604、702、704、802、804:第二光偏折結構
200H1、200H2:高度
400v、500v、600v、700v、800v:立面
A1:第一區域
A2:第二區域
第1A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的立體圖。
第1B圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的上視圖。
第2A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的立體圖。
第2B圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的上視圖。
第3A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的立體圖。
第3B圖繪示由第3A圖之第一方向(X軸方向)上觀之的光學膜的側視圖。
第4A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的立體圖。
第4B圖繪示由第4A圖之第一方向(X軸方向)上觀之的光學膜的側視圖。
第5圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的立體圖。
第6圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的立體圖。
第7A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的立體圖。
第7B圖繪示由第7A圖之第一方向(X軸方向)上觀之的光學膜的側視圖。
第8圖繪示依照本發明一實施例的光學膜的立體圖。
目前的顯示器皆為數位訊號的格式，具有週期性的多個畫素，而一般的光學膜為了加工上的便利，亦具有週期性的結構變化，當兩者的週期性結構疊加在一起容易產生干涉現象，亦即是形成疊紋(Moiré)。因此，本發明的光學膜包括具有斜率變化的多個光偏折結構，可避免疊紋的產生。
第1A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜10的立體圖。第1B圖繪示依照本發明一實施例的光學膜10的上視圖，例如是繪示X軸與Y軸所構成的平面。在一實施例中，X軸、Y軸與Z軸可互相垂直，然本發明並不限於此。
請參照第1A及1B圖，光學膜10包括一基板100及複數個光偏折結構200。基板100具有一表面100a。顯示器設置於基板100之表面100a的相對表面上(未繪示)。進一步而言，光學膜10是用於顯示器的可視側。光偏折結構200位於基板100的表面100a，這些光偏折結構200是沿著一第一方向(例如是X軸方向)間隔設置且沿著一第二方向(例如是Y軸方向)連續彎弧延伸的波浪型條狀結構，第一方向及第二方向平行於表面100a。每個光偏折結構200在表面100a上之投影呈一有斜率變化的波形。在本實施例中，每個光偏折結構200的斜率是在X軸與Y軸所構成的平面上有所變化，然本發明並不限於此。
光偏折結構200包括複數個第一光偏折結構201、203...以及複數個第二光偏折結構202、204...，第一光偏折結構201、203與第二光偏折結構202、204相間隔，且第一光偏折結構201、203在表面100a上波浪型之投影的斜率變化相同於與第二光偏折結構202、204在表面100a上波浪型之投影的斜率變化。
在一些實施例中，光偏折結構200是突出於表面100a或凹陷於表面100a。光偏折結構可沿著第二方向(例如是Y軸方向)與一高度方向(例如是Z軸方向)延伸，高度方向可垂直表面100a。第一光偏折結構201、203...以及第二光偏折結構202、204...可具有相同的高度，然本發明並不限於此，第一光偏折結構201、203...以及第二光偏折結構202、204...可具有不同的高度，或者第一光偏折結構201、203...以及第二光偏折結構202、204...可在高度方向上具有斜率之變化。在一些實施例中，每個光偏折結構200在第一方向上具有一厚度200T，厚度200T可介於0.5微米至20微米。在一些實施例中，光偏折結構200在第一方向上具有一週期，週期是介於1微米至40微米。亦即，相鄰之光偏折結構200(例如是第一光偏折結構201與第二光偏折結構202)間的距離是介於1微米至40微米。
在一些實施例中，光偏折結構200是由一種能量固化型之材料結合蝕刻製程所形成。能量固化型之材料例如是透明的UV膠，受到光照之後固化成型。基板100可為透明塑膠基材，例如是聚乙烯對苯二甲酸酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚氯乙烯(polyvinyl chloride,PVC)等等。蝕刻製程則有利於成型出具多樣斜率變化的光偏折結構200。
在一些實施例中，光偏折結構200之間的空間可具有一填充材料(未繪示)。填充材料可不同於光偏折結構200的材料，例如填充材料有不同於光偏折結構200的折射率。
第2A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜20的立體圖。第2B圖繪示依照本發明一實施例的光學膜20的上視圖，例如是繪示X軸與Y軸所構成的平面。光學膜20大致與第1A及1B圖之光學膜10相似，不同之處在於光偏折結構300的斜率變化，其他部分之相同或類似之處將不再詳細描述。在一實施例中，X軸、Y軸與Z軸可互相垂直，然本發明並不限於此。
請參照第2A及2B圖，光學膜20包括一基板100及複數個光偏折結構300。光偏折結構300位於基板100的表面100a上並具有斜率變化。這些光偏折結構300是沿著一第一方向(例如是X軸方向)間隔設置且沿著一第二方向(例如是Y軸方向)連續彎弧延伸的波浪型條狀結構，第一方向及第二方向平行於表面100a。每個光偏折結構300在表面100a上之投影呈一有斜率變化的波形。在本實施例中，每個光偏折結構300的斜率是在X軸與Y軸所構成的平面上有所變化，然本發明並不限於此，光偏折結構300的斜率亦可在高度方向(例如是Z軸方向)上有所變化。
光偏折結構300包括複數個第一光偏折結構301、303...以及複數個第二光偏折結構302、304...，第一光偏折結構301、303 與第二光偏折結構302、304相間隔，且第一光偏折結構301、303在表面100a上之投影的斜率變化不同於與第二光偏折結構202、204在表面100a上之投影的斜率變化。亦即，光偏折結構300在表面100a上之投影有兩種波形(第一光偏折結構301、303在表面100a上所形成的波形及第二光偏折結構202、204在表面100a上所形成之波形)。在一實施例中，每個第二光偏折結構302、304...與每個第一光偏折結構301、303...在平面100a上之投影的斜率變化形成有180°的相位差的波形，然本發明並不限於此，只要第二光偏折結構302、304...與第一光偏折結構301、303...在表面100a上之投影的波形有所不同即可。
第3A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜30的立體圖。第3B圖繪示由第3A圖之第一方向(例如是X軸方向)上觀之的光學膜30的側視圖，例如是繪示由Y軸與Z軸所構成的平面上。光學膜30是類似於第1A及1B圖之光學膜10，其不同之處在於光偏折結構400的斜率變化是位於Y軸與Z軸所構成的平面上，其他部分之相同或類似之處將不再詳細描述。在一實施例中，X軸、Y軸與Z軸可互相垂直，然本發明並不限於此。
請同時參照第3A及3B圖，光學膜30包括一基板100及複數個光偏折結構400。這些光偏折結構400是沿著一第一方向(例如是X軸方向)間隔設置且沿著一第二方向(例如是Y軸方向)直線延伸並在高度方向(例如是Z軸方向)有高低變化而成波浪型條狀結構，第一方向及第二方向平行於表面100a。每個光偏折結構400在Y軸與Z軸所構成的立面400v上之投影呈一有斜率變化的波形。光偏折結構400所呈 之波形可包括一波峰及一波谷，波峰與表面100a之間之高度200H1大於波谷與表面100a之間之高度200H2。
在一些實施例中，光偏折結構400可沿著第二方向(例如是Y軸方向)與一高度方向(例如是Z軸方向)延伸，高度方向可垂直表面100a。每個光偏折結構400在第一方向(例如是X軸方向)上具有一厚度400T，厚度400T可介於0.5微米至20微米。在一些實施例中，光偏折結構400在第一方向上具有一週期，週期是介於1微米至40微米。在一些實施例中，光偏折結構400在高度方向(例如是Z軸方向)上的高度(例如是高度200H1或200H2)變化介於0.1微米至20微米。
光偏折結構400包括複數個第一光偏折結構401、403...以及複數個第二光偏折結構402、404...，第二光偏折結構402、404...與第一光偏折結構401、403...相間隔，且第一光偏折結構401、403...在一垂直表面100a且平行第二方向(例如是Y軸方向)的立面400v上之投影的斜率變化相同於第二光偏折結構402、404...在立面400v上之投影的斜率變化。在本實施例中，第一光偏折結構401、403...在表面100a上之投影相同於第二光偏折結構402、404...在表面100a上之投影，在表面上100a並沒有斜率之變化，然本發明並不限於此。
第4A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜40的立體圖。第4B圖繪示由第4A圖之第一方向(例如是X軸方向)上觀之的光學膜40的側視圖，例如是繪示由Y軸與Z軸所構成的平面上。光學膜40類似於第3A及3B圖之光學膜30，其不同之處在於光偏折結構500的斜 率變化，其他部分之相同或類似之處將不再詳細描述。在一實施例中，X軸、Y軸與Z軸可互相垂直，然本發明並不限於此。
請同時參照第4A及4B圖，光學膜40包括一基板100及複數個光偏折結構500。光偏折結構500在垂直表面100a且平行第二方向(例如是軸Y方向)的立面500v上之投影呈一波形。在本實施例中，每個光偏折結構500的斜率是在Y軸與Z軸所構成的立面500v上有所變化，然本發明並不限於此，在其他平面(如是X軸與Y軸所構成的平面)上亦可有斜率之變化。光偏折結構500在立面500v上所呈之波形可包括一波峰及一波谷，波峰與表面100a之間之高度大於波谷與表面100a之間之高度。
光偏折結構500包括複數個第一光偏折結構501、503...以及複數個第二光偏折結構502、504...，第二光偏折結構502、504...與第一光偏折結構501、503...相間隔，且第一光偏折結構501、503...在一垂直表面100a且平行第二方向(例如是Y軸方向)的立面500v上之投影的斜率變化不同於第二光偏折結構502、504...在立面500v上之投影的斜率變化。在本實施例中，第二光偏折結構502、504...與第一光偏折結構501、503...在立面500v上之投影的斜率變化形成有180°的相位差的波形。亦即，在第一方向(例如是X軸方向)上觀之，第二光偏折結構502、504...的波峰對應於第一光偏折結構501、503...的波谷，第二光偏折結構502、504...的波谷峰對應於第一光偏折結構501、503...的波峰。然而，本發明並不限於此，只要第二光偏折結構502、504...與第一光偏折結構501、503...在立面500v上之投影的斜率變化有所不 同即可。在一些實施例中，第一光偏折結構501、503...在表面100a上之投影的斜率變化相同於第二光偏折結構502、504...在表面100a上之投影的斜率變化，如第1B圖的波形所示。
第5圖繪示依照本發明一實施例的光學膜50的立體圖。光學膜50類似於第3A及3B圖之光學膜30，包括一基板100及複數個光偏折結構600，其不同之處在於光偏折結構600的斜率變化，其他部分之相同或類似之處將不再詳細描述。在一實施例中，X軸、Y軸與Z軸可互相垂直，然本發明並不限於此。
請參照第5圖光偏折結構600是沿著一第一方向(例如是X軸方向)間隔設置且沿著一第二方向(例如是Y軸方向)彎弧延伸，第一方向及第二方向平行於表面100a。每個光偏折結構600在表面100a的投影如第1B圖之光偏折結構200的波形，而在Y軸與Z軸所構成的立面600v上的投影則是如第3B圖之光偏折結構400的波形。
光偏折結構600包括複數個第一光偏折結構601、603...以及複數個第二光偏折結構602、604...，第二光偏折結構602、604...與第一光偏折結構601、603...相間隔，第一光偏折結構601、603...在表面100a上之投影的斜率變化相同於第二光偏折結構602、604...在表面100a上之投影的斜率變化，且第一光偏折結構601、603...在垂直表面100a且平行第二方向(例如是Y軸方向)的立面600v上之投影的斜率變化相同於第二光偏折結構602、604...在立面600v上之投影的斜率變化。
第6圖繪示依照本發明一實施例的光學膜60的立體圖。光學膜60類似於第5圖之光學膜50，其不同之處在於光偏折結構700的斜率變化，其他部分之相同或類似之處將不再詳細描述。在一實施例中，X軸、Y軸與Z軸可互相垂直，然本發明並不限於此。
請參照第6圖，光學膜60包括一基板100及複數個光偏折結構700。光偏折結構700位於基板100的表面100a上並具有斜率變化。這些光偏折結構700可沿著一第一方向(例如是X軸方向)間隔設置且沿著一第二方向(例如是Y軸方向)彎弧延伸，第一方向及第二方向平行於表面100a。每個光偏折結構700在表面100a及由Y軸與Z軸相配合界定出的立面700v上之投影分別呈一波形，例如分別為波浪型條狀結構，分別如第2B圖中光偏折結構300的波形及第3B圖的光偏折結構400的波形所示。
光偏折結構700包括複數個第一光偏折結構701、703...以及複數個第二光偏折結構702、704...，第二光偏折結構702、704...與第一光偏折結構701、703...相間隔，第一光偏折結構701、703...在表面100a上之投影的斜率變化不同於第二光偏折結構702、704...在表面100a上之投影的斜率變化，且第一光偏折結構701、703...在垂直表面100a且平行第二方向(例如是Y軸方向)的立面700v上之投影的斜率變化相同於第二光偏折結構702、704...在立面700v上之投影的斜率變化。
第7A圖繪示依照本發明一實施例的光學膜70的立體圖。第7B圖繪示由第7A圖之第一方向(例如是X軸方向)上觀之的光學 膜70的側視圖，例如是繪示由Y軸與Z軸所構成的平面上。光學膜70是類似於第3A及3B圖之光學膜30，其不同之處在於光偏折結構800的斜率變化，其他部分之相同或類似之處將不再詳細描述。在一實施例中，X軸、Y軸與Z軸可互相垂直，然本發明並不限於此。
請同時參照第7A及7B圖，光學膜70包括一基板100及複數個光偏折結構800。光偏折結構800位於基板100的表面100a上並具有斜率變化。這些光偏折結構800可沿著一第一方向(例如是X軸方向)間隔設置且沿著一第二方向(例如是Y軸方向)延伸，第一方向及第二方向平行於表面100a。每個光偏折結構800在由Y軸與Z軸相配合界定出的立面800v上之投影呈一波形，例如為波浪型條狀結構。在本實施例中，每個光偏折結構800的斜率是在Y軸與Z軸所構成的立面800v上有所變化，然本發明並不限於此，在其他平面(如是X軸與Y軸所構成的平面)上亦可有斜率之變化。當沿第一方向觀之，光偏折結構800可包括一第一區域A1及一第二區域A2，且第一區域A1與第二區域A2在立面800v上之投影的曲率不同。例如，第一區域A1之光偏折結構800在立面800v上之投影的曲率大於第二區域A2之光偏折結構800在立面800v上之投影的曲率，然本發明並不限於此。在其他實施例中，光偏折結構之第一區域與第二區域在表面100a上之投影的曲率不同。
光偏折結構800包括複數個第一光偏折結構801、803...以及複數個第二光偏折結構802、804...，第二光偏折結構802、804...與第一光偏折結構801、803...相間隔。在本實施例中，第一光偏折結構801、803...在立面800v上之投影的斜率及/或曲率變化不同於第二 光偏折結構802、804...在立面800v上之投影的斜率及/或曲率變化。例如，在第一方向(例如X軸方向)上，相鄰之第一光偏折結構801的第一區域A1是與第二光偏折結構802的第一區域A1互相錯開，然本發明不限於此。在一些實施例中，第一光偏折結構801、803...在立面800v上之投影的斜率及/或曲率變化相同於第二光偏折結構802、804...在立面800v上之投影的斜率及/或曲率變化。在一些實施例中，第一光偏折結構801、803...在表面100a上之投影相同於第二光偏折結構802、804...在表面100a上之投影，在表面上100a並沒有斜率之變化，然本發明並不限於此，第一光偏折結構801、803...在表面100a上之投影可具有斜率變化，第二光偏折結構802、804...在表面100a上之投影可具有斜率變化，第一光偏折結構801、803...在表面100a上之投影的斜率變化可相同或不同於第二光偏折結構802、804...在表面100a上之投影可具有斜率變化。
在一些實施例中，第一光偏折結構801、803...在高方度方向(例如是Z軸方向)上的最大高度可相同於第二光偏折結構802、804...在高方度方向上的最大高度。在一些實施例中，第一光偏折結構801、803...在高方度方向上的最大高度可不同於(例如是小於或大於)第二光偏折結構802、804...在高方度方向上的最大高度。
第8圖繪示依照本發明一實施例的光學膜80的立體圖。光學膜80類似於第4A及4B圖所示的光學膜40，其不同之處在於光偏折結構900在X軸與Y軸所形成之平面上的斜率變化，其他部分之 相同或類似之處將不再詳細描述。在一實施例中，X軸、Y軸與Z軸可互相垂直，然本發明並不限於此。
請參照第8圖，光學膜80包括一基板100及複數個光偏折結構900。光偏折結構900在垂直表面100a且平行第二方向(例如是軸Y方向)的立面900v上之投影呈一波形。在本實施例中，每個光偏折結構900的斜率是在Y軸與Z軸所構成的立面900v上有所變化，並且在X軸與Y軸所構成的平面上亦有斜率之變化。
光偏折結構900包括複數個第一光偏折結構901、903...以及複數個第二光偏折結構902、904...，第二光偏折結構902、904...與第一光偏折結構901、903...相間隔，且第一光偏折結構901、903...在一垂直表面100a且平行第二方向(例如是Y軸方向)的立面900v上之投影的斜率變化不同於第二光偏折結構902、904...在立面900v上之投影的斜率變化。在本實施例中，第二光偏折結構902、904...與第一光偏折結構901、903...在立面900v上之投影的斜率變化形成有180°的相位差的波形。然而，本發明並不限於此，只要第二光偏折結構902、904...與第一光偏折結構901、903...在立面900v上之投影的斜率變化有所不同即可。並且，第一光偏折結構901、903...在表面100a上之投影的斜率變化不同於第二光偏折結構902、904...在表面100a上之投影的斜率變化，如第2B圖的光偏折結構300的波形所示。由於光偏折結構900不只同時在立面900v與表面100a上具有斜率變化，而且第一光偏折結構901、903...與第二光偏折結構902、904...在立面900v上之投影的斜率變化也有所不同，因此，抑制干涉現象與疊紋的效果最為 明顯。實際應用上，第一光偏折結構901、903...與第二光偏折結構902、904...在表面100a上之投影的斜率變化，也可以是如第1B圖的光偏折結構200的波形所示。
本發明的用於顯示器可視側的光學膜具有複數個光偏折結構，且這些光偏折結構可具有斜率變化。其中，斜率變化可以是在第一方向(例如是X軸方向)與第二方向(例如是Y軸方向)所構成之平面(例如表面100a)上的斜率變化、第二方向(例如是Y軸方向)與第三方向(例如是Z軸方向)所構成之立面上的斜率變化、或其之任意組合。相較於光偏折結構不具有斜率變化的比較例而言，由於本案的光偏折結構具有斜率變化，可避免光偏折結構的週期相同而與畫素之週期性結構所產生的干涉現象，而能夠減少疊紋的產生，故使用本發明之光偏折結構的顯示裝置可具有較佳之顯示品質。
綜上所述，雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
10:光學膜
100:基板
100a:表面
200:光偏折結構
201、203:第一光偏折結構
200T:厚度
202、204:第二光偏折結構

Claims (17)

  1. 一種用於顯示器可視側的光學膜，包括：一基板，具有一表面；複數個光偏折結構，位於該基板的該表面上(之投影)呈一波形；該些光偏折結構是由一種能量固化型之材料結合蝕刻製程所形成，且該些光偏折結構沿著一第一方向間隔設置，沿著一第二方向與一高度方向延伸，該第一方向及該第二方向平行於該表面，該高度方向垂直該表面，其中該些光偏折結構在該第一方向上具有一週期，該週期是介於1微米至40微米。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，該些光偏折結構包括複數個第一光偏折結構以及複數個第二光偏折結構，該些第二光偏折結構與該些第一光偏折結構相間隔，且該些第一光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化相同於與該些第二光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，該些光偏折結構包括複數個第一光偏折結構以及複數個第二光偏折結構，該些第二光偏折結構與該些第一光偏折結構相間隔，且該些第一光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化不同於該些第二光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中該些光偏折結構包括複數個第一光偏折結構以及複數個第二光偏折結構，該些第二光偏折結構與該些第一光偏折結構相間隔，且該些第一光偏折結構在一垂直該表面且平行該第二方向的立面上(之投影)的斜率變化相同於該些第二光偏折結構在該立面上(之投影)的斜率變化。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中該些第一光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化相同於該些第二光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中該些第一光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化不同於該些第二光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中該些光偏折結構包括複數個第一光偏折結構以及複數個第二光偏折結構，該些第二光偏折結構與該些第一光偏折結構相間隔，且該些第一光偏折結構在一垂直該表面且平行該第二方向的立面上(之投影)的斜率變化不同於該些第二光偏折結構在該立面上(之投影)的斜率變化。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中各該第二光偏折結構與各該第一光偏折結構在該立面上(之投影)的斜率變化形成有180°的相位差的波形。
  9. 如申請專利範圍第7或8項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中該些第一光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化相同於該些第二光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化。
  10. 如申請專利範圍第7或8項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中該些第一光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化不同於該些第二光偏折結構在該表面上(之投影)的波形斜率變化。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，沿該第一方向觀之其中各該光偏折結構包括一第一區域及一第二區域，且該第一區域與該第二區域在一垂直該表面且平行該第二方向的立面上(之投影)的曲率不同。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中各該光偏折結構在該高度方向上的高度變化介於0.1微米至20微米。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中各該光偏折結構在該第一方向上具有一厚度，該厚度是介於0.5微米至20微米。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中各該光偏折結構是突出該表面。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中各該光偏折結構是凹陷形成於該表面。
  16. 如申請專利範圍第1項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中該光偏折結構在該表面上(之投影)有兩種波形。
  17. 如申請專利範圍第4或7項所述之用於顯示器可視側的光學膜，其中該光偏折結構在該立面上(之投影)呈一波形。
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CN101006366A (zh) * 2004-04-15 2007-07-25 纳诺奥普托公司 光学膜及其制造方法
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