TWI721350B - 發光裝置 - Google Patents

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TWI721350B TW107146458A TW107146458A TWI721350B TW I721350 B TWI721350 B TW I721350B TW 107146458 A TW107146458 A TW 107146458A TW 107146458 A TW107146458 A TW 107146458A TW I721350 B TWI721350 B TW I721350B
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歐樂 斯肯金
亞席士 譚東
瑞甲特 夏瑪
喬瑟夫 菲樂彌斯
安卓 帕葡
余文
艾瑞克 楊
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Abstract

本發明揭示一種發光裝置，其包括安置於一分段導電層與一連續導電層之間的一分段作用層，該作用層、該分段導電層及該連續導電層經佈置以限定複數個像素，每一像素包括該分段導電層及該分段作用層之一不同片段。提供安置於該連續導電層上之一連續波長轉換層。提供複數個第一接點，各第一接點電連接至該分段導電層之一不同片段。亦提供電連接至該連續導電層之一或多個第二接點，第二接點之數目小於第一接點之數目。

Description

發光裝置
發光二極體(「LED」)常在各種應用中用作光源。LED相比傳統光源更高效，例如，其提供比白熾燈及螢光光高得多之能量轉換效率，此外，相比傳統光源，LED將較少熱量輻射至被照明區域中且獲得對亮度、發射色彩及頻譜之更廣控制。該等特徵使LED成為室內照明至汽車照明範圍內之各種照明應用的極佳選擇。
許多基於LED之照明系統依賴於單一光源。選擇性完全或部分光遮蔽可修改由此類系統投影之光的方向或強度或非所需光至吸收器之重定向。
揭示一種發光裝置，其包括安置於分段導電層與連續導電層之間的分段作用層，該作用層、該分段導電層及該連續導電層經佈置以限定複數個像素，每一像素包括該分段導電層及該分段作用層之不同片段。提供安置於該連續導電層上之連續波長轉換層。提供複數個第一接點，各第一接點電連接至該分段導電層之不同片段。亦提供電連接至該連續導電層之一或多個第二接點，第二接點之數目小於第一接點之數目。
100:LED矩陣
110:像素
111:像素
112:作用層片段
112A:分段作用層
113:通路
114:導電層片段
114A:分段導電層
115:LED陣列
116:連續導電層
120:接點
124:連續波長轉換層
126:表面
200:LED矩陣
205:波長轉換層
210:像素
212:作用層片段
212A:分段作用層
214:導電層片段
214A:分段導電層
216:連續導電層
218:溝槽
226:波長轉換層片段
226A:分段波長轉換層
228:溝槽
234:焊料層
300:LED矩陣
301:車輛前燈系統
302:車輛電源
304:資料匯流排
305:AC/DC轉換器
306:連通性及控制模組
307:感測器模組
310:反射塗層
312:電源模組
314:感測器模組
316:連通性及控制模組
318:LED裝置附接區域
320:吸收塗層
330:作用中前燈
400:LED矩陣
400A:LED系統
400B:LED照明系統
410:吸收塗層
411A:第一通道
411B:第二通道
412:AC/DC轉換器電路
415:調光器介面電路
416:連通性及控制模組
418B:跡線
418C:跡線
420:吸收塗層
431:跡線
432:跡線
433:跡線
434:跡線
435:跡線
440A:DC-DC轉換器電路
440B:DC-DC轉換器電路
445A:第一表面
445B:第二表面
472:微控制器
497:Vin
499:電路板
500:LED矩陣
510:反射塗層
550:系統
552:LED系統
554:次級光學件
556:LED系統
558:光學件
560:應用平台
561:光束
561a:箭頭
561b:箭頭
562:光束
562a:箭頭
562b:箭頭
565:管線
600:LED矩陣
610:反射塗層
620:吸收塗層
700:LED矩陣
710:離散像素
712:作用層
714:導電層
716:導電層
718:波長轉換層
800:LED矩陣
810:反射塗層
820:反射塗層
900:LED矩陣
910:金屬填料
920:反射塗層
1000:LED矩陣
1001:LED陣列
1010:金屬填料
1110:n-Gan半導體層
1111:作用區域
1112:p-GaN半導體層
1113:p接點
1114:基板
1115:鈍化層
1117:轉換材料
1020:反射側塗層
1130:溝槽
1140:n接點
4000:LED陣列
11010:像素
11011:磊晶層
11012:p型區域
11013:SiO2層
11014:SiO2層
11015:接點
11016:電鍍金屬層
11017:p接點
11019:鈍化層
11020:像素
11021:作用區域
11022:一級光學件
11030:像素
11040:n型接點
11041:分離部分
11050:轉換材料
11062:波導
11065:透鏡
下文描述之圖式僅出於說明目的。圖式並不意欲限制本發明之範疇。展示於圖式中之相同元件符號標明各種實施例中之相同部件。
圖1A為根據本發明之態樣之LED陣列之實例的自下而上的視圖；圖1B為根據本發明之態樣之圖1A之LED陣列的橫截面側視圖；圖2A為根據本發明之態樣之LED陣列之另一實例的自上而下的視圖；圖2B為根據本發明之態樣之圖2A之LED陣列的橫截面側視圖；圖3A為根據本發明之態樣之LED陣列之另一實例的自上而下的視圖；圖3B為根據本發明之態樣之圖3A之LED陣列的橫截面側視圖；圖4A為根據本發明之態樣之LED陣列之另一實例的自上而下的視圖；圖4B為根據本發明之態樣之圖4A之LED陣列的橫截面側視圖；圖5A為根據本發明之態樣之LED陣列之另一實例的自上而下的視圖；圖5B為根據本發明之態樣之圖5A之LED陣列的橫截面側視圖；圖6A為根據本發明之態樣之LED陣列之另一實例的自上而 下的視圖；圖6B為根據本發明之態樣之圖6A之LED陣列的橫截面側視圖；圖7A為根據本發明之態樣之LED陣列之另一實例的自上而下的視圖；圖7B為根據本發明之態樣之圖7A之LED陣列的橫截面側視圖；圖8A為根據本發明之態樣之LED陣列之另一實例的自上而下的視圖；圖8B為根據本發明之態樣之圖8A之LED陣列的橫截面側視圖；圖9A為根據本發明之態樣之LED陣列之另一實例的自上而下的視圖；圖9B為根據本發明之態樣之圖9A之LED陣列的橫截面側視圖；圖10A為根據本發明之態樣之LED陣列之另一實例的自上而下的視圖；圖10B為根據本發明之態樣之圖10A之LED陣列的橫截面側視圖；圖11A為具有分解部分之LED陣列之俯視圖圖示；圖11B為具有溝槽之LED陣列之橫截面圖示；圖11C為具有溝槽之另一LED陣列之透視圖示；圖12A為電子板之俯視圖，其中在一個實施例中，LED陣 列在LED裝置附接區域處附接至基板；圖12B為雙通道整合式LED照明系統之一個實施例的圖式，其中電子組件安裝於電路板之兩個表面上；圖12C為實例車輛前燈系統；及圖13展示實例照明系統。
下文將參考隨附圖式更充分地描述不同光照明系統及/或發光二極體(「LED」)實施之實例。此等實例並非彼此互斥的，且一個實例中發現的特徵可與一或多個其他實例中發現的特徵組合以達成額外實施。因此，應理解，隨附圖式中所展示之實例僅出於說明性目的而提供，且其並不意欲以任何方式限制本發明。類似編號始終指代類似元件。
應理解，儘管在本文中可使用術語第一、第二、第三等來描述各種元件，但此等元件不應受限於此等術語。此等術語可用於將一個元件與另一元件區分開來。舉例而言，在不脫離本發明之範疇之情況下，第一元件可被稱為第二元件，且第二元件可被稱為第一元件。如本文所用，術語「及/或」可包括相關聯的所列項中之一或多者之任何及所有組合。
應理解，當諸如層、區域或基板之元件被稱作「在另一元件上」或延伸「至另一元件上」時，其可直接在另一元件上或直接延伸至另一元件上，或亦可存在插入元件。相比之下，當一元件被稱作「直接在另一元件上」或「直接延伸至另一元件上」時，可能不存在插入元件。亦應理解，當將元件稱作「連接」或「耦接」至另一元件時，其可直接連接或耦接至另一元件及/或經由一或多個插入元件連接或耦接至另一元件。 相比之下，當元件被稱作「直接連接」或「直接耦接」至另一元件時，在該元件與另一元件之間不存在插入元件。應理解，此等術語意欲涵蓋除諸圖中所描繪的任何定向以外的元件之不同定向。
諸如「在......下方」、「在......上方」、「上部」、「下部」、「水平」或「豎直」之相對術語可在本文中用以描述如諸圖中所說明的一個元件、層或區域與另一元件、層或區域之關係。應理解，此等術語意欲涵蓋裝置的除諸圖中所描繪的定向以外的不同定向。
半導體發光裝置(LED)或光功率發射裝置(諸如發射紫外線(UV)或紅外線(IR)光功率之裝置)為目前可用之最高效光源。此等裝置(下文之「LED」)可包括發光二極體、諧振腔發光二極體、豎直空腔雷射二極體、邊緣發射雷射或類似者。舉例而言，歸因於其緊湊大小及較低功率需求，LED對於許多不同應用可為有吸收力的候選。舉例而言，LED可用作諸如攝影機及蜂巢式電話之手持式電池供電裝置之光源(例如閃光燈及攝影機閃光燈)。LED亦可用於例如汽車照明、抬頭顯示器(HUD)照明、園藝照明、街道照明、視訊之炬、一般照明(例如，家庭、商店、辦公室及演播室照明、電影院/舞台照明及建築照明)、擴增實境(AR)照明、虛擬實境(VR)照明、作為顯示器之背光以及IR波譜。單個LED可提供不如白熾光源亮的光，且因此，多接面裝置或LED陣列(諸如單塊LED陣列、微LED陣列等)可用於需要或要求較大亮度之應用。
圖1A及圖1B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣100的實例。矩陣100包括包夾於分段導電層114A與連續導電層116之間的分段作用層112A。分段作用層112A可包括藉由在作用層112A已磊晶生長後將溝槽蝕刻至該作用層112A中而形成的複數個作用層片段112。分段導電層 114A可包括藉由在導電層114A已磊晶生長後將溝槽蝕刻至該導電層114A中而形成的複數個導電層片段114。該等層112A、114A及116可由III族氮化物材料、III族磷化物材料及/或任何其他合適類型之可用於製造LED之材料形成。
該等層112A、114A及116可限定複數個像素110，如圖所示。每一像素110可為不同的各別LED。此外，每一像素110可包括各別作用層片段112，其包夾於各別導電層片段114與連續導電層116之間，該連續導電層116在本發明實例中在矩陣100中之像素110之間共用。在本發明實例中，導電層片段114為p型層且導電層116為n型層。然而，其中導電層片段114為n型層而導電層116為p型層之替代實施係可能的。
矩陣100中之像素110的大小可能相對較小。舉例而言，每一像素110可具有在10至500微米範圍內之寬度W。此外，每一像素可具有在10至500微米範圍內之長度L及在5至30微米範圍內之高度H。該等像素110中之任一者之寬度W可與同一像素110之長度L相同或不同。
LED矩陣100中之像素110可獨立定址。每一像素110可具備定位於該像素之各別導電層片段114之頂部上之不同接點120。此外，該等像素中之每一者可具備在該等像素110之間共用的接點122。接點122可安置於連續導電層116上。如上所述，在多個像素之間共用同一接點可降低將像素110連接至驅動邏輯之複雜度。
連續波長轉換層124可安置於導電層116上，如圖所示。波長轉換層124可操作以吸收自像素110發射之具有第一波長的光且發射具有不同於第一波長之第二波長的光。在一些實施中，波長轉換層124可操作以將由像素110發射之藍光轉換成白光及/或任何其他合適顏色之光。波 長轉換層124可包括懸置於矽漿料(或另一基質材料)中之磷光材料。磷光材料可包括任何合適類型之磷光體，諸如綠色磷光體、紅色磷光體、黃色磷光體等。在一些實施中，波長轉換層124可包括兩種或更多種不同磷光體之組合，諸如綠色磷光體與紅色磷光體之組合。
儘管在本發明實例中波長轉換層124包括懸置於基質材料中之磷光體，但其中波長轉換層124包括藉由熔結磷光材料製造之方塊(tile)的替代實施係可能的。另外或替代地，在一些實施中，波長轉換層124可包括藉由將磷光材料沈積於基板(例如玻璃)上方而形成之方塊。本發明因此不限於用於形成波長轉換層124之任何特定技術。
在一些實施中，波長轉換層124可直接安置於導電層116之表面126上。另外或替代地，在一些實施中，波長轉換層124可藉由位於波長轉換層124與導電層116之間的鈍化層及/或另一類型之層與導電層116之表面126分隔。在一些實施中，表面126可藉由移除其上形成像素110之生長基板(例如藍寶石)暴露。生長基板可藉由使用任何合適的技術，諸如背面研磨、飛刀切削、拋光或噴砂移除(例如，實質上移除，部分移除及/或完全移除)。在一些實施中，光提取圖案可形成於導電層之由於生長基板被移除而暴露之表面上。
圖2A及圖2B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣200的實例。如所說明，矩陣200包括佈置成柵格之複數個像素210。矩陣200可包括包夾於分段導電層214A與連續導電層216之間的分段作用層212A。分段作用層212A可包括藉由在作用層212A已磊晶生長後將溝槽218蝕刻至該作用層212A中而形成的複數個作用層片段212。分段導電層214A可包括藉由在作用層214A已磊晶生長後將溝槽218蝕刻至該作用層212A而形 成的複數個導電層片段214。該等層212A、214A及216可由III族氮化物材料、III族磷化物材料及/或任何其他合適類型之可用於製造LED之材料形成。
該等層212A、214A及216可形成複數個像素210，如圖所示。在一些實施中，每一像素可為不同LED。每一像素210可由作用層片段212形成，該作用層片段212包夾於導電層片段214與連續導電層216之間，該連續導電層216在像素之間210共用。在本發明實例中，每一導電層片段214為n型層且連續導電層216為p型層。然而，其中每一導電層片段214為p型層而連續導電層216為n型層之替代實施係可能的。
分段波長轉換層226A可安置於導電層216上，如圖所示。波長轉換層226A可操作以吸收自像素210發射之具有第一波長的光且發射具有不同於第一波長之第二波長的光。在一些實施中，波長轉換層226A可操作以將由像素210發射之藍光轉換成白光及/或任何其他合適顏色之光。波長轉換層226A可包括懸置於矽漿料(或另一基質材料)中之磷光材料。磷光材料可包括任何合適類型之磷光體，諸如綠色磷光體、紅色磷光體、黃色磷光體等。在一些實施中，波長轉換層226A可包括兩種或更多種不同磷光體之組合，諸如綠色磷光體與紅色磷光體之組合。波長轉換層226A可包括藉由溝槽228分隔之複數個片段226，如圖所示。
在一些實施中，矩陣200中之像素210可具有串接式佈置。舉例而言，每一波長轉換層片段226可比位於其下方之作用層片段212寬(及/或長)。另外或替代地，每一作用層片段212可比位於其下方之導電層片段214寬及/或長。在一些實施中，如所說明，任何波長轉換層片段226之寬度W1可大於位於其下方之作用層片段212之寬度W2，且任何作用層 片段212之寬度W2可大於位於其下方之導電層片段214之寬度W3。另外或替代地，在一些實施中，任何波長轉換層片段226之長度L1可大於位於其下方之作用層片段212之長度L2，且任何作用層片段212之長度L2可大於位於其下方之導電層片段214之長度L3。
矩陣200中之像素210的大小可能相對較小。舉例而言，該等像素210中之任一者可具有在10至500微米範圍內之寬度。此外，該等像素210中之任一者可具有在10至500微米範圍內之長度及在5至50微米範圍內之厚度T。在一些實施中，被稱為「像素210之寬度」的可係其作用層片段212、導電層片段214及波長轉換層片段226中之一者的寬度。另外或替代地，被稱為「像素210之長度」的可係其作用層片段212、導電層片段214及波長轉換層片段226中之一者的長度。在一些實施中，該等像素210中之任一者之長度可與其寬度相同或不同。
在一些實施中，波長轉換層226A可直接安置於連續導電層216之表面上。另外或替代地，在一些實施中，波長轉換層226A可藉由位於波長轉換層226A與連續導電層216之間的鈍化層及/或另一類型之層與連續導電層216之表面分隔。在一些實施中，其上形成波長轉換層226A之連續導電層216之表面可藉由移除像素暴露於其上之生長基板(例如藍寶石)而暴露。生長基板可藉由使用任何合適的技術，諸如背面研磨、飛刀切削、拋光或噴砂移除(例如，實質上移除，部分移除及/或完全移除)。在一些實施中，光提取圖案可形成於連續導電層216之由於生長基板被移除而暴露之表面上。
LED矩陣200中之像素210可獨立定址。每一像素210可具備定位於像素210之各別導電層片段214上方且可用以將像素連接至控制 邏輯之焊料層234。焊料層234可包括AuSn焊料及/或任何其他合適類型的焊料。此外，矩陣200可具備由像素210共用之額外接點(未圖示)。額外接點可耦接至連續導電層216，如上文關於圖1所論述。
圖3A及圖3B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣300的實例。LED矩陣300可類似於關於圖2A至圖2B所論述之LED矩陣200。如所說明，LED矩陣300可包括藉由連續導電層216接合之複數個像素210。然而，不同於LED矩陣200，LED矩陣300亦可包括塗覆於矩陣300中之不同像素210之間的反射塗層310及吸收塗層320。
反射塗層310可形成於片段226之側壁上及形成於溝槽228中之每一者之底部。在一些實施中，反射塗層可形成於導電層216之表面上。反射塗層可由銀、鋁及/或任何其他合適類型之反射材料形成。在一些實施中，反射塗層310可包括DBR。在此類情況下，反射元件310可包括形成於彼此上方之SiO2層及TiO2層或Nb2O5層之交替堆疊。
吸收塗層320可塗覆於溝槽218中，如圖所示。吸收塗層320可包括TiW、或Au、或Cu、或金屬堆疊或介電質堆疊或半導體堆疊塗層及/或任何其他合適類型之塗層之組合。在一些實施中，吸收塗層可覆蓋導電層216之表面中暴露於溝槽218中的部分。另外或替代地，在一些實施中，吸收塗層320可至少部分地覆蓋像素210之作用層片段212之側壁，以防止光由像素210中之每一者向側面發射。
圖4A及圖4B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣400的實例。LED矩陣400可類似於關於圖2A至圖2B所論述之LED矩陣200。如所說明，LED矩陣400可包括藉由連續導電層216接合之複數個像素210。然而，不同於LED矩陣200，LED矩陣400亦可包括塗覆於矩陣400中之不同 像素210之間的吸收塗層410及吸收塗層420。
吸收塗層410可形成於溝槽228中之每一者中，如圖所示。在一些實施中，溝槽228中之每一者可完全填充有吸收塗層410。在此類情況下，吸收塗層410之頂表面可與片段226中之每一者之頂表面齊平且片段226之至少一些側壁可由吸收塗層410完全覆蓋。另外或替代地，在一些實施中，吸收塗層410可僅部分地填充溝槽228中之每一者。在此類情況下，片段226之至少一些側壁可由吸收塗層410部分覆蓋。吸收塗層可包括TiW、或Au、或Cu、或金屬堆疊或介電質堆疊或半導體堆疊塗層及/或任何其他合適類型之塗層之組合。
吸收塗層420可塗覆於溝槽218中，如圖所示。吸收塗層420可包括TiW、或Au、或Cu、或金屬堆疊或介電質堆疊或半導體堆疊塗層及/或任何其他合適類型之塗層之組合。在一些實施中，吸收塗層420可覆蓋導電層216之表面中暴露於溝槽218中的部分。另外或替代地，在一些實施中，吸收塗層420可至少部分地覆蓋像素210之作用層片段212之側壁，以防止光由像素210中之每一者向側面發射。在一些實施中，吸收塗層420可與吸收塗層410具有相同組成。可替代地，在一些實施中，吸收塗層420可與吸收塗層410具有不同組成。
圖5A及圖5B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣500的實例。LED矩陣500可類似於關於圖2A至圖2B所論述之LED矩陣200。類似於LED矩陣200，LED矩陣500可包括藉由連續導電層216接合之複數個像素210。然而，不同於LED矩陣200，LED矩陣500亦可包括形成於片段226之側壁上之反射塗層510。
反射塗層510可由銀、鋁及/或任何其他合適類型之反射材 料形成。在一些實施中，反射塗層510可包括DBR。在此類情況下，反射塗層510可包括形成於彼此上方之SiO2層及TiO2層之交替堆疊。如所說明，反射塗層510可僅形成在片段226之側壁上，同時使溝槽228之底部之至少一部分暴露。因此，在溝槽228完全穿透波長轉換層226A之情況下，可使導電層216之表面之部分暴露。
圖6A及圖6B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣600的實例。LED矩陣600可類似於關於圖2A至圖2B所論述之LED矩陣200。類似於LED矩陣200，LED矩陣600可包括藉由連續導電層216接合之複數個像素210。然而，不同於LED矩陣200，LED矩陣600亦可包括形成於LED矩陣600中之不同像素210之間的反射塗層610及吸收塗層620。
反射塗層610可形成於片段226之側壁上，如圖所示。反射塗層610可包括銀、鋁及/或任何其他合適類型之反射材料。在一些實施中，反射塗層610可包括DBR。在此類情況下，反射元件610可包括形成於彼此上方之SiO2層及TiO2層之交替堆疊。如所說明，反射塗層610可僅形成在片段226之側壁上，同時使溝槽228之底部之至少一部分暴露。
吸收塗層620可塗覆於溝槽218中，如圖所示。吸收塗層620可包括TiW塗層及/或任何其他合適類型的塗層。在一些實施中，吸收塗層620可直接塗覆於連續導電層216之表面上。另外或替代地，在一些實施中，吸收塗層620可至少部分地覆蓋像素210之作用層片段212之側壁，以防止光由像素210中之每一者向側面發射。
圖7A至圖7B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣700的實例。LED矩陣700可包括複數個離散像素710，如圖所示。不同於關於圖2A至圖2B所論述之矩陣200，像素710可與彼此分離，且其可能缺乏連續 導電層。在一些實施中，像素710可安裝於基板(未圖示)上，該基板經組態以將像素710保持於柵格佈置中，該柵格佈置類似於矩陣200中之像素210的佈置。
像素710中之每一者可包括包夾於各別導電層714與各別導電層716之間的各別作用層712。在本發明實例中，導電層714為n型層且導電層716為p型層。然而，其中導電層714為p型層而導電層716為n型層之替代實施係可能的。該等層712、714及716可由III族氮化物材料、III族磷化物材料及/或任何其他合適類型之可用於製造LED之材料形成。
在一些實施中，LED矩陣700中之層716可藉由使連續導電層生長及藉由將複數個溝槽蝕刻至該連續導電層中以形成層716來分割該連續導電層而形成。就此而言，每一層716可被視為分段導電層之不同片段。在一些實施中，LED矩陣700中之層714可藉由使連續導電層生長及藉由將複數個溝槽蝕刻至該連續導電層中以形成層714來分割該連續導電層而形成。就此而言，每一層714可被視為分段導電層之不同片段。在一些實施中，LED矩陣700中之層712可藉由使連續作用層生長及將複數個溝槽蝕刻至該連續作用層中以形成層712來分割該連續作用層而形成。就此而言，每一層712可被視為分段作用層之不同片段。在一些實施中，LED矩陣700中之層718可藉由形成連續波長轉換層及藉由將複數個溝槽蝕刻至該連續波長轉換層中以形成層718來分割該連續波長轉換層而形成。就此而言，每一層718可被視為分段波長轉換層之不同片段。
像素710中之每一者可具備各別波長轉換層718，其可操作以吸收自像素710發射之具有第一波長的光且發射具有不同於第一波長之第二波長的光。在一些實施中，波長轉換層718可操作以將由像素710發 射之藍光轉換成白光及/或任何其他合適顏色之光。波長轉換層718可包括懸置於矽漿料(或另一基質材料)中之磷光材料。磷光材料可包括任何合適類型之磷光體，諸如綠色磷光體、紅色磷光體、黃色磷光體等。在一些實施中，波長轉換層718可包括兩種或更多種不同磷光體之組合，諸如綠色磷光體與紅色磷光體之組合。
在一些實施中，在任何像素710中，波長轉換層718可形成於像素之導電層716之表面上，該表面由於生長基板(例如像素710於其上生長之藍寶石)自該表面移除而暴露。根據本發明之態樣，在波長轉換層718形成於該表面上之前，基板可自導電層716之表面實質上移除，部分移除或完全移除。在一些實施中，導電層716之其上形成波長轉換層718之表面可包括形成於其上之光提取圖案。另外或替代地，在一些實施中，波長轉換層718可直接形成至導電層716之表面上。另外或替代地，波長轉換層718可藉由至少一個鈍化層與像素之導電層之表面分隔。
在一些實施中，每一像素710可具有串接式佈置。舉例而言，每一波長轉換層718可比其下方之導電層716寬(及/或長)。另外或替代地，每一導電層716可比位於其下方之作用層712寬(及/或長)。另外或替代地，每一作用層712可比位於其下方之導電層714寬(及/或長)。更詳言之，任何波長轉換層718之寬度W1可大於位於其下方之導電層716之寬度W2。任何導電層716之寬度W2可大於位於其下方之作用層712之寬度W3。且任何作用層712之寬度W3可大於位於其下方之導電層714之寬度W4。另外或替代地，任何波長轉換層718之長度L1可大於位於其下方之導電層716之長度L2。任何導電層716之長度L2可大於位於其下方之作用層712之長度L3。且任何作用層712之長度L3可大於位於其下方之導電層 714之長度L4。
矩陣700中之像素710的大小可能相對較小。舉例而言，該等像素710中之任一者可具有在5至500微米範圍內之寬度。此外，該等像素710中之任一者可具有在5至500微米範圍內之長度及在5至100微米範圍內之厚度T。在一些實施中，被稱為「像素710之寬度」的可係其波長轉換層718、導電層716、導電層714及作用層712中之一者的寬度。另外或替代地，被稱為「像素710之長度」的可係其波長轉換層718、導電層716、導電層714及作用層712中之一者的長度。在一些實施中，該等像素710中之任一者之長度可與其寬度相同或不同。
儘管在本發明實例中波長轉換層718包括懸置於基質材料中之磷光體，但其中波長轉換層718包括藉由熔結磷光材料製造之方塊的替代實施係可能的。另外或替代地，在一些實施中，波長轉換層718可包括藉由將磷光材料沈積於基板(例如玻璃)上方形成之方塊。簡言之，本發明不限於用於形成波長轉換層718之任何特定技術。
此外，應注意，該等像素710中之任一者可具備一或多個用於為像素供電之接點。舉例而言，每一導電層714可具備各別焊料層(例如AuSn焊料層)，其與關於圖2所論述之焊料層234相同或類似。在一些態樣中，該焊料層亦可用以將像素710附著至基板以便形成與矩陣200中之像素210之佈置類似的柵格佈置。
圖8A及圖8B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣800的實例。LED矩陣800可類似於關於圖7A至圖7B所論述之LED矩陣700。類似於LED矩陣700，LED矩陣800可包括複數個離散像素710。然而，不同於LED矩陣700，LED矩陣800亦可包括形成於像素710中之每一者之側面上 的反射塗層810及反射塗層820。
反射塗層810可形成於每一波長轉換層718之側壁上。在一些實施中，任何波長轉換層718之側壁可由反射塗層810完全覆蓋。另外或替代地，在一些實施中，任何波長轉換層718之側壁可僅由反射塗層810部分覆蓋。反射塗層810可包括銀、鋁及/或任何其他合適類型之反射材料。在一些實施中，反射塗層810可包括DBR。在此類情況下，反射塗層810可包括形成於彼此上方之SiO2層及TiO2層或Nb2O5層之交替堆疊。
反射塗層820可形成於任一導電層716之側壁上。在一些實施中，任何導電層716之側壁可由反射塗層820完全覆蓋。另外或替代地，任何導電層716之側壁可僅由反射塗層820部分覆蓋。反射塗層820可包括銀、鋁及/或任何其他合適類型之反射材料。在一些實施中，反射塗層810可包括DBR。在此類情況下，反射塗層820可包括形成於彼此上方之SiO2層及TiO2層或Nb2O5層之交替堆疊。
在一些實施中，塗層810及塗層820可相同。替代地，在一些實施中，塗層810與塗層820可彼此不同。舉例而言，在一些實施中，塗層810可由與塗層820不同之材料形成。另外或替代地，在一些實施中，塗層810可包括至少一種未在塗層820中發現之材料(或元素)。另外或替代地，在塗層810及820包括DBR塗層之情況下，塗層810可包括不同於塗層820之序列之層。另外或替代地，在一些情況下，塗層810及塗層820可具有不同反射係數。另外或替代地，在一些情況下，塗層810及塗層820可具有不同厚度。
另外或替代地，在一些實施中，塗層810及820可分別形成。因此，在一些實施中，各別塗層810及820可能不會與彼此直接接 觸。替代地，在一些實施中，各別塗層810及820可觸碰彼此，如圖8A至圖8B之實例中所示。
圖9A及圖9B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣900的實例。LED矩陣900可類似於關於圖7A至圖7B所論述之LED矩陣700。類似於LED矩陣700，LED矩陣900可包括複數個離散像素710。然而，不同於LED矩陣700，LED矩陣900中之像素710可藉由金屬填料910接合在一起。此外，該等像素710中之任一者可具備反射塗層920，如圖所示。
金屬填料910可包括金及/或任何其他合適類型的材料。金屬填料910可安置於任兩個相鄰像素710之作用層712與導電層716之間。在一些實施中，一層介電材料(未圖示)可形成於金屬填料910與作用層712之間。在此類情況下，金屬填料910可與導電層716電接觸，同時與作用層712電隔離。介電層可包括SiO2、SiNx及/或任何其他合適類型的介電材料。
在本發明實例中，每一金屬填料910之厚度T3與導電層716及作用層712之經組合厚度T4相同。然而，其中金屬填料910具有不同厚度之替代實施係可能的。舉例而言，在一些實施中，與作用層712及導電層716中之一者相比，金屬填料910可具有相等或較低厚度。此外，在一些實施中，金屬填料910可耦接至相鄰像素710之作用層712及導電層716中之僅一者。
反射塗層920可形成於波長轉換層718之側壁上，如圖所示。反射塗層920可包括銀、鋁及/或任何其他合適類型之反射材料。在一些實施中，反射塗層610可包括DBR。在此類情況下，反射塗層920可包括形成於彼此上方之SiO2層及TiO2層或Nb2O5層之交替堆疊。如圖9A至圖 9B中所說明，反射塗層920可僅形成於波長轉換層718之側壁上，同時使金屬填料910之頂表面之至少一部分暴露。然而，其中金屬填料910之頂表面亦由反射塗層920覆蓋之替代實施係可能的。儘管在本發明實施例中波長轉換層718之至少一些側壁經塗佈有反射塗層920，但其中反射塗層920並未塗覆於波長轉換層718之側面上的替代實施係可能的。
圖10A及圖10B描繪根據本發明之態樣之LED矩陣1000的實例。LED矩陣1000可類似於關於圖10A至圖10B所論述之LED矩陣700。類似於LED矩陣700，LED矩陣1000可為複數個離散像素710。然而，不同於LED矩陣700，LED矩陣1000中之像素710可藉由金屬填料1010及反射側塗層1020接合在一起。
金屬填料1010可包括金及/或任何其他合適類型的材料。金屬填料1010可安置於任兩個相鄰像素710之作用層712與導電層716之間。在本發明實例中，每一金屬填料1010之厚度T3與導電層716及作用層712之經組合厚度T4相同。然而，其中金屬填料1010具有不同厚度之替代實施係可能的。舉例而言，在一些實施中，與作用層712及導電層716中之一者相比，金屬填料1010可具有相等或較低厚度。此外，在一些實施中，金屬填料1010可耦接至相鄰像素710之作用層712及導電層716中之僅一者。
反射側塗層1020可包括任何合適類型之反射材料。在一些實施中，反射側塗層1020可包括以漫射型反射材料(諸如載有TiO2之聚合物)及有機及無機材料之其他微粒製成之一或多個經包覆模製或分配之反射側塗層。另外或替代地，反射側塗層可由銀、鋁及/或任何其他合適類型之反射材料形成。在一些實施中，反射側塗層1020可包括DBR。在此 類情況下，反射側塗層1020可包括形成於彼此上方之SiO2層及TiO2層或Nb2O5層之交替堆疊。儘管在本發明實例中反射側塗層1020安置於波長轉換層718之間，但其中吸收塗層實際上安置於波長轉換層718之間的替代實施係可能的。
圖1A至圖10B僅作為實例提供。關於該等圖式論述之元件中之至少一些可依不同次序佈置、組合及/或完全省略。將理解，提供本文所描述之實例以及表達為「諸如」、「例如」、「包括」、「在一些態樣中」、「在一些實施中」及其類似者之短語不應解釋為將所揭示主題限制為特定實例。例如且不限於，如關於圖1A至圖10B所提供之實例中所使用的術語「吸收塗層」可係指具有大於10%之光吸收率的任何合適類型之塗層。例如且不限於，如關於圖1A至圖10B所提供之實例中所使用的術語「反射塗層」可係指具有大於90%之反射率之任何合適類型之塗層。
根據所揭示主題之實施例，LED陣列(例如微LED陣列)可包括如圖11A、圖1B及/或圖1C中所示之像素陣列。LED陣列可用於任何應用，諸如需要LED陣列片段之精確度控制的彼等應用。LED陣列中之像素可個別定址，可以群組/子集定址，或可並非為可定址的。在圖11A中，展示具有像素111之LED陣列115之俯視圖。圖11A中亦展示LED陣列115之3×3部分之分解視圖。如3×3部分分解視圖中所展示，LED陣列115可包括具有近似100μm或更小(例如40μm)之寬度w1的像素111。像素之間的通路113可相隔近似20μm或更小(例如5μm)之寬度w2。通路113可提供像素之間的氣隙或可含有其他材料，如圖1B及圖1C中所展示且如本文進一步揭示。一個像素111之中心至相鄰像素111之中心的距離d1可近似120μm或更小(例如45μm)。將理解，本文所提供之寬度及距離僅為實例且實際寬 度及/或尺寸可變化。LED陣列115中之像素111可根據圖1A至圖10B中所展示之一或多種佈置進行佈置。
將理解，儘管佈置於對稱矩陣中之矩形像素展示於圖1A、圖1B及圖1C中，但任何形狀及佈置之像素可適用於本文所揭示之實施例。舉例而言，圖11A之LED陣列115可包括超過10,000個呈任何可適用佈置(諸如100×100矩陣、200×50矩陣、對稱矩陣、非對稱矩陣或其類似者)之像素。亦應理解，像素、矩陣及/或板之多個集合可以任何可適用格式佈置以實施本文所揭示之實施例。
圖11B展示實例LED陣列1001之橫截面視圖。如圖所示，像素11010、11020及11030對應於LED陣列內之三個不同像素，以使得分離部分11041及/或n型接點11040將該等像素彼此分離。像素11010、11020及11030可根據圖1A至圖10B中所展示之佈置而佈置於LED陣列1001內。根據實施例，像素之間的空間可由氣隙佔據。如圖所示，像素11010包括磊晶層11011，其可生長於任何可適用基板(諸如藍寶石基板)上，該基板可自磊晶層11011移除。生長層之遠離接點11015之表面可為實質上平面的或可經圖案化。p型區域11012可定位於p接點11017附近。作用區域11021可鄰近於n型區域及p型區域11012安置。替代地，作用區域11021可處於半導體層或n型區域及p型區域11012之間且可接收電流以使得作用區域11021發射光束。p接點11017可與SiO2層11013及11014以及電鍍金屬層11016接觸(例如鍍銅)。n型接點11040可包括可適用金屬，諸如Cu。金屬層11016可為接點11015，其可為反射性的。
值得注意地，如圖11B中所示，n型接點11040可沈積至像素11010、11020及11030之間產生之溝槽1130中且可延伸超出磊晶層。分 離部分11041可分離所有或部分轉換材料11050。將理解，LED陣列可經實施為不具有此類分離部分11041或分離部分11041可對應於氣隙。分離部分11041可為n型接點11040之延伸部分，以使得分離部分11041由與n型接點11040相同之材料(例如銅)形成。替代地，分離部分11041可由不同於n型接點11040之材料形成。根據實施例，分離部分11041可包括反射材料。分離部分11041及/或n型接點11040中之材料可以任何可適用方式(諸如應用包括n型接點11040及/或分離部分11041或允許沈積n型接點11040及/或分離部分11041之網狀結構)沈積。轉換材料11050可具有類似於圖12A之波長轉換層205之特徵/特性。如本文所提及，一或多個其他層可塗佈分離部分11041。此層可為反射層、散射層、吸收層或任何其他可適用層。一或多個鈍化層11019可完全或部分地將n接點11040與磊晶層11011分離。
磊晶層11011可由用以在被激發時發射光子之任何可適用的材料(包括藍寶石、SiC、GaN、矽酮)形成，且更具體而言可由以下形成：III-V族半導體，包括但不限於AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb；II-VI族半導體，包括但不限於ZnS、ZnSe、CdSe、CdTe；IV族半導體，包括但不限於Ge、Si、SiC及其混合物或合金。此等實例半導體在其所存在之LED之典型發射波長下可具有範圍約2.4至約4.1之折射率。舉例而言，III族氮化物半導體(諸如GaN)在500nm下可具有約2.4之折射率且III族磷化物半導體(諸如InGaP)在600nm下可具有約3.7之折射率。耦接至LED裝置200之接點可由焊料(諸如AuSn、AuGa、AuSi或SAC焊料)形成。
n型區域可生長於生長基板上且可包括半導體材料之一或 多個層，該一或多個層包括不同組成及摻雜濃度，包括(例如)製備層，諸如緩衝層或凝核層，及/或經設計以便於移除生長基板之層。此等層可為n型的，或未有意摻雜，或可甚至為p型裝置層。該等層可經設計用於特定光學特性、材料特性或電特性，該等特性對於發光區域而言合乎需要以有效地發射光。類似地，p型區域11012可包括具有不同組成、厚度及摻雜濃度之多個層，包括並非有意摻雜之層或n型層。可使電流流動穿過p-n接面(例如經由接點)，且該等像素可產生至少部分地由材料之帶隙能量判定之第一波長的光。像素可直接發射光(例如常規或直接發射LED)或可將光發射至波長轉換層11050中(例如磷光體轉換之LED，「PCLED」等)，該波長轉換層11050用以進一步修改經發射光之波長以輸出第二波長之光。
儘管圖11B展示具有呈實例佈置之像素11010、11020及11030之實例LED陣列1001，但應理解，LED陣列中之像素可以多種佈置中之任一者提供。舉例而言，像素可處於覆晶結構、豎直注入薄膜(VTF)結構、多接面結構、薄膜覆晶(TFFC)、側向裝置等中。舉例而言，側向LED像素可類似於覆晶LED像素，但可能不會為了將電極直接連接至基板或封裝而翻轉倒置。TFFC亦可類似於覆晶LED像素，但可使生長基板被移除(使薄膜半導體層無支撐)。相比之下，可包括生長基板或其他基板作為覆晶LED之部分。
波長轉換層11050可處於由作用區域11021發射之光之路徑中，以使得由作用區域11021發射之光可遍歷一或多個中間層(例如光子層)。根據實施例，波長轉換層11050可能不存在於LED陣列1001中。波長轉換層11050可包括任何發光材料，諸如透明或半透明黏合劑或基質中的磷光粒子，或吸收一個波長的光且發射不同波長的光的陶瓷磷光體元 件。波長轉換層11050之厚度可基於所使用之材料或應用/波長來判定，LED陣列1001或個別像素11010、11020及11030可針對該厚度而佈置。舉例而言，波長轉換層11050可近似20μm、50μm或200μm。波長轉換層11050可如圖所示提供於每一個別像素上，或可置放於整個LED陣列1001上方。
初級光學件11022可在一或多個像素11010、11020及/或11030之上或上方且可使光自作用區域101及/或波長轉換層11050經由該初級光學件傳遞。經過初級光學件之光可大體上基於朗伯分佈模式發射，以使得在自理想擴散散射體觀測時經由初級光學件11022發射之光的光強度與入射光之方向及表面法線之間的角度的餘弦成正比。應理解，初級光學件11022之一或多個特性可經修改以產生與朗伯分佈模式不同的光分佈模式。
包括透鏡11065及波導11062中之一或兩者之次級光學件可具備像素11010、11020及/或11030。將理解，儘管根據圖11B中所示之實例論述具有多個像素之次級光學件，但可為次級光學件提供單像素。次級光學件可用於傳播入射光(發散光學件)或用於使入射光聚集成準直光束(準直光學件)。波導11062可經塗佈有介電材料、金屬化層或類似者且可經提供以反射或再導向入射光。在替代實施例中，照明系統可不包括以下中之一或多者：波長轉換層11050、初級光學件11022、波導11062及透鏡11065。
透鏡11065可由任何可適用的透明材料(諸如但不限於SiC、氧化鋁、金剛石或其類似者或組合)形成。透鏡11065可用於修改輸入至透鏡11065中之光束，以使得來自透鏡11065之輸出光束將有效地滿 足所要光度規範。另外，透鏡11065可用於一或多種審美目的，諸如藉由判定多個LED裝置200B之被照亮及/或未被照亮形態。
圖11C展示LED陣列1100之三維視圖之橫截面。如圖所示，LED陣列1100中之像素可藉由經填充以形成n接點1140之溝槽分離。像素可生長於基板1114上且可包括p接點1113、p-GaN半導體層1112、作用區域1111及n-Gan半導體層1110。將理解，僅作為實例提供此結構，且可添加、移除或部分添加或移除一或多個半導體或其他可適用的層以實施本文所提供之揭示內容。轉換材料1117可沈積於半導體層1110(或其他可適用的層)上。
鈍化層1115可形成於溝槽1130內且n接點1140(例如銅接點)可放置於溝槽1130內，如圖所示。鈍化層1115可將n接點1140之至少一部分與半導體之一或多個層分離。根據實施，溝槽內之n接點1140或其他可適用的材料可延伸至轉換材料1117中，以使得n接點1140或其他可適用的材料提供像素之間的完整或部分光學隔離。
圖12A為電子板之俯視圖，其中在一個實施例中LED陣列4100在LED裝置附接區域318處附接至基板。LED陣列4100之像素可根據圖1A至圖10B中所展示之佈置進行佈置。電子板連同LED陣列4100表示LED系統400A。另外，電源模組312經由跡線418B接收Vin 497處之電壓輸入及來自連通性及控制模組316之控制信號，且經由跡線418A將驅動信號提供至LED陣列4100。經由來自電源模組312之驅動信號打開及關閉LED陣列4100。在圖12A中所示之實施例中，連通性及控制模組316經由跡線418C自感測器模組314接收感測器信號。
圖12B說明雙通道整合式LED照明系統之一個實施例，其 中電子組件安裝於電路板499之兩個表面上。如圖12B中所展示，LED照明系統400B包括第一表面445A，其上安裝有用以接收調光器信號及AC電源信號之輸入及AC/DC轉換器電路412。LED系統400B包括第二表面445B，其上安裝有調光器介面電路415、DC-DC轉換器電路440A及440B、具有微控制器472的連通性及控制模組416(在此實例中為無線模組)及LED陣列4100。LED陣列4100係由兩個獨立通道411A及411B驅動。在替代實施例中，單個通道可用於將驅動信號提供至LED陣列，或任何數目的多個通道可用於將驅動信號提供至LED陣列。
LED陣列4100可包括兩組LED裝置。在一實例實施例中，A組之LED裝置電耦接至第一通道411A，且B組之LED裝置電耦接至第二通道411B。兩個DC-DC轉換器440A及440B中之每一者可經由單個通道411A及411B提供分別用於驅動LED陣列4100中之各別A組LED及B組LED之各別驅動電流。各組LED中之一者中之LED可經組態以發射具有不同於第二組LED中之LED之色點的光。可藉由控制分別經由單個通道411A及411B由個別DC/DC轉換器電路440A及440B施加的電流及/或工作循環在一範圍內調諧由LED陣列4100發射之光之複合色點之控制。儘管圖12B中所示之實施例不包括感測器模組(如圖12A中所描述)，但替代實施例可包括感測器模組。
所說明之LED照明系統400B為整合系統，其中LED陣列4100及用於操作LED陣列4100之電路係設置在單個電子板上。電路板499之相同表面上之模組之間的連接件可藉由表面或子表面互連件(諸如跡線431、432、433、434及435)或金屬化物(未圖示)電耦接以用於在模組之間交換例如電壓、電流及控制信號。電路板499之相對表面上之模組之間 的連接件可經由板互連件(諸如通孔及金屬化物(未圖示))電耦接。
根據實施例，可提供LED系統，其中LED陣列處於與驅動器及控制電路分離之電子板上。根據其他實施例，LED系統可具有LED陣列連同與驅動器電路分離的電子板上的電子器件中之一些。舉例而言，LED系統可包括電源轉換模組及位於與LED陣列分離的電子板上的LED模組。
根據實施例，LED系統可包括多通道LED驅動器電路。舉例而言，LED模組可包括嵌入式LED校準及設定資料及例如三組LED。一般熟習此項技術者將認識到可根據一或多個應用使用任何數目組LED。各組內的個別LED可經串聯或並聯佈置，且可提供具有不同色點的光。舉例而言，暖白光可藉由第一組LED提供，冷白光可藉由第二組LED提供，且中性白光可藉由第三組提供。
圖12C展示實例車輛前燈系統301，其包括車輛電源302，該車輛電源302包括資料匯流排304。感測器模組314可連接至資料匯流排304以提供與環境條件(例如環境光條件、溫度、時間、雨、霧等)、車輛狀況(已停放、運動中、速度、方向)、其他車輛之存在/位置、行人、物件或類似者有關之資料。感測器模組314可與圖12A之感測器模組314類似或相同。AC/DC轉換器305可連接至車輛電源302。作用中前燈330之像素可根據圖1A至圖10B中所展示之佈置進行佈置。
圖12C之電源模組312(AC/DC轉換器)可與圖2B之AC/DC轉換器412相同或類似且可自車輛電源302接收AC電力。其可將AC電力轉換為DC電力，如圖12B中針對AC-DC轉換器412所描述。車輛前燈系統301可包括作用中前燈330，其接收由AC/DC轉換器305、連通性及控制模 組316及/或感測器模組314提供或基於AC/DC轉換器305、連通性及控制模組316及/或感測器模組314之一或多個輸入。作為一實例，感測器模組314可偵測行人之存在，以使得行人無良好照明，其可降低驅動器看到行人之可能性。基於此類感測器輸入，連通性及控制模組316可使用自AC/DC轉換器305提供之電力將資料輸出至作用中前燈330，以使得該輸出資料啟動作用中前燈330內所含之LED陣列中的LED之子集。在啟動時，LED陣列中之LED之子集可在感測器模組314感測到行人存在之方向上發射光。LED之此等子集可停用，或在感測器模組314提供經更新資料從而確認行人不再處於包括車輛前燈系統之車輛之路徑上之後，可以其他方式修改該等LED之光束方向。
圖13展示實例系統550，其包括應用平台560、LED系統552及556，及光學件554及558。LED系統552及556中之LED陣列中之像素可根據圖1A至圖10B中所示之佈置進行佈置。LED系統552產生經展示於箭頭561a與561b之間的光束561。LED系統556可產生在箭頭562a與562b之間的光束562。在圖13中所示之實施例中，自LED系統552發射之光穿過次級光學件554，且自LED系統556發射之光穿過次級光學件558。在替代實施例中，光束561及562不穿過任何次級光學件。次級光學件可為或可包括一或多個光導。一或多個光導可為側光式或可具有內部開口，該內部開口定義光導之內部邊緣。LED系統552及/或556可插入一或多個光導之內部開口中，以使得其將光射入一或多個光導之內部邊緣(內部開口光導)或外部邊緣(側光式光導)。LED系統552及/或556中之LED可佈置在基座之外周周圍，該基座為光導之一部分。根據實施，基座可為導熱的。根據一實施，基座可耦接至安置於光導上方的散熱元件。散熱元件可 經佈置以經由導熱基座接收由LED產生的熱量及消散所接收的熱量。一或多個光導可允許由LED系統552及556發射之光以所需方式成形，諸如具有梯度、斜面分佈、窄分佈、寬分佈、角度分佈或類似者。
在實例實施例中，系統550可為攝影機閃光系統之行動電話、室內住宅或商業照明、室外燈具(諸如街道照明)、汽車、醫療裝置、AR/VR裝置及機器裝置。在實例實施例中，圖12A中所示之LED系統400A及圖12C中所示之車輛前燈系統301說明LED系統552及556。
如本文所論述，應用平台560可經由電源匯流排、經由管線565或其他可適用輸入向LED系統552及/或556提供電力。此外，應用平台560可經由管線565提供輸入信號以用於操作LED系統552及LED系統556，該輸入可基於使用者輸入/偏好、感測到的讀數、經預程式化或自主判定之輸出，或類似者。一或多個感測器可在應用平台560之外殼之內部或外部。替代地或另外，如圖12A之LED系統400中所示，每一LED系統552及556可包括其自有的感測器模組、連通性及控制模組、電源模組及/或LED裝置。
在實施例中，應用平台560感測器及/或LED系統552及/或556感測器可收集資料，諸如視訊資料(例如，LIDAR資料、IR資料、經由攝影機收集之資料，等)、音訊資料、基於距離之資料、移動資料、環境資料，或類似者或其組合。資料可與諸如物件、個人、車輛等之物理項或實體相關。舉例而言，感測設備可收集基於ADAS/AV之應用的物件近接度資料，其可優化物理項或實體之偵測及基於偵測之後續操作。可基於藉由例如LED系統552及/或556發射光學信號(諸如IR信號)及基於所發射光學信號收集資料來收集資料。資料可由與發射用於資料收集之光學信號 的組件不同的組件來收集。繼續該實例，感測設備可定位於汽車上，且可使用垂直共振腔面射型雷射(VCSEL)發射光束。一或多個感測器可感測對所發射光束或任何其他可適用輸入之回應。
在實例實施例中，應用平台560可表示汽車，且LED系統552及LED系統556可表示汽車前燈。在各種實施例中，系統550可表示具有可轉向光束之汽車，其中LED可經選擇性啟動以提供可轉向光。舉例而言，LED之陣列可用於定義或投射形狀或圖案，或僅照射道路之所選擇部分。在實例實施例中，LED系統552及/或556內之紅外攝影機或偵測器像素可為感測器(例如，類似於圖12A之感測器模組314及圖12C之感測器模組314)，其識別需要照明之場景之部分(道路、人形橫道等)。
在詳細描述實施例之後，熟習此項技術者將瞭解，鑒於本發明描述，可在不脫離本發明概念之精神之情況下對本文中所描述之實施例進行修改。因此，本發明之範疇不意欲限於所說明及描述之具體實施例。
210:像素
212:作用層片段
214:導電層片段
216:連續導電層
218:溝槽
226:波長轉換層片段
228:溝槽
234:焊料層
300:LED矩陣
310:反射塗層
320:吸收塗層

Claims (20)

  1. 一種發光裝置，其包含：分段(segmented)之一第一導電層、分段之一作用層及一第二導電層，其經佈置成具有該作用層之各片段在該第二導電層及該第一導電層之一對應片段(segment)之間之一串接式佈置(cascading arrangement)，以形成複數個像素之一對應像素，該第一導電層之各片段准許(leave)暴露該作用區之該對應片段之一表面之一周邊部分；一波長轉換層，其安置於該第二導電層之一表面之一對應部分上，該表面相對於面對該作用層之該等片段之該第二導電層之一表面；複數個第一接點，各第一接點電連接至該第一導電層之一對應片段，該第一導電層之該對應片段與連接至該複數個第一接點之其他第一接點之其他片段不同；及一或多個第二接點，其電連接至該第二導電層。
  2. 如請求項1之發光裝置，其中該等像素中之每一者具有介於100微米與500微米之間的一寬度。
  3. 如請求項1之發光裝置，其中該等像素之各者經佈置以回應於流動穿過對應之該第一接點之電流發光。
  4. 如請求項1之發光裝置，其中該第二導電層係一連續導電層。
  5. 如請求項4之發光裝置，其中該等第二接點之數量少於該等第一接點之數量。
  6. 如請求項1之發光裝置，其中：該第二導電層係一分段層，各像素包括在該串接式佈置中之該第二導電層之一對應片段，該作用層之各片段准許暴露該第二導電層之該對應片段之一表面之一周邊部分；及該複數個第二接點之各者經電連接至該第二導電層之一對應片段，該對應片段與連接至該複數個第二接點之其他接點之不同片段不同。
  7. 如請求項6之發光裝置，其進一步包括一光學隔離材料(optically isolating material)，該光學隔離材料形成於複數個溝槽中之一或多者中從而使該第二導電層之相鄰片段彼此分離。
  8. 如請求項7之發光裝置，其中該光學隔離材料包括一反射材料、一分佈式布拉格反射器(DBR)、一吸收材料或一散射材料中之一或多者。
  9. 如請求項7之發光裝置，其中該光學隔離材料將該作用層之相鄰片段彼此分離。
  10. 如請求項9之發光裝置，其中該光學隔離材料將該第一導電層之相鄰片段彼此分離。
  11. 如請求項1之發光裝置，其進一步包含一光學隔離材料，該光學隔離材料形成於複數個溝槽中之一或多者中從而使該作用層之相鄰片段彼此分離。
  12. 如請求項11之發光裝置，其中該光學隔離材料包括(include)一反射材料、一分佈式布拉格反射器(DBR)、一吸收材料或一散射材料中之一或多者。
  13. 如請求項11之發光裝置，其中該光學隔離材料將該第一導電層之相鄰片段彼此分離。
  14. 如請求項1之發光裝置，其中該波長轉換層係一連續層。
  15. 如請求項1之發光裝置，其中該波長轉換層係分段的，該波長轉換層之各片段經安置在該第二導電層之一表面之一對應部分上，該表面相對於面對該作用層之該等片段之一對應者之該第二導電層之一表面。
  16. 如請求項15之發光裝置，其進一步包含一光學隔離材料，該光學隔離材料形成於複數個溝槽中之一或多者中從而使該波長轉換層之相鄰片段至少部分彼此分離。
  17. 如請求項16之發光裝置，其中該光學隔離材料包括一反射材料、一分佈式布拉格反射器(DBR)、一吸收材料或一散射材料中之一或多者。
  18. 如請求項1之發光裝置，其進一步包含一光提取圖案(light-extraction pattern)，其經形成在該第二導電層及該波長轉換層之間。
  19. 如請求項1之發光裝置，其中該波長轉換層包括磷光粒子。
  20. 如請求項1之發光裝置，其進一步包含在該波長轉換層與該第二導電層之間的一鈍化層。
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