TWI716929B - 低磁漏流體磁化器 - Google Patents

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Abstract

一種低磁漏流體磁化器包含有複數個扇形磁塊，而每一個扇形磁塊包含有第一徑向邊、第二徑向邊、內側邊以及外側邊。第一徑向邊相對於第二徑向邊設置，內側邊連接於第一徑向邊以及第二徑向邊的一端，而外側邊相對於內側邊設置，並連接第一徑向邊以及第二徑向邊的另一端。其中第二徑向邊連接於相鄰的扇形磁塊的第一徑向邊，以形成環狀排列的一磁塊組。磁塊組包含由扇形磁塊的內側邊所形成的一磁塊組內緣，以及由扇形磁塊的外側邊所形成的一磁塊組外緣，磁塊組內緣構成一中心穿孔，以供一流體管路設置於其中，藉以磁化流經流體管路的一流體。

Description

低磁漏流體磁化器
本發明係有關於一種流體磁化器。特別是有關於一種低磁漏流體磁化器。
當水通過一定強度的垂直磁場後，由氫鍵連接成的一些締合水分子即發生斷裂，使較大水分子集團分離為數個較小水分子集團，較小水分子集團對於水的滲透性、化學溶解性和表面張力等物理性質皆增強許多。
在工業上的應用，最初使用磁場處理少量的鍋爐用水，以減少水垢，也可以對工業原水進行磁化，以達到防垢、除垢、殺菌、滅藻等功能。
然而，傳統用來磁化水的磁化器，也存在著一些缺陷，例如磁場強度不足或者是安裝不易，常常造成使用者的困擾。特別是，當利用經過磁化器的磁化液體，使用於人體或皮膚上時，如何能避免磁化器對液體的品質產生不利的影響，且改善磁化液體品質的改善，同時提升磁化強度，降低磁漏量，將有助提升國民整體健康與美容的目的。
發明內容旨在提供本揭示內容的簡化摘要，以使閱讀者對本揭示內容具備基本的理解。此發明內容並非本揭示內容的完整概述，且其用意並非在指出本發明實施例的重要/關鍵元件或界定本發明的範圍。
本發明內容之一目的是在提供一種低磁漏流體磁化器，可以有效地將化妝品或保養品瓶中的液體磁化，且降低磁漏量，且避免影響化妝品與保養品的品質，有效地增加磁化器的應用範圍。
為達上述目的，本發明內容之一技術態樣係關於一種低磁漏流體磁化器包含有複數個扇形磁塊，而每一個扇形磁塊包含有一第一徑向邊、一第二徑向邊、一內側邊以及一外側邊。第二徑向邊相對於第一徑向邊設置，內側邊連接於第一徑向邊以及第二徑向邊的一端，而外側邊相對於內側邊設置，並連接第一徑向邊以及第二徑向邊的另一端。其中第二徑向邊連接於相鄰的扇形磁塊的第一徑向邊，以形成環狀排列的一磁塊組。磁塊組包含由扇形磁塊的內側邊所形成的一磁塊組內緣，以及由扇形磁塊的外側邊所形成的一磁塊組外緣，磁塊組內緣構成一中心穿孔，以供一流體管路設置於其中，藉以磁化流經流體管路的一流體。
在一些實施例中，外側邊係為一弧線，且磁塊組外緣係為一圓形外緣。
在一些實施例中，外側邊係為一直線，且磁塊組外緣係為一多邊形外緣。
在一些實施例中，多邊形外緣係為六邊形外緣或八邊形外緣。
在一些實施例中，內側邊係為一弧線，且磁塊組內緣係為一圓形內緣。
在一些實施例中，內側邊係為一直線，且磁塊組外緣係為一多邊形內緣。
在一些實施例中，低磁漏流體磁化器更包含有一保護層，包覆磁塊組，以避免扇形磁塊接觸流體。
在一些實施例中，保護層係由一非導磁性材料所形成。
在一些實施例中，保護層係為具有生物兼容性和生物穩定性的一派瑞林保護膜。
綜上所述，所述之低磁漏流體磁化器不僅可以降低磁化器周圍的磁漏量，還可以提升磁場強度，以增加磁化流體的能力，且降低所需磁鐵的體積，降低生產成本，減少空間的限制，並可以安裝於化妝品或保養品等小瓶子中，以達到磁化化妝品或保養品的功效。
100‧‧‧低磁漏流體磁化器
110‧‧‧扇形磁塊
112‧‧‧第一徑向邊
114‧‧‧第二徑向邊
116‧‧‧內側邊
118‧‧‧外側邊
120‧‧‧扇形磁塊
122‧‧‧第一徑向邊
124‧‧‧第二徑向邊
126‧‧‧內側邊
128‧‧‧外側邊
130‧‧‧扇形磁塊
140‧‧‧扇形磁塊
150‧‧‧扇形磁塊
160‧‧‧扇形磁塊
170‧‧‧中心穿孔
180‧‧‧磁塊組外緣
190‧‧‧磁塊組內緣
210‧‧‧磁力線
220‧‧‧中心量測區
230‧‧‧周圍磁力洩漏量測區
240‧‧‧流體管路
300‧‧‧低磁漏流體磁化器
310‧‧‧扇形磁塊
312‧‧‧第一徑向邊
314‧‧‧第二徑向邊
316‧‧‧內側邊
318‧‧‧外側邊
320‧‧‧扇形磁塊
322‧‧‧第一徑向邊
324‧‧‧第二徑向邊
326‧‧‧內側邊
328‧‧‧外側邊
330‧‧‧扇形磁塊
340‧‧‧扇形磁塊
350‧‧‧扇形磁塊
360‧‧‧扇形磁塊
370‧‧‧扇形磁塊
380‧‧‧扇形磁塊
390‧‧‧磁塊組內緣
395‧‧‧中心穿孔
396‧‧‧磁塊組外緣
410‧‧‧磁力線
420‧‧‧中心量測區
430‧‧‧周圍磁力洩漏量測區
440‧‧‧流體管路
510‧‧‧保護層
520‧‧‧結合層
為讓本揭露之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：第1圖是依照本發明一實施例所繪示的一種低磁漏流體磁化器之示意圖。
第2圖是依照第1圖之低磁漏流體磁化器之磁力線示意圖。
第3圖是依照本發明另一實施例所繪示的一種低磁漏流體磁化器之示意圖。
第4圖是依照第3圖之低磁漏流體磁化器之磁力線示意圖。
下文係舉實施例配合所附圖式進行詳細說明，但所提供之實施例並非用以限制本揭露所涵蓋的範圍，而結構運作之描述非用以限制其執行之順序，任何由元件重新組合之結構，所產生具有均等功效的裝置，皆為本揭露所涵蓋的範圍。另外，圖式僅以說明為目的，並未依照原尺寸作圖。為使便於理解，下述說明中相同元件或相似元件將以相同之符號標示來說明。
另外，在全篇說明書與申請專利範圍所使用之用詞(terms)，除有特別註明外，通常具有每個用詞使用在此領域中、在此揭露之內容中與特殊內容中的平常意義。某些用以描述本揭露之用詞將於下或在此說明書的別處討論，以提供本領域技術人員在有關本揭露之描述上額外的引導。
於實施方式與申請專利範圍中，除非內文中對於冠詞有所特別限定，否則『一』與『該』可泛指單一個或複數個。而步驟中所使用之編號僅係用來標示步驟以便於說 明，而非用來限制前後順序及實施方式。
其次，在本文中所使用的用詞『包含』、『包括』、『具有』、『含有』等等，均為開放性的用語，即意指包含但不限於。
參閱第1圖與第2圖，第1圖其是依照本發明一實施例所繪示的一種低磁漏流體磁化器之示意圖，第2圖是第1圖之低磁漏流體磁化器之磁場示意圖。
如圖中所示，低磁漏流體磁化器100包含有複數個扇形磁塊，例如是扇形磁塊110、扇形磁塊120、扇形磁塊130、扇形磁塊140、扇形磁塊150以及扇形磁塊160。其中，每一個扇形磁塊包含有一第一徑向邊、一第二徑向邊、一內側邊以及一外側邊。
圖中，以扇形磁塊110為例，其包含有一第一徑向邊112、一第二徑向邊114、一內側邊116以及一外側邊118。另以扇形磁塊120為例，其包含有一第一徑向邊122、一第二徑向邊124、一內側邊126以及一外側邊128。
第一徑向邊112與第二徑向邊114，兩者相對設置，內側邊116與外側邊118，兩者亦相對設置。內側邊116連接於第一徑向邊112以及第二徑向邊114的一端，而外側邊118則連接第一徑向邊112以及第二徑向邊114的另一端。
此外，扇形磁塊110的第二徑向邊114連接於相鄰的扇形磁塊120的第一徑向邊122，然後扇形磁塊120的第二徑向邊124連接於相鄰的扇形磁塊130的第一徑向邊，以使扇形磁塊，形成環狀排列的一磁塊組。其中，磁塊組包含由 扇形磁塊110至160的內側邊所形成的一磁塊組內緣190，以及由扇形磁塊110至160的外側邊所形成的一磁塊組外緣180。此外，磁塊組內緣190構成一中心穿孔170，以供一流體管路240設置於其中，用以磁化流經流體管路240的一流體，以藉由磁場將流體磁化，以改善流體性質。其中，流體可以是但不限於水，其也可為其他具有分子極性之流體(或可磁化之流體)，例如：汽油、柴油等，使用低磁漏流體磁化器因流體的滲透性、化學溶解性和表面張力等物理性質皆增強許多，引擎運作效率提升，而具有省油效果。油管運輸等也可因磁化後之油品其黏度降低，運輸效能得以提升。此外，磁化水也可用於農漁養殖業，藉由改善養殖所用水質，以提升養殖品質、提高養殖價值。
在一些實施例中，低磁漏流體磁化器100可以使用於化妝品或保養品的液體磁化，以提升化妝品與保養品的效果，而為了能安裝於化妝品或保養品的小瓶子中，低磁漏流體磁化器100的外徑較佳地小於12毫米，例如是10毫米或更小。此外，中心穿孔170的直徑則可配合化妝品或保養品的小瓶子的中間吸管的外徑，例如是3毫米，然本發明之低磁漏流體磁化器100並不限定於此。
然而，由於化妝品或保養品的小瓶子常常被使用者儲存在一起，因此，在提升流體磁化器的磁力線強度的情況下，如何能降低流體磁化器的磁漏的現象，將可以避免化妝品或保養品的小瓶子彼此相互吸引，以致於造成使用上的不便的情況。
在一些實施例中，低磁漏流體磁化器100的每一扇形磁塊具有直線的外側邊，以使磁塊組外緣180形成為一多邊形的外緣，例如是圖中的六邊形的外緣。
參閱第2圖，由於為了提升低磁漏流體磁化器100的中心穿孔170的中心量測區220之磁力線210的強度，其將造成周圍磁力洩漏量測區230的磁力洩漏亦為之升高。而本發明之低磁漏流體磁化器100則將扇形磁塊110至160的外側邊以直線的弦線作為設計，如此，以N45磁鐵為例，其係釹鐵硼磁鐵具有最大磁能積為45MGOe「百萬高斯-奧斯特」(megagauss-oersted，MGOe)左右，可在中心量測區220產生約8500高斯(Gauss)以上的磁場強度，例如是約8572高斯的磁場強度，而在周圍磁力洩漏量測區230則量測到僅約1900高斯(Gauss)左右的洩漏，較傳統的兩片式N45磁鐵所構成相同尺寸的流體磁化器約產生2500高斯的磁漏量，有效地降低了大於24%的磁漏量。
在一些實施例中，低磁漏流體磁化器100更包含有一保護層510，包覆磁塊組，以避免扇形磁塊110至160接觸流體。其中，保護層510較佳地係由非導磁性材料所形成，以避免因為由導磁性材料而降低中心量測區220之磁力線210的強度。
在一些實施例中，保護層510可以是由具有生物兼容性和生物穩定性的一派瑞林(Parylene)保護膜所形成，以安全地容置於化妝品或保養品的瓶中，且不影響化妝品或保養品的品質，更能避免降低中心量測區220之磁力線 210的強度。
在一些實施例中，低磁漏流體磁化器100更包含有一結合層520，以將複數個扇形磁塊110至160相互固定，以提升中心量測區220之磁力線210的強度，進而增加化妝品或保養品的功效。
參閱第3圖與第4圖，第3圖其是依照本發明另一實施例所繪示的一種低磁漏流體磁化器之示意圖，第4圖是第3圖之低磁漏流體磁化器之磁場示意圖。
如圖中所示，低磁漏流體磁化器300包含有複數個扇形磁塊，例如是扇形磁塊310、扇形磁塊320、扇形磁塊330、扇形磁塊340、扇形磁塊350、扇形磁塊360、扇形磁塊370以及扇形磁塊380。其中每一個扇形磁塊包含有一第一徑向邊、一第二徑向邊、一內側邊以及一外側邊。
圖中，以扇形磁塊310為例，其包含有一第一徑向邊312、一第二徑向邊314、一內側邊316以及一外側邊318。另以扇形磁塊320為例，其包含有一第一徑向邊322、一第二徑向邊324、一內側邊326以及一外側邊328。
與第1圖及第2圖之實施例的差異在於此低磁漏流體磁化器300一共具有8個扇形磁塊310至380。其中，第一徑向邊312與第二徑向邊314，兩者相對設置，內側邊316與外側邊318，兩者亦相對設置。內側邊316連接於第一徑向邊312以及第二徑向邊314的一端，而外側邊318則連接第一徑向邊312以及第二徑向邊314的另一端。
此外，扇形磁塊310的第二徑向邊314連接於相 鄰的扇形磁塊320的第一徑向邊322，然後扇形磁塊320的第二徑向邊324連接於相鄰的扇形磁塊330的第一徑向邊，以使扇形磁塊，形成環狀排列的一磁塊組。其中，磁塊組包含由扇形磁塊310至380的內側邊所形成的一磁塊組內緣390，以及由扇形磁塊310至380的外側邊所形成的一磁塊組外緣396。此外，磁塊組內緣390構成一中心穿孔395，以供一流體管路440設置於其中，用以磁化流經流體管路440的一流體，以藉由磁場將流體磁化，以改善流體性質。
此外，相同地，低磁漏流體磁化器300的外徑較佳地小於12毫米，例如是10毫米或更小。此外，中心穿孔395的直徑則可配合化妝品或保養品的小瓶子的中間吸管的外徑，例如是3毫米，然本發明之低磁漏流體磁化器300並不限定於此。
在一些實施例中，低磁漏流體磁化器300的每一扇形磁塊具有直線的外側邊，以使磁塊組外緣396形成為一多邊形的外緣，例如是圖中的八邊形的外緣。
參閱第4圖，由於為了提升低磁漏流體磁化器300的中心穿孔395的中心量測區420之磁力線410的強度，其將造成周圍磁力洩漏量測區430的磁力洩漏亦為之升高。而本發明之低磁漏流體磁化器300則將扇形磁塊310至380的外側邊，以直線的弦線作為設計，如此，以N45磁鐵為例，可在中心量測區420產生約大於10000高斯(Gauss)以上的磁場強度，例如是約10811高斯的磁場強度，而在周圍磁力洩漏量測區430則量測到僅約500高斯(Gauss)左右的洩漏， 較傳統的兩片式N45磁鐵所構成相同尺寸的流體磁化器約產生2500高斯的磁漏量，有效地降低了大於80%的磁漏量。然本發明並不限定於此，低磁漏流體磁化器300的扇形磁塊310至380的外側邊亦可以由一弧線所形成，以使磁塊組外緣396形成一圓形外緣，其亦不脫離本發明之精神與保護範圍。
在一些實施例中，低磁漏流體磁化器300亦可以包含有一保護層510，包覆磁塊組，以避免扇形磁塊310至380接觸流體。其中，保護層510較佳地係由非導磁性材料所形成，以避免因為由導磁性材料而降低中心量測區420之磁力線410的強度。其中，非導磁性材料可以由塑膠以及樹脂等材料所構成，然本發明並不限定於此。
在一些實施例中，保護層510可以是由具有生物兼容性和生物穩定性的一派瑞林保護膜所形成，以安全地容置於化妝品或保養品的瓶中，且不影響化妝品或保養品的品質，更能避免降低中心量測區420之磁力線410的強度。
在一些實施例中，低磁漏流體磁化器300更包含有一結合層520，以將複數個扇形磁塊310至380相互固定，以提升中心量測區420之磁力線410的強度，進而增加化妝品或保養品的功效。
綜上所述，所述之低磁漏流體磁化器不僅可以降低磁化器周圍的磁漏量，還可以提升磁場強度，以增加磁化流體的能力，且降低所需磁鐵的體積，降低生產成本，減少空間的限制，並可以安裝於化妝品或保養品等小瓶子中，以達到磁化化妝品或保養品的功效。
雖然本揭露已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本揭露，任何本領域具通常知識者，在不脫離本揭露之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本揭露之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧低磁漏流體磁化器
110‧‧‧扇形磁塊
112‧‧‧第一徑向邊
114‧‧‧第二徑向邊
116‧‧‧內側邊
118‧‧‧外側邊
120‧‧‧扇形磁塊
122‧‧‧第一徑向邊
124‧‧‧第二徑向邊
126‧‧‧內側邊
128‧‧‧外側邊
130‧‧‧扇形磁塊
140‧‧‧扇形磁塊
150‧‧‧扇形磁塊
160‧‧‧扇形磁塊
170‧‧‧中心穿孔
180‧‧‧磁塊組外緣
190‧‧‧磁塊組內緣
510‧‧‧保護層
520‧‧‧結合層

Claims (10)

  1. 一種低磁漏流體磁化器，包含：複數個扇形磁塊，其中每一該些扇形磁塊包含，一第一徑向邊；一第二徑向邊，相對於該第一徑向邊設置；一內側邊，連接於該第一徑向邊以及該第二徑向邊的一端；以及一外側邊，相對於該內側邊設置，並連接該第一徑向邊以及該第二徑向邊的另一端，其中該第二徑向邊連接於相鄰的扇形磁塊的第一徑向邊，以形成環狀排列的一磁塊組，其中，該磁塊組包含由該些扇形磁塊的該些內側邊所形成的一磁塊組內緣，以及由該些扇形磁塊的該些外側邊所形成的一磁塊組外緣，該磁塊組內緣構成一中心穿孔，以供一流體管路設置於其中，以磁化流經該流體管路的一流體。
  2. 如請求項1所述之低磁漏流體磁化器，其中該外側邊係為一弧線，且該磁塊組外緣係為一圓形外緣。
  3. 如請求項1所述之低磁漏流體磁化器，其中該外側邊係為一直線，且該磁塊組外緣係為一多邊形外緣。
  4. 如請求項3所述之低磁漏流體磁化器，其中該多邊形外緣包含一六邊形外緣。
  5. 如請求項3所述之低磁漏流體磁化器，其中該多邊形外緣包含一八邊形外緣。
  6. 如請求項1所述之低磁漏流體磁化器，其中該內側邊係為一弧線，且該磁塊組內緣係為一圓形內緣。
  7. 如請求項1所述之低磁漏流體磁化器，其中該內側邊係為一直線，且該磁塊組外緣係為一多邊形內緣。
  8. 如請求項1所述之低磁漏流體磁化器，更包含一保護層，包覆該磁塊組，以避免該些扇形磁塊接觸該流體。
  9. 如請求項8所述之低磁漏流體磁化器，其中該保護層係由一非導磁性材料所形成。
  10. 如請求項8所述之低磁漏流體磁化器，其中該保護層係為具有生物兼容性和生物穩定性的一派瑞林保護膜。
TW108123986A 2019-07-08 2019-07-08 低磁漏流體磁化器 TWI716929B (zh)

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TWM279635U (en) * 2005-02-15 2005-11-01 Spin Technology Corp Fluid magnetizing device
CN201704112U (zh) * 2010-06-12 2011-01-12 林日阳 一种用于液体磁化的磁环
CN101908399B (zh) * 2010-07-23 2012-05-30 北京工业大学 一种改进的Halbach阵列永磁体装置
JP2013094760A (ja) * 2011-11-04 2013-05-20 Hrd:Kk 円筒形高密度磁場発生装置
TWI567767B (zh) * 2014-06-10 2017-01-21 游清河 可彈性組裝之流體磁化器與其彈性組裝方法
EP3319098A1 (en) * 2016-11-02 2018-05-09 Abiomed Europe GmbH Intravascular blood pump comprising corrosion resistant permanent magnet
CN106745559A (zh) * 2017-02-06 2017-05-31 苏州酷波尔商贸有限公司 一种燃油磁化器及具有碱性化功能的磁化净水器
CN206616049U (zh) * 2017-03-17 2017-11-07 包头市英思特稀磁新材料股份有限公司 一种海尔贝克磁化水器
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