TWI714316B - 電子裝置及其製造方法 - Google Patents

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TWI714316B
TWI714316B TW108137934A TW108137934A TWI714316B TW I714316 B TWI714316 B TW I714316B TW 108137934 A TW108137934 A TW 108137934A TW 108137934 A TW108137934 A TW 108137934A TW I714316 B TWI714316 B TW I714316B
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Abstract

本揭示提供一種電子裝置,其包含殼體、鍵帽以及鍵盤背光模組。殼體具有一開口,鍵帽對應所述開口設置,且鍵帽與所述開口的周緣之間具有一間隙。鍵盤背光模組包含遮蔽層,遮蔽層具有對應開口的透光區以及阻光部,阻光部位於透光區內,並且覆蓋通過所述間隙的至少一光行進路徑與透光區相交的區域。

Description

電子裝置及其製造方法
本揭示係關於一種電子裝置及其製造方法。
背光式鍵盤配有光源以照亮鍵盤按鍵,如此一來,使用者在低光源的環境下亦能清楚辨識按鍵上的字母與符號。背光式鍵盤常出現暈光的問題,暈光是指光由鍵帽與殼體(例如筆記型電腦的C件)之間的縫隙漏出。暈光會使按鍵上的字母與符號的清晰度降低,影響使用者辨識的準確性與速度。
本揭示提供一種電子裝置,其包含殼體、鍵帽以及鍵盤背光模組。殼體具有第一開口,鍵帽對應第一開口設置,且鍵帽與第一開口的周緣之間具有一間隙。鍵盤背光模組包含遮蔽層,遮蔽層具有對應第一開口的透光區以及阻光部,阻光部位於透光區內,並且覆蓋通過間隙的至少一光行進路徑與透光區相交的區域。
本揭示提供一種電子裝置製造方法,其包含:提供殼體、鍵帽以及具有遮蔽層的鍵盤背光模組;定位鍵帽於第一開口內,使鍵帽與第一開口的周緣之間具有一間隙;於遮蔽層上形成對應第一開口的透光區;於透光區內選取與通過所述間隙的至少一光行進路徑相交的一區域;以及配置阻光部於所述區域。
綜上所述,本揭示之電子裝置包含鍵盤背光模組,鍵盤背光模組頂部的遮蔽層上具有透光區,供鍵盤背光模組照亮鍵帽,透光區內設置阻光部,以阻擋可能由鍵帽與殼體之間的間隙漏出的光之路徑。
100‧‧‧電子裝置
110‧‧‧殼體
111‧‧‧第一開口
111a‧‧‧周緣
120‧‧‧鍵帽
120a‧‧‧底端
130、530‧‧‧鍵盤背光模組
131‧‧‧反射片
132‧‧‧導光板
132a‧‧‧導光微結構
133、533‧‧‧遮蔽層
133a‧‧‧透光區
133b、533b‧‧‧阻光部
133c‧‧‧內緣
133d‧‧‧外緣
134‧‧‧發光元件
140‧‧‧薄膜電路層
150‧‧‧底板
151‧‧‧第二開口
152‧‧‧擋牆
152a‧‧‧頂端
533e‧‧‧第一子阻光部
533f‧‧‧第二子阻光部
700‧‧‧光通量分布圖
701、702‧‧‧亮區
A1、A2‧‧‧區域
D1、D2‧‧‧方向
G‧‧‧間隙
L1‧‧‧第一光行進路徑
L2‧‧‧第二光行進路徑
PL‧‧‧觀測基準面
S401~S411、S801~S815‧‧‧步驟
θ‧‧‧夾角
為使本揭示之上述及其他目的、特徵、優點與實施方式能更明顯易懂,所附圖式之說明如下:
第1圖為繪示依據本揭示一實施方式之電子裝置的立體圖。
第2圖為繪示第1圖所示之電子裝置沿線段L-L’的局部放大剖視圖。
第3圖為繪示第2圖所示之電子裝置的部分元件的俯視圖。
第4圖為繪示依據本揭示一實施方式之電子裝置製造方法的流程圖。
第5圖為繪示依據本揭示另一實施方式之電子裝置的 局部放大剖視圖。
第6圖為繪示第5圖所示之電子裝置的部分元件的俯視圖。
第7圖為繪示第5圖所示之觀測基準面對應的光通量分布圖。
第8圖為繪示依據本揭示另一實施方式之電子裝置製造方法的流程圖。
為使本揭示之敘述更加詳盡與完備,可參照所附之圖式及以下所述各種實施方式。圖式中之各元件未按比例繪製,且僅為說明本揭示而提供。以下描述許多實務上之細節,以提供對本揭示的全面理解,然而,相關領域具普通技術者應當理解可在沒有一或多個實務上之細節的情況下實施本揭示,因此,該些細節不應用以限定本揭示。
請參照第1圖以及第2圖。第1圖為繪示依據本揭示一實施方式之電子裝置100的立體圖,而第2圖為繪示第1圖所示之電子裝置100沿線段L-L’的局部放大剖視圖。電子裝置100(例如:筆記型電腦)包含殼體110、鍵帽120以及鍵盤背光模組130。殼體110具有第一開口111,鍵帽120對應第一開口111設置,並配置以移動進出第一開口111。為使鍵帽120升降能不受殼體110阻礙,第一開口111的橫截面大於鍵帽120的橫截面,使得鍵帽120與第一開口111的周緣111a之間具有間隙G。
如第2圖所示,鍵盤背光模組130位於殼體110遠離鍵帽120的一側,並配置以提供光線照亮鍵帽120,具體而言,鍵盤背光模組130提供的光可通過鍵帽120上可透光的字母及/或符號(圖未示),以協助使用者在低光源環境中辨識字母及/或符號。鍵盤背光模組130為側入式背光模組,其包含反射片131、導光板132、遮蔽層133以及發光元件134。反射片131、導光板132、遮蔽層133依序沿殼體110外表面的法線方向D1堆疊設置,發光元件134位於導光板132的一側,並配置以沿垂直於方向D1的方向D2朝向導光板132發射光線。於一些實施方式中,發光元件134為LED燈。
承上所述,反射片131配置以反射發光元件134發出的光,使其於導光板132內進行全反射。遮蔽層133配置以遮擋發光元件134所發出的部分光。遮蔽層133具有透光區133a,且透光區133a對應第一開口111(意即,透光區133a於反射片131的垂直投影與第一開口111於反射片131的垂直投影重疊),並配置以供發光元件134發出的部分光通過。導光板132具有導光微結構132a,其分布於導光板132面對反射片131的一側。導光微結構132a於遮蔽層133上的垂直投影(亦即,沿方向D1的投影)係落在透光區133a內,導光微結構132a配置以破壞於導光板132內傳遞的光的全反射,使光能改變方向而經過透光區133a向外照射。於一些實施方式中,導光板132包含聚丙烯(PP)。於一些實施 方式中,導光微結構132a可以壓印、油墨塗布的方式形成於導光板132的底部。
由於導光微結構132a無法精準地控制光使其全部照射在鍵帽120上,部分的光有機會從間隙G漏出,因而形成暈光的現象。為解決此問題,如第2圖所示,遮蔽層133還具有阻光部133b,阻光部133b位於透光區133a內,並且覆蓋通過間隙G的至少一光行進路徑與透光區133a相交的區域,藉此阻斷可能的漏光路徑。於一些實施方式中,遮蔽層133包含BoPET(biaxially-oriented polyethylene terephthalate,常見商品名稱為mylar)。遮蔽層133可包含任何合適的黑色材料,以提供遮光效果。
於一些實施方式中,電子裝置100進一步包含位於殼體110以及鍵盤背光模組130之間的薄膜電路層140以及底板150,底板150位於薄膜電路層140背向殼體110的一側,並配置以承載薄膜電路層140。於一些實施方式中,底板150包含金屬材料。電子裝置100可進一步包含連接於鍵帽120與底板150之間的剪刀腳結構(圖未示),其用以導引鍵帽120上下移動,薄膜電路層140配置以於鍵帽120受按壓時提供觸發訊號。
承上所述,底板150具有第二開口151以及擋牆152,第二開口151於反射片131的垂直投影與第一開口111於反射片131的垂直投影重疊,並且位於第一開口111與透光區133a之間,發光元件134離開導光板132後依序通過透光區133a、第二開口151以及第一開口111。擋牆152至少 部分環繞第二開口151,且擋牆152朝向鍵帽120延伸並穿過薄膜電路層140。擋牆152的設置有助於阻擋可能通過間隙G漏出的光。
如第2圖所示,於一些實施方式中,阻光部133b所覆蓋的區域與第一光行進路徑L1相交,第一光行進路徑L1係包含通過第一開口111的周緣111a以及擋牆152的頂端152a的直線。於一些實施方式中,阻光部133b所覆蓋的區域與第二光行進路徑L2相交,第二光行進路徑L2係包含通過鍵帽120的底端120a(當鍵帽120位於其最高位置時)以及擋牆152的頂端152a的直線。
請一併參照第3圖,其為繪示第2圖所示之電子裝置100的部分元件的俯視圖。於一些實施方式中,阻光部133b覆蓋第一光行進路徑L1與透光區133a相交處以及第二光行進路徑L2與透光區133a相交處之間的區域,於此等實施方式中,如第3圖所示,阻光部133b為一環型區域。阻光部133b具有內緣133c以及外緣133d,如第2圖所示,阻光部133b的內緣133c與第一光行進路徑L1相交,換言之,阻光部133b的內緣133c、第一開口111的周緣111a以及擋牆152的頂端152a共線。阻光部133b的外緣133d與第二光行進路徑L2相交,換言之,阻光部133b的外緣133d、鍵帽120的底端120a以及擋牆152的頂端152a共線。
需說明的是,第一光行進路徑L1與第二光行進路徑L2係在不具有阻光部133b的情況下可能的漏光路徑,並非實際有光通過的路徑,事實上,在配置有阻光部133b的 情況下,光受到阻光部133b阻擋而無法沿第一光行進路徑L1與第二光行進路徑L2從間隙G漏出。
如第2圖所示,於一些實施方式中,第一開口111的周緣111a於遮蔽層133上的垂直投影環繞透光區133a,換言之,在方向D2上,透光區133a相較於第一開口111內縮。於一些實施方式中,在方向D2上,鍵帽120的底端120a位於擋牆152與第一開口111的周緣111a之間。於一些實施方式中,導光微結構132a於遮蔽層133上的垂直投影位於透光區133a內但不與阻光部133b重疊。在上述結構配置下,漏光的問題能獲得改善,同時確保鍵帽120能接收到充足的光。
請一併參照第4圖,其為繪示依據本揭示一實施方式之電子裝置製造方法400的流程圖。電子裝置製造方法400係用以製造電子裝置100,其包含步驟S401至步驟S411。
首先,於步驟S401中,形成第一開口111於殼體110。接著,於步驟S403中,定位鍵帽120於第一開口111內,使鍵帽120與第一開口111的周緣111a之間具有間隙G。接著,於步驟S405中,於遮蔽層133上形成對應第一開口111的透光區133a(意即,透光區133a於反射片131的垂直投影與第一開口111於反射片131的垂直投影重疊)。
接著,於步驟S407中,於底板150上形成對應第一開口111的第二開口151(意即,第二開口151於反射片131的垂直投影與第一開口111於反射片131的垂直投影重 疊)以及至少部分環繞第二開口151並朝向鍵帽120延伸的擋牆152。於一些實施方式中,第二開口151是以衝壓的方式形成,衝壓後第二開口151邊緣保留金屬片,再將所述金屬片折彎形成擋牆152。
接著,於步驟S409中,於透光區133a內選取一區域,所述區域與第一光行進路徑L1以及第二光行進路徑L2相交,其中第一光行進路徑L1包含通過第一開口111的周緣111a以及擋牆152的頂端152a的直線,而第二光行進路徑L2包含通過鍵帽120的底端120a以及擋牆152的頂端152a的直線。舉例而言,選取的區域可為第3圖所示的環狀區域。
最後,於步驟S411中,配置阻光部133b於所選取的區域。舉例而言,如第3圖所示,阻光部133b呈環形,其內緣133c與第一光行進路徑L1相交,而其外緣133d與第二光行進路徑L2相交。
請參照第5圖以及第6圖。第5圖為繪示依據本揭示另一實施方式之電子裝置的局部放大剖視圖,而第6圖為繪示第5圖所示之電子裝置的部分元件的俯視圖。有別於第2圖至第3圖所示之實施方式,於本實施方式中,遮蔽層533之阻光部533b的配置係透過光學模擬的方式來決定。具體而言,阻光部533b覆蓋通過間隙G的至少一第三光行進路徑(圖未示)與透光區133a相交的區域,第三光行進路徑通過觀測基準面PL的至少一亮區,所述亮區係鍵盤背光模組530在不具有阻光部533b的情況下經透光區133a朝向第一開口111發射的複數個光線於觀測基準面PL上所形成。換言之,本實 施方式的電子裝置係將鍵盤背光模組530發射的光線中可能在特定觀測角度下造成暈光者通過遮蔽層533的位置以阻光部533b進行遮擋,藉此改善暈光的問題。
本實施方式的技術手段可阻擋鍵帽120、薄膜電路層140、底板150、剪刀腳結構或電子裝置的鍵盤內的其他結構所致之反射、折射等光學行為而由間隙G漏出的光。理想上,觀測基準面PL應盡量貼近使用者的視角,才能較精確地反映使用者所觀察到的情況。於一些實施方式中,觀測基準面PL與殼體110的外表面的夾角θ實質上為45度。
請一併參照第7圖與第8圖。第7圖為繪示第5圖所示之觀測基準面PL對應的光通量分布圖700,而第8圖為繪示依據本揭示另一實施方式之電子裝置製造方法800的流程圖。電子裝置製造方法800係用以製造第5圖以及第6圖所示之電子裝置,其包含步驟S801與步驟S815。
首先,於步驟S801中,形成第一開口111於殼體110。接著,於步驟S803中,定位鍵帽120於第一開口111內,使鍵帽120與第一開口111的周緣111a之間具有間隙G。接著,於步驟S805中,於遮蔽層533上形成對應第一開口111的透光區133a(意即,透光區133a於反射片131的垂直投影與第一開口111於反射片131的垂直投影重疊)。
接著,於步驟S807中,選擇觀測基準面PL。舉例而言,可選擇與殼體110的外表面夾45度角的平面作為觀測基準面PL。
接著,於步驟S809中,驅使鍵盤背光模組530經透光區133a朝向第一開口111發射複數個光線。此步驟係在確定電子裝置的鍵盤除了阻光部533b以外的結構配置(形狀、位置、材質、光學特性等)後分析可能的光傳遞路徑。
接著,於步驟S811中,選取所述光線於觀測基準面PL上形成的至少一亮區。如第7圖所示,於一些實施方式中,此步驟包含:建立鍵盤背光模組530所發射的光線於觀測基準面PL上所造成的光通量分布圖700;以及基於光通量分布圖700選擇至少一亮區。於光通量分布圖700中,顏色由淺到深係代表觀測基準面PL所接收到的光通量由弱到強。舉例而言,選取的亮區可為亮區701、702。於一些實施方式中,所述亮區係光通量高於一閾值的區域。
接著,於步驟S813中,於透光區133a內選取與通過亮區的部分光線的路徑相交的一區域。舉例而言,如第6圖與第7圖所示,通過亮區701、702的光線的路徑與透光區133a分別相交於區域A1、A2,換言之,區域A1、A2係通過亮區701、702的光線通過透光區133a的位置,故選取的區域為區域A1、A2。
最後,於步驟S815中,配置阻光部533b於所選取的區域。舉例而言,如第6圖所示,本步驟係分別配置第一子阻光部533e與第二子阻光部533f於區域A1、A2,以遮擋可能通過區域A1、A2的漏光路徑。
綜上所述,本揭示之電子裝置包含鍵盤背光模組,鍵盤背光模組頂部的遮蔽層上具有透光區,供鍵盤背光 模組照亮鍵帽,透光區內設置阻光部,以阻擋可能由鍵帽與殼體之間的間隙漏出的光之路徑。
儘管本揭示已以實施方式揭露如上,然其並非用以限定本揭示,任何熟習此技藝者,於不脫離本揭示之精神及範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本揭示之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
110‧‧‧殼體
111‧‧‧第一開口
111a‧‧‧周緣
120‧‧‧鍵帽
120a‧‧‧底端
130‧‧‧鍵盤背光模組
131‧‧‧反射片
132‧‧‧導光板
132a‧‧‧導光微結構
133‧‧‧遮蔽層
133a‧‧‧透光區
133b‧‧‧阻光部
133c‧‧‧內緣
133d‧‧‧外緣
134‧‧‧發光元件
140‧‧‧薄膜電路層
150‧‧‧底板
151‧‧‧第二開口
152‧‧‧擋牆
152a‧‧‧頂端
D1、D2‧‧‧方向
G‧‧‧間隙
L1‧‧‧第一光行進路徑
L2‧‧‧第二光行進路徑

Claims (8)

  1. 一種電子裝置,包含:一殼體,具有一第一開口;一鍵帽,對應該第一開口設置,且該鍵帽與該第一開口的一周緣之間具有一間隙;一鍵盤背光模組,包含一遮蔽層,該遮蔽層具有對應該第一開口的一透光區以及一阻光部,該阻光部位於該透光區內,並且覆蓋通過該間隙的至少一光行進路徑與該透光區相交的一區域;以及一底板,位於該殼體以及該鍵盤背光模組之間,並且具有對應該第一開口的一第二開口以及一擋牆,該擋牆至少部分環繞該第二開口,並且朝向該鍵帽延伸。
  2. 如請求項1所述之電子裝置,其中該至少一光行進路徑包含通過該第一開口的該周緣以及該擋牆的一頂端的一直線。
  3. 如請求項1所述之電子裝置,其中該至少一光行進路徑包含通過該鍵帽的一底端以及該擋牆的一頂端的一直線。
  4. 如請求項1所述之電子裝置,其中該至少一光行進路徑通過一觀測基準面的至少一亮區,該至少一亮區係該鍵盤背光模組在不具有該阻光部的情況下經該透 光區朝向該第一開口發射的複數個光線於該觀測基準面上所形成。
  5. 一種電子裝置製造方法,包含:提供一殼體、一鍵帽以及一鍵盤背光模組,該鍵盤背光模組具有一遮蔽層;提供一底板於該殼體以及該鍵盤背光模組之間;形成一第一開口於該殼體;形成對應該第一開口的一第二開口於該底板上;形成一擋牆於該底板上,該擋牆至少部分環繞該第二開口,並且朝向該鍵帽延伸;定位該鍵帽於該第一開口內,使該鍵帽與該第一開口的一周緣之間具有一間隙;於該遮蔽層上形成對應該第一開口的一透光區;於該透光區內選取與通過該間隙的至少一光行進路徑相交的一區域;以及配置一阻光部於該區域。
  6. 如請求項5所述之電子裝置製造方法,其中該至少一光行進路徑包含通過該第一開口的該周緣以及該擋牆的一頂端的一直線。
  7. 如請求項5所述之電子裝置製造方法,其中該至少一光行進路徑包含通過該鍵帽的一底端以及該擋牆的一頂端的一直線。
  8. 如請求項5所述之電子裝置製造方法,進一步包含:選擇一觀測基準面;於配置該阻光部之前,驅使該鍵盤背光模組經該透光區朝向該第一開口發射複數個光線;以及選取該些光線於該觀測基準面上形成的至少一亮區,其中該至少一光行進路徑包含通過該至少一亮區的部分該些光線的路徑。
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