TWI698950B - 非接觸式吸盤 - Google Patents

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TWI698950B TW107100296A TW107100296A TWI698950B TW I698950 B TWI698950 B TW I698950B TW 107100296 A TW107100296 A TW 107100296A TW 107100296 A TW107100296 A TW 107100296A TW I698950 B TWI698950 B TW I698950B
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蔡國騰
林得耀
莊傳勝
劉松河
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財團法人工業技術研究院
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Abstract

一種非接觸式吸盤，包括吸盤本體、多數內側導流通道與多數外側導流通道，吸盤本體一側具有進氣口，另一側具有內環溝槽與外環溝槽，並以間隔壁區隔內環溝槽與外環溝槽；多數內側導流通道位於吸盤本體之內，一端連通進氣口，另一端連通內環溝槽；多數外側導流通道亦位於吸盤本體之內，一端連通進氣口，另一端則連通外環溝槽。

Description

非接觸式吸盤
本發明是有關於一種吸盤，且特別是有關於一種使被吸附件不產生旋轉的非接觸式吸盤。
非接觸式吸盤可應用於面板及半導體產業的搬運系統中，具有零摩擦力、零耗損以及操作平穩等優點，然而為達到使吸盤本體薄型化的目標，卻使得非接觸式吸盤的吸力相對降低，而且目前的非接觸式吸盤必須成對使用，以避免使用單一個非接觸式吸盤時，單一方向的旋轉氣旋對被吸附件所產生的自體旋轉的問題。
本發明係有關於一種非接觸式吸盤，藉由在吸盤本體的內側及外側產生相互平衡的二個相反旋轉氣旋，使單一個非接觸式吸盤即可應用於搬運系統中，不僅不必成對使用，並且能避免被吸附件產生旋轉。
根據本發明之一實施例，提出一種非接觸式吸盤，包括吸盤本體、多數內側導流通道與多數外側導流通道，其中吸盤本體一側具有進氣口，另一側具有內環溝槽與外環溝槽，並以 間隔壁區隔內環溝槽與外環溝槽；多數內側導流通道位於吸盤本體之內，一端連通進氣口，另一端則連通內環溝槽；而多數外側導流通道亦位於吸盤本體之內，一端連通進氣口，另一端則連通外環溝槽。
為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解，下文特舉實施例，並配合所附圖式詳細說明如下：
100:非接觸式吸盤
101:吸盤本體
102:進氣口
103:內環溝槽
104:間隔壁
105:外環溝槽
106:內側導流通道
107:外側導流通道
106a、107a:入口
106b、107b:出口
200:被吸附件
G:加壓氣體
G1:第一旋轉氣旋
G2:第二旋轉氣旋
O:中心軸
D:截面開口寬度
r1:距離
r2:距離
第1圖繪示依照本發明一實施例之非接觸式吸盤的一側的外觀示意圖。
第2圖繪示依照本發明一實施例之非接觸式吸盤的另一側以及非接觸式吸盤與被吸附件的相對關係的示意圖。
第3圖繪示第1圖之非接觸式吸盤沿著A-A垂直剖面線的剖面示意圖。
第4圖繪示第1圖之非接觸式吸盤沿著B-B水平剖面線的剖面示意圖。
第5圖繪示第1圖之非接觸式吸盤沿著C-C水平剖面線的剖面示意圖。
第6圖繪示第一旋轉氣旋沿著內環溝槽的切線方向向外流出內環溝槽之外的示意圖。
以下係提出實施例進行詳細說明，實施例僅用以作為範例說明，並非用以限縮本發明欲保護之範圍。以下是以相同或類似的符號表示相同或類似的元件做說明。
請參照第1圖至第5圖，其中第1圖繪示依照本發明一實施例之非接觸式吸盤100的一側的外觀示意圖，第2圖繪示依照本發明一實施例之非接觸式吸盤100的另一側以及非接觸式吸盤100與被吸附件200的相對關係的示意圖，第3圖繪示第1圖之非接觸式吸盤100沿著A-A垂直剖面線的剖視示意圖，第4圖繪示第1圖之非接觸式吸盤100沿著B-B水平剖面線的剖視示意圖，第5圖繪示第1圖之非接觸式吸盤100沿著C-C水平剖面線的剖視示意圖。需說明的是，在第1圖中，A-A垂直剖面線針對吸盤本體101的縱向切面產生剖面，B-B水平剖面線及C-C水平剖面線則針對吸盤本體101的不同深度橫向切面產生剖面。
在本實施例中，非接觸式吸盤100包括一吸盤本體101、一進氣口102、一內環溝槽103、一間隔壁104、一外環溝槽105、多個內側導流通道106以及多個外側導流通道107。在本實施例中，非接觸式吸盤100可利用3D列印技術製作，以形成吸盤本體101以及所需要的內部通道或溝槽，進而達到吸盤本體薄型化的要求。
進氣口102舉例是位於吸盤本體101之一側，而內環溝槽103、外環溝槽105以及間隔壁104則位於吸盤本體101之另一側，進氣口102並不貫通吸盤本體101，且間隔壁104位於內 環溝槽103與外環溝槽105之間，用以區隔內環溝槽103與外環溝槽105。此外，多個內側導流通道106以及多個外側導流通道107位於吸盤本體101之內且不相互連通，用以引導加壓氣體G分別進入內環溝槽103以及外環溝槽105中。
進氣口102用以外接一加壓氣體供給裝置(圖未繪示)。加壓氣體供給裝置可經由進氣口102輸入加壓氣體G。如第4圖所示，加壓氣體G可經由多個內側導流通道106進入到內環溝槽103中，以形成一第一旋轉氣旋(以G1表示，箭頭表示旋轉方向)。如第5圖所示，相同的加壓氣體G再由進氣口102經多個外側導流通道107進入到外環溝槽105中，以形成一第二旋轉氣旋(以G2表示，箭頭表示旋轉方向)，內側導流通道106進入內環溝槽103之旋轉方向不相同於外側導流通道107進入外環溝槽105之旋轉方向，因此第一旋轉氣旋與第二旋轉氣旋的旋轉方向是相反的。
在本實施例中，第一旋轉氣旋G1與第二旋轉氣旋G2分別於內環溝槽103以及外環溝槽105中作為旋轉方向相反但卻相互平衡的二旋轉氣旋，可使被吸附件200不產生自體旋轉，此處所謂之平衡是指二旋轉氣旋G1,G2分別在被吸附件200上所形成之二相反轉矩是相同或相當的。如第2圖所示，被吸附件200與吸盤本體101之另一側平行相對且不接觸，本發明在吸盤本體101的內側及外側產生相互平衡的第一旋轉氣旋G1以及第二旋轉氣 旋G2，利用單一個非接觸式吸盤100所形成的吸力即可吸附被吸附件200，並且能避免被吸附件200產生旋轉。
請參照第4圖所示之B-B剖面圖，至少二個內側導流通道106一體形成於吸盤本體101之內，但內側導流通道106的數量不限定只有二個，亦可為二個以上。各內側導流通道106之一端(入口106a)連通進氣口102，另一端(出口106b)則連通於內環溝槽103，如第4圖所示，內側導流通道106由吸盤本體101的中央向外沿著圓弧曲線延伸，以使加壓氣體G可經由沿著圓弧曲線延伸的內側導流通道106的引導，而大致上沿著內環溝槽103的切線方向流動，以形成多個同向旋轉的第一旋轉氣旋G1。
本實施例雖以圓弧形的內側導流通道106為範例，可有效減少加壓氣體G的阻力，但本發明不限定其形狀，內側導流通道106亦可為L形、S型、三維曲線型態或其他可能實施的變化型態。此外，本實施例之內側導流通道106的截面開口形狀可為圓形、橢圓形、多邊形、錐形或梯形等，本發明對此不加以限制。
請參照第5圖所示之C-C剖面圖，四個外側導流通道107一體形成於吸盤本體101之內，但外側導流通道107的數量不限定只有四個，亦可為二個或二個以上。各外側導流通道107之一端(入口107a)連通進氣口102，另一端(出口107b)則連通於外環溝槽105，如第5圖所示，外側導流通道107由吸盤本體101的中央向外沿著圓弧曲線延伸，以使加壓氣體G可經由進氣口 102沿著圓弧曲線延伸的外側導流通道107的引導，而大致上沿著外環溝槽105的切線方向流動，以形成多個同向旋轉的第二旋轉氣旋G2。在本實施例中，由於外側導流通道107的出口方向與內側導流通道106的出口方向相反，因此可形成旋轉方向相反的第一旋轉氣旋G1以及第二旋轉氣旋G2。
本實施例雖以圓弧形的外側導流通道107為範例，可有效減少加壓氣體G的阻力，但本發明不限定其形狀，外側導流通道107亦可為L形、S型、三維曲線型態或其他可能實施的變化型態。此外，本實施例之外側導流通道107的截面開口形狀可為圓形、橢圓形、多邊形、錐形或梯形等，本發明對此不加以限制。
請參照第1、2及6圖，其中第6圖繪示第一旋轉氣旋G1沿著內環溝槽103的切線方向向外流出內環溝槽103之外，此時，內環溝槽103的內部因第一旋轉氣旋G1的渦流效應而產生一吸力，使被吸附件200可藉由該吸力往吸盤本體101的方向吸附以抵消被吸附件200的重力，並可使被吸附件200穩定懸浮於空中。在本實施例中，吸力的大小與加壓氣體G的入口壓力、進氣口102的寬度、內側導流通道106的截面開口寬度D及通道長度有關，因此，本發明可藉由上述的設計參數來調整真空吸力的大小。
在一實施例中，吸盤本體101的直徑例如為12~15mm，入口壓力例如0.4Mpa，進氣口102的寬度例如2mm，內側導流通道106的截面開口寬度D例如介於0.5mm~1.5mm之 間，通道長度例如9mm，內環溝槽103的直徑與吸盤本體101的直徑的比值例如介於0.6~0.8之間，可獲得較高的真空吸力。然而，上述設計參數可根據實際需求調整，本發明對此不加以限制。
此外，第一旋轉氣旋G1以及第二旋轉氣旋G2對被吸附件200產生的轉矩與導流通道的開口截面積的大小以及通道出口相對於吸盤本體101的中心軸O的距離有關，因此，可藉由上述的設計參數來調整內外旋轉力或轉矩而使被吸附件200處於力平衡或轉矩平衡的狀態。在本實施例中，內側導流通道106與外側導流通道107的開口截面積例如為一固定值，但在其他實施例中，內側導流通道106與外側導流通道107的開口截面積亦可沿著通道延伸方向而漸漸改變，例如變大或變小，本發明對此不加以限制。
請參照第3圖，在一實施例中，內側導流通道出口106b相對於吸盤本體101的中心軸O的距離為r1，外側導流通道出口107b相對於吸盤本體101的中心軸O的距離為r2，內側導流通道106與外側導流通道107的開口截面積比為r2：k*r1，其中k介於1~1.25之間。本實施例之非接觸式吸盤100可藉由上述的設計參數來調整內外旋轉力，使被吸附件200處於力或轉矩平衡的狀態而不產生旋轉，也就是第一旋轉氣旋G1與第二旋轉氣旋G2是處於平衡狀態。
本發明上述實施例所揭露之非接觸式吸盤，可利用3D列印的方式製作，以降低開模成本，且透過吸盤內部的通道設 計來提升吸盤的吸力，兼具有本體薄型化的效果。此外，本實施例的非接觸式吸盤藉由在吸盤本體的內側及外側產生相互平衡的二旋轉氣旋，使單一個非接觸式吸盤即可應用於面板或半導體產業的搬運系統中，不需成對使用，並且能避免被吸附件產生旋轉。
綜上所述，雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100:非接觸式吸盤
101:吸盤本體
103:內環溝槽
104:間隔壁
105:外環溝槽

Claims (4)

  1. 一種非接觸式吸盤，包括：一吸盤本體，其一側具有一進氣口，其另一側具有一內環溝槽與一外環溝槽，並以一間隔壁區隔該內環溝槽與該外環溝槽；多數內側導流通道，位於該吸盤本體之內，其一端連通該進氣口，其另一端連通該內環溝槽；以及多數外側導流通道，位於該吸盤本體之內，其一端連通該進氣口，其另一端連通該外環溝槽；其中該些內側導流通道與該些外側導流通道均係為圓弧形，該些內側導流通道進入該內環溝槽的旋轉方向係相反於該些外側導流通道進入該外環溝槽的旋轉方向。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的非接觸式吸盤，其中該吸盤本體係以3D列印技術製作。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的非接觸式吸盤，其中在該內環溝槽所形成的一第一旋轉氣旋是平衡於在該外環溝槽所形成的一第二旋轉氣旋。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的非接觸式吸盤，其中該第一旋轉氣旋對一被吸附件所產生的轉矩是相同或相當於該第二旋轉氣旋對該被吸附件所產生的轉矩。
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