TWI695773B - 噴墨方法以及立體列印裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提出一種噴墨方法適用於立體列印裝置。所述包括以下步驟：判斷第一參考圖像中的第一參考像素的第一參考像素值是否大於或等於預設臨界值，以決定第一噴墨圖像中的第一像素的第一像素值；依據在第一參考圖像以及第二參考圖像中鄰近於第一參考像素的第二參考像素的數量來產生對應於第二參考像素的權重值；以及依據第一參考像素值、第一像素值以及權重值來調整在第一參考圖像以及第二參考圖像中的第二參考像素的第二參考像素值。另外，所述立體列印裝置亦被提出。

Description

噴墨方法以及立體列印裝置

本發明是有關於一種噴墨技術，且特別是有關於一種噴墨方法以及立體列印裝置。

隨著電腦輔助製造(Computer-Aided Manufacturing，CAM)的進步，製造業發展了立體列印技術，能很迅速的將設計原始構想製造出來。立體列印技術實際上是一系列快速原型成型(Rapid Prototyping，RP)技術的統稱，其基本原理都是於列印平台上疊層製造，由快速原型機在水平平面內經由掃描形式於列印平台上依序列印多層切層物件，以使這些切層物件可堆疊形成立體列印物件。

並且，目前的立體列印技術還包括可對立體列印物件執行噴墨操作。也就是說，當立體列印裝置列印這些切層物件時，立體列印裝置可同時針對每一層切層物件執行噴墨。然而，由於立體列印裝置的噴墨操作係指依據噴墨圖像的多個像素的像素值來決定是否對切層物件當中對應於這些像素的位置執行噴墨或不 噴墨，因此若使用者輸入立體列印裝置的圖像為較高解析度的參考圖像，則立體列印裝置可能無法依據此參考圖像來進行噴墨操作。或者，在另一情況下，由於立體列印裝置的噴墨解析度與參考圖像的解析度不同，因此可能導致立體列印物件經噴墨後的物件圖像產生嚴重失真的情況。有鑑於此，以下提出多個實施範例來克服之。

本發明提供一種噴墨方法以及立體列印裝置，可依據參考圖像來產生噴墨圖像，以使立體列印裝置可正確地對立體列印物件進行噴墨。

本發明的一種噴墨方法適用於立體列印裝置。所述立體列印裝置包括處理裝置、儲存裝置以及噴墨單元。所述儲存裝置儲存第一參考圖像以及第二參考圖像。所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像為水平切層自立體模型的相鄰的兩個切層圖像。所述噴墨方法包括：藉由所述處理裝置判斷所述第一參考圖像中的第一參考像素的第一參考像素值是否大於或等於預設臨界值，以決定第一噴墨圖像中的第一像素的第一像素值；藉由所述處理裝置依據在所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像的至少其中之一中鄰近於所述第一參考像素的至少一第二參考像素的數量來產生對應於所述至少一第二參考像素的至少一權重值。藉由所述處理裝置依據所述第一參考像素值、所述第一像素值以及所述至 少一權重值來調整在所述第一參考圖像以及第二參考圖像的至少其中之一中的所述至少一第二參考像素的至少一第二參考像素值。

在本發明的一實施例中，上述的噴墨方法更包括：若所述第一參考像素為起始參考像素，則所述處理裝置預設所述第一參考像素的所述第一參考像素值為1。

在本發明的一實施例中，上述的噴墨方法，其中所述預設臨界值為0.5。

在本發明的一實施例中，上述的第一噴墨圖像為二元圖像，並且所述第一像素值為1或0。

在本發明的一實施例中，上述藉由所述處理裝置判斷所述第一參考圖像中的所述第一參考像素的所述第一參考像素值是否大於或等於所述預設臨界值，以決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值的步驟包括：若所述第一參考像素值大於或等於所述預設臨界值，則所述處理裝置決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值為1；以及若所述第一參考像素值小於所述預設臨界值，則所述處理裝置決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值為0。

在本發明的一實施例中，上述的噴墨方法更包括：若所述第一像素值為1，則藉由所述噴墨單元於立體列印物件上對應於所述第一像素的位置執行噴墨操作；以及若所述第一像素值為0，則藉由所述噴墨單元於所述立體列印物件上對應於所述第一像素 的位置不執行所述噴墨操作。

在本發明的一實施例中，上述依據在所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像的至少其中之一中鄰近於所述第一參考像素的所述至少一第二參考像素的數量來產生對應於所述至少一第二參考像素的所述至少一權重值的步驟包括：藉由所述處理裝置建立鄰近於所述第一參考像素的所述至少一第二參考像素的至少一誤差擴散矩陣，並且所述至少一誤差擴散矩陣包括所述至少一權重值。

在本發明的一實施例中，上述的至少一權重值的加總為1。

在本發明的一實施例中，上述的至少一權重值的大小正比於所述至少一第二參考像素與所述第一參考像素的之間的相關度。

在本發明的一實施例中，上述的處理裝置依據所述第一參考像素值、所述第一像素值以及所述至少一權重值來調整在所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像的至少其中之一中的所述至少一第二參考像素的所述至少一第二像素值的步驟包括：藉由所述處理裝置將所述第一參考像素值相減於所述第一像素值，以取得誤差值；藉由所述處理裝置將所述誤差值相乘於對應於所述至少一第二像素值的所述至少一權重值，以取得調整值；以及將所述調整值相加於所述至少一第二像素值，以調整所述至少一第二像素值。

本發明的一種立體列印裝置包括儲存裝置、處理裝置以及噴墨單元。所述儲存裝置用以儲存多個模組、第一參考圖像以及第二參考圖像。所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像為水平切層自立體模型的相鄰的兩個切層圖像。所述處理裝置耦接所述儲存裝置。所述處理裝置用以執行所述多個模組。所述噴墨單元耦接所述處理裝置。所述噴墨單元用以對立體列印物件執行噴墨操作。所述處理裝置判斷所述第一參考圖像中的第一參考像素的第一參考像素值是否大於或等於預設臨界值，以決定第一噴墨圖像中的第一像素的第一像素值。所述處理裝置依據在所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像的至少其中之一中鄰近於所述第一參考像素的至少一第二參考像素的數量來產生對應於所述至少一第二參考像素的至少一權重值。所述處理裝置依據所述第一參考像素值、所述第一像素值以及所述至少一權重值來調整在所述第一參考圖像以及第二參考圖像的至少其中之一中的所述至少一第二參考像素的至少一第二參考像素值。

在本發明的一實施例中，若所述第一參考像素為一起始參考像素，則所述處理裝置預設所述第一參考像素的所述第一參考像素值為1。

在本發明的一實施例中，上述的預設臨界值為0.5。

在本發明的一實施例中，上述的第一噴墨圖像為二元圖像，並且所述第一像素值為1或0。

在本發明的一實施例中，若所述第一參考像素值大於或 等於所述預設臨界值，則所述處理裝置決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值為1。若所述第一參考像素值小於所述預設臨界值，則所述處理裝置決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值為0。

在本發明的一實施例中，若所述第一像素值為1，則所述處理裝置驅動所述噴墨單元於立體列印物件上對應於所述第一像素的位置執行所述噴墨操作。若所述第一像素值為0，則所述處理裝置驅動所述噴墨單元於所述立體列印物件上對應於所述第一像素的位置不執行所述噴墨操作。

在本發明的一實施例中，上述的至少一權重值的加總為1。

在本發明的一實施例中，上述的至少一權重值的大小正比於所述至少一第二參考像素與所述第一參考像素的之間的相關度。

在本發明的一實施例中，上述的處理裝置建立鄰近於所述第一參考像素的所述至少一第二參考像素的至少一誤差擴散矩陣，並且所述至少一誤差擴散矩陣包括所述至少一權重值。

在本發明的一實施例中，上述的處理裝置將所述第一參考像素值相減於所述第一像素值，以取得誤差值。所述處理裝置將所述誤差值相乘於對應於所述至少一第二像素值的所述至少一權重值，以取得調整值。所述處理裝置將所述調整值相加於所述至少一第二像素值，以調整所述至少一第二像素值。

基於上述，本發明的噴墨方法以及立體列印裝置，可對多個參考圖像的每一個像素進行分析，並且這些參考圖像的每一個像素可藉由誤差擴散法(error diffusion)來依序調整之，以正確地產生的對應的多個噴墨圖像。因此，本發明的立體列印裝置可依據這些噴墨圖像對立體列印物件正確地執行的噴墨操作。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

20:立體列印物件

100:立體列印裝置

110:處理裝置

120:列印單元

121:列印頭

122:噴墨頭

130:儲存裝置

140:列印平台

300(1)、300(k)、300(k+1)、300(n)、400(1)、400(k)、400(k+1)、400(n)、410、420、430:圖像

301、302_1、302_2、302_3、302_4、302_5、401:像素

S1:乘載面

P1、P2、P3:方向

S510、S520、S530:步驟

n1、n2、n3、n4、n5、X、X’:像素值

圖1是依照本發明一實施例的立體列印裝置的方塊圖。

圖2是依照圖1實施例的立體列印裝置的示意圖。

圖3A是依照本發明一實施例的多個參考圖像的示意圖。

圖3B是依照本發明一實施例的第一參考圖像以及第二參考圖像的示意圖。

圖3C是依照本發明一實施例的噴墨圖像的示意圖。

圖4A是依照本發明一實施例的多個噴墨圖像的示意圖。

圖4B是依照本發明一實施例的參考圖像轉換為噴墨圖像的示意圖。

圖5是依照本發明一實施例的噴墨方法的流程圖。

為了使本發明之內容可以被更容易明瞭，以下特舉實施例做為本發明確實能夠據以實施的範例。另外，凡可能之處，在圖式及實施方式中使用相同標號的元件/構件/步驟，係代表相同或類似部件。

圖1繪示本發明一實施例的立體列印設備的示意圖。參考圖1，立體列印裝置100包括處理裝置110、列印單元120以及儲存裝置130。處理裝置110耦接列印單元120以及儲存裝置130。在本實施例中，處理裝置110用以操作列印單元120，以執行立體列印操作。在本實施例中，列印單元120可包括列印頭、噴墨頭以及驅動裝置等。舉例來說，列印頭用以於列印平台上列印出立體列印物件，並且噴墨頭用以於立體列印物件上進行噴墨操作。在本實施例中，列印單元120還可例如包括其他用以與列印頭、噴墨頭以及驅動裝置共同完成立體列印以及噴墨操作的構件，其中例如是控制器、加熱模組、供料管線或連動機構等，並且其相關構件可依據所屬技術領域的通常知識可獲致足夠的教示、建議以及實施方式，在此不加以贅述。

在本實施例中，處理裝置110可包括處理晶片、影像處理晶片，或者例如是中央處理單元(Central Processing Unit,CPU)，或是其他可程式化之一般用途或特殊用途的微處理器(microprocessor)、數位訊號處理器(Digital Signal Processor,DSP)、可程式化控制器、特殊應用積體電路(Application Specific Integrated Circuits,ASIC)、可程式化邏輯裝置(Programmable Logic Device,PLD)、其他類似處理電路或這些裝置的組合。

在本實施例中，儲存裝置130可例如是動態隨機存取記憶體(Dynamic Random Access Memory,DRAM)、快閃記憶體(Flash memory)或非揮發性隨機存取記憶體(Non-Volatile Random Access Memory,NVRAM)等。在本實施例中，儲存裝置130可例如儲存圖像編輯模組、運算模組以及圖像資料等，以使處理裝置110可讀取或執行這些模組以及圖像資料，以實現本發明各實施例所述之噴墨方法。在本實施例中，儲存裝置130進一步儲存多個參考圖像，並且這些參考圖像為水平切層自立體模型的彼此相鄰的多個切層圖像。

在本實施例中，當立體列印裝置100列印完成立體列印物件的某一層的切層物件時，立體列印裝置100可讀取對應的噴墨圖像，以接續對此層的切層物件進行噴墨。在本實施例中，立體列印裝置100的噴墨方式是依據噴墨圖像當中的各個像素位置的像素值為1或0，來決定是否於立體列印物件的對應位置上執行噴墨或不執行噴墨。然而，在本實施例中，由於立體列印裝置100接收的多個參考圖像的解析度可能高於立體列印裝置100的噴墨解析度，因此立體列印裝置100預先依據這些參考圖像來進行分析以及調整，以取得對應的多個噴墨圖像。也就是說，在本實施例中，立體列印裝置100可用以轉換由外部輸入的這些參考圖像，以取得可適用於立體列印裝置100的噴墨解析度的這些噴墨圖像。此外，在本實施例中，噴墨圖像可例如是二元圖像，因此立 體列印裝置100可依據噴墨圖像的各個像素位置的像素值(1或0)來明確判斷是否執行噴墨操作。

圖2是依照圖1實施例的立體列印裝置的示意圖。參考圖1以及圖2，在本實施例中，立體列印裝置100例如是放置於第一方向P1、第二方向P2以及第三方向P3形成的空間中，其中第一方向P1、第二方向P2以及第三方向P3彼此相互垂直。在本實施例中，處理裝置110耦接列印單元120，其中列印單元120包括列印頭121以及噴墨頭122。在本實施例中，列印頭121用以在列印平台140的乘載面S1(平行於第一方向P1與第二方向P2形成的平面)上執行立體列印操作，以列印立體列印物件20。噴墨頭122用以在立體列印物件20上執行噴墨操作。舉例而言，首先，處理裝置110可依據立體模型的多個切層圖像來控制列印頭121的移動路徑，並且操作列印頭於列印平台的承載面上列印切層物件，其中這些切層圖像為二維圖像檔案。接著，處理裝置110可分析多個參考圖像來產生對應的多個噴墨圖像，並且處理裝置110可依據這些噴墨圖像來決定是否於對應的切層物件上進行噴墨操作。

圖3A是依照本發明一實施例的多個參考圖像的示意圖。參考圖3A，在本實施例中，多個參考圖像300(1)~300(n)可分別對應於立體列印物件20的各層的切層物件，其中n為大於0的正整數。在本實施例中，這些參考圖像300(1)~300(n)可例如分別在圖像邊緣具有像素變化，或是分別在整個圖像區域都具有像素 變化，本發明並不加以限制。舉例而言，由於立體列印物件20只需在物件外殼呈現顏色，則參考圖像300(2)~300(n)可分別只有在圖像邊緣具有像素變化。然而，參考圖像300(n)由於在立體列印物件20的頂層，因此參考圖像300(n)的整個圖像區域可具有像素變化。

圖3B是依照本發明一實施例的第一參考圖像以及第二參考圖像的示意圖。圖3C是依照本發明一實施例的噴墨圖像的示意圖。參考圖2至圖3C，以這些參考圖像300(1)~300(n)當中的其中兩個參考圖像300(k)、300(k+1)為例，其中k介於1至n之間。在本實施例中，參考圖像300(k)、300(k+1)為水平切層自立體模型的相鄰的兩個切層圖像。在本實施例中，處理裝置110可依據預設順序來分析參考圖像300(k)。在本實施例中，預設順序可例如是由參考圖像300(1)至參考圖像300(n)，並且由每一參考圖像300(1)~300(n)的第一列至最後一列的每一個像素進行分析(由左至右，由上往下)，但本發明並不限於此。並且，本實施的處理裝置110更進一步採用誤差擴散法(error diffusion)來調整這些參考圖像300(1)~300(n)當中的各個像素的像素值。

具體而言，圖3C表示處理裝置110依序分析參考圖像300(k)的每一個像素，其中圖3B的參考圖像300(k)當中具有斜線的部分像素代表已經被分析並且已取得在噴墨圖像400(k)當中對應的像素值(例如依序為1、1、0、1、0、1、0)。在本實施例中，當處理裝置110分析參考圖像300(k)當中的參考像素301時，處 理裝置110判斷參考圖像300(k)中的參考像素301的參考像素值X是否大於或等於預設臨界值，以決定噴墨圖像400(k)中的像素401的像素值X’。在本實施例中，預設臨界值可例如是0.5。因此，處理裝置110可執行如下公式(1)。

接著，處理裝置110依據在參考圖像300(k)、300(k+1)中鄰近於參考像素的多個參考像素302_1~302_5的數量來產生對應於這些參考像素302_1~302_5的多個權重值(Weight)。也就是說，由於這些參考像素302_1~302_5的數量為5個，因此處理裝置110可建立兩個誤差擴散矩陣(error diffusion matrix)如下公式(2)、公式(3)。

在本實施例中，在上述的公式(2)、(3)的誤差擴散矩陣中權重值大小以及數量可例如是Floyd-Steinberg誤差擴散法、Jarvis-Judice-Ninke誤差擴散法等諸如此類的誤差擴散法來改良設計之，但本發明並不限於此。在本實施例中，處理裝置110可將參考圖像300(k)、300(k+1)分別套用上述的誤差擴散矩陣。以上述公式(2)、(3)來說，公式(2)的誤差擴散矩陣包括權重值7/21、3/21、5/21、1/21，並且公式(3)的誤差擴散矩陣包括權重值5/21。

詳細而言，首先，由於像素302_1位於像素301的右方(下一個分析對象)，處理裝置110判斷像素302_1與參考像素301的相關度為最高，因此處理裝置110定義權重值為最高的7/21。接著，由於參考像素302_3、302_5分別位於參考像素301的正下方以及下一張參考圖像300(K+1)的相對位置，處理裝置110判斷參考像素302_3、302_5與參考像素301的相關度為次之，因此處理裝置110定義權重值為次高的5/21。最後，由於參考像素302_2、302_4分別位於參考像素301的左下方以及右下方，處理裝置110判斷參考像素302_2、302_4與參考像素301的相關度較低，因此權重值分別為3/21、1/21。也就是說，這些權重值的大小正比於這些參考像素302_1~302_5與參考像素301的之間的相關度。並且，在本實施例中，這些權重值的總和為1。

在一實施例中，若當前分析的參考像素位於參考圖像300(k)的邊界，則在參考圖像300(k)中僅具有另3個參考像素鄰近於此參考像素，並且在參考圖像300(k+1)中僅具有另1個參考像素鄰近於此參考像素。也就是說，在此例中，處理裝置110同樣建立如上述的誤差擴散矩陣，並且僅將對應的權重值套用於對應的參考像素。例如，處理裝置110僅將公式(2)的誤差擴散矩陣當中的權重值7/21、5/21、1/21以及公式(3)的誤差擴散矩陣當中的權重值5/21用於調整對應的參考像素。然而，由於公式(2)的誤差擴散矩陣當中的權重值3/21並無相對應的參考像素，因此處理裝置110未使用。此外，在又一實施例中，若當前分析的參考像素 為起始參考像素(例如參考圖像300(1)的左上角第一個像素)，則處理裝置110先直接預設此參考像素的參考像素值為1，而再繼續分析並且調整鄰近的參考像素。

在本實施例中，處理裝置110可依據參考像素301的參考像素值X、像素值X’以及上述權重值來調整參考圖像300(k)、300(k+1)的參考像素302_1~302_n的參考像素值n1~n5。因此，在本實施例中，處理裝置110對這些參考像素302_1~302_5進行調整如以下公式(4)~公式(8)，以取得這些參考像素302_1~302_5調整後的參考像素值n1’~n5’。

n1'=n1+(x-x')×7/21........................公式(4)

n2'=n2+(x-x')×3/21........................公式(5)

n3'=n3+(x-x')×5/21........................公式(6)

n4'=n4+(x-x')×1/21........................公式(7)

n5'=n5+(x-x')×5/21........................公式(8)

舉例而言，在本實施例中，假設參考圖像300(k)的參考像素301的像素值為0.5，因此處理裝置110依據上述公式(1)定義噴墨圖像400(k)的像素401的像素值為1。並且，在本實施例中，由於在參考圖像300(k)以及參考圖像300(k+1)中具有5個參考像素302_1~302_5鄰近於參考像素301，因此處理裝置110建立如上述公式(2)以及公式(3)的誤差擴散矩陣，以調整參考像素302_1~302_5。在本實施例中，處理裝置110執行如上述公式(4)至公式(8)的運算，以取得這些參考像素302_1~302_5的調整後的 多個參考像素值n1’~n5’。並且，處理裝置110接續分析參考像素302_1，以執行如上述公式(1)~公式(8)的運算來決定噴墨圖像400(k)的像素401的下一個像素的像素值，並且同樣調整鄰近於參考像素302_1的另5個參考像素。

圖4A是依照本發明一實施例的多個噴墨圖像的示意圖。圖4B是依照本發明一實施例的將參考圖像轉換為噴墨圖像的示意圖。參考圖2、圖3A、圖4A以及圖4B，當處理裝置110依序對這些參考圖像300(1)~300(n)的每一像素執行上述分析以及運算後，處理裝置110可產生這些噴墨圖像400(1)~400(n)，其中這些噴墨圖像400(1)~400(n)分別對應於這些參考圖像300(1)~300(n)。也就是說，處理裝置110可將原先解析度較高的這些參考圖像300(1)~300(n)轉換為這些噴墨圖像400(1)~400(n)，其中這些噴墨圖像400(1)~400(n)為二元圖像(binary image)。並且，這些噴墨圖像400(1)~400(n)疊合後於側邊呈現的圖像410同樣為二元圖像。

參考圖4B，上述圖3A的最上層(立體模型的上表面)的參考圖像300(n)或是這些參考圖像300(1)~300(n)疊合後於側邊(立體模型的側表面)呈現的圖像可呈現如圖像420。然而，這些參考圖像300(1)~300(n)經由處理裝置110執行上述分析以及運算後，處理裝置110可產生這些噴墨圖像400(1)~400(n)。因此，噴墨圖像400(n)或是這些噴墨圖像400(1)~400(n)疊合後於側邊呈現的圖像可呈現如圖像430。也就是說，處理裝置110可依據這些噴墨圖像 400(1)~400(n)來驅動列印單元120，以使列印單元120可對立體列印物件20執行正確的噴墨操作。

圖5是依照本發明一實施例的噴墨方法的流程圖。參考圖1以及圖5，本發明的噴墨方法可至少適用於圖1實施例的立體列印裝置100。在步驟S510中，處理裝置110判斷第一參考圖像中的第一參考像素的第一參考像素值是否大於或等於預設臨界值，以決定第一噴墨圖像中的第一像素的第一像素值。在步驟S520中，處理裝置110依據在第一參考圖像以及第二參考圖像的至少其中之一中鄰近於第一參考像素的至少一第二參考像素的數量來產生對應於至少一第二參考像素的至少一權重值。在步驟S530中，處理裝置110依據第一參考像素值、第一像素值以及至少一權重值來調整在第一參考圖像以及第二參考圖像的至少其中之一中的至少一第二參考像素的至少一第二參考像素值。因此，當處理裝置110依據上述步驟S510~S530依序分析以及調整多個參考圖像的每一個參考像素之後，處理裝置110可產生對應於這些參考圖像的多個噴墨圖像。

綜上所述，本發明的噴墨方法以及立體列印裝置，可對多個參考圖像的每一個參考像素的參考像素值進行分析，以定義在多個噴墨圖像中對應的像素值。並且，本發明的立體列印裝置可藉由誤差擴散法(error diffusion)來調整鄰近於當前分析的參考像素的其他參考像素的參考像素值，以使立體列印裝置分析下一個參考像素時，可正確地定義在這些噴墨圖像中對應的像素值。 因此，本發明的立體列印裝置可依據這些噴墨圖像對立體列印物件正確地執行的噴墨操作

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

S510、S520、S530‧‧‧步驟

Claims (16)

1. 一種噴墨方法，適用於一立體列印裝置，所述立體列印裝置包括一處理裝置、一儲存裝置以及一噴墨單元，其中所述儲存裝置儲存一第一參考圖像以及一第二參考圖像，並且所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像為水平切層自一立體模型的相鄰的兩個切層圖像，其中所述噴墨方法包括：藉由所述處理裝置判斷所述第一參考圖像中的一第一參考像素的一第一參考像素值是否大於或等於一預設臨界值，以決定一第一噴墨圖像中的一第一像素的一第一像素值，其中所述第一噴墨圖像為一二元圖像，並且所述第一像素值為1或0；藉由所述處理裝置依據在所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像的至少其中之一中鄰近於所述第一參考像素的至少一第二參考像素的數量來產生對應於所述至少一第二參考像素的至少一權重值；以及藉由所述處理裝置依據所述第一參考像素值、所述第一像素值以及所述至少一權重值來調整在所述第一參考圖像以及一第二參考圖像的至少其中之一中的所述至少一第二參考像素的至少一第二參考像素值，其中依據在所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像的至少其中之一中鄰近於所述第一參考像素的所述至少一第二參考像素的數量來產生對應於所述至少一第二參考像素的所述至少一權重值的步驟包括： 藉由所述處理裝置建立鄰近於所述第一參考像素的所述至少一第二參考像素的至少一誤差擴散矩陣，並且所述至少一誤差擴散矩陣包括所述至少一權重值。
2. 如申請專利範圍第1項所述的噴墨方法，更包括：若所述第一參考像素為一起始參考像素，則所述處理裝置預設所述第一參考像素的所述第一參考像素值為1。
3. 如申請專利範圍第1項所述的噴墨方法，其中所述預設臨界值為0.5。
4. 如申請專利範圍第1項所述的噴墨方法，其中藉由所述處理裝置判斷所述第一參考圖像中的所述第一參考像素的所述第一參考像素值是否大於或等於所述預設臨界值，以決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值的步驟包括：若所述第一參考像素值大於或等於所述預設臨界值，則所述處理裝置決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值為1；以及若所述第一參考像素值小於所述預設臨界值，則所述處理裝置決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值為0。
5. 如申請專利範圍第4項所述的噴墨方法，更包括：若所述第一像素值為1，則藉由所述噴墨單元於一立體列印物件上對應於所述第一像素的位置執行一噴墨操作；以及若所述第一像素值為0，則藉由所述噴墨單元於所述立體列 印物件上對應於所述第一像素的位置不執行所述噴墨操作。
6. 如申請專利範圍第1項所述的噴墨方法，其中所述至少一權重值的加總為1。
7. 如申請專利範圍第1項所述的噴墨方法，其中所述至少一權重值的大小正比於所述至少一第二參考像素與所述第一參考像素的之間的相關度。
8. 如申請專利範圍第1項所述的噴墨方法，其中所述處理裝置依據所述第一參考像素值、所述第一像素值以及所述至少一權重值來調整在所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像的至少其中之一中的所述至少一第二參考像素的所述至少一第二參考像素值的步驟包括：藉由所述處理裝置將所述第一參考像素值相減於所述第一像素值，以取得一誤差值；藉由所述處理裝置將所述誤差值相乘於對應於所述至少一第二參考像素值的所述至少一權重值，以取得一調整值；以及將所述調整值相加於所述至少一第二參考像素值，以調整所述至少一第二參考像素值。
9. 一種立體列印裝置，包括：一儲存裝置，用以儲存多個模組、一第一參考圖像以及一第二參考圖像，其中所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像為水平切層自一立體模型的相鄰的兩個切層圖像；一處理裝置，耦接所述儲存裝置，用以執行所述多個模組； 以及一噴墨單元，耦接所述處理裝置，用以對一立體列印物件執行一噴墨操作，其中所述處理裝置判斷所述第一參考圖像中的一第一參考像素的一第一參考像素值是否大於或等於一預設臨界值，以決定一第一噴墨圖像中的一第一像素的一第一像素值，其中所述第一噴墨圖像為一二元圖像，並且所述第一像素值為1或0，其中所述處理裝置依據在所述第一參考圖像以及所述第二參考圖像的至少其中之一中鄰近於所述第一參考像素的至少一第二參考像素的數量來產生對應於所述至少一第二參考像素的至少一權重值，其中所述處理裝置依據所述第一參考像素值、所述第一像素值以及所述至少一權重值來調整在所述第一參考圖像以及一第二參考圖像的至少其中之一中的所述至少一第二參考像素的至少一第二參考像素值，其中所述處理裝置建立鄰近於所述第一參考像素的所述至少一第二參考像素的至少一誤差擴散矩陣，並且所述至少一誤差擴散矩陣包括所述至少一權重值。
10. 如申請專利範圍第9項所述的立體列印裝置，其中若所述第一參考像素為一起始參考像素，則所述處理裝置預設所述第一參考像素的所述第一參考像素值為1。
11. 如申請專利範圍第9項所述的立體列印裝置，其中所述預設臨界值為0.5。
12. 如申請專利範圍第9項所述的立體列印裝置，其中若所述第一參考像素值大於或等於所述預設臨界值，則所述處理裝置決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值為1，其中若所述第一參考像素值小於所述預設臨界值，則所述處理裝置決定所述第一噴墨圖像中的所述第一像素的所述第一像素值為0。
13. 如申請專利範圍第12項所述的立體列印裝置，其中若所述第一像素值為1，則所述處理裝置驅動所述噴墨單元於一立體列印物件上對應於所述第一像素的位置執行所述噴墨操作，其中若所述第一像素值為0，則所述處理裝置驅動所述噴墨單元於所述立體列印物件上對應於所述第一像素的位置不執行所述噴墨操作。
14. 如申請專利範圍第9項所述的立體列印裝置，其中所述至少一權重值的加總為1。
15. 如申請專利範圍第9項所述的立體列印裝置，其中所述至少一權重值的大小正比於所述至少一第二參考像素與所述第一參考像素的之間的相關度。
16. 如申請專利範圍第9項所述的立體列印裝置，其中所述處理裝置將所述第一參考像素值相減於所述第一像素值，以取得 一誤差值，並且所述處理裝置將所述誤差值相乘於對應於所述至少一第二參考像素值的所述至少一權重值，以取得一調整值，其中所述處理裝置將所述調整值相加於所述至少一第二參考像素值，以調整所述至少一第二參考像素值。

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