TWI691767B

TWI691767B - 顯示面板及其製造方法

Info

Publication number: TWI691767B
Application number: TW107126018A
Authority: TW
Inventors: 黃良瑩; 陳致豪; 李錫烈; 施人豪; 黃俊隆
Original assignee: 友達光電股份有限公司
Priority date: 2018-07-27
Filing date: 2018-07-27
Publication date: 2020-04-21
Also published as: TW202008055A; CN109001942B; CN109001942A

Abstract

一種顯示面板及其製造方法，其中顯示面板包括畫素陣列基板、顯示介質層、彩色濾光元件基板以及多個聚合物牆。顯示介質層以及多個聚合物牆位於畫素陣列基板與彩色濾光元件基板之間。彩色濾光元件基板包括基板、彩色濾光元件、聚合物牆定義層以及多個透明隔離件。彩色濾光元件位於基板上，且包括多個第一通孔。聚合物牆定義層位於彩色濾光元件上，且包括多個第二通孔。第二通孔分別與第一通孔於垂直基板的方向上重疊。多個透明隔離件位於第一通孔以及第二通孔中。聚合物牆與透明隔離件於垂直基板的方向上重疊。

Description

顯示面板及其製造方法

本發明是有關於一種光電裝置及其製造方法，且特別是有關於一種顯示面板及其製造方法。

隨著科技的進步，當顯示面板的顯示介質材料層中包括光聚合單體時，使用光罩覆蓋於基板上，再進行照光，光通過光罩與顯示面板的透光孔，以於顯示介質層中產生聚合物牆（polymer wall）。然而，光線通過空氣、光罩、玻璃基板等折射率及/或厚度不同的介質後到達顯示介質，容易因折射而產生光程差，導致所形成之聚合物牆尺寸比原設計值來得大，因而降低顯示面板的開口率。因此，目前亟需一種能解決上述問題的方案。

本發明提供一種顯示面板，能改善聚合物牆的形狀及/或寬度不均的問題。

本發明提供一種顯示面板的製造方法，能改善聚合物牆的形狀及/或寬度不均的問題。

本發明的一種顯示面板，包括畫素陣列基板、顯示介質層、彩色濾光元件基板以及多個聚合物牆。顯示介質層位於畫素陣列基板與彩色濾光元件基板之間。多個聚合物牆位於畫素陣列基板與彩色濾光元件基板之間。彩色濾光元件基板包括基板、彩色濾光元件、聚合物牆定義層以及多個透明隔離件。彩色濾光元件位於基板上，且包括多個第一通孔。聚合物牆定義層位於彩色濾光元件上，且包括多個第二通孔。第二通孔分別與第一通孔於垂直基板的方向上重疊。多個透明隔離件位於第一通孔以及第二通孔中。聚合物牆與透明隔離件於垂直基板的方向上重疊。

本發明的一種顯示面板的製造方法，包括形成彩色濾光元件基板、將畫素陣列基板覆蓋於彩色濾光元件基板上、形成顯示介質材料層於畫素陣列基板與彩色濾光元件基板之間，以及對彩色濾光元件基板照射紫外光，紫外光穿過透明隔離件，並使光聚合單體聚合成多個聚合物牆。形成彩色濾光元件基板的方法包括提供基板、形成多個透明隔離件於基板上、形成彩色濾光元件於基板上以及形成聚合物牆定義層於彩色濾光元件上。彩色濾光元件包括多個第一通孔。聚合物牆定義層包括多個第二通孔。第二通孔與第一通孔於垂直基板的方向上重疊。透明隔離件位於第一通孔以及第二通孔中。顯示介質材料層包括多個顯示介質以及多個光聚合單體。聚合物牆與透明隔離件於垂直基板的方向上重疊。

基於上述，本發明的顯示面板及其製造方法可以改善聚合物牆的形狀及/或寬度不均的問題，提升顯示面板的顯示品質。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

在下文中將參照附圖更全面地描述本發明，在附圖中示出了本發明的示例性實施例。如本領域技術人員將認識到的，可以以各種不同的方式修改所描述的實施例，而不脫離本發明的精神或範圍。

除非另有定義，本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是，諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義，並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義，除非本文中明確地這樣定義。

本文參考作為理想化實施例的示意圖的截面圖來描述示例性實施例。因此，可以預期到作為例如製造技術及/或(and/or)公差的結果的圖示的形狀變化。因此，本文所述的實施例不應被解釋為限於如本文所示的區域的特定形狀，而是包括例如由製造導致的形狀偏差。例如，示出或描述為平坦的區域通常可以具有粗糙及/或非線性特徵。此外，所示的銳角可以是圓的。因此，圖中所示的區域本質上是示意性的，並且它們的形狀不是旨在示出區域的精確形狀，並且不是旨在限制權利要求的範圍。

圖1A至圖1E是依照本發明一實施例的一種顯示面板的製造流程示意圖。圖2A是依照本發明一實施例的一種彩色濾光元件基板的部分元件之上視示意圖。圖2B是依照本發明一實施例的一種彩色濾光元件基板的部分元件之上視示意圖。圖2C是依照本發明一實施例的一種彩色濾光元件基板的部分元件之上視示意圖。圖2D是依照本發明一實施例的一種畫素陣列基板的部分元件之上視示意圖。

請參考圖1A至圖1C，彩色濾光元件基板100包括基板110、多個透明隔離件120、彩色濾光元件130以及聚合物牆定義層140。在本實施例中，彩色濾光元件基板100還包括遮光圖案BM，但本發明不以此為限。在一些實施例中，彩色濾光元件基板100為可撓式基板，但本發明不以此為限。

請參考圖1A，提供基板110，並於基板110上形成多個透明隔離件120。在本實施例中，基板100例如為硬質基板（rigid substrate）或可撓式基板（flexible substrate）等。舉例而言，基板100的材質可為玻璃、塑膠、複合材質或其它可以提供支撐且可製作板狀結構的材質。透明隔離件120之材質例如為壓克力樹脂或是其它可適用的材料。

接著，請參考圖1B，於基板110上形成彩色濾光元件130。彩色濾光元件130例如包括紅色濾光圖案R、綠色濾光圖案G、藍色濾光圖案B，其中各個濾光圖案之間較佳具有遮光圖案BM。彩色濾光元件130包括多個第一通孔O1。

然後，請參考圖1C，於彩色濾光元件130上依序形成第一透明電極142、電致變色層144以及第二透明電極146。

請參考圖1C與圖2A，其中圖2A中之剖面線AA’對應了圖1C，且圖2A繪示了第一透明電極142以及透明隔離件120並省略繪示其他構件。

在本實施例中，第一透明電極142包括多塊電極142b以及連接該些電極142b的導線142a。在一些實施例中，電極142b覆蓋彩色濾光元件130，導線142a覆蓋透明隔離件120。在一些實施例中，透明隔離件120與導線142a重疊的部分之厚度較小，使導線142a與電極142b可以大致上形成於同平面上，其中透明隔離件120厚度較小的部分例如是以半色調光罩（halftone mask）所形成，但本發明不以此為限。在一些實施例中，導線142a形成於其他絕緣層上而不是形成於透明隔離件120上，但本發明不以此為限。

在一些實施例中，部分透明隔離件120位於多個互相分離的第一透明電極142之間。

第一透明電極142之材質例如為銦錫氧化物（ITO）、銦鋅氧化物（IZO）、二氧化錫（SnO ₂）、氟氧化錫（FTO）、銻摻雜的氧化錫（ATO）、氧化銦（In ₂O ₃）、有機傳導材料（例如聚乙炔、聚苯胺、聚吡咯或聚噻吩）或是其它合適的材料。

請參考圖1C與圖2B，其中圖2B中之剖面線AA’對應了圖1C，且圖2B繪示了第一透明電極142、電致變色層144以及透明隔離件120並省略繪示其他構件。

形成電致變色層144於第一透明電極142上。

電致變色層144之材質例如為電致變色混合物，其包括氧化變色材料、還原變色材料、高分子材料（例如聚甲基甲基丙烯酸酯或是其它合適的材料）以及溶劑（例如碳酸丙烯酯或是其它合適的溶劑）。變色材料可以為有機材料或無機材料，有機材料例如紫精（Viologen）、環戊二烯基鐵（ferrocene）或是其它合適的材料；無機材料例如金屬氧化物，具體可以為三氧化鎢（WO ₃）、五氧化二釩（V ₂O ₅）等，或是其它合適的材料。

請參考圖1C與圖2C，其中圖2C中之剖面線AA’對應了圖1C，且圖2C繪示了第一透明電極142、電致變色層144、透明隔離件120以及第二透明電極146並省略繪示其他構件。

在本實施例中，第二透明電極146包括多塊電極146b以及連接該些電極146b的導線146a。在一些實施例中，電極146b覆蓋電致變色層144，導線146a覆蓋透明隔離件120。在一些實施例中，透明隔離件120與導線146a重疊的部分之厚度較小，使導線146a與電極146b可以大致上形成於同平面上，其中透明隔離件120厚度較小的部分例如是以半色調光罩（halftone mask）所形成，但本發明不以此為限。在一些實施例中，導線146a形成於其他絕緣層上而不是形成於透明隔離件120上，但本發明不以此為限。

在一些實施例中，部分透明隔離件120位於多個互相分離的第二透明電極146之間。

第二透明電極146的材料可以與第一透明電極142的材料相同或不相同。

第一透明電極142、電致變色層144以及第二透明電極146構成聚合物牆定義層140。聚合物牆定義層140包括多個第二通孔O2。第二通孔O2與第一通孔O1於垂直基板110的方向D1上重疊。透明隔離件120位於第一通孔O1以及第二通孔O2中。

之後，請參考圖1D與圖2D，將畫素陣列基板300覆蓋於彩色濾光元件基板100上，並且於畫素陣列基板300與彩色濾光元件基板100之間形成顯示介質材料層200。

顯示介質材料層200包括多個顯示介質210以及多個光聚合單體220。

顯示介質210可包括液晶分子、電泳顯示介質或是其它可適用的介質。

光聚合單體220能夠在光照射下發生聚合反應，舉例來說，光聚合單體220能夠在紫外光的照射下發生聚合反應。

在一些實施例中，畫素陣列基板300包括基板、多條資料線DL、多條掃描線GL（或稱掃描線）以及畫素結構P（如圖2D所示）。掃描線GL與資料線DL彼此交錯設置。每一個畫素結構P電性連接於對應的一條掃描線GL和對應的一條資料線DL。

畫素結構P包括畫素電極PE以及主動元件T。畫素電極PE可為穿透式畫素電極、反射式畫素電極或是半穿透半反射式畫素電極。穿透式畫素電極之材質包括金屬氧化物，例如是銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物或其它合適的氧化物或者是上述至少二者之堆疊層。反射式畫素電極之材質包括具有高反射率的金屬材料。

主動元件T可以是底部閘極型薄膜電晶體或是頂部閘極型薄膜電晶體，其包括閘極、通道、源極以及汲極。閘極電性連接至掃描線GL其中之一者，源極電性連接至資料線DL其中之一者，且汲極電性連接至畫素電極PE。在一些實施例中，主動元件T與畫素電極PE之間還藉由其他驅動元件（未繪示）電性連接，但本發明不以此為限。雖然本實施例是以每一個畫素結構P包含一個主動元件T與一個畫素電極PE為例，但本發明不以此為限。

在一些實施例中，畫素陣列基板300還包括共用電極（未繪示），畫素陣列基板300例如可以用邊緣場切換（fringe field switching，FFS）的形式、共面切換（in-plane switching，IPS）的形式或其它適當的形式來控制液晶。

其後，請參考圖1E，對彩色濾光元件基板100照射波長例如為365奈米的紫外光UV，聚合物牆定義層140對紫外光UV的穿透率小於10%。紫外光UV穿過透明隔離件120，並使光聚合單體220聚合成多個聚合物牆220’。

聚合物牆220’位於畫素陣列基板300與彩色濾光元件基板100之間。聚合物牆220’與透明隔離件120於垂直基板110的方向D1上重疊。在本實施例中，照射紫外光UV後所產生的聚合物牆220’的位置對應透明隔離件120的位置。聚合物牆220’及透明隔離件120為透明材質，且為光等向性，因此，當彩色濾光元件基板及畫素陣列基板偏光板貼上偏光板後，穿過聚合物牆220’及透明隔離件120的入射偏光會被出光的偏光片擋住，呈現不透光的黑色。

在本實施例中，當未施加電壓於電致變色層144時，電致變色層144為透明的。電致變色層144可被水平電場或者是垂直電場啟動。當施加電壓於電致變色層144時，電致變色層144會因為得到或者失去電子而變色，例如轉變為黑色。

在本實施例中，還可利用電致變色層144的性質，視需要驅動電致變色層144，使其變黑色以使顯示面板10的暗態變得更暗，藉此避免光於暗態時穿透顯示面板。

在本實施例中，當照射紫外光UV時，藉由電致變色層144位於彩色濾光元件130與顯示介質層200’之間，不僅可以遮擋紫外光UV，且由於電致變色層144直接設置於顯示介質210上方，還可減少紫外光UV光線經過其他物質而被折射的機率，因此能改善光程差造成聚合物牆220’形狀或寬度不均的問題，進而能夠增強顯示面板的按壓信賴性，並維持顯示介質層200’的厚度。另外，還能避免顯示介質層200’中的顯示介質210因照射紫外光而劣化。

基於上述，本發明的顯示面板10及其製造方法可以於照射紫外光UV後，產生多個形狀與寬度一致的聚合物牆220’，解決顯示面板10的混色問題並改善開口率降低的問題，提升顯示面板10的顯示品質。

圖3是本發明另一實施例的一種顯示面板的剖面示意圖。在此必須說明的是，圖3的實施例沿用圖1E的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖3的實施例與圖1E的實施例的主要差異在於：第一透明電極142與第二透明電極146的配置方式不同。

請參考圖3，顯示面板20包括彩色濾光元件基板100、顯示介質層200’以及畫素陣列基板300。彩色濾光元件基板100包括基板110、多個透明隔離件120、彩色濾光元件130以及聚合物牆定義層140。

在本實施例的彩色濾光元件基板100中，聚合物牆定義層140包括位於彩色濾光元件130上的第一透明電極142、電致變色層144以及第二透明電極146。

第一透明電極142與第二透明電極146位於電致變色層144與彩色濾光元件130之間。第一透明電極142與第二透明電極146互相分離。也就是說，電致變色層144覆蓋第一透明電極142、第二透明電極146以及彩色濾光元件130。

顯示面板20的製造方法大致上相同於前述顯示面板10的製造方法，其中顯示面板20的製作過程中，是先於彩色濾光元件130上形成互相分離的第一透明電極142以及第二透明電極146，再接著於彩色濾光元件130上形成電致變色層144。

在本實施例中，當未施加電壓於電致變色層144時，電致變色層144為透明的。當施加電壓於電致變色層144時，電致變色層144會因為能夠吸收較廣的波長範圍的光而變色。例如電致變色層144轉變為黑色，能夠作為遮光層，避免顯示介質210因照射紫外光UV而被破壞，此外，還可使顯示面板20的暗態變得更暗，藉此避免光於暗態時穿透顯示面板。

在本實施例中，當照射紫外光UV時，藉由電致變色層144位於彩色濾光元件130與顯示介質層200’之間作為紫外光遮光層，可以減少光經過的路徑，且由於其直接設置於顯示介質210上方，故可以降低光線經過其他物質而被折射之機率，因此能改善因光程差造成聚合物牆220’形狀或寬度不均的問題，進而能夠增強顯示面板的按壓信賴性，並維持顯示介質層200’的厚度。

基於上述，本發明的顯示面板20及其製造方法可以於照射紫外光UV後，產生多個形狀與寬度一致的聚合物牆220’且解決顯示面板20的混色問題並改善開口率降低的問題，提升顯示面板20的顯示品質。

圖4是本發明另一實施例的一種顯示面板的剖面示意圖。在此必須說明的是，圖4的實施例沿用圖1E的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖4的實施例與圖1E的實施例的主要差異在於：以平坦層150取代聚合物牆定義層140。

請參考圖4，顯示面板30包括彩色濾光元件基板100、顯示介質層200’以及畫素陣列基板300。彩色濾光元件基板100包括基板110、多個透明隔離件120、彩色濾光元件130以及平坦層150。

在本實施例的彩色濾光元件基板100中，平坦層150位於彩色濾光元件130上。平坦層150位於彩色濾光元件130與顯示介質層200’之間。平坦層150之材質例如是壓克力或其它不會讓紫外光UV穿透的適合材料。

在本實施例中，平坦層150可以作為紫外光遮光層，避免顯示介質210於曝光時因被紫外光UV照射而被破壞。

平坦層150包括多個第二通孔O2。第二通孔O2分別與彩色濾光元件130中的第一通孔O1於垂直基板110的方向D1上重疊。透明隔離件120位於第一通孔O1以及第二通孔O2中，且聚合物牆220’與透明隔離件120於垂直基板110的方向D1上重疊。

顯示面板30的製造方法大致上相同於前述顯示面板10的製造方法，其中顯示面板30的製作過程中，是於彩色濾光元件130上形成包括多個第二通孔O2的平坦層150。接著將畫素陣列基板300覆蓋於平坦層150上，並且於畫素陣列基板300與平坦層150之間形成顯示介質材料層。

在本實施例中，當照射紫外光UV時，藉由平坦層150位於彩色濾光元件130與顯示介質層200’之間作為聚合物牆定義層，且平坦層150設置於顯示介質210上方，所以可以減少光線因經過其他物質而被折射之機率，因此能改善光程差造成聚合物牆220’形狀或寬度不均的問題，進而能夠增強顯示面板30的按壓信賴性，並維持顯示介質層200’的厚度。

基於上述，本發明的顯示面板30及其製造方法可以於照射紫外光UV後，產生多個形狀與寬度一致的聚合物牆220’且解決顯示面板30的混色問題並改善開口率降低的問題，提升顯示面板30的顯示品質。

圖5是本發明另一實施例的一種顯示面板的剖面示意圖。在此必須說明的是，圖5的實施例沿用圖4的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖5的實施例與圖4的實施例的主要差異在於：顯示面板40中的透明隔離件120具有凸出的弧形頂面。

請參考圖5，顯示面板40包括彩色濾光元件基板100、顯示介質層200’以及畫素陣列基板300。彩色濾光元件基板100包括基板110、多個透明隔離件120、彩色濾光元件130以及平坦層150。

在本實施例的彩色濾光元件基板100中，透明隔離件120具有朝向畫素陣列基板300凸出的弧形頂面，其中凸出的弧形頂面的度數q例如大於60度，但不限於此。

在本實施例中，當照射紫外光UV時，藉由透明隔離件120的凸出的弧形頂面可以有聚光的功能，使得照射紫外光UV後產生的聚合物牆220’的寬度小於透明隔離件120的寬度，進一步地提升顯示面板的開口率。

顯示面板40的製造方法大致上相同於前述顯示面板10的製造方法，其中顯示面板40的製作過程中，透明隔離件120具有朝向畫素陣列基板300凸出的弧形頂面。透明隔離件120的凸出的弧形頂面的製造方法例如是透過曝光後的烘烤製程。

在本實施例中，當照射紫外光UV時，藉由平坦層150位於彩色濾光元件130與顯示介質層200’之間，改善光程差的問題。此外，藉由透明隔離件120的凸出的弧形頂面可以產生寬度較小的聚合物牆220’。

基於上述，本發明的顯示面板40及其製造方法可以於照射紫外光UV後，產生多個形狀與寬度一致的聚合物牆220’，且聚合物牆220’的寬度小於透明隔離件120的寬度，以解決顯示面板40的混色問題並提升開口率，提升顯示面板40的顯示品質。

綜上所述，本發明的顯示面板及其製造方法，藉由位於彩色濾光元件與顯示介質層之間的聚合物牆定義層或平坦層作為遮光層，可以產生多個形狀與寬度一致的聚合物牆，解決顯示面板的混色問題並改善開口率降低的問題。此外，藉由具有凸出的弧形頂面的透明隔離件，可以產生寬度小於透明隔離件的聚合物牆，提升顯示面板的開口率。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

10、20、30、40：顯示面板 100：彩色濾光元件基板 110：基板 120：透明隔離件 130：彩色濾光元件 140：聚合物牆定義層 142：第一透明電極 142a、146a：導線 142b、146b：電極 144：電致變色層 146：第二透明電極 150：平坦層 200：顯示介質材料層 200’：顯示介質層 210：顯示介質 220：光聚合單體 220’：聚合物牆 300：畫素陣列基板 AA’：線 B：藍色濾光圖案 BM：遮光圖案 D1：方向 DL：資料線 GL：掃描線 G：綠色濾光圖案 O1：第一通孔 O2：第二通孔 P：畫素結構 PE：畫素電極 R：紅色濾光圖案 T：主動元件 UV：紫外光 q：度數

圖1A至圖1E是依照本發明一實施例的一種顯示面板的製造流程示意圖。圖2A是依照本發明一實施例的一種彩色濾光元件基板的部分元件之上視示意圖。圖2B是依照本發明一實施例的一種彩色濾光元件基板的部分元件之上視示意圖。圖2C是依照本發明一實施例的一種彩色濾光元件基板的部分元件之上視示意圖。圖2D是依照本發明一實施例的一種畫素陣列基板的部分元件之上視示意圖。圖3是本發明另一實施例的一種顯示面板的剖面示意圖。圖4是本發明另一實施例的一種顯示面板的剖面示意圖。圖5是本發明另一實施例的一種顯示面板的剖面示意圖。

10：顯示面板 100：彩色濾光元件基板 110：基板 120：透明隔離件 130：彩色濾光元件 140：聚合物牆定義層 142：第一透明電極 144：電致變色層 146：第二透明電極 200’：顯示介質層 210：顯示介質 220：光聚合單體 220’：聚合物牆 300：畫素陣列基板 BM：遮光圖案 D1：方向 UV：紫外光 B：藍色濾光圖案 G：綠色濾光圖案 R：紅色濾光圖案

Claims

一種顯示面板，包括：一畫素陣列基板、一顯示介質層以及一彩色濾光元件基板，該顯示介質層位於該畫素陣列基板與該彩色濾光元件基板之間；以及多個聚合物牆，位於該畫素陣列基板與該彩色濾光元件基板之間，其中該彩色濾光元件基板包括：一基板；一彩色濾光元件，位於該基板上，且包括多個第一通孔；一聚合物牆定義層，位於該彩色濾光元件與該顯示介質層之間，且包括多個第二通孔，該些第二通孔分別與該些第一通孔於垂直該基板的方向上重疊；以及多個透明隔離件，位於該些第一通孔以及該些第二通孔中，且該些聚合物牆與該些透明隔離件於垂直該基板的方向上重疊。
如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該聚合物牆定義層包括：一第一透明電極、一電致變色層以及一第二透明電極，依序堆疊於該彩色濾光元件上。
如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該聚合物牆定義層包括：一電致變色層，位於該彩色濾光元件上；以及一第一透明電極以及一第二透明電極，位於該電致變色層與該彩色濾光元件之間，且該第一透明電極與該第二透明電極互相分離。
如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該些透明隔離件具有朝向該畫素陣列基板凸出的弧形頂面。
如申請專利範圍第4項所述的顯示面板，其中該些聚合物牆的寬度小於該些透明隔離件的寬度。
如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該聚合物牆定義層對一紫外光的穿透率小於10%。
如申請專利範圍第6項所述的顯示面板，其中該紫外光的波長為365奈米。
一種顯示面板的製造方法，包括：形成一彩色濾光元件基板，形成該彩色濾光元件基板的方法包括：提供一基板；形成多個透明隔離件於該基板上；形成一彩色濾光元件於該基板上，該彩色濾光元件包括多個第一通孔；以及形成一聚合物牆定義層於該彩色濾光元件上，該聚合物牆定義層包括多個第二通孔，該些第二通孔與該些第一通孔於垂直該基板的方向上重疊，且該些透明隔離件位於該些第一通孔以及該些第二通孔中；將一畫素陣列基板覆蓋於該彩色濾光元件基板上；形成一顯示介質材料層於該畫素陣列基板與該彩色濾光元件基板之間，該顯示介質材料層包括多個顯示介質以及多個光聚合單體；對該彩色濾光元件基板照射一紫外光，該紫外光穿過該些透明隔離件，並使該些光聚合單體聚合成多個聚合物牆，其中該些聚合物牆與該些透明隔離件於垂直該基板的方向上重疊。
如申請專利範圍第8項所述的顯示面板的製造方法，其中形成該聚合物牆定義層的方法包括：依序形成一第一透明電極、一電致變色層以及一第二透明電極於該彩色濾光元件上。
如申請專利範圍第8項所述的顯示面板的製造方法，其中形成該聚合物牆定義層的方法包括：形成一第一透明電極以及一第二透明電極於該彩色濾光元件上，且該第一透明電極與該第二透明電極互相分離；以及形成一電致變色層於該彩色濾光元件上，該第一透明電極與該第二透明電極位於該電致變色層與該彩色濾光元件之間。
如申請專利範圍第8項所述的顯示面板的製造方法，其中該些透明隔離件具有朝向該畫素陣列基板凸出的弧形頂面。
如申請專利範圍第11項所述的顯示面板的製造方法，其中該些聚合物牆的寬度小於該些透明隔離件的寬度。
如申請專利範圍第8項所述的顯示面板的製造方法，其中該紫外光的波長為365奈米。
如申請專利範圍第8項所述的顯示面板的製造方法，其中該聚合物牆定義層對該紫外光的穿透率小於10%。