TWI685640B - 光學同調斷層掃描裝置及其光學干涉儀 - Google Patents

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TWI685640B
TWI685640B TW107147146A TW107147146A TWI685640B TW I685640 B TWI685640 B TW I685640B TW 107147146 A TW107147146 A TW 107147146A TW 107147146 A TW107147146 A TW 107147146A TW I685640 B TWI685640 B TW I685640B
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李源欽
張庭瑋
張啟伸
王淇霖
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財團法人工業技術研究院
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一種光學干涉儀,包含分光模組以及光學感測器。分光模組包含透鏡組以及第一分光稜鏡。第一分光稜鏡設置於透鏡組的樣品側,並且第一分光稜鏡具有入光面、分光面、取樣面以及反射面。入光面與透鏡組的光軸正交。分光面與入光面之間夾銳角。取樣面與入光面平行。反射面與入光面正交,且入光面較取樣面靠近透鏡組。光學感測器設置於透鏡組的訊號接收側。分光面上的分光位置與反射面之間具有參考光臂。分光位置與取樣面之間具有取樣光臂,且參考光臂大於取樣光臂。

Description

光學同調斷層掃描裝置及其光學干涉儀
本發明係關於一種光學干涉儀,特別是一種包含分光稜鏡的光學干涉儀以及具有此光學干涉儀的光學同調斷層掃描裝置。
光學同調斷層掃描術(Optical coherence tomography,OCT)是一種光學成像技術,此技術是測量光進入物質或生物組織後所產生的散射光而得到組織影像。與現有的非侵入式測量技術(如超音波)比較,光學同調斷層掃描術具有優異的空間解析度,可得到清楚的組織影像資訊。現有的OCT主要構築於麥克森干涉儀(Michelson interferometer)。經過分光片之後,用來干涉的兩道光分別經過參考光臂(reference arm)和取樣光臂(sample arm)後於光偵測器處產生干涉。參考光為經由平面鏡反射之光束,而取樣光則是光打入樣品的某一深度的待掃描截面後反射回來的光束。光學同調斷層掃描術已用在不同的醫學領域之中,如眼科,口腔外科,牙科,腸胃科(配合內視鏡)等等。
然而,在現有的光學同調斷層掃描裝置中,光學干涉儀需要在分光片的其中一側設置聚焦透鏡以及反射鏡以形成參考光臂,並且在分光片的的另一側設置另一個聚焦透鏡以及擺放樣品以形成取樣光臂,導致光學干涉儀的體積不易縮小,進而不利於光學同調斷層掃描裝置的小型化以及可攜式發展。此外,由於需要搭載多個聚焦透鏡,使得光學干涉儀內部的元件數量過多,因此製造成本也比較高。
鑒於以上的問題,本發明揭露一種光學干涉儀以及光學同調 斷層掃描裝置,有助於解決現有光學干涉儀的體積難以縮小以及製造成本高的問題。
本發明所揭露的光學干涉儀包含一分光模組以及一光學感測器。分光模組包含一透鏡組以及一第一分光稜鏡。第一分光稜鏡設置於透鏡組的一樣品側,並且第一分光稜鏡具有一入光面、一分光面、一取樣面以及一反射面。入光面與透鏡組的一光軸正交。分光面與入光面之間夾銳角。取樣面與入光面平行。反射面與入光面正交,且入光面較取樣面靠近透鏡組。光學感測器設置於透鏡組的一訊號接收側。分光面上的一分光位置與反射面之間具有一參考光臂。分光位置與取樣面之間具有一取樣光臂,且參考光臂的長度大於取樣光臂的長度。
本發明另揭露的光學干涉儀包含一分光模組、一折射率匹配元件以及一光學感測器。分光模組包含一第一分光稜鏡、一透鏡組以及一第二分光稜鏡。第一分光稜鏡具有一入光面、一分光面、一取樣面以及一反射面。分光面與入光面之間夾銳角,取樣面與入光面平行,且反射面與入光面正交。透鏡組包含沿著透鏡組的一光軸設置的一聚焦物鏡以及一鏡筒透鏡。第一分光稜鏡的入光面面向聚焦物鏡並且與透鏡組的光軸正交。鏡筒透鏡設置於聚焦物鏡與第二分光稜鏡之間。第一分光稜鏡設置於折射率匹配元件與聚焦物鏡之間。第二分光稜鏡設置於光學感測器與鏡筒透鏡之間。
本發明所揭露的光學同調斷層掃描裝置包含前述的光學干涉儀。
根據本發明所揭露的光學干涉儀以及光學同調斷層掃描裝置,第一分光稜鏡之分光面上的分光位置與反射面之間具有一參考光臂,並且分光位置與取樣面之間具有一取樣光臂,其中參考光臂的長度大於取樣光臂的長度。藉此,參考光臂與取樣光臂都位於同一個分光稜鏡中,並且參考光臂與取樣光臂共用同一個透鏡組,而有助於減少光學干涉儀的元 件數量,以縮小光學干涉儀的體積同時降低製造成本。
以上之關於本揭露內容之說明及以下之實施方式之說明係用以示範與解釋本發明之精神與原理,並且提供本發明之專利申請範圍更進一步之解釋。
1、1a、1b、3、4‧‧‧光學干涉儀
2‧‧‧光學同調斷層掃描裝置
10‧‧‧光源
20‧‧‧分光模組
210‧‧‧透鏡組
211‧‧‧訊號接收側
212‧‧‧樣品側
213‧‧‧聚焦物鏡
214‧‧‧鏡筒透鏡
220‧‧‧第一分光稜鏡
220a‧‧‧三角稜鏡部分
220b‧‧‧梯形稜鏡部分
221‧‧‧入光面
222‧‧‧分光面
223‧‧‧取樣面
224‧‧‧反射面
230‧‧‧第二分光稜鏡
30‧‧‧光學感測器
40‧‧‧光纖
410‧‧‧出射端面
50‧‧‧折射率匹配元件
60‧‧‧保護玻璃
FP1、FP2‧‧‧焦平面
H1‧‧‧高度
H2‧‧‧厚度
L‧‧‧光軸
L1‧‧‧參考光臂
L2‧‧‧取樣光臂
P‧‧‧分光位置
S‧‧‧待測樣品
S1‧‧‧干涉面
n1‧‧‧第一分光稜鏡的折射率
n2‧‧‧折射率匹配元件的折射率
n3‧‧‧待測樣品的折射率
T1‧‧‧分光面與反射面的距離
T2‧‧‧折射率匹配元件的厚度
T3‧‧‧待測樣品的掃描深度
BLS‧‧‧理論取樣光後焦距
BLR‧‧‧理論參考光後焦距
BFL‧‧‧實際後焦距
OP1、OP2、OP3、OP4、OP5、OP6、OP7‧‧‧光路
圖1為根據本發明一實施例之光學干涉儀的示意圖。
圖2為圖1之光學干涉儀之分光稜鏡的示意圖。
圖3為使用圖1之光學干涉儀掃描待測樣品的示意圖。
圖4為圖3之光學干涉儀掃描待測樣品的局部放大示意圖。
圖5為根據本發明一實施例之光學干涉儀搭載於光學同調斷層掃描裝置的示意圖。
圖6為根據本發明一實施例之光學干涉儀中透鏡組與光學感測器之間具有理論參考光後焦距的示意圖。
圖7為根據本發明一實施例之光學干涉儀中透鏡組與光學感測器之間具有理論取樣光後焦距的示意圖。
圖8為圖3之光學干涉儀掃描待測樣品的光路示意圖。
圖9為根據本發明另一實施例之光學干涉儀的示意圖。
圖10為根據本發明又另一實施例之光學干涉儀的示意圖。
以下在實施方式中詳細敘述本發明之詳細特徵以及優點,其內容足以使任何熟習相關技藝者瞭解本發明之技術內容並據以實施,且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式,任何熟習相關技藝者可輕易地理解本發明相關之目的及優點。以下之實施例進一步詳細說明本發明之觀點,但非以任何觀點限制本發明之範疇。
根據本發明的一實施例,光學干涉儀1包含一分光模組20 以及一光學感測器30。請一併參照圖1與圖2,其中圖1為根據本發明一實施例之光學干涉儀1的示意圖。圖2為圖1之光學干涉儀1之分光稜鏡220的示意圖。光學干涉儀1例如但不限於是麥克森干涉儀,其包含一光源10、一分光模組20以及一光學感測器30。
光源10例如但不限於是近紅外光燈,其波長範圍約為700.0奈米至1300.0奈米。分光模組20包含一透鏡組210以及一第一分光稜鏡220。透鏡組210包含一個或複數個透鏡,並且透鏡組210具有相對的一訊號接收側211以及一樣品側212。
如圖1所示,第一分光稜鏡220設置於透鏡組210的樣品側212。如圖2所示,第一分光稜鏡220具有一入光面221、一分光面222、一取樣面223以及一反射面224。入光面221與透鏡組210的一光軸L正交。分光面222與入光面221之間夾銳角。取樣面223與入光面221平行,反射面224與入光面221正交,且入光面221較取樣面223靠近透鏡組210。
如圖1所示,光學感測器30例如但不限於是互補式金屬氧化物半導體(CMOS)或感光耦合元件(CCD),其設置於透鏡組210的一訊號接收側211。光學感測器30可接收由透鏡組210之樣品側212行經透鏡組210而傳遞至訊號接收側211的光線。
根據本發明的一實施例,如圖2所示,第一分光稜鏡220包含相連的一三角稜鏡部分220a以及一梯形稜鏡部分220b。三角稜鏡部分220a與梯形稜鏡部分220b共同形成分光面222,且三角稜鏡部分220a的底面以及梯形稜鏡部分220b的腰面互相貼合。三角稜鏡部分220a具有取樣面223,且梯形稜鏡部分220b具有入光面221以及反射面224。進一步來說,入光面221是梯形稜鏡部分220b的下底面,反射面224是梯形稜鏡部分220b的高面,並且取樣面223是三角稜鏡部分220a的其中一個側邊面。入光面221的高度H1大於第一分光稜鏡220的厚度H2,並且分光面222與反射面224的距離T1與厚度H2的總合等於高度 H1(T1+H2=H1)。分光面222與反射面224例如塗布有銀膜等高光反射率之塗層。於圖2中,稜鏡部分220a、220b的幾何形狀並非用以限制本發明。在其他實施例中,只要滿足條件式T1+H2=H1,則稜鏡部分的形狀可以任意選擇。
根據本發明的一實施例,第一分光稜鏡220的一參考光臂L1的長度大於一取樣光臂L2的長度。如圖2所示,第一分光稜鏡220的分光面222上的一分光位置P為自入光面221入射至第一分光稜鏡220內的一束光線分成二束的位置處。當光線抵達分光位置P時,部分光線被分光面222反射而朝向反射面224前進,部分光線則穿透分光面222而朝向取樣面223前進。分光位置P與反射面224之間具有一參考光臂L1,分光位置P與取樣面223之間具有一取樣光臂L2,並且參考光臂L1大於取樣光臂L2(L1>L2)。分光位置P可為分光面222上的任何一點,皆滿足參考光臂L1大於取樣光臂L2的條件。
根據本發明的一實施例,第一分光稜鏡220的材質係選自由S-FPL53光學玻璃、石英、S-FSL5光學玻璃和bk7光學玻璃所組成之群組。較佳地,第一分光稜鏡220的材質為S-FPL53光學玻璃,能得到較佳的斯特列爾比(Strehl ratio)以達到光強度分布均勻的需求,進而有助於產生高品質的干涉影像。
根據本發明的一實施例,分光模組20更包含一第二分光稜鏡230。如圖1所示,分光模組20的透鏡組210包含具有聚焦功能的透鏡或透鏡組,其用以匯聚光線入射至第一分光稜鏡220。此外,分光模組20更包含一第二分光稜鏡230,其設置於透鏡組210與光學感測器30之間,並且透鏡組210位於第一分光稜鏡220與第二分光稜鏡230之間。光源10發出的光線經由一光纖40傳遞至第二分光稜鏡230內。第二分光稜鏡230反射來自光源10的光線,以使反射的光線朝向傳遞透鏡組210。圖1繪示使用光纖40傳遞光線,但本發明並不以此為限。在其他實施例中,匯聚成 束的光線可直接入射至第二分光稜鏡230內。
在圖1中,光學感測器30與光纖40的一出射端面410分別位於第二分光稜鏡230的相異兩側,並且光學感測器30與分光模組20的透鏡組210相對,但本發明並不以此為限。在其他實施例中,光學感測器30與光纖40的位置可以互換。
根據本發明的一實施例,如圖1所示,光學干涉儀1更包含一折射率匹配元件50。分光模組20的第一分光稜鏡220設置於折射率匹配元件50與透鏡組210之間。折射率匹配元件50例如但不限於是氣體、液體或可變形之物體。舉例來說,在一實施例中的折射率匹配元件50可以是填充有甘油、矽油或丙三醇的可透光元件,另一實施例中的折射率匹配元件50可以是空氣介質。
圖3為使用圖1之光學干涉儀掃描待測樣品的示意圖。一待測樣品S置放於分光模組20之透鏡組210的樣品側212,並且折射率匹配元件50介於第一分光稜鏡220與待測樣品S之間。待測樣品S例如但不限於是生物組織,其具有一干涉面S1。干涉面S1可以是生物組織表面或是有一定掃描深度的斷層截面。在圖3中,係繪示待測樣品S之表面下的一定深度的斷層截面為干涉面S1。
請一併參照圖2至圖4,其中圖4為圖3之光學干涉儀掃描待測樣品的局部放大示意圖。光源10產生的光線經由光纖40傳遞而沿著光路OP1入射至第二分光稜鏡230內,並且光線被第二分光稜鏡230反射而朝向透鏡組210前進。被第二分光稜鏡230反射的光線沿著光路OP2行經透鏡組210以及第一分光稜鏡220的入光面221後入射至分光面222的分光位置P上。於分光位置P,光線分成被分光面222反射的參考光(即參考光臂L1)以及穿過分光面222的取樣光(即取樣光臂L2)。參考光沿著光路OP3入射至反射面224。被反射面224反射的參考光沿著光路OP4入射至分光面222而被分光面222反射。經分光面222反射的參考光進一步沿 著光路OP5行經透鏡組210與第二分光稜鏡230,進而被光學感測器30接收。取樣光沿著光路OP6穿過取樣面223以及折射率匹配元件50而入射至待測樣品S的干涉面S1,並且被干涉面S1反射後而沿著光路OP7依序行經折射率匹配元件50、第一分光稜鏡220、透鏡組210與第二分光稜鏡230,進而被光學感測器30接收。光學感測器30可與一計算機裝置(未繪示)連接,並且計算機裝置包含訊號處理模組,其能根據光學感測器30所接收到的參考光與取樣光而得到干涉影像。
根據本發明的一實施例,如圖4所示,第一分光稜鏡220的折射率為n1,折射率匹配元件50的折射率為n2,待測樣品S的折射率為n3,第一分光稜鏡220的分光面222與反射面224的距離為T1,折射率匹配元件50的厚度為T2,待測樣品S的掃描深度為T3(為一範圍),其滿足下列條件:n1×T1=n2×T2+n3×T3。於圖4中,第一分光稜鏡220的分光面222與反射面224的距離T1,係指分光面222最靠近反射面224的側邊與反射面224之間的距離,即分光面222與反射面224之間的最短距離。待測樣品S的掃描深度T3可以等於待測樣品S的厚度,或是依據使用需求決定光學干涉儀1能夠掃描到的待測樣品S之最深的斷層截面。藉此,在設計光學干涉儀1時,一旦確定第一分光稜鏡220的材質以及距離T1後,透過改變折射率匹配元件50的厚度T2,待測樣品S的掃描深度T3會隨其改變,使得待測樣品S的所有斷層截面都能被掃描。可根據產品設計需求與待測樣品S選用適當的折射率匹配元件50,以調整折射率匹配元件50的厚度T2與掃描深度T3。例如,當選用較薄的折射率匹配元件50(T2較小)時,光學干涉儀1會擁有較大的掃描深度T3而得以掃描較厚的待測樣品S。
在圖3中,第一分光稜鏡220與待測樣品S之間設置有折射率匹配元件50,但本發明並不以此為限。在其他實施例中,光學干涉儀1可以不包含折射率匹配元件,並且待測樣品S直接貼附在第一分光稜鏡220 的取樣面223上。
圖5為根據本發明一實施例之光學干涉儀搭載於光學同調斷層掃描裝置的示意圖。根據本發明的一實施例,光學干涉儀1可應用於光學同調斷層掃描裝置2。光學同調斷層掃描裝置2例如但不限於是胃鏡或大腸鏡等內視鏡。
關於光學干涉儀在光學同調斷層掃描裝置的應用,干涉影像的清晰度是一個評判光學同調斷層掃描效果是否良好的重要指標。一般來說,要達到高清晰度的干涉影像,參考光與取樣光兩者於透鏡組之光軸上都必須擁有高斯特列爾比。
圖6為根據本發明一實施例之光學干涉儀中透鏡組與光學感測器之間具有理論參考光後焦距的示意圖。其中,光學干涉儀1a的結構可參考圖1中的光學干涉儀1。光學干涉儀1a之分光模組20的透鏡組210的一焦平面(Focal plane)FP1與第一分光稜鏡220的反射面224重疊,意即通過透鏡組210的光線被分光面222反射後會恰好聚焦於反射面224上。此時,透鏡組210與光學感測器30之間具有一理論參考光後焦距BLR。然而,當透鏡組210與光學感測器30之間的距離等於理論參考光後焦距BLR時,透鏡組210的一焦平面FP2沒有與待測樣品S的干涉面S1重疊,此時參考光於透鏡組210之光軸L上具有趨近1的高斯特列爾比,但取樣光於透鏡組210之光軸L上的斯特列爾比僅有0.8387。斯特列爾比是指繞射點擴散函數(PSF)的峰值強度除以不存在像差時的繞射點擴散函數(PSF)的峰值強度。
圖7為根據本發明一實施例之光學干涉儀中透鏡組與光學感測器之間具有理論取樣光後焦距的示意圖。其中,光學干涉儀1b的結構可參考圖1中的光學干涉儀1。光學干涉儀1b之分光模組20的透鏡組210的一焦平面FP2與待測樣品S的干涉面S1重疊,意即通過透鏡組210的光線在穿過取樣面223後會恰好聚焦於干涉面S1上。此時,透鏡組210 與光學感測器30之間具有一理論取樣光後焦距BLS。然而,當透鏡組210與光學感測器30之間的距離等於理論取樣光後焦距BLS時,透鏡組210的焦平面FP1沒有與第一分光稜鏡220的反射面224重疊,此時取樣光於透鏡組210之光軸L上具有趨近1的高斯特列爾比,但參考光於透鏡組210之光軸L上的斯特列爾比僅有0.8283。
圖8為圖3之光學干涉儀掃描待測樣品的光路示意圖。為了解決上述問題,在本發明一實施例的光學干涉儀1中,透鏡組210與光學感測器30之間具有一實際後焦距(Back focal length)BFL。實際後焦距BFL的數值介於理論取樣光後焦距BLS的數值與理論參考光後焦距BLR的數值之間。藉此,雖然透鏡組210的焦平面FP1、FP2與干涉面S1和反射面224均未重疊,但有助於平衡參考光與取樣光於透鏡組210之光軸L上的斯特列爾比,進而能獲得較佳的干涉影像。在圖8中,取樣光於透鏡組210之光軸L上具有約0.955的斯特列爾比,並且參考光於透鏡組210之光軸L上具有約0.956的斯特列爾比。於圖6至圖8中,係繪示實際後焦距BFL大於理論取樣光後焦距BLS並且小於理論參考光後焦距BLR為例進行說明。在一實施例中,實際後焦距BFL為理論取樣光後焦距BLS與理論參考光後焦距BLR的算數平均值,即滿足下列條件:BFL=(BLS+BLR)/2。此條件下有助於平衡參考光與取樣光於透鏡組210之光軸L上的斯特列爾比,進而能獲得較佳的干涉影像。
圖9為根據本發明另一實施例之光學干涉儀的示意圖。由於圖9的實施例與圖1的實施例相似,故以下就相異處進行說明。在本實施例中,光學干涉儀3不包含折射率匹配元件,而是包含一保護玻璃60。保護玻璃60設置於第一分光稜鏡220遠離透鏡組210之一側。保護玻璃60用以隔離光學干涉儀1與外部環境以防止灰塵汙染,同時避免待測樣品S觸碰到第一分光稜鏡220。此處符合n1×T1=n2×T2+n3×T3+n4×T4關係式,n4是保護玻璃60的折射率,T4是保護玻璃60的厚度。第一分光稜 鏡220的折射率為n1,空氣間隔的折射率為n2,待測樣品S的折射率為n3,第一分光稜鏡220的分光面222與反射面224的距離為T1,空氣間隔的寬度為T2,待測樣品S的掃描深度為T3。
圖10為根據本發明又另一實施例之光學干涉儀的示意圖。由於圖10的實施例與圖1的實施例相似,故以下就相異處進行說明。在本實施例中,光學干涉儀4的分光模組20之透鏡組210包含沿著光軸L設置的一聚焦物鏡(Objective lens)213以及一鏡筒透鏡(Tube lens)214。光學干涉儀4另包含一光源(未繪出)提供光線,光線從第二分光稜鏡230進入。
分光模組20之第一分光稜鏡220的入光面221面向聚焦物鏡213並且與光軸L正交。鏡筒透鏡214設置於聚焦物鏡213與第二分光稜鏡230之間。第一分光稜鏡220設置於折射率匹配元件50與聚焦物鏡213之間,並且第二分光稜鏡230設置於光學感測器30與鏡筒透鏡214之間。
聚焦物鏡213以及鏡筒透鏡214分別為單一透鏡或是包含多個透鏡的光學透鏡組。鏡筒透鏡214用於與聚焦物鏡213搭配使用,以校正聚焦物鏡213的色差與像差,同時擴大聚焦物鏡213的視域(Field of view)。
於本實施例中,第一分光稜鏡220的材質為玻璃,其折射率n1為1.4。折射率匹配元件50為空氣介質,其折射率n2為1.0。待測樣品S的折射率n3為1.4。
根據本發明的一實施例,分光模組20的第一分光稜鏡220可相對透鏡組210沿著光軸L移動。進一步來說,光學干涉儀4可進一步包含一線性移動載台(未繪示)。第一分光稜鏡220承載於線性移動載台上,而能藉由線性移動載台的驅動沿著光軸L相對透鏡組210以及待測樣品S移動。藉此,能透過移動第一分光稜鏡220來調整第一分光稜鏡220與待測樣品S之間的間隙大小以容納不同厚度的折射率匹配元件50,進而透過 改變折射率匹配元件50的厚度T2來改變待測樣品S的掃描深度T3。在其他實施例中,可以是待測樣品S承載於線性移動載台上,而能藉由線性移動載台的驅動使光學干涉儀4掃描待測樣品S的不同斷層截面。
在圖10的具體實施例中,第一分光稜鏡220之分光面222與反射面224的距離T1為0.5公釐(mm)。第一分光稜鏡220設置於線性移動載台上而可於聚焦物鏡213與待測樣品S之間移動。藉由移動第一分光稜鏡220來滿足關係式:n1×T1=n2×T2+n3×T3,折射率匹配元件50的厚度T2有可調整範圍值為0公釐至0.36公釐,進而待測樣品S的掃描深度T3有可調整範圍值為0公釐至0.50公釐。
綜上所述,本發明所揭露的光學干涉儀與光學同調斷層掃描裝置中,第一分光稜鏡之分光面上的分光位置與反射面之間具有一參考光臂,並且分光位置與取樣面之間具有一取樣光臂,其中參考光臂的長度大於取樣光臂的長度。藉此,參考光臂與取樣光臂都位於同一個分光稜鏡中,並且參考光臂與取樣光臂共用同一個透鏡組,而有助於減少光學干涉儀的元件數量,以縮小光學干涉儀的體積,同時降低製造成本。
此外,本發明另揭露的光學干涉儀與光學同調斷層掃描裝置中,透鏡組與光學感測器之間具有實際後焦距,其數值介於理論取樣光後焦距的數值以及理論參考光後焦距的數值之間。藉此,有助於平衡參考光與取樣光於透鏡組之光軸上的斯特列爾比,進而能獲得較佳的干涉影像。
雖然本發明以前述之實施例揭露如上,然而這些實施例並非用以限定本發明。在不脫離本發明之精神和範圍內,所為之更動與潤飾,均屬本發明之專利保護範圍。關於本發明所界定之保護範圍請參考所附之申請專利範圍。
1‧‧‧光學干涉儀
10‧‧‧光源
20‧‧‧分光模組
210‧‧‧透鏡組
211‧‧‧訊號接收側
212‧‧‧樣品側
220‧‧‧第一分光稜鏡
230‧‧‧第二分光稜鏡
30‧‧‧光學感測器
40‧‧‧光纖
50‧‧‧折射率匹配元件
L‧‧‧光軸

Claims (17)

  1. 一種光學干涉儀,包含:一分光模組,包含一透鏡組以及一第一分光稜鏡,該第一分光稜鏡設置於該透鏡組的一樣品側,該第一分光稜鏡具有一入光面、一分光面、一取樣面以及一反射面,該入光面與該透鏡組的一光軸正交,該分光面與該入光面之間夾銳角,該取樣面與該入光面平行,該反射面與該入光面正交,且該入光面較該取樣面靠近該透鏡組;以及一光學感測器,設置於該透鏡組的一訊號接收側;其中,該分光面上的一分光位置與該反射面之間具有一參考光臂,該分光位置與該取樣面之間具有一取樣光臂,且該參考光臂的長度大於該取樣光臂的長度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學干涉儀,其中該分光模組的該第一分光稜鏡可相對該透鏡組沿著該光軸移動。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光學干涉儀,其中該第一分光稜鏡包含相連的一三角稜鏡部分以及一梯形稜鏡部分,該三角稜鏡部分與該梯形稜鏡部分共同形成該分光面,該三角稜鏡部分具有該取樣面,且該梯形稜鏡部分具有該入光面以及該反射面。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光學干涉儀,更包含一折射率匹配元件,其中該第一分光稜鏡設置於該折射率匹配元件與該透鏡組之間。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之光學干涉儀,其中該第一分光稜鏡的折射率為n1,該折射率匹配元件的折射率為n2,一待測樣品的 折射率為n3,該第一分光稜鏡的該分光面與該反射面的距離為T1,該折射率匹配元件的厚度為T2,該待測樣品的一掃描深度為T3,其滿足下列條件:n1×T1=n2×T2+n3×T3。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光學干涉儀,其中該分光模組更包含一第二分光稜鏡,設置於該透鏡組與該光學感測器之間。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之光學干涉儀,其中當該透鏡組的一焦平面與該第一分光稜鏡的該反射面重疊時,該透鏡組與該光學感測器之間具有一理論參考光後焦距;當該透鏡組的該焦平面與一待測樣品的一干涉面重疊時,該透鏡組與該光學感測器之間具有一理論取樣光後焦距,該透鏡組與該光學感測器之間的一實際後焦距的數值介於該理論取樣光後焦距的數值以及該理論參考光後焦距的數值之間。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學干涉儀,其中該實際後焦距為該理論取樣光後焦距與該理論參考光後焦距的算數平均值。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之光學干涉儀,其中該光學干涉儀為麥克森干涉儀(Michelson interferometer)。
  10. 一種光學干涉儀,包含:一分光模組,包含:一第一分光稜鏡,具有一入光面、一分光面、一取樣面以及一反射面,該分光面與該入光面之間夾銳角,該取樣面與該入光面平行,且該反射面與該入光面正交; 一透鏡組,包含沿著該透鏡組的一光軸設置的一聚焦物鏡以及一鏡筒透鏡,該第一分光稜鏡的該入光面面向該聚焦物鏡並且與該透鏡組的該光軸正交;以及一第二分光稜鏡,其中該鏡筒透鏡設置於該聚焦物鏡與該第二分光稜鏡之間;一折射率匹配元件,其中該第一分光稜鏡設置於該折射率匹配元件與該聚焦物鏡之間;以及一光學感測器,其中該第二分光稜鏡設置於該光學感測器與該鏡筒透鏡之間。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之光學干涉儀,其中當該透鏡組的一焦平面與該第一分光稜鏡的該反射面重疊時,該透鏡組與該光學感測器之間具有一理論參考光後焦距;當該透鏡組的該焦平面與一待測樣品的一干涉面重疊時,該透鏡組與該光學感測器之間具有一理論取樣光後焦距,該透鏡組與該光學感測器之間的一實際後焦距的數值介於該理論取樣光後焦距的數值以及該理論參考光後焦距的數值之間。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之光學干涉儀,其中該分光面上的一分光位置與該反射面之間具有一參考光臂,該分光位置與該取樣面之間具有一取樣光臂,且該參考光臂的長度大於該取樣光臂的長度。
  13. 如申請專利範圍第10項所述之光學干涉儀,其中該分光模組的該第一分光稜鏡可相對該透鏡組沿著該光軸移動。
  14. 如申請專利範圍第10項所述之光學干涉儀,其中該第一分光稜鏡包含相連的一三角稜鏡部分以及一梯形稜鏡部分,該三角稜鏡部 分與該梯形稜鏡部分共同形成該分光面,該三角稜鏡部分具有該取樣面,且該梯形稜鏡部分具有該入光面以及該反射面。
  15. 如申請專利範圍第10項所述之光學干涉儀,其中該聚焦物鏡以及該鏡筒透鏡分別為單一透鏡或是包含多個透鏡的光學透鏡組。
  16. 如申請專利範圍第10項所述之光學干涉儀,其中該光學干涉儀為麥克森干涉儀。
  17. 一種光學同調斷層掃描裝置,包含如請求項1至16中任一項所述的光學干涉儀。
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