TWI683248B - 觸控面板及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種觸控面板及其製造方法。觸控面板包括濾光元件基板、金屬網格以及導電膜。金屬網格位於濾光元件基板上。金屬網格具有多個開口。導電膜位於濾光元件基板上以及金屬網格上。導電膜位於開口中。位於開口中之部分導電膜的厚度大於位於金屬網格上之部分導電膜的厚度。

Description

觸控面板及其製造方法
本發明是有關於一種觸控面板，且特別是有關於一種具有金屬網格的觸控面板及其製造方法。
隨著科技的進展，觸控面板在市面上的出現率逐漸增加，且各種有關的技術也層出不窮。在許多個人用電子裝置（例如手機、平板電腦或智慧型手錶）中，常會將觸控面板與顯示裝置結合在一起。一般而言，會將觸控面板貼於顯示裝置靠近使用者的一側，使觸控裝置中的導電結構能較佳的偵測到使用者觸控的位置。然而，觸控面板中的導電結構會遮擋顯示裝置的影像，使得顯示裝置的穿透率下降，此外，觸控面板中的導電結構還會反射外界的光線，影響顯示裝置的顯示品質。
本發明提供一種觸控面板，可以改善觸控面板影響顯示裝置之顯示品質的問題。
本發明提供一種觸控面板的製造方法，可以改善觸控面板影響顯示裝置之顯示品質的問題。
本發明的至少一實施例提供一種觸控面板包括濾光元件基板、金屬網格以及導電膜。金屬網格位於濾光元件基板上。金屬網格具有多個開口。導電膜位於濾光元件基板上以及金屬網格上。導電膜位於開口中。位於開口中之部分導電膜的厚度大於位於金屬網格上之部分導電膜的厚度。
本發明的至少一實施例提供一種觸控面板的製造方法，包括：提供一濾光元件基板；形成第一透明導電層於濾光元件基板上；形成金屬網格於濾光元件基板上，且金屬網格具有多個開口，第一透明導電層位於開口中；形成第二透明導電層於金屬網格上以及開口中，其中位於開口中的部分第二透明導電層與第一透明導電層堆疊在一起且彼此接觸，且位於金屬網格上之部分第二透明導電層的厚度小於位於開口中之部分第二透明導電層的厚度加上第一透明導電層的厚度。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1A~圖1C是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的製造方法的剖面示意圖。
請參考圖1A，提供濾光元件基板100。形成第一透明導電層112於濾光元件基板100上。第一透明導電層112包括多個開孔O。第一透明導電層112為金屬氧化物，例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、銦鎵鋅氧化物或其他透明導電材料。
在本實施例中，黑矩陣120位於濾光元件基板100下方。黑矩陣120與第一透明導電層112分別位於濾光元件基板100的相對兩側。黑矩陣120具有多個開口C。
請參考圖1B，形成金屬網格130於濾光元件基板100上，且金屬網格130具有多個開口H。第一透明導電層112位於開口H中。金屬網格130至少部分位於第一透明導電層112的開孔O中。開孔O的寬度W1大於或等於金屬網格130的線寬W2。在本實施例中，開孔O的寬度W1等於金屬網格130的線寬W2。黑矩陣120的線寬W3大於或等於金屬網格130的線寬W2。在本實施例中，黑矩陣120的線寬W3等於金屬網格130的線寬W2。在圖1B中，黑矩陣120於垂直濾光元件基板100的方向d1上重疊於金屬網格130，藉此能避免顯示裝置之光源所發出光線被金屬網格130的底面B反射。然而，本發明並未限制整個金屬網格130皆與黑矩陣120重疊。在一些實施例中，部分金屬網格130與黑矩陣120重疊，且部分金屬網格130與黑矩陣120不重疊。
請參考圖1C，形成第二透明導電層114於金屬網格130的頂面T上以及開口H中，第一透明導電層112與第二透明導電層114構成導電膜110。在本實施例中，由於金屬網格130至少部分位於第一透明導電層112的開孔O中，金屬網格130的頂面T與第一透明導電層112的頂面之間的斷差較小，可以提高形成第二透明導電層114時的製程良率。
導電膜110位於濾光元件基板上100以及金屬網格130上，且位於金屬網格130的開口H中。位於開口H中的部分第二透明導電層114與第一透明導電層130堆疊在一起且彼此接觸，且位於金屬網格130上之部分第二透明導電層114的厚度t2小於位於開口H中之部分第二透明導電層114的厚度t1加上第一透明導電層112的厚度t3。換句話說，位於開口H中之部分導電膜110的厚度T1大於位於金屬網格130上之部分導電膜110的厚度T2。在本實施例中，厚度t2實質上等於厚度t1。
在本實施例中，觸控面板10用於顯示裝置中。金屬網格130相較於濾光元件基板100更靠近使用者，且濾光元件基板100相較於金屬網格130更靠近顯示裝置之光源。外界的光線會先穿過導電膜110的厚度T2的部分（第二透明導電層114），才會被金屬網格130反射。顯示裝置發出之光線會由黑矩陣120的開口C穿過濾光元件基板100，並穿過導電膜110具有厚度T1的部分（包括重疊在一起的第一透明導電層112以及第二透明導電層114）。
在本實施例中，導電膜110具有厚度T1的部分相較於導電膜110的厚度T2的部分具有較高的穿透率。因此，除了能改善金屬網格130反射的光線影響顯示品質的問題，還可以使顯示裝置光源所發出的光線比較不容易被導電膜110所干擾，進而提升顯示裝置的顯示品質。此外，相較於只用金屬網格130做為觸控電極，金屬網格130加上導電膜110用做觸控電極具有較低的電阻，且能提升電場的均勻性。
在一些實施例中，第一透明導電層112與第二透明導電層114具有相同的材料（例如為銦錫氧化物），因此第一透明導電層112與第二透明導電層114之間的界面不明顯。
在一些實施例中，位於開口H中之部分第二透明導電層114的厚度t1加上第一透明導電層112的厚度t3為1000~1400埃。換句話說，位於開口H中之部分導電膜110的厚度T1為1000~1400埃。藉此，能進一步提升位於開口H中之部分導電膜110的穿透率（例如大於85%）。
在一些實施例中，第二透明導電層114的厚度t2為400~700埃。換句話說，位於金屬網格130上之部分導電膜110的厚度T2為400~700埃。藉此，能進一步改善金屬網格130反射外界光線的問題。
圖2是依照本發明的一實施例的一種金屬網格的上視示意圖。在此必須說明的是，圖2的實施例沿用圖1A~圖1C的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，在此不贅述。
在本實施例中，金屬網格130的開口H為矩形，但本發明不以此為限。在其他實施例中，金屬網格130的開口H為三角形、圓形、橢圓形、五邊形、六邊形或其他幾何圖形，本發明並未特別限制開口H形狀。
圖3是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的剖面示意圖。在此必須說明的是，圖3的實施例沿用圖1A~圖1C的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，在此不贅述。
請參考圖3，在本實施例中，觸控面板10a之第一透明導電層112的開孔O的寬度W1大於金屬網格130的線寬W2。因此，金屬網格130具有較大的製程裕度。
在本實施例中，部分第二透明導電層114填入第一透明導電層112與金屬網格130之間的間隙。換句話說，部分第二透明導電層114填入開孔O中。
圖4是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的剖面示意圖。在此必須說明的是，圖4的實施例沿用圖1A~圖1C的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，在此不贅述。
請參考圖4，觸控面板10b之黑矩陣120於垂直濾光元件基板100的方向d1上不重疊於金屬網格130。然而，本發明並未限制整個金屬網格130皆不重疊於黑矩陣120。在一些實施例中，部分金屬網格130於垂直濾光元件基板100的方向d1上與黑矩陣120重疊，且部分金屬網格130於垂直濾光元件基板100的方向d1上與黑矩陣120不重疊。
在本實施例中，導電膜110具有厚度T1的部分相較於導電膜110的厚度T2的部分具有較高的穿透率。因此，除了能改善金屬網格130反射的光線影響顯示品質的問題，還可以使顯示裝置光源所發出的光線比較不容易被導電膜110所干擾，進而提升顯示裝置的顯示品質。此外，相較於只用金屬網格130做為觸控電極，金屬網格130加上導電膜110用做觸控電極具有較低的電阻，且能提升電場的均勻性。
圖5是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的剖面示意圖。在此必須說明的是，圖5的實施例沿用圖4的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，在此不贅述。
請參考圖5，觸控面板10c之導電膜110覆蓋金屬網格130的頂面T以及底面B。覆蓋金屬網格130的頂面T之部分導電膜110的厚度t2實質上等於覆蓋金屬網格130的底面B之部分導電膜110的厚度t3。在本實施例中，導電膜110包括第一透明導電層112與第二透明導電層114，第一透明導電層112位於金屬網格130與濾光元件基板110之間。換句話說，第一透明導電層112覆蓋金屬網格130的底面B。在本實施例中，第一透明導電層112的厚度t3為500~700埃。第二透明導電層114覆蓋金屬網格130的頂面T。在本實施例中，第二透明導電層114的厚度t2（以及厚度t1）為500~700埃。在本實施例中，第一透明導電層112的厚度t3實質上等於第二透明導電層114的厚度t2，藉此能使製程參數較容易控制。
在本實施例中，由於第一透明導電層112覆蓋金屬網格130的底面B，顯示裝置之光源所發出光線比較不容易被金屬網格130的底面B反射，藉此提升顯示裝置的顯示品質。
圖6是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的剖面示意圖。在此必須說明的是，圖6的實施例沿用圖1A~圖1C的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，在此不贅述。
請參考圖6，觸控面板10d為觸控式顯示裝置。觸控面板10d例如包括背光模組300、畫素陣列基板200、第一偏光片210、顯示介質L、濾光元件基板100、導電膜110、黑矩陣120、金屬網格130、濾光層140、覆蓋層150、第二偏光片160、膠層170以及蓋板400。
第一偏光片210位於畫素陣列基板200上，且位於畫素陣列基板200與背光模組300之間。顯示介質L位於畫素陣列基板200與濾光元件基板100之間。濾光層140位於濾光元件基板100上，且包括紅色濾光元件r、綠色濾光元件g以及藍色濾光元件b。在一些實施例中，黑矩陣120位於不同顏色的濾光元件之間。
金屬網格130位於濾光元件基板100上，且與黑矩陣120分別位於濾光元件基板100的相對兩側。
導電膜110包括第一透明導電層112以及第二透明導電層114。第一透明導電層112位於金屬網格130的開口H中。第二透明導電層114位於金屬網格130上以及開口H中，其中位於開口H中的部分第二透明導電層114與第一透明導電層112堆疊在一起且彼此接觸。
覆蓋層150位於導電膜110上。第二偏光片160位於覆蓋層150上。膠層170位於第二偏光片160與蓋板400之間。導電膜110位於第二偏光片160與濾光元件基板100之間。
在本實施例中，背光模組300所發出之光可以穿過黑矩陣120的開口C。在本實施例中，開口C上方對應之導電膜110的厚度T1較厚（例如1000~1400埃），具有較佳的穿透率，因此，背光模組300所發出之光比較不容易被導電膜110損耗，能提升觸控式顯示裝置的顯示品質。
在本實施例中，導電膜110具有厚度T1的部分相較於導電膜110的厚度T2（例如400~700埃）的部分具有較高的穿透率。因此，除了能改善金屬網格130反射的光線影響顯示品質的問題，還可以使背光模組300所發出的光線比較不容易被導電膜110所干擾，進而提升觸控式顯示裝置的顯示品質。此外，相較於只用金屬網格130做為觸控電極，金屬網格130加上導電膜110用做觸控電極具有較低的電阻，且能提升電場的均勻性。
綜上所述，本發明除了能改善金屬網格反射的光線影響顯示品質的問題，還可以使顯示裝置光源所發出的光線比較不容易被導電膜所干擾，進而提升顯示裝置的顯示品質。此外，相較於只用金屬網格做為觸控電極，金屬網格加上導電膜用做觸控電極具有較低的電阻，且能提升電場的均勻性。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10、10a、10b、10c、10d‧‧‧觸控面板
100‧‧‧濾光元件基板
110‧‧‧導電膜
112‧‧‧第一透明導電層
114‧‧‧第二透明導電層
120‧‧‧黑矩陣
130‧‧‧金屬網格
140‧‧‧濾光層
150‧‧‧覆蓋層
160‧‧‧第二偏光片
170‧‧‧膠層
200‧‧‧畫素陣列基板
210‧‧‧第一偏光片
300‧‧‧背光模組
400‧‧‧蓋板
B‧‧‧底面
b‧‧‧藍色濾光元件
C、H‧‧‧開口
d1‧‧‧方向
g‧‧‧紅色濾光元件
L‧‧‧顯示介質
O‧‧‧開孔
r‧‧‧綠色濾光元件
T‧‧‧頂面
t1、t2、t3、T1、T2‧‧‧厚度
W1‧‧‧寬度
W2、W3‧‧‧線寬
圖1A~圖1C是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的製造方法的剖面示意圖。 圖2是依照本發明的一實施例的一種金屬網格的上視示意圖。 圖3是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的剖面示意圖。 圖4是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的剖面示意圖。 圖5是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的剖面示意圖。 圖6是依照本發明的一實施例的一種觸控面板的剖面示意圖。
10‧‧‧觸控面板
100‧‧‧濾光元件基板
110‧‧‧導電膜
112‧‧‧第一透明導電層
114‧‧‧第二透明導電層
120‧‧‧黑矩陣
130‧‧‧金屬網格
B‧‧‧底面
C、H‧‧‧開口
O‧‧‧開孔
T‧‧‧頂面
t1、t2、t3、T1、T2‧‧‧厚度

Claims (11)

  1. 一種觸控面板，包括：一濾光元件基板；一金屬網格，位於該濾光元件基板上，且該金屬網格具有多個開口；以及一導電膜，位於該濾光元件基板上以及該金屬網格上，且位於該些開口中，其中位於該些開口中之部分該導電膜的厚度大於位於該金屬網格上之部分該導電膜的厚度，該導電膜包括：一第一透明導電層，位於該些開口中；以及一第二透明導電層，位於該金屬網格上以及該些開口中，其中位於該些開口中的部分該第二透明導電層與該第一透明導電層堆疊在一起且彼此接觸。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的觸控面板，其中該第一透明導電層包括多個開孔，該金屬網格至少部分位於該些開孔中，且該些開孔的寬度大於或等於該金屬網格的線寬。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的觸控面板，其中該第一透明導電層位於該金屬網格與該濾光元件基板之間。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的觸控面板，其中該導電膜覆蓋該金屬網格的頂面以及底面，覆蓋該金屬網格的頂面之部分該導電膜的厚度實質上等於覆蓋該金屬網格的底面之部分該導電膜的厚度。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的觸控面板，其中位於該些開口中之部分該導電膜的厚度為1000~1400埃。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的觸控面板，其中位於該金屬網格上之部分該導電膜的厚度為400~700埃。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的觸控面板，更包括一黑矩陣，位於該濾光元件基板下方，且該黑矩陣的線寬大於或等於該金屬網格的線寬。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的觸控面板，更包括一偏光片，該導電膜位於該偏光片與該濾光元件基板之間。
  9. 一種觸控面板的製造方法，包括：提供一濾光元件基板；形成一第一透明導電層於該濾光元件基板上；形成一金屬網格於該濾光元件基板上，且該金屬網格具有多個開口，該第一透明導電層位於該些開口中；形成一第二透明導電層於該金屬網格上以及該些開口中，其中位於該些開口中的部分該第二透明導電層與該第一透明導電層堆疊在一起且彼此接觸，且位於該金屬網格上之部分該第二透明導電層的厚度小於位於該些開口中之部分該第二透明導電層的厚度加上該第一透明導電層的厚度。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的製造方法，其中位於該些開口中之部分該第二透明導電層的厚度加上該第一透明導電層的厚度為1000~1400埃。
  11. 如申請專利範圍第9項所述的製造方法，其中該第二透明導電層的厚度為400~700埃。
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