TWI677166B - 密封切換的磁阻馬達 - Google Patents

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TWI677166B
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傑羅 摩拉
Jairo Terra Moura
傑亞拉曼 克利許納斯美
Jayaraman Krishnasamy
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美商布魯克斯自動機械公司
Brooks Automation, Inc.
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Abstract

一種馬達，包括一密封式轉子，其具有至少一凸出的轉子極；及一定子，其包含至少一凸出的定子極，凸出的定子極具有一與之相關聯的勵磁繞組(excitation winding)並與至少一凸出的轉子極(salient rotor pole)形成界面，以達成至少一凸出的定子極及至少一凸出的轉子極之間的軸向磁通迴路。

Description

密封切換的磁阻馬達 交互參考相關申請案
本申請案係非暫時性並且主張2013年11月13日提出之美國專利暫時申請案第61/903,792號，其全文以引用方式併入本文。
示範性實施例大致關於使用在真空或腐蝕性環境中之馬達，例如在基板處理裝置中。
大抵上，使用在像是半導體製造應用中之馬達通常建構成無刷直流馬達。用於這些應用的馬達大致包括一由永久磁鐵與稀土元素併合之構件。必須有特殊器材將永久磁鐵結合轉子。現有之直接驅動技術，例如使用永久磁鐵馬達供作動及使用光學編碼器供位置感應，當直接驅動器之磁鐵、結合組件、密封件及腐蝕性材料曝露於超高真空及/或侵蝕性環境時，其即受到相當限制。為了適用於腐蝕性或高真空環境中，永久磁鐵通常必須囊裝且密封以避免磁鐵老化。
針對諸應用之定子通常由疊層狀鐵磁性材料與複雜長孔形、多相位、及重疊之線圈構成。習知疊層狀定子之構造需要多個複雜之製程步驟，以確保正確組裝、疊接、線圈繞組安裝及正確加工皆符合緊密之容差。
在此有利地提供一適於真空、耐腐蝕、非疊層式、及不使用稀土元素之轉子。同時有利地使用一具有簡化構造之非疊層式定子。再有利地提供一具有較短磁通路徑之馬達，其產生較少渦電流及鐵損，並且提供較高轉矩能力。
12‧‧‧界面段
15‧‧‧輸送臂
18B‧‧‧輸送室模組
18i‧‧‧輸送室模組
26B‧‧‧輸送裝置
26i‧‧‧輸送裝置
30i‧‧‧工作件站
30S1、30S2‧‧‧工作件支撐件/擱架
56、56A‧‧‧真空傳送室模組
56S1、56S2‧‧‧工作件支撐件/擱架
100‧‧‧轉子
105‧‧‧凸出的轉子極
200‧‧‧定子
205‧‧‧凸出的定子極
400‧‧‧線圈元件
410‧‧‧處理工具
412‧‧‧入口/出口站
416‧‧‧輸送室
600‧‧‧總成
700‧‧‧實心轉子
705‧‧‧極
710‧‧‧轉子主體
715‧‧‧轉子
720‧‧‧非鐵磁性鐵心
725‧‧‧凸出的轉子極
730‧‧‧轉子
735‧‧‧梳形極
740‧‧‧凹槽
820‧‧‧(非磁性)隔離壁
1000‧‧‧軸向磁通馬達
1005‧‧‧定子
1010‧‧‧定子模組
11011‧‧‧對準機
1013‧‧‧轉移自動機械
1014‧‧‧轉移自動機械
1015‧‧‧定子極
1020‧‧‧獨立相位繞組
1025‧‧‧端部構件
1030‧‧‧端部構件
1035‧‧‧連接構件
11030‧‧‧處理站
11040‧‧‧裝載孔
11050‧‧‧基板匣
11060‧‧‧迷你型潔淨室
11090‧‧‧工具站
11091‧‧‧控制器
1100‧‧‧箭號
11000‧‧‧前端部
11005‧‧‧裝載孔模組
11010‧‧‧(真空)傳送室
11020‧‧‧(真空)後端部
11025‧‧‧輸送室
1201‧‧‧轉子極
1202‧‧‧轉子極
1205‧‧‧轉子極
1305‧‧‧3極式轉子
1310‧‧‧4極式定子
1315‧‧‧單一定子模組
1405‧‧‧定子極
1410‧‧‧圓形截面部分
1510‧‧‧定子模組
1515‧‧‧轉子
1520‧‧‧隔離壁
1520’‧‧‧密封部
1525‧‧‧定子極
1530‧‧‧延伸構件
1535‧‧‧延伸構件
1600‧‧‧軸向磁通機器
1605‧‧‧定子
1610‧‧‧獨立定子模組
1615‧‧‧定子
1620‧‧‧定子極
1625‧‧‧獨立相位繞組
1630‧‧‧凸出的轉子極
1635‧‧‧端部構件
1640‧‧‧端部構件
1700‧‧‧轉子
1710‧‧‧凸出的轉子極
1715‧‧‧轉子
1720‧‧‧襯裏
1725‧‧‧端部構件
1730‧‧‧端部構件
1805‧‧‧定子繞組
2000‧‧‧馬達
2005‧‧‧自動機械驅動器
2010‧‧‧定子極
2012‧‧‧工具界面段
2015‧‧‧線圈元件
2020‧‧‧轉子
2025‧‧‧分離式環境
2030‧‧‧非磁性隔離壁
2050、2060、2070‧‧‧界面
2080‧‧‧基板輸送器
3018、3018A、3018I、3018J‧‧‧輸送室模組
PM‧‧‧處理模組
揭露實施例之上述態樣及其他特性係配合附圖闡釋於文後之說明中，其中：圖1A至1D揭示根據揭露實施例態樣的基板處理裝置或工具之概略圖；圖2揭示根據揭露實施例態樣的示範性馬達；圖3A揭示根據揭露實施例態樣的示範性轉子；圖3B揭示根據揭露實施例態樣的示範性定子；圖4揭示根據揭露實施例態樣的線圈元件； 圖5揭示根據揭露實施例態樣的線圈元件及相關聯定子極；圖6揭示根據揭露實施例態樣的轉子、定子、及線圈元件之示範性總成；圖7A至7C揭示根據揭露實施例態樣的不同示範性轉子；圖8揭示根據揭露實施例態樣的轉子、定子、及線圈元件整合於自動機械驅動器中；圖9揭示根據揭露實施例態樣的線圈元件之示範性連接方式；圖10揭示根據揭露實施例態樣的示範性軸向磁通馬達；圖11揭示根據揭露實施例態樣的軸向磁通馬達之局部截面圖；圖12A及12B揭示根據揭露實施例態樣的習知徑向磁通機器和軸向磁通機器中之磁力線流；圖13揭示根據揭露實施例態樣的示範性軸向磁通馬達；圖14揭示根據揭露實施例態樣的定子極；圖15揭示根據揭露實施例態樣的定子模組、轉子、及隔離壁；圖16揭示根據揭露實施例態樣的示範性軸向磁通機器之另一態樣；圖17A揭示根據揭露實施例態樣的示範性轉 子；圖17B揭示根據揭露實施例態樣的示範性轉子；圖18A揭示根據揭露實施例態樣的一組示範性定子繞組與轉子在示範性換向順序步驟中之俯視圖；及圖18B至18H揭示根據揭露實施例態樣的示範性換向順序。
請參閱圖1A至1D，其揭示併合文後所述之揭露實施例態樣的基板處理裝置或工具之概略圖。
請參閱圖1A及1B，其揭示一根據揭露實施例態樣之處理裝置，例如半導體工具站11090。儘管圖中揭示一半導體工具，本文內所述之揭露實施例態樣可施加於使用自動機械操作器之任意工具站或應用。在此範例中，工具站11090揭示為群集式工具，惟，揭露實施例態樣可施加於任意適當之工具站，例如圖1C及圖1D中所示且揭述於2006年5月26日提出之美國專利申請案第11/442,511號「Linearly Distributed Semiconductor Workpiece Processing Tool」中之直線型工具站，其全文以引用方式併入本文中。工具站11090大致包括一大氣環境之前端部11000、一真空傳送室11010及一真空後端部11020。在其他態樣中，工具站可以有任意適當架構。前端部11000、傳送室11010及後端部11020各者之組件可 連接於一控制器11091，控制器可以是任意適當控制架構(例如，群集式架構控制)之一部分。控制系統可以是一具有主控制器之封閉迴路控制器、群集式控制器及自主式遠端控制器，例如2011年3月8日領證之美國專利第7,904,182號「Scalable Motion Control System」中所揭露者，其全文以引用方式併入本文中。在其他態樣中，任意適當之控制器及/或控制系統皆可使用。
在一態樣中，前端部11000大致包括裝載孔模組11005及一迷你型潔淨室11060，例如一設備前端模組(EFEM)。裝載孔模組11005可以是開盒器/裝載器工具標準(BOLTS)界面，符合300毫米裝載孔、前開型或底開型晶圓箱/盒及匣用之國際半導體設備材料協會(SEMI)標準E15.1、E47.1、E62、E19.5或E1.9。在其他態樣中，裝載孔模組可以建構成200毫米晶圓界面或任意其他適當之基板界面，例如平板顯示器用之較大或較小晶圓或平板。儘管兩裝載孔模組揭示於圖1A中，在其他態樣中任意適當數量之裝載孔模組皆可併入前端部11000中。裝載孔模組11005可以建構成從一懸空輸送系統、自動導引車、人工導引車、軌道導引車或從任意其他適當之輸送方法接收基板載具或匣11050。裝載孔模組11005可以透過裝載孔11040和迷你型潔淨室11060形成界面。裝載孔11040容許基板通過基板匣11050與迷你型潔淨室11060之間。迷你型潔淨室11060大致包括任意適當之轉移自動機械1013，其可併入本文內所述揭露實施例之一或多個 態樣中。在一態樣中，轉移自動機械1013可以是軌跡安裝型自動機械，例如美國專利第6,002,840號中所揭露者，其全文以引用方式併入本文中。迷你型潔淨室11060可提供控制式之潔淨區域，供基板在多數個裝載孔模組之間轉移。
真空傳送室11010可以設在迷你型潔淨室11060與後端部11020之間並與之連接。請注意本文內所使用之真空一詞表示處理基板所在之高度真空，例如10-5托或以下。真空傳送室11010大致包括大氣環境及真空槽閥。槽閥提供環境隔離，用於在從大氣環境端裝載一基板後將真空傳送室抽真空，及在使用惰性氣體(例如氮)送風至傳送室時保持傳送室中之真空。真空傳送室11010也可包括一對準機11011，用於將基板之一基準對準於一要求位置以供處理。在其他態樣中，真空傳送室可位於處理裝置之任意適當位置及具有任意適當架構。
真空後端部11020大抵包括一輸送室11025、一或多個處理站11030及任意適當之轉移自動機械1014，轉移自動機械可包括本文內所述揭露實施例之一或多個態樣。轉移自動機械1014將說明於後及其可設於輸送室11025內，以輸送基板於真空傳送室11010與許多處理站11030之間。處理站11030可以透過許多沈積、蝕刻或其他類型製程在基板上操作，以在基板上形成電路或其他想要的結構。典型製程包括但是不限定的有薄膜製程，即使用真空(例如，電漿蝕刻或其他蝕刻製程、化學氣相 沈積(CVD)、電漿氣相沈積(PVD))、植入(例如，離子植入)、精密測量、快速熱處理(RTP)、乾式剝離原子層沈積(ALD)、氧化/擴散、氮化物之形成、真空微影蝕刻、磊晶(EPI)、絲焊器及蒸發或其他使用真空壓力之薄膜製程。處理站11030連接於輸送室11025，以容許基板從輸送室11025通往處理站11030，反之亦然。
請即參閱圖1C，其揭示一直線型基板處理系統2010，工具界面段2012在此係安裝於一輸送室模組3018，使得界面段2012大致面朝向(朝內)輸送室3018之縱軸線X但是與之偏離。輸送室模組3018可以藉由附接其他輸送室模組3018A、3018I、3018J至界面2050、2060、2070而延伸於任意方向，如美國專利申請案第11/442,511號所述，其先前已併入本文供作參考。各輸送室模組3018、3018A、3018I、3018J包括任意適當之基板輸送器2080，其可包括本文內所述揭露實施例之一或多個態樣，供輸送基板通過處理系統2010及例如進出處理模組PM。可以瞭解的是，各腔室模組可以維持一隔離或控制之大氣環境(例如，氮氣、乾淨空氣、真空)。
請參閱圖1D，其揭示一示範性處理工具410之概略正視圖，例如沿直線型輸送室416之縱軸線X所取之視圖。在圖1D所示之揭露實施例之態樣中，工具界面段12典型上可連接於輸送室416。在此態樣中，界面段12可以界定工具輸送室416之一端部。如圖1D中所示，輸送室416可具有另一工作件入口/出口站412，例如設在 界面段12之相反端部處。在其他態樣中，則可備有其他入口/出口站，用於從輸送室插入/移出工作件。在一態樣中，界面段12及入口/出口站412可以容許工作件從工具載入及卸載。在其他態樣中，工作件可從一端部載入工具中及從另一端部移出。在一態樣中，輸送室416可以有一或多個輸送室模組18B、18i。各轉移室模組可維持一隔離或控制之大氣環境(例如，氮氣、乾淨空氣、真空)。如上所述，圖1D中所示輸送室模組18B、18i、真空傳送室模組56A、56B及形成輸送室416之工作件站僅為示範，在其他態樣中輸送室可以有設置成任意想要的模組配置方式之較多或較少模組。在所示之態樣中，站412可以是真空傳送室。在其他態樣中，一真空傳送室模組可以位於端部入口/出口站(類似於站412)之間或者接鄰之輸送室模組(類似於模組18i)可以建構成操作做為真空傳送室。亦如上所述，輸送室模組18B、18i內設有一或多個對應之輸送裝置26B、26i，輸送裝置可包括本文內所述揭露實施例之一或多個態樣。各輸送室模組18B、18i之輸送裝置26B、26i可以配合在輸送室中提供直線分布之工作件輸送系統420。在此態樣中，輸送裝置26B可具有一概呈選擇順應性組裝機器手臂(SCARA)架構(儘管在其他態樣中輸送臂可以有任意其他想要的配置方式，像是蛙腿架構、伸縮架構、雙對稱架構、等等)。在圖1D中所示揭露實施例之態樣中，輸送裝置26B之臂可以配置成提供快速交換之配置方式，以容許從一拾取/置放位置快速輸送晶圓， 容後詳述。輸送臂26B可具有適當驅動段，如文後所述，用於提供各臂有任意其他適當數量之自由度(例如，藉由Z軸線運動繞著肩肘關節的獨立旋轉)。如圖1D中所示，在此態樣中模組56A、56、30i可以填隙式設於輸送室模組18B、18i之間及其可界定適當處理模組、真空傳送室、緩衝站、精密測量站或任意其他想要的站。例如，填隙模組(像是真空傳送室56A、56及工作件站30i)可以各有固定式工作件支撐件/擱架56S1、56S2、30S1、30S2，其與輸送臂配合以達成工作件沿著輸送室之直線軸X輸送通過輸送室之長度。舉例而言，工作件可以藉由界面段12載入輸送室416中。工作件可以藉由界面段之輸送臂15定位在真空傳送室模組56A之支撐件上。位於真空傳送室模組56A中之工作件利用模組18B中之輸送臂26B移動於真空傳送室模組56A與真空傳送室模組56B之間，類似情形發生於利用(模組18i中之)臂26i的真空傳送室56與工作件站30i之間以及利用模組18i中之臂26i的站30i與站412之間。製程可以全部或部分顛倒，即反向移動工作件。因此，在一態樣中，工作件可以沿著軸線X移動於任意方向並沿著輸送室定位及可從與輸送室連通之任意所需模組(處理或者其他)裝載及卸載。在其他態樣中，含有靜態工作件支撐件或擱架之填隙式輸送室模組並不設置於輸送室模組18B、18i之間。諸此態樣中，接鄰輸送室模組之輸送臂可以直接從端部作動件或某一輸送臂轉移另一輸送臂之端部作動件，使工作件移動通過輸送 室。處理站模組可以透過許多沈積、蝕刻或其他類型製程在基板上操作，以在基板上形成電路或其他想要的結構。處理站模組連接於輸送室模組，以容許基板從輸送室傳送至處理站，反之亦然。關於圖1D中所示處理裝置之具有類似一般特性的處理工具適當範例係揭述於美國專利申請案第11/442,511號所述，其先前已併入本文供作參考。
圖2揭示一整合於自動機械驅動器2005中之示範性馬達2000。自動機械驅動器2005適於和任意直接驅動器或自動機械驅動器應用配合使用，例如轉移自動機械1013、轉移自動機械1014、基板輸送器2080、或輸送臂26B。馬達2000可包括至少一定子極2010、一線圈元件2015、及一轉子2020。在圖2所示之態樣中，定子極2010及相關聯線圈元件2015定位於一自轉子2020密封之分離式環境2025中。轉子2020可位於一高真空(例如，大約10至5托或更低)或腐蝕性環境中，及其可藉由一非磁性隔離壁2030分隔於定子極2010及線圈元件2015。定子極2010及線圈元件2015可位於大氣壓力環境中。圖中所示之示範性實施例具有可供參考之旋轉式驅動器架構，其揭示用於幫助圖中及文內所示之許多態樣的說明及特性。可以瞭解的是有關旋轉式驅動器架構所揭示之許多態樣的特性一樣適用於直線型驅動器架構。
本文內所述揭露實施例之態樣可用於真空或大氣環境下之自動機械應用，其中轉子及其他可動部分隔離於固定式馬達組件，例如定子極及相關聯之線圈元件。 大抵上，揭露實施例之態樣包括一或多個切換的磁阻轉子，用於操作任意適當之直接驅動器或自動機械驅動器。直接驅動器或自動機械驅動器之可動部分可設於一密封式或者隔離環境內，包括控制環境，例如適用於半導體處理之真空環境，可以想見是在半導體處理工具之輸送室中，容後詳述。直接驅動器或自動機械驅動器之可動部分可設於大氣壓力環境內。由任意適當材料構成之非磁性分隔或隔離壁可設於驅動器之可動部分(例如轉子)與驅動器之固定部分(例如定子極和線圈元件)之間。
圖3揭示根據揭露實施例之一態樣的轉子100。儘管揭露實施例之態樣將參考圖式說明於後，應該瞭解的是揭露實施例之態樣可用許多形式實施。此外，元件或材料之任意適當尺寸、形狀或類型亦可使用。
本文內所述揭露實施例之態樣可用於真空或大氣環境下之馬達應用，其中轉子設於一藉由隔離壁與定子分隔之密封隔離環境。密封環境可以是真空或大氣環境及隔離壁可由非磁性材料製成。
圖3A揭示一具有至少一凸出的轉子極105配置在轉子周邊的示範性轉子100。圖3B揭示一具有至少一凸出的定子極205之示範性定子200。儘管轉子100揭示成具有6枚凸極，及定子200揭示成具有8枚凸極，應該瞭解的是轉子100及定子200可包括任意適當數量之凸極。
轉子100可以藉由機械加工、擠製、燒結、 鑄造、或任意適當製程製造，所提供之適當處理是用於避免氣體逸出，例如遇到高真空環境時。若有需要，轉子100可以做表面處理，例如藉由一適用於高真空中用之轉子的材料塗布。轉子100大致上可以具有非疊層式構造，及其可由實心之非鐵磁性材料構成，例如磁鐵或鋼，像是400系之不鏽鋼。在至少一示範性態樣中，轉子可以由複合材料製成，例如結合了高導磁率與磁通密度以及低導電率之材料。此材料有利於減低因轉子與定子之間的磁通變化率所致渦電流造成的鐵心損。應該注意的是可能需要適當處理以防止轉子釋出氣體，特別是在高真空環境下使用時。
文後之表1揭示比較於非複合材料者(例如，碳及不鏽鋼)之示範性複合材料及其相對導磁率與飽和磁通密度。
在至少另一示範性態樣中，轉子100可由具至少一非鐵磁性材料凸出的轉子極的至少一非鐵磁性鐵心構成。
定子200也可以有非疊層式構造及其可以藉由機械加工、擠製、燒結、鑄造、或任意適當製程製造。在至少一示範性態樣中，定子200也可以由複合材料製成，例如上述結合了高導磁率與磁通密度以及低導電率之材料，其範例揭示於表1中。
圖4揭示一適於和定子200配合使用之線圈元件400。線圈元件400建構成個別捲繞之元件，其提供一獨立於其他相位繞組之相位繞組。線圈元件400備有一形成因數，即其容許線圈元件400與個別定子極205整合。
在圖5所示之態樣中，線圈元件400係建構成安裝於相關聯定子極205上、或圍繞定子極，及提供相關聯定子極205一勵磁場。
圖6揭示轉子100、定子200、及線圈元件400之一示範性總成600。在示範性總成600中，轉子100定位於定子200內並以轉子極105面向定子極205。
圖7A至7C揭示適於和揭露實施例配合使用之不同示範性轉子。圖7A揭示一具有極705之實心轉子700，轉子極之軸向尺寸較大於轉子主體710者。可以瞭解的是圖7A至7C中所示之配置方式為示範性，及在圖7B之揭露實施例之替代性態樣中則揭示一具有相似架構之轉子715，但是具有非鐵磁性鐵心720及至少一由鐵磁性材料構成之凸出的轉子極725。在另一態樣中，圖7C揭示一轉子730具有疊層狀或可視為概呈梳形極735，可在遇到交互作用定子極之變化磁場時將渦電流減到最小。凹槽740或疊層可以有任意適當取向，以將渦電流減到最小。在一態樣中，定子極205亦可呈梳形。
圖8揭示轉子100、定子200、及線圈元件400整合於一自動機械驅動器中。在圖8所示之態樣中，和各定子極205相關聯之定子200及線圈元件400定位在一自轉子100分離式環境810中。轉子100可位於超高真空或腐蝕性環境中，其藉由非磁性隔離壁820分隔於定子200及線圈元件400。定子200及線圈元件400可位於大氣壓力環境中。
圖9揭示線圈元件400如何連接而達成一用於驅動轉子100之磁場的範例。在圖9所示之態樣中，線圈元件建構成4個獨立之線圈對，各對之號碼呈徑向相對。各對界定成一馬達相位，所以圖5、6及8中所示之態樣即建構成4相位之機器。應該瞭解的是轉子100及定子200可以建構有任意數量之極，及任意適當數量之線圈元件400可用於達成任意數量之相位。
圖10揭示一使用轉子100之示範性軸向磁通馬達1000。軸向磁通馬達1000之一定子1005為配置於轉子100周圍之獨立模組1010的總成，各總成包括一定子極1015及一獨立相位繞組1020。
純就舉例而言，圖10中之軸向磁通馬達建構具有一6極式轉子及一8極式定子，但是在其他態樣中可以使用任意數量之轉子及定子極。在至少一態樣中，呈徑向相對之定子模組係配線至相同相位。含有一相位之模組的相位繞組可以是串繞或並繞。
軸向磁通馬達之一局部截面圖揭示於圖11中。定子模組1010可具有一定子極1015，其可包括端部構件1025、1030，端部構件從一連接構件1035沿側向朝轉子延伸及可重疊至少部分之轉子極105。定子極1015可由軟磁鋼或上述其他適當材料構成。如箭號1100所示，磁通路徑係從定子極1015沿軸向通過轉子極105。
圖12A及12B揭示磁力線流分別在習知徑向磁通機器和軸向磁通機器中之差異。在徑向磁通機器中， 磁通沿徑向流過轉子之徑向相對極1201、1202及沿周邊方向通過定子，而在軸向磁通機器中，磁通沿軸向流動及磁力線被拘限於定子模組1010並與轉子極1205形成界面。
根據至少一態樣，軸向磁通機器之各相位中的總磁通流可分割流過二平行路徑，此即對比於流過繞組之磁通呈串列之徑向磁通機器者。平行之磁通流提供較低磁通密度並容許在磁通密度飽和度以下操作。當以未飽和之磁通密度操作時，轉矩能力大致上隨著電流之二次函數增加，而在飽和度時，轉矩能力大致上隨著電流之線性函數增加。因此，針對相同電流位準，軸向機器中之較低磁通度產生較高轉矩能力。再者，因為軸向磁通馬達中之有效氣隙是在軸向延伸，轉子的晃動不會在氣隙中產生淨變化且不致產生轉矩波動。
一具有3極式轉子1305及4極式定子1310之示範性軸向磁通馬達揭示於圖13中。在此態樣中，各定子相位拘限於單一定子模組1315，而提供了較低的製造和組裝成本及較簡易的配線方式。
圖14揭示根據揭露實施例之一定子極1405的另一態樣。儘管定子極1015揭示為圖10中所示之長方形截面，定子極1405可以有一呈圓形截面部分1410，以利繞組相位線圈輕易環繞定子極。一具有長方形截面之定子極可以有填充因子大約為0.6之繞組，而一具有圓形截面之定子極可以有填充因子超過大約0.8之繞組。較高填 充因子可以產生較高轉矩能力。圖15揭示至少一定子模組1510及一轉子1515和一隔離壁1520組合之使用方式，其相似於上述諸態樣。在一態樣中，隔離壁1520提供密封以分隔定子模組1510及轉子1515之環境。例如，轉子1515可能設於超高真空或腐蝕性環境中，而定子模組可能設於大氣環境中。在一態樣中，隔離壁提供密封，其拘限於定子極1525之延伸構件1530、1535與轉子1515之間的輪廓。在另一態樣中，隔離壁則在將定子極1525之一或多個延伸構件1530、1535包圍、或將定子極本身包圍之各別環境之間提供一密封部1520’。在其他態樣中，隔離壁可以和定子極形成一體。適用之密封件可包括靜態密封件，像是適用於超高真空使用之密封墊圈或圈環。適用密封件之其他態樣係揭示及揭述於檔案第390P014939-US(-#1)號並於2013年11月13日依此提出之「Sealed Robot Drive」，其全文以引用方式併入本文中。
圖16揭示一示範性軸向磁通機器1600之另一態樣。軸向磁通機器1600包括一定子1605，係由設置於一轉子1615周圍之獨立定子模組1610的總成構成。各定子模組1610包括一定子極1620及一獨立相位繞組1625。轉子1615包括至少一凸出的轉子極1630。在一態樣中，凸出的轉子極1630可包括朝向定子總成1605延伸之端部構件1635、1640。在至少一態樣中，定子及轉子極之配置方式有助於轉子裝設及移除，不致與定子總成 1605發生干涉。根據一或多個態樣，定子模組1610係獨立，例如，其可個別在定子上之任意適當位置加入或移出。各定子模組1610可包括合裝成一單元之一定子極及一勵磁線圈。定子1605可包括配置於定子周圍之可選擇數量的定子模組1610，且其間可以互換。在至少一態樣中，定子1605可以藉由選擇欲裝設在定子上之定子模組1610的數量來建構。
圖17A揭示根據揭露實施例之另一態樣之一示範性轉子1700。轉子1700可建構成一切換式磁阻馬達，其大致具有非疊層式實心構造，及其可由鐵磁性材料構成，例如軟磁鐵或鋼。在一態樣中，轉子可由複合材料構成，例如結合了高導磁率與磁通密度以及低導電率之材料。在一態樣中，轉子1700可由一具有至少一凸出的轉子極是以鐵磁性材料製成之非鐵磁性鐵心構成。
至少一凸出的轉子極1710可包含一組沿軸向移位之子極X、Y。子極X、Y偏移一電角度。子極X、Y之配置方式容許切換式磁阻轉子1700與一建構成直流無刷定子之定子配合使用。
圖17B揭示另一示範性轉子1715，其子極X、Y安裝於一襯裏1720上。襯裏1720也可包括沿徑向延伸之端部構件1725，1730，以達成用於上述軸向磁通機器1600之軸向磁通流。
精準位置控制可以藉由提供雙向施力於轉子來達成，例如，使用至少2組獨立之激勵繞組，其中各者 在相反方向產生吸力。圖18A揭示在示範性換向順序之第一步驟中的一組示範性定子繞組1805及轉子1700之俯視圖，即在相反方向產生吸力。圖18B至18H揭示示範性順序之其餘第2至8步驟。
文後之表2針對示範性換向順序之各步驟揭示示範性換向順序、概略作動力、及受力之子極。
定子可包括二組獨立之三相繞組ABC、DEF。各組三相繞組ABC、DEF可以和習知三相無刷馬達有相似繞線方式。在圖18A中，二組三相繞組ABC、DEF交錯於定子周圍。轉子之子極架構可使得在任意位置時，轉子上之一生成電磁推斥力呈雙向性。雙向施力提供用於上述之位置控制。位置控制可以藉由變換定子電流達成，以致使在任意轉子位置時，6個繞組相位中之2個可在某一方向施力於轉子，及另2個繞組相位在反方向施力於轉子。上述軸向磁通流用於將磁通迴路中之磁阻減到最小， 以利於使流過繞組之磁場強度最大。
應該注意的是當定子繞組A及D串聯、B及E串聯、及C及F串聯時，6相位式可變磁阻馬達之定子動作相同於3相位式直流無刷馬達之定子者。因此，相同定子可用在切換磁阻式及直流無刷式馬達等兩種不同類型馬達上。
根據揭露實施例之一或多個態樣，一馬達包括一密封式轉子，其具有至少一凸出的轉子極；一定子包含至少一凸出的定子極，凸出的定子極具有與之相關聯的勵磁繞組並與至少一凸出的轉子極形成界面，以達成至少一凸出的定子極及至少一凸出的轉子極之間的軸向磁通迴路。
根據揭露實施例之一或多個態樣，各凸出的轉子極包含一組軸向移位之子極。
根據揭露實施例之一或多個態樣，至少一凸出的轉子極係密封自至少一凸出的定子極。
根據揭露實施例之一或多個態樣，至少一凸出的定子極具有子極。
根據揭露實施例之一或多個態樣，各凸出的轉子極包含一組偏移一電角度之子極。
根據揭露實施例之一或多個態樣，密封式轉子包含一非磁性鐵心及至少一凸出的轉子極係鐵磁性。
根據揭露實施例之一或多個態樣，至少一凸出的轉子極安裝於鐵磁性襯裏上。
根據揭露實施例之一或多個態樣，鐵磁性襯裏包含沿徑向朝至少一凸出的定子極延伸之構件，以達成軸向磁通流迴路。
根據揭露實施例之一或多個態樣，至少一凸出的定子極係建構成供至少一凸出的轉子極通過之長孔，以達成軸向磁通流迴路。
根據揭露實施例之一或多個態樣，至少一凸出的轉子極及至少一凸出的定子極係建構有面對面之端部構件，以達成軸向磁通流迴路。
根據揭露實施例之一或多個態樣，一馬達包括一轉子，其具有兩組偏移一電角度之轉子極，係建構用於至少三相勵磁。
根據揭露實施例之一或多個態樣，一馬達包括一轉子，其建構成切換之磁阻轉子；及一定子，其建構成藉由密封間隔件分隔於轉子之無刷定子。
根據揭露實施例之一或多個態樣，轉子及定子係建構成在馬達中產生軸向磁通流。
根據揭露實施例之一或多個態樣，轉子包含至少一凸出的轉子極。
根據揭露實施例之一或多個態樣，至少一凸出的轉子極安裝於鐵磁性襯裏上，鐵磁性襯裏包含朝定子延伸之構件，以達成軸向磁通流。
根據揭露實施例之一或多個態樣，轉子包含至少一凸出的轉子極，凸出的轉子極包含一組軸向移位之 子極。
根據揭露實施例之一或多個態樣，定子包含獨立組之至少三相繞組。
根據揭露實施例之一或多個態樣，定子包含一組獨立定子模組，各定子模組包含一定子極及一勵磁線圈。
根據揭露實施例之一或多個態樣，馬達包括轉子極及定子極之一配置方式，其係建構成施加吸力於轉子。
根據揭露實施例之一或多個態樣，一馬達包括一轉子，其包含複數極；及一定子，其包含配置於轉子周圍之複數獨立定子模組，定子模組包含建構成各別區段之凸出的定子極。
根據揭露實施例之一或多個態樣，轉子極及定子極配置以達成軸向於轉子之磁通流。
根據揭露實施例之一或多個態樣，轉子包含一非磁性鐵心及多數個鐵磁性轉子極。
根據揭露實施例之一或多個態樣，轉子包含沿徑向朝定子延伸之構件，以達成軸向磁通流。
根據揭露實施例之一或多個態樣，定子區段係建構成供轉子極通過之長孔，以達成軸向於轉子之磁通流。
根據揭露實施例之一或多個態樣，轉子極及定子區段建構有面對面之端部構件，以達成軸向於轉子之 磁通流。
根據揭露實施例之一或多個態樣，一馬達包括一轉子，其包含複數凸極；及一定子，其包含至少一可互換定子模組，定子模組包含定子極及勵磁線圈且合裝成一單元。
根據揭露實施例之一或多個態樣，一馬達包括一轉子，其包含複數凸極；及一定子，其包含可選擇數量之可互換定子模組，各定子模組界定個別之定子極。
根據揭露實施例之一或多個態樣，一馬達包括一轉子，其包含複數凸極；及可建構之定子，其包含至少一可互換定子模組，定子模組包含定子極及勵磁線圈且合裝成一單元，其中定子架構係藉由安裝於定子上之定子模組的數量選擇達成。
應該瞭解的是上述說明僅為揭露實施例之態樣的揭示。在不悖離揭露實施例之態樣下，習於此技者尚可達成多種替代型式及修改。據此，揭露實施例之態樣應涵蓋文後申請專利範圍內之所有諸此替代型式、修改及變換型式。再者，事實上不同特性引用在相異之相依或獨立請求項中並不表示這些特性之組合無法有利使用，此組合型態仍在本發明之態樣範圍內。

Claims (27)

  1. 一種馬達，包含：密封式轉子，其具有至少一凸出的轉子極；定子，其包含至少一凸出的定子極，該凸出的定子極具有與之相關聯的勵磁繞組並與該至少一凸出的轉子極在該至少一凸出的定子極及該至少一凸出的轉子極之間的每一界面處於該至少一凸出的定子極及該至少一凸出的轉子極之間達成具有軸向磁通的軸向磁通迴路。
  2. 如申請專利範圍第1項之馬達，其中各該凸出的轉子極包含一組軸向移位之子極。
  3. 如申請專利範圍第1項之馬達，其中該至少一凸出的轉子極係密封自該至少一凸出的定子極。
  4. 如申請專利範圍第1項之馬達，其中該至少一凸出的定子極具有子極。
  5. 如申請專利範圍第1項之馬達，其中各該凸出的轉子極包含一組偏移一電角度之子極。
  6. 如申請專利範圍第1項之馬達，其中該密封式轉子包含非磁性鐵心及該至少一凸出的轉子極係鐵磁性。
  7. 如申請專利範圍第1項之馬達，其中該至少一凸出的轉子極安裝於鐵磁性襯裏上。
  8. 如申請專利範圍第7項之馬達，其中該鐵磁性襯裏包含沿徑向朝該至少一凸出的定子極延伸之構件，以達成該軸向磁通流迴路。
  9. 如申請專利範圍第1項之馬達，其中該至少一凸出的定子極係建構成供該至少一凸出的轉子極通過之長孔，以達成該軸向磁通流迴路。
  10. 如申請專利範圍第1項之馬達，其中該至少一凸出的轉子極及該至少一凸出的定子極係建構有面對面之端部構件，以達成該軸向磁通流迴路。
  11. 一種馬達，包含：轉子，其只具有兩組偏移一電角度之轉子極，係建構用於至少三相勵磁。
  12. 一種馬達，包含：轉子，其建構成切換之磁阻轉子；及定子，其建構成藉由密封間隔件分隔於該轉子之無刷定子，使得該密封間隔件在該轉子和該定子之間提供通過該密封間隔件的軸向磁通流。
  13. 如申請專利範圍第12項之馬達，其中該轉子及該定子係建構成在該馬達中產生軸向磁通流。
  14. 如申請專利範圍第12項之馬達，其中該轉子包含至少一凸出的轉子極。
  15. 如申請專利範圍第14項之馬達，其中該至少一凸出的轉子極安裝於鐵磁性襯裏上，該鐵磁性襯裏包含朝該定子延伸之構件，以達成該軸向磁通流。
  16. 如申請專利範圍第12項之馬達，其中該轉子包含至少一凸出的轉子極，該凸出的轉子極包含一組軸向移位之子極。
  17. 如申請專利範圍第12項之馬達，其中該定子包含獨立組之至少三相繞組。
  18. 如申請專利範圍第12項之馬達，其中該定子包含一組獨立定子模組，各該定子模組包含定子極及勵磁線圈。
  19. 如申請專利範圍第12項之馬達，進一步包含該轉子極及該定子極之配置方式，其係建構成施加吸力於該轉子。
  20. 一種馬達，包含：轉子，其包含複數極；及定子，其包含配置於該轉子周圍之複數獨立定子模組，該定子模組包含建構成各別區段之凸出的定子極；其中該轉子極及該定子極配置成在該轉子極及該定子之間達成軸向於該轉子之磁通流。
  21. 如申請專利範圍第20項之馬達，其中該轉子包含非磁性鐵心及多數個鐵磁性轉子極。
  22. 如申請專利範圍第20項之馬達，其中該轉子包含沿徑向朝該定子延伸之構件，以達成該軸向磁通流。
  23. 如申請專利範圍第20項之馬達，其中該定子區段係建構成供該轉子極通過之長孔，以達成軸向於該轉子之磁通流。
  24. 如申請專利範圍第20項之馬達，其中該轉子極及該定子區段係建構有面對面之端部構件，以達成軸向於該轉子之磁通流。
  25. 如申請專利範圍第20項之馬達，其中：該複數獨立定子模組包含至少一可互換定子模組，該定子模組包含定子極及勵磁線圈且合裝成一單元。
  26. 如申請專利範圍第20項之馬達，其中：該複數獨立定子模組包含可選擇數量之可互換定子模組，各該定子模組界定個別之定子極。
  27. 一種馬達，包含：轉子，其包含複數凸出的轉子極；及可建構之定子，其包含至少一可互換的定子模組，該定子模組包含定子極及勵磁線圈且合裝成一單元，其中該定子架構係藉由安裝於該定子上之定子模組的數量選擇達成，且該至少一可互換的定子模組之該複數凸出的轉子極和該定子極配置成在該至少一可互換的定子模組的該凸出的轉子極和該定子極之間達成軸向於該轉子之磁通流。
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