TWI673382B - 環形磁性靶材 - Google Patents

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劉品均
楊峻杰
蔡明展
邱敬凱
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Abstract

本發明提供一種環形磁性靶材,其包含:一基板,其為非磁性材料,基板具有相反設置之一第一面及一第二面;一靶材單元,其設於第一面,靶材單元具有一內環靶材、一中環靶材及一外環靶材,中環靶材具有磁性且環設於內環靶材之外周緣,外環靶材環設於中環靶材之外周緣,其中,內環靶材穿設一鏤空區,令內環靶材呈環形狀;以及一磁性單元,其設於第二面;藉此,能夠降低靶材之材料使用量,並且透過鏤空區有效增加磁通量。

Description

環形磁性靶材
本發明係關於一種磁性靶材,尤指一種能有效提高磁通量之環形磁性靶材。
在現行的磁性濺鍍靶材裝置,其包含:一非磁性支撐板;一靶材單元,其設於非磁性支撐板之上方,靶材單元具有一第一靶材、一繞設於第一靶材之第二靶材及一繞設於第二靶材之第三靶材,其中,第二靶材具有朝向異於非磁性支撐板之一轟擊面;以及一永久磁鐵組,其用以提供磁力線朝上穿越過轟擊面,從而在內環靶材間形成環型封閉之磁力線。
於加工濺鍍時,永久磁鐵組產生之磁力線主要轟擊第二靶材,而第一靶材及第三靶材被轟擊之機率較低,所以第一靶材、第二靶材及第三靶材三者無法被均勻利用,導致更換靶材單元時,仍有大部分之靶材材料未被使用,造成靶材之材料浪費。
為解決上述課題,本發明提供一種環形磁性靶材,其藉由鏤空區降低內環靶材之材料使用量,並且有效增加磁通量。
本發明之一項實施例提供一種環形磁性靶材,其包含:一基板,其為非磁性材料,基板具有相反設置之一第一面及一第二面;一靶材單元,其設於第一面,靶材單元具有一內環靶材、一中環靶材及一外環靶材,中環靶材具有磁性且環設於內環靶材之外周緣,外環靶材環設於中環靶材之外周緣,其中,內環靶材穿設一鏤空區,令內環靶材呈環形狀;以及一磁性單元,其設於第二面。
藉由上述,本發明環形磁性靶材,能藉由鏤空區降低內環靶材之材料使用量;而且磁性單元所產生之磁力線能夠穿越鏤空區,進而轟擊中環靶材;藉此,能夠改善習知靶材材料容易浪費之問題,並且能夠有效增加磁通量,提升靶材之使用效率。
於其中一項實施例中,磁性單元具有一第一磁鐵結構及一第二磁鐵結構,第一磁鐵結構對應外環靶材,第二磁鐵結構對應內環靶材,其中,第一磁鐵結構部分被外環靶材遮蔽;藉此,第一磁鐵結構未被遮蔽之部分,能夠有效之將其磁力線穿越至中環靶材,提升磁通量及增加靶材之使用效率。
為便於說明本發明於上述發明內容一欄中所表示的中心思想,茲以具體實施例表達。實施例中各種不同物件係按適於說明之比例、尺寸、變形量或位移量而描繪,而非按實際元件的比例予以繪製,合先敘明。
請參閱圖1至圖3所示,本發明提供一種環形磁性靶材,其包含:
一基板10,其為非磁性材料,基板10具有相反設置之一第一面11及一第二面12。
一靶材單元20,其設於基板10之第一面11,靶材單元20具有一內環靶材21、一中環靶材22及一外環靶材23,中環靶材22具有磁性且環設於內環靶材21之外周緣,外環靶材23環設於中環靶材22之外周緣,內環靶材21、中環靶材22及外環靶材23之厚度均相同;再者,內環靶材21貫穿設一鏤空區211,令內環靶材21呈環形狀,其中,鏤空區211之面積約占內環靶材21整體面積至少三分之一,而內環靶材21之形狀能為選自於由矩形及圓形所組成之群組,於本發明實施例中,鏤空區211概呈長矩形狀。
一磁性單元30,其設於基板10之第二面12,磁性單元30具有一第一磁鐵結構31及一第二磁鐵結構32,第一磁鐵結構31對應於外環靶材23,第二磁鐵結構32對應於內環靶材21;請參閱圖3所示,第一磁鐵結構31對應設於外環靶材23之下方,第二磁鐵結構32對應設於內環靶材21之下方,其中,第一磁鐵結構31部分被外環靶材23遮蔽。
再者,第一磁鐵結構31具有複數磁鐵311,各磁鐵311間隔環設於第二磁鐵結構32之外側,而各磁鐵311相對沿外環靶材23之外邊緣設置,其中,各磁鐵311分別具有一第一遮蔽區311a及一第一非遮蔽區311b;請參閱圖2及圖3所示,各磁鐵311之第一遮蔽區311a相較於各磁鐵311之第一非遮蔽區311b靠近第二磁鐵結構32,而各磁鐵311之第一遮蔽區311a被外環靶材23遮蔽,各磁鐵311之第一非遮蔽區311b處於外環靶材23之外邊緣以外;藉此,第一磁鐵結構31所產生之磁力線能夠向上穿越,於中環靶材22形成環型封閉之磁力線。
另外,第二磁鐵結構32具有一第二遮蔽區321及一第二非遮蔽區322,第二遮蔽區321相較於第二非遮蔽區322靠近各磁鐵311之第一遮蔽區311a,而第二遮蔽區321被內環靶材21遮蔽,第二非遮蔽區322對應於鏤空區211;藉此,第二磁鐵結構32所產生之磁力線能夠向上穿越鏤空區211,於中環靶材22形成環型封閉之磁力線。
綜合上述,本發明環形磁性靶材能夠達成下列功效:
一、本發明於內環靶材21貫穿設置鏤空區211,藉以降低內環靶材21之材料使用,而磁性單元30所產生之磁力線能夠更有效穿越鏤空區211,進而轟擊中環靶材22;藉此,本發明能夠有效降低靶材之材料使用量,並且有效增加磁通量,提升靶材之使用效率。
二、本發明第一磁鐵結構31未被遮蔽之部分,能夠有效將第一磁鐵結構31之磁力線往上穿越至中環靶材22,以提升磁通量及增加靶材之使用效率。
以上所舉實施例僅用以說明本發明而已,非用以限制本發明之範圍。舉凡不違本發明精神所從事的種種修改或變化,俱屬本發明意欲保護之範疇。
10‧‧‧基板
11‧‧‧第一面
12‧‧‧第二面
20‧‧‧靶材單元
21‧‧‧內環靶材
211‧‧‧鏤空區
22‧‧‧中環靶材
23‧‧‧外環靶材
30‧‧‧磁性單元
31‧‧‧第一磁鐵結構
311‧‧‧磁鐵
311a‧‧‧第一遮蔽區
311b‧‧‧第一非遮蔽區
32‧‧‧第二磁鐵結構
321‧‧‧第二遮蔽區
322‧‧‧第二非遮蔽區
圖1係本發明立體外觀示意圖。
圖2係本發明俯視示意圖。
圖3係本發明沿圖2之3-3剖面線所取之剖面圖。

Claims (8)

  1. 一種環形磁性靶材,其包含:
    一基板,其為非磁性材料,該基板具有相反設置之一第一面及一第二面;
    一靶材單元,其設於該第一面,該靶材單元具有一內環靶材、一中環靶材及一外環靶材,該中環靶材具有磁性且環設於該內環靶材之外周緣,該外環靶材環設於該中環靶材之外周緣,其中,該內環靶材穿設一鏤空區,令該內環靶材呈環形狀;以及
    一磁性單元,其設於該第二面。
  2. 如請求項1所述之環形磁性靶材,其中,該磁性單元具有一第一磁鐵結構及一第二磁鐵結構,該第一磁鐵結構對應該外環靶材,該第二磁鐵結構對應該內環靶材。
  3. 如請求項2所述之環形磁性靶材,其中,該第一磁鐵結構部分被該外環靶材遮蔽。
  4. 如請求項3所述之環形磁性靶材,其中,該第一磁鐵結構具有複數磁鐵,各該磁鐵間隔環設於該第二磁鐵結構之外側。
  5. 如請求項4所述之環形磁性靶材,其中,各該磁鐵相對沿該外環靶材之外邊緣設置。
  6. 如請求項5所述之環形磁性靶材,其中,各該磁鐵具有一第一遮蔽區及一第一非遮蔽區,所述第一遮蔽區相較於所述第一非遮蔽區靠近該第二磁鐵結構,所述第一遮蔽區被該外環靶材遮蔽。
  7. 如請求項2所述之環形磁性靶材,其中,該第二磁鐵結構具有一第二遮蔽區及一第二非遮蔽區,該第二遮蔽區被該內環靶材遮蔽,該第二非遮蔽區對應於該鏤空區。
  8. 如請求項1所述之環形磁性靶材,其中,該鏤空區概呈長矩形狀。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TW201142061A (en) * 2010-01-29 2011-12-01 Oc Oerlikon Balzers Ag A target assembly for a magnetron sputtering apparatus, a magnetron sputtering apparatus and a method of using the magnetron sputtering apparatus
TWI618809B (zh) * 2016-08-31 2018-03-21 Linco Technology Co Ltd 具高靶材利用率之磁性靶材陰極裝置

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