TWI636333B - 光學成像配置、光學成像方法、支撐一光學成像配置之一計量系統的方法及使用一計量系統決定一光學成像配置之一光學元件群組之狀態資訊的方法 - Google Patents

光學成像配置、光學成像方法、支撐一光學成像配置之一計量系統的方法及使用一計量系統決定一光學成像配置之一光學元件群組之狀態資訊的方法 Download PDF

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Abstract

本發明揭示一種光學成像配置，其包含一光學投影系統及一支撐結構系統。該光學投影系統包含一光學元件群組，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上。該支撐結構系統包含一光學元件支撐結構及一計量支撐結構。該光學元件支撐結構支撐該光學元件群組，該計量支撐結構則支撐一計量裝置群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的定位及定向其中至少一個的狀態資訊。該光學元件群組包含一第一光學元件子群組及一第二光學元件子群組，該計量裝置群組則包含與該第一光學元件子群組相關聯的一第一計量裝置子群組及與該第二光學元件子群組相關聯的一第二計量裝置子群組。該計量支撐結構包含一第一計量支撐子結構及一第二計量支撐子結構，該第一計量支撐子結構支撐該第一計量裝置子群 組，該第二計量支撐子結構支撐該第二計量裝置子群組。該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構個別地支撐於該支撐結構系統的一荷重承載結構上。

Description

光學成像配置、光學成像方法、支撐一光學成像配置之一計量系統的方法及使用一計量系統決定一光學成像配置之一光學元件群組之狀態資訊的方法
本發明有關在曝光製程中使用的光學成像配置，尤其有關微影系統的光學成像配置。本發明另外有關支撐光學投影單元之組件的方法。本發明可在用於製造微電子裝置(尤其是半導體裝置)之光微影製程的背景中使用，或在製造在此類光微影製程期間使用之諸如遮罩或光罩等裝置的背景中使用。
一般而言，在製造諸如半導體裝置之微電子裝置的背景中使用的光學系統包含配置在光學系統之光路徑中的複數個光學元件單元，其包含諸如透鏡及反射鏡等光學元件。這些光學元件通常在曝光製程中協作，以將遮罩、光罩或類似物上形成的圖案影像轉印於諸如晶圓的基板上。通常將該等光學元件組合在一或多個功能上相異的光學元件群組中。這些相異的光學元件群組可由相異的光學曝光單元固持。尤其對於以折射為主的系統而言，通常以固持一或多個光學元件之光學元件模組的堆疊建構此類光學曝光單元。這些光學元件模組通常包含外部大致為環形形狀的支撐 裝置，其支撐一或多個光學元件支架，而各支架又固持光學元件。
包含至少以折射為主之光學元件的光學元件群組，諸如透鏡，大部分具有光學元件之筆直的共同對稱軸，通常稱為「光軸(optical axis)」。此外，固持此類光學元件群組的光學曝光單元通常具有狹長的實質上管狀設計，由於此設計，這些光學曝光單元一般又稱為「透鏡筒(lens barrel)」。
由於半導體裝置持續微型化，因此永遠需要增強製造這些半導體裝置所用光學系統的解析度。此增強解析度的需要明顯帶動增加數值孔徑(numerical aperture，NA)及增加光學系統成像精確度的需要。
增強解析度的一個方法是減少曝光製程中所使用光的波長。近幾年來，已發展若干方法使用極紫外光(EUV)範圍中的光，其使用介於5nm至20nm(一般約13nm)的波長。在此EUV範圍中，不可能再使用常見的折射光學器件。此乃因為以下事實：在此EUV範圍中，折射光學元件常用的材料顯示吸收度過高而無法獲得高品質的曝光結果。因此，在EUV範圍中，在曝光製程中使用包含諸如反射鏡或類似物之反射元件的反射系統，將遮罩上形成的圖案影像轉印於基板(如晶圓)上。
轉而使用EUV範圍中的高數值孔徑(如，NA>0.4至0.5)反射系統，對光學成像配置的設計造成相當大的挑戰。
一個重要的精確度需求是影像在基板上的定位精確度，這又稱為「視線精確度(line of sight accuracy，LoS accuracy)」。視線精確度一般約與數值孔徑的倒數成比例。因此，數值孔徑NA=0.45之光學成像配置的視線精確度比數值孔徑NA=0.33之光學成像配置的視線精確度小1.4倍。一般而言，數值孔徑NA=0.45的視線精確度在0.5nm以下。如果在曝光製程中亦考慮使用雙重圖案化，則精確度一般必須另外減少至除以1.4倍。因此，在此例中，視線精確度甚至將低於0.3nm。
除了其他需求之外，以上需求對參與曝光製程的組件之間的相對定位尤其造成極為嚴格的需求。此外，為了可靠地獲得高品質半導體裝置，不僅需要提供顯示高度成像精確度的光學系統，且還需要在整個曝光製程中及在系統的使用期間維持此高度的精確度。結果，必須以明確定義的方式支撐例如在曝光製程中協作的光學成像配置組件(即，遮罩、光學元件及晶圓)，以同樣地維持在該等光學成像配置組件之間的預定空間關係，以提供高品質曝光製程。
為在整個曝光製程中，甚至在經由支撐配置之地面結構及/或經由內部振動干擾源(諸如加速質量，如移動組件、亂流流體流等)及其他因素引起振動的影響下以及在熱致定位變更(thermally induced position alteration)的影響下，維持光學成像配置組件之間的預定空間關係，需要至少不時地擷取在光學成像配置之特定組件之間的空間關係，及依據此擷取過程的結果調整光學成像配置之至少一個組件的定位。
在習用系統中，經由計量系統使用光學投影系統及基板系統的中央支撐結構作為共同參考而完成此擷取在曝光製程中協作之組件間之空間關係的過程，以便能夠立即使成像配置之主動調整零件的運動同步。
另一方面，數值孔徑增加一般造成所使用光學元件的大小(又稱為光學元件的「光學覆蓋區(optical footprint)」)增加。所使用光學元件的光學覆蓋區增加對於其動態性質及用以達成以上調整的控制系統具有不利的影響。此外，增加的光學覆蓋區一般導致較大的光線入射角。然而，在此增加的光線入射角下，一般用於產生光學元件之反射表面之多層塗層的透射比大幅減少，明顯導致非所要的光功率損失及光學元件因吸收所造成的加熱增加。結果，為了以商業上可接受的規模實現此成像，必須使用甚至更大的光學元件。
這些情況均導致光學元件相當大的光學成像配置，其光學覆蓋區多達1m×1m，並導致這些光學元件彼此極為接近地配置，其間距離不到60mm。通常，在需要極低失真之高數值孔徑NA的此一系統中，光學路徑長度在2m以上，物體對影像移位則在50cm及50cm以上。這些核心數字本質上決定了支撐結構(諸如光學元件的光學元件支撐結構以及計量系統的計量支撐結構)的總大小。通常，支撐結構的總尺寸大約是2m×1.2m× 1.5m。
以上情況所出現的一個問題是，這麼大的結構一般比較缺少剛性。此種較無剛性的支撐結構不僅對調整控制效能形成進一步限制，且由於相應結構因殘餘低頻振動干擾(residual low frequency vibration disturbance)造成的半靜態變形(quasi-static deformation)而形成殘餘誤差(residual error)。儘管相應支撐結構以一振動隔離方式(vibration isolated manner)進行支撐，但此類殘餘低頻振動干擾仍有可能存在。因此，振動干擾的負面效應變得甚至更加明顯。
一種似乎對症下藥的解決方案是增加勁度(stiffness)，及因此增加相應支撐結構的諧振頻率(resonant frequency)。然而，這個方法顯然有其實際上的限制。一個決定性的限制是，以達成此高準確性成像配置之適當動態及熱性質的合適材料製造如此大型結構的方法尚未出現。
有效因應此類殘餘低頻振動干擾之能力的另一個限制在於，實際上很難避免漂移(drift)及雜訊(noise)之負面效應，而以足夠精確度分別擷取此類殘餘低頻加速。
因此，本發明之一目的在於至少在某種程度上克服以上缺點，及提供曝光製程中所用光學成像配置之良好且長期可靠的成像性質。
本發明之另一目的在於減少光學成像配置所需的工作量，同時至少維持曝光製程中所用光學成像配置的成像精確度。
本發明之另一目的在於減少引入光學成像配置之光學系統之殘餘低頻振動干擾對於成像品質的負面影響。
這些目的係根據本發明達成，根據一方面，本發明係基於以下技術教示：如果將計量支撐結構分割成成像系統中所用計量裝置的複數個較小個別子結構支撐子群組，則即使在存在低頻振動干擾的情況下，也 能達成光學成像配置所需的總工作量減少，同時至少維持光學成像配置的成像精確度。此分割成個別較小子結構具有極大的優點：這些子結構由於其大小減少，可更容易地設計為剛性增加及因此諧振頻率增加的組件。此剛性及諧振頻率增加導致這些支撐結構對低頻振動干擾的敏感性降低，大幅減少相應支撐結構的半靜態變形，及最終改良成像精確度。
應注意，在許多情況中，可能需要提供某額外計量配置，以決定在空間中由相應計量支撐子結構以所有自由度(degree of freedom，DOF)支撐之計量裝置子群組之間的空間關係；該等計量支撐子結構在(即，以至少一或多個自由度，通常以所有六個自由度)執行的特定成像製程中與成像品質有關。然而，因相應支撐子結構的半靜態變形明顯減少所達成的好處，及其在成像精確度上以及有關相應子結構最終振動隔離支撐之需求放寬的明顯好處，大幅超越此額外計量工作量。
因此，根據本發明之第一方面，其中提供一種包含一光學投影系統及一支撐結構系統(support sutructure system)的光學成像配置。該光學投影系統包含一光學元件群組，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光(exposure light)沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上。該支撐結構系統包含一光學元件支撐結構及一計量支撐結構(metrology support structure)，該光學元件支撐結構及該計量支撐結構較佳經組態以一動力平行的方式(kinematically parallel manner)個別地支撐於一承載結構(bearing structure)上。該光學元件支撐結構支撐該光學元件群組，該計量支撐結構則支撐一計量裝置群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的定位(position)及定向(orientation)其中至少一個的狀態資訊(status information)。該光學元件群組包含一第一光學元件子群組及一第二光學元件子群組，該計量裝置群組則包含與該第一光學元件子群組相關聯的一第一計量裝置子群組及與該第二光學元件子群組相關聯的一第 二計量裝置子群組。該計量支撐結構包含一第一計量支撐子結構及一第二計量支撐子結構，該第一計量支撐子結構支撐該第一計量裝置子群組，該第二計量支撐子結構支撐該第二計量裝置子群組。該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構個別地支撐於該支撐結構系統的一荷重承載結構(load bearing structure)上。
根據本發明之第二方面，提供一種支撐一光學成像配置之一計量系統的方法，該光學成像配置包含具有一光學元件群組的一光學投影系統，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案影像轉印至一基板上。該方法包含較佳以一動力平行的方式個別地支撐一計量裝置群組與該光學元件群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的定位及定向其中至少一個的狀態資訊。支撐該計量裝置群組的步驟包含個別地藉由一第一計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第一計量裝置子群組於一荷重承載結構上，及藉由一第二計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第二計量裝置子群組於該荷重承載結構上。該第一計量裝置子群組與該光學元件群組的一第一光學元件子群組相關聯，及該第二計量裝置子群組與該光學元件群組的一第二光學元件子群組相關聯。
根據本發明之第三方面，其中提供一種包含一光學投影系統及一支撐結構系統的光學成像配置。該光學投影系統包含一光學元件群組，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上。該支撐結構系統包含一光學元件支撐結構及一計量支撐結構。該光學元件支撐結構支撐該光學元件群組，該計量支撐結構則支撐一計量裝置群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的定位及定向其中至少一個的狀態資訊。該光學 元件群組包含一第一光學元件子群組及一第二光學元件子群組。該計量裝置群組包含與該第一光學元件子群組相關聯的一第一計量裝置子群組及與該第二光學元件子群組相關聯的一第二計量裝置子群組。該計量支撐結構包含一第一計量支撐子結構及一第二計量支撐子結構，該第一計量支撐子結構支撐該第一計量裝置子群組於一荷重承載結構上，該第二計量支撐子結構支撐該第二計量裝置子群組於該荷重承載結構上。該計量裝置群組包含至少一個參考計量裝置(reference metrology device)經組態以擷取參考計量資訊，該參考計量資訊代表在該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向中其中至少一個。
根據本發明之第四方面，提供一種使用一計量系統決定一光學成像配置之一光學元件群組之狀態資訊的方法，該光學成像配置包含具有該光學元件群組的一光學投影系統，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案影像的一轉印至一基板上。該方法包含個別地支撐一計量裝置群組與該光學元件群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的定位及定向其中至少一個的狀態資訊。支撐該計量裝置群組的步驟包含藉由一第一計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第一計量裝置子群組於一荷重承載結構上，及藉由一第二計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第二計量裝置子群組於該荷重承載結構上。該第一計量裝置子群組與該光學元件群組的一第一光學元件子群組相關聯，該第二計量裝置子群組則與該光學元件群組的一第二光學元件子群組相關聯。該方法另外包含經由該計量裝置群組的至少一個參考計量裝置擷取參考計量資訊，該參考計量資訊代表在該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。該方法另外包含使用該參 考計量資訊、及由該計量裝置群組提供的進一步計量資訊決定該狀態資訊。
根據本發明之第五方面，提供一種光學成像方法，包含使用包含一光學元件群組的一光學成像配置在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上。在該曝光製程期間，使用根據本發明決定一光學元件群組之狀態資訊的方法，使用該光學元件群組的狀態資訊控制該光學成像配置的一主動組件。
應明白，支撐至少一光學元件群組的相應光學元件支撐結構及支撐與此光學元件群組相關聯之該等計量裝置的相應計量支撐結構較佳以一動力平行的方式個別地支撐於一承載結構上，該光學元件支撐結構及該計量支撐結構的至少一個(較佳每一個)較佳以一振動隔離方式個別地支撐於此承載結構上。
根據本發明之第六方面，提供一種光學成像配置包含：一光學投影系統及一支撐結構系統，該光學投影系統包含一光學元件群組，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上，該支撐結構系統包含一光學元件支撐結構及一計量支撐結構。該光學元件支撐結構支撐該光學元件群組，該計量支撐結構則支撐一計量裝置群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的定位及定向其中至少一個的狀態資訊。該光學元件群組包含一第一光學元件子群組及一第二光學元件子群組，該計量裝置群組則包含與該第一光學元件子群組相關聯的一第一計量裝置子群組及與該第二光學元件子群組相關聯的一第二計量裝置子群組。該計量支撐結構包含一第一計量支撐子結構及一第二計量支撐子結構，該第一計量支撐子結構支撐該第一計量裝置子群組，該第二計量支撐子結構支撐該第二計量裝置子群組。該第一計量支撐子結構、及該第二計量支撐結構個別地支撐於該支撐結構系統之一荷重承載結構上，該第一計量支撐子結構經由一第一 振動隔離裝置(vibration isolation device)支撐於該荷重承載結構上及/或該第二計量支撐子結構經由一第二振動隔離裝置支撐於該荷重承載結構上。
根據本發明之第七方面，提供一種支撐一光學成像配置之一計量系統的方法，該光學成像配置包含具有一光學元件群組的一光學投影系統，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上。該方法包含個別地支撐一計量裝置群組與該光學元件群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的定位及定向其中至少一個的狀態資訊。支撐該計量裝置群組的步驟包含個別地藉由一第一計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第一計量裝置子群組於一荷重承載結構上，及藉由一第二計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第二計量裝置子群組於該荷重承載結構上。該第一計量裝置子群組與該光學元件群組的一第一光學元件子群組相關聯，及該第二計量裝置子群組與該光學元件群組的一第二光學元件子群組相關聯。該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構中的至少一個以一振動隔離方式在一振動隔離頻率下支撐於該荷重承載結構上，振動隔離諧振頻率範圍(vibration isolation resonant frequency range)較佳選自一振動隔離諧振頻率範圍群組，該振動隔離諧振頻率範圍群組由0.5Hz至8.0Hz之一範圍、1.0Hz至6.0Hz之一範圍、及2.0Hz至5.0Hz之一範圍組成。
從附屬申請專利範圍及以下參考附圖之較佳具體實施例的說明中，將明白本發明的更多方面及具體實施例。所揭示特徵的所有組合無論是否在申請專利範圍中明確列舉，均在本發明之範疇內。
101‧‧‧光學成像配置/光學曝光設備/微影設備/光學成像設備
102‧‧‧光學投影單元
102.1‧‧‧光學元件支撐結構/投影光學器件箱結構(POB)
103‧‧‧遮罩單元
103.1‧‧‧遮罩
103.2‧‧‧遮罩台
103.3‧‧‧遮罩台支撐裝置
104‧‧‧基板單元
104.1‧‧‧基板
1042‧‧‧基板台
104.3‧‧‧基板台支撐裝置
105‧‧‧照射系統
105.1‧‧‧主光線/曝光光
106.1-106.6‧‧‧光學元件單元/反射鏡
106.7‧‧‧第一光學元件子群組
106.8‧‧‧第二光學元件子群組
107‧‧‧荷重承載結構
108.1-108.6‧‧‧支撐裝置
109‧‧‧控制單元
110‧‧‧計量配置
110.1-110.6‧‧‧計量裝置
110.7‧‧‧第一計量裝置子群組
110.8‧‧‧第二計量裝置子群組
110.9‧‧‧參考計量裝置
111‧‧‧地面或底座結構
112‧‧‧投影系統計量支撐結構
112.1‧‧‧第一計量支撐子結構
112.2‧‧‧第二計量支撐子結構
112.3‧‧‧質量重心
1124‧‧‧質量重心
112.5‧‧‧第一荷重承載介面裝置
112.6‧‧‧第二荷重承載介面裝置
112.7‧‧‧第一核心結構
112.8‧‧‧第二核心結構
112.9‧‧‧第一支撐臂
112.10‧‧‧第二支撐臂
115.1‧‧‧感測頭
115.2‧‧‧參考元件
116.1‧‧‧第一振動隔離裝置
1162‧‧‧第二振動隔離裝置
1171‧‧‧第一參考計量單元/感測頭
117.2‧‧‧第二參考計量單元/參考元件
118‧‧‧第一測試總成
119‧‧‧測試荷重承載結構
120‧‧‧第二測試總成
121‧‧‧測試荷重承載結構
201‧‧‧光學成像配置/微影設備
206.9‧‧‧剩餘光學元件子群組
210‧‧‧計量配置
210.9‧‧‧參考計量裝置
210.10‧‧‧計量裝置子群組
222.1‧‧‧感測頭
222.2‧‧‧參考元件
301‧‧‧微影設備/光學成像配置
306.6‧‧‧光學元件
306.7‧‧‧第一光學元件子群組
306.8‧‧‧第二光學元件子群組
306.9‧‧‧光學元件
306.10‧‧‧第三光學元件子群組
310.6‧‧‧第二相對參考計量單元
310.7‧‧‧第一計量裝置子群組
310.9‧‧‧第一相對參考計量單元
310.10‧‧‧第二計量裝置子群組
310.11‧‧‧參考計量單元
310.12‧‧‧第三計量裝置子群組
310.13‧‧‧另一參考計量單元
312‧‧‧投影系統計量支撐結構
312.1‧‧‧第一計量支撐子結構
312.2‧‧‧第二計量支撐子結構
312.11‧‧‧第三計量支撐子結構
401‧‧‧光學成像配置
406.7‧‧‧第一光學元件子群組
406.8‧‧‧第二光學元件子群組
410.9‧‧‧第一參考計量裝置
410.14‧‧‧另一參考計量單元
412.1‧‧‧第一計量支撐子結構
412.2‧‧‧第二計量支撐子結構
412.11‧‧‧第三計量支撐子結構
P1‧‧‧第一荷重承載介面平面
P2‧‧‧第二荷重承載介面平面
圖1是根據本發明之光學成像配置之較佳具體實施例的示意圖，可用該光學成像配置執行根據本發明之方法的較佳具體實施例。
圖2是圖1之光學成像配置之一部分的示意圖。
圖3是圖2之光學成像配置之一部分的機械方塊圖。
圖4是在預先裝配測試狀態中之圖2之光學成像配置之一部分的示意圖。
圖5是根據本發明決定光學元件群組之狀態資訊之方法之較佳具體實施例的方塊圖，其包括可用圖1之光學成像配置執行之支撐根據本發明之計量系統之方法的較佳具體實施例。
圖6是根據本發明之光學成像配置之另一較佳具體實施例之一部分的示意圖，可用該光學成像配置執行根據本發明之方法的其他較佳具體實施例。
圖7是圖6之光學成像配置之一部分的機械方塊圖。
圖8是根據本發明之光學成像配置之另一較佳具體實施例之一部分的機械方塊圖。
圖9是根據本發明之光學成像配置之另一較佳具體實施例之一部分的機械方塊圖。
【第一具體實施例】
下文中，將參考圖1至5說明根據本發明之光學成像配置101的較佳第一具體實施例，可用該光學成像配置執行根據本發明之方法的較佳具體實施例。為有助於理解以下解說，在圖中使用xyz座標系統，其中z方向代表垂直方向(即，重力方向)。
圖1是形式為光學曝光設備101之光學成像配置的示意圖且未按比例繪製，光學曝光設備101在波長13nm的EUV範圍中操作。光學曝光設備101包含光學投影單元102，其適於將遮罩103.1(設置於遮罩單元103的遮罩台103.2上)上形成的圖案影像轉印於基板104.1(設置於基板單元104 的基板台104.2上)上。為此，光學曝光設備101包含照射系統105，其經由適當的光導系統(未顯示)照射反射性遮罩103.1。光學投影單元102接收從遮罩103.1反射的光(由其主光線105.1表示)，及將遮罩103.1上形成的圖案影像投影於基板104.1(如，晶圓或類似物)上。
為此，光學投影單元102固持光學元件單元106.1至106.6的光學元件單元群組106。此光學元件單元群組106固持在光學元件支撐結構102.1內。光學元件支撐結構102.1可採取光學投影單元102之外殼結構的形式，其在下文中又稱為「投影光學器件箱結構(projection optics box，POB)」102.1。然而，應瞭解，此光學元件支撐結構不一定要形成光學元件單元群組106之完整或甚至緊密的密封體。而是，其亦可局部形成為開放結構，如本實例的情況。
應瞭解，就本發明的意義而言，光學元件單元可僅由光學元件(諸如反射鏡)組成。然而，此類光學元件單元亦可包含其他組件，諸如固持此類光學元件的支架(holder)。
投影光學器件箱結構102.1以一振動隔離方式支撐於荷重承載結構107上，荷重承載結構107繼而支撐於地面或底座結構111上。荷重承載結構107以一振動隔離方式在一振動隔離諧振頻率下支撐於地面或底座結構111上，振動隔離諧振頻率介於0.05Hz至8.0Hz、較佳介於0.1Hz至1.0Hz、更佳介於0.2Hz至0.6Hz。此外，通常，選擇阻尼比介於5%至60%、較佳介於10%至30%、更佳介於20%至25%。在本實例中，選擇阻尼比15%至35%的振動隔離諧振頻率0.25Hz至2Hz用於荷重承載結構107的振動隔離支撐。
地面或底座結構111(以一振動隔離方式)亦經由遮罩台支撐裝置103.3支撐遮罩台(mask table)103.2及經由基板台支撐裝置104.3支撐基板台(substrate table)104.2。然而，應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，荷重承載結構107亦可支撐(較佳以一振動隔離方式)遮罩台103.2及基板台 104.2。
應瞭解，投影光學器件箱結構102.1可經由複數個振動隔離裝置及至少一個中間支撐結構單元以串接的方式(cascaded manner)支撐，以達成良好的振動隔離。這些振動隔離裝置一般可具有不同的隔離頻率，以達成在一廣泛頻率範圍上的良好振動隔離。
光學元件單元群組106總共包含六個光學元件單元，即：第一光學元件單元106.1、第二光學元件單元106.2、第三光學元件單元106.3、第四光學元件單元106.4、第五光學元件單元106.5及第六光學元件單元106.6。在本具體實施例中，光學元件單元106.1至106.6之各者由反射鏡形式的光學元件組成，在下文中又稱為「反射鏡M1至M6」。
在本具體實施例中，就本發明的意義而言，反射鏡106.2(M2)、反射鏡106.3(M3)及反射鏡106.4(M4)形成第一光學元件子群組106.7，而反射鏡106.1(M1)、反射鏡106.5(M5)及反射鏡106.6(M6)形成第二光學元件子群組106.8。
然而，應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，(如上述)相應光學元件單元(除了光學元件本身之外)亦可包含更多組件，諸如孔徑光闌(aperture stop)、固持光學元件及最後形成連接光學元件單元與支撐結構之支撐單元之介面的支架或扣件(retainer)。
另外，應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，可使用另一數量的光學元件單元。較佳提供四到八個光學元件單元。
反射鏡106.1(M1)至106.6(M6)之每一者由相關聯支撐裝置108.1至108.6支撐於由投影光學器件箱結構102.1形成的支撐結構上。支撐裝置108.1至108.6之每一者係形成為主動裝置(active device)，使得在定義控制頻寬(defined control bandwidth)下主動支撐反射鏡106.1至106.6之各者。
在本實例中，光學元件單元106.6是形成光學元件單元群組106之第一光學元件單元之較大且較重的組件，其他光學元件單元106.1至 106.5則形成光學元件單元群組106的複數個第二光學元件單元。以較低第一控制頻寬主動支撐第一光學元件單元106.6，並以第二控制頻寬主動支撐第二光學元件單元106.1至106.5，以實質上維持第二光學元件單元106.1至106.5之各者相對於第一光學元件單元106.6的給定空間關係，如2012年3月3日申請的國際專利申請案PCT/EP2012/053743中所揭示(其全文以引用的方式併入本文中)。
在本實例中，針對遮罩台支撐裝置103.3及基板台支撐裝置104.3選用類似的主動支撐概念，亦分別在第三及第四控制頻寬下主動支撐這兩個支撐裝置，以實質上維持遮罩台103.2及基板台104.2分別相對於第一光學元件單元106.6的給定空間關係。然而，應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，可針對遮罩台及/或基板台選用另一支撐概念。
如將在下文進一步詳細解說，由控制單元109依據計量配置110的信號對主動支撐裝置108.1至108.6、103.3及104.3實行控制。按照以下方式對參與成像製程的組件實行調整控制。
為達成主動低頻寬支撐(active low bandwidth support)，組態及控制第一光學元件單元106.6、第一光學元件單元106.6的第一支撐裝置108.6，以在介於5Hz至100Hz(較佳介於40Hz至100Hz)的第一調整控制頻寬下，提供第一光學元件單元106.6相對於計量配置110之一組件的調整。
此外，為達成主動支撐，分別組態及控制第二光學元件單元106.1至106.5、遮罩台103.2及基板台104.2、第二光學元件單元106.1至106.5之第二支撐裝置108.1至108.5之各者、以及遮罩台支撐裝置103.3及基板台支撐裝置104.3，以在分別介於5Hz至400Hz(較佳介於200Hz至300Hz)的第二、第三及第四調整控制頻寬下，分別提供相應相關聯光學元件單元106.1至106.5、遮罩台103.2及基板台104.2的調整。應瞭解，在本發明的特定具體實施例中，第二控制頻寬可在第二支撐裝置108.1至108.5當中有所變化。
本具體實施例因此遵循與習用設計相比已經修改的支撐策 略，根據該策略，以控制的方式在低頻寬(在此頻寬下可輕易達成對光學元件單元106.6的控制)下主動支撐較大及較重的第一光學元件單元106.6(其在達到EUV微影中一般所需的高控制頻寬時引起最嚴重的問題)，同時控制參與曝光製程的其他組件，即：第二光學元件單元106.1至106.5、遮罩台103.2及基板台104.2，以維持相對於第一光學元件單元106.6及因此相對於彼此之充分穩定及精確的空間關係。
因此，儘管在本實例中，主動控制參與成像製程的所有組件(即，反射鏡106.1至106.6、遮罩103.1及基板104.1)的事實，但第一光學元件單元106.6的調整控制頻寬需求大幅放寬明顯超越主動支撐個別組件的費用增加。尤其，與其中一般使用調整控制頻寬200Hz至300Hz且將其視為必要(由於較大光學覆蓋區組件的較低諧振頻率，很難對該等組件達到此控制頻寬)的習用系統相比，大幅促進諸如第六反射鏡106.6(其光學覆蓋區多達1.5m×1.5m及質量多達350kg)之較大光學覆蓋區組件的調整控制。
遮罩103.1上形成的圖案影像通常大小減少後才轉印於基板104.1的若干目標區域。取決於光學曝光設備101的設計，遮罩103.1上形成的圖案影像可以兩個不同方式轉印於基板104.1上的相應目標區域。如果將光學曝光設備101設計為所謂的晶圓步進機設備，則藉由輻照遮罩103.1上形成的整個圖案，以一單一步驟將整個圖案影像轉印於基板104.1上的相應目標區域。如果將光學曝光設備101設計為所謂的步進掃描設備，則藉由在投影光束下漸進式掃描遮罩台103.2及因此掃描遮罩103.1上形成的圖案，且同時實行基板台104.2及因此基板104.1的對應掃描移動，將圖案影像轉印於基板104.1上的相應目標區域。
在這兩個例子中，為獲得高品質成像結果，必須將參與曝光製程之組件間(即，在光學元件單元群組106(即，反射鏡106.1至106.6)的光學元件之間)相對於彼此以及相對於遮罩103.1及相對於基板104.1的給定空間關係維持在預定限制(predetermined limit)內。
在光學曝光設備101操作期間，反射鏡106.1至106.6相對於彼此以及相對於遮罩103.1及基板104.1的相對定位容易遭受因引入系統之固有及非固有干擾所引起的變更。此類干擾可以是因系統本身內產生且亦經由系統周遭(如，荷重承載結構107，其本身係支撐於地面結構111上)引入的力所引起的機械干擾，如，其形式為振動。此類干擾亦可以是熱致干擾，如，由於系統零件熱膨脹所造成的定位變更。
為了保持反射鏡106.1至106.6相對於彼此以及相對於遮罩103.1及基板104.1之空間關係的以上預定限制，反射鏡106.1至106.6之每一者分別經由其支撐裝置108.1至108.6在空間中主動定位。同樣地，遮罩台103.2及基板台104.2分別經由相應的支撐裝置103.3及104.3在空間中主動定位。
下文中，將參考圖1及2說明參與成像製程之組件106.1至106.6、103.1及104.1之空間調整的控制概念。如上文所提，使用連接的控制單元109及在上文描述的特定調整控制頻寬下提供對應的控制信號給支撐裝置108.1至108.6、103.3及104.3之每一者(在圖1中以控制單元109及相應支撐裝置處的實線及虛線指示)，以所有六個自由度控制組件106.1至106.6、103.1及104.1的調整。
然而，應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，不需要針對參與成像製程的特定組件或甚至所有組件提供所有六個自由度的主動調整控制。例如，在對於(參與成像製程之個別或甚至所有組件之)僅在某些自由度的變更具有相關敏感度之成像誤差特性的成像配置特定設計下，僅考慮及(如果需要)控制相關組件在這些特定自由度的調整即已足夠，而其他自由度由於不會影響成像品質則可忽略。
在本實例中，控制單元109依據計量配置110的計量信號產生其控制信號；就本發明的意義而言，計量配置110擷取代表組件106.1至106.6、103.1及104.1之每一者在所有六個自由度之定位及定向(如圖1及2中 的虛線所示)的資訊作為狀態資訊。
如上文所提，計量配置110使用較大光學覆蓋區的第六反射鏡106.6作為慣性參考(inertial reference)(即，作為參考光學元件單元)，參與成像製程的所有其他組件106.1至106.5、103.1及104.1均參考此慣性參考。如圖l中所見，在將遮罩103.1上形成的圖案影像轉印於基板104.1上時，光路徑中的第六反射鏡106.6是由曝光光105.1最後擊中的最終反射鏡單元。
為此，計量配置110包含：在機械上連接至投影系統計量支撐結構112(其繼而由荷重承載結構107支撐)的計量裝置群組110.1至110.6，以及與遮罩台103.2及基板台104.2(分別如圖1(高度示意性)所示)相關聯的其他計量裝置。
應注意，支撐光學元件群組(即，在本實例中，反射鏡群組106)的光學元件支撐結構(即，在本實例中，投影光學器件箱結構102.1)及支撐與此光學元件群組(即，在本實例中，反射鏡群組106)相關聯的計量裝置(即，在本實例中，計量裝置110.1至110.6)的相應計量支撐結構(即，在本實例中，計量支撐結構112)較佳以一動力平行的方式個別地支撐於另一支撐或底座結構(即，在本實例中，荷重承載結構107)上，如本實例中的情況。光學元件支撐結構及計量支撐結構之一者或各者(如本實例)較佳以一振動隔離方式個別地支撐於此承載結構107上(亦如本實例中的情況)。
在本具體實施例中，各計量裝置110.1至110.6包含複數個感測頭115.1，其在機械上連接至投影系統計量支撐結構112並與在機械上直接連接至相應反射鏡106.1至106.6的相關聯參考元件115.2協作(cooperate)。計量裝置113及114分別也是同樣的道理。
術語「在機械上直接連接」就本發明的意義而言應視為在兩個零件之間的直接連接，包括(如果有的話)在零件之間的短距離，從而允許藉由測量一個零件的定位，可靠地決定另一個零件的定位。尤其，此術語意謂著並沒有例如由於熱或振動效應而於定位決定中引入不確定性的其他 零件的介入(interposition)。應瞭解，在本發明的特定具體實施例中，參考元件115.2不一定是連接至反射鏡的獨立組件，而是可直接或一體形成於反射鏡的表面上，如，在製造反射鏡後以獨立製程形成的光柵或類似物。
在本具體實施例中，計量裝置110.1至110.6、113及114根據編碼器原理(encoder principle)操作，即，感測頭朝結構化表面發射感測光束，然後偵測從參考元件之結構化表面反射的讀取光束。結構化表面例如可以是包含一系列平行線(一維光柵)或互相傾斜線的網格(二維光柵)等的光柵。基本上從計算感測光束通過的直線擷取定位變更，這可從經由讀取光束達成的信號導出。
然而，應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，除了編碼器原理外，可單獨使用或以任意組合使用任何其他類型的無接觸測量原理(諸如，干涉測量原理、電容測量原理、感應測量原理等)。然而，亦應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，亦可使用任何合適的接觸式計量配置。作為接觸式工作原理，例如可使用磁致伸縮或電致伸縮工作原理(magnetostrictive or electrostrictive working principle)等。尤其，可依據精確度需求，選用工作原理。
在所有六個自由度中，與第六反射鏡106.6(M6)相關聯的計量裝置110.6擷取投影系統計量支撐結構112及形成慣性參考之第六反射鏡106.6(M6)間之第一空間關係。此外，(在所有六個自由度中)與參與成像製程的其他組件106.1至106.5、103.1及104.1相關聯的計量裝置110.1至110.5、113及114擷取在投影系統計量支撐結構112.1及相關聯組件106.1至106.5、103.1及104.1之間的第二空間關係。
最後，計量配置110使用第一空間關係及第二空間關係，決定第六反射鏡106.6及相應其他組件106.1至106.5、103.1及104.1之間的空間關係。接著將對應的計量信號提供給控制單元109，其繼而依據這些計量信號，產生相應支撐裝置108.1至108.6、103.3及104.3的對應控制信號。
應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，亦可直接測量中央參考元件(如，第六反射鏡M6)及參與成像製程之相應其他組件的任何一者(如，反射鏡106.1至106.5、遮罩103.1及基板104.1)之間的空間關係。取決於空間邊界條件，亦可使用此直接及間接測量的任意組合。
在顯示的具體實施例中，依據代表計量結構及第六反射鏡106.6間之第一空間關係的計量信號，控制單元109產生第六反射鏡106.6(就本發明的意義而言，即參考元件)之支撐裝置108.6的對應控制信號，以在上述第一調整控制頻寬下(介於5Hz至100Hz，較佳介於40Hz至100Hz)，相對於計量配置110的投影系統計量支撐結構112，調整第六反射鏡106.6。
關鍵第一光學元件單元106.6之此低頻寬控制提供第一光學元件單元106.6相對於計量支撐結構112的低頻寬漂移控制。換言之，其允許第一光學元件單元106.6遵循計量裝置110.6(其擷取第一光學元件單元106.6及投影系統計量支撐結構112間之空間關係)之計量支撐結構112的對應低頻運動。以此方式，可以極有利的方式避免第一光學元件單元106.6及計量單元110.1之投影系統計量支撐結構112.1間超出計量單元110.1之擷取裝置之擷取範圍的過度相對運動，或換言之，避免感測器範圍問題。
應瞭解，如由於直接在曝光製程前的測量操作而已知基板台104.2及基板104.1之間的空間關係。遮罩台103.2及遮罩103.1之間的空間關係也是同樣的道理。因此，分別連接至遮罩台103.2及基板台104.2的相應參考元件亦允許擷取分別在參考反射鏡106.6與遮罩103.1及基板104.1之間的空間關係。
結果，儘管目前一般必須主動控制參與曝光製程之所有組件的事實，仍可以極為有利的方式大幅放寬最關鍵第一光學元件單元106.6的控制頻寬需求。此正面效應一般大幅超越主動支撐所有組件的費用增加。
因此，例如，與個別光學元件單元一般使用調整控制頻寬200Hz至300Hz且將此調整控制頻寬視為必要的習用系統相比，在本發明中， 關鍵的第一光學元件單元106.6可使用明顯較低的調整控制頻寬，如，在5Hz至100Hz之間，較佳在40Hz至100Hz之間，而參與成像製程的所有其他組件(即，光學元件單元106.1至106.5、遮罩單元103.1及基板單元104.1)則可以習用所要的較高調整控制頻寬(例如200Hz至400Hz)來控制，以提供相對於由第一光學元件單元106.6形成之慣性參考的正確對準。
應進一步瞭解，上述(間接)測量概念具有以下優點：計量單元110.1之投影系統計量支撐結構的瞬時剛體定位及定向，尤其是引入計量單元110.1之計量結構的振動干擾本質上是不相關的，只要投影系統計量支撐結構112.1為充分剛性以大體上避免計量支撐結構112的變形即可。尤其，必須減少用於穩定投影系統計量支撐結構112在空間中的定位及/或定向的工作量。然而，通常，如本具體實施例，投影系統計量支撐結構112仍可以一振動隔離方式支撐。
根據本發明，系統101的光學效能係藉由以下方式進一步改良：將投影系統計量支撐結構112分割成複數個個別計量支撐子結構112.1及112.2(各支撐計量裝置110.1至110.6之一子群組，計量裝置110.1至110.6之各子群組與反射鏡106.1至106.6的子群組相關聯)，進一步減少或大幅消除導致投影系統計量支撐結構112之半靜態變形的低頻振動影響。
更準確地說，如圖2中所見(僅顯示投影系統102在此背景中相關的零件)，在本實例中，第一計量裝置子群組110.7(包含計量裝置110.2、110.3及110.4)與第一光學元件子群組106.7(包含反射鏡106.2、106.3及106.4)相關聯且由第一計量支撐子結構112.1支撐。第二計量裝置子群組110.8(包含計量裝置110.1、110.5及110.6)與第二光學元件子群組106.8(包含反射鏡106.1、106.5及106.6)相關聯並由第二計量支撐子結構112.2支撐。
此將投影系統計量支撐結構112分割成個別較小子結構112.1及112.2具有極大的優點：這些子結構112.1及112.2因為其大小減少而可更容易地設計為剛性增加及因此諧振頻率增加的組件。與習用投影系統計 量支撐結構的單件剛性結構設計(其中，例如，支撐結構112由單塊組件(monolithic component)或複數個剛性連接組件製成)相比，子結構112.1及112.2之此剛性及諧振頻率增加將導致這些支撐子結構112.1及112.2對低頻振動干擾的敏感性明顯降低。
結果，與習用的單件剛性計量支撐結構相比，相應支撐子結構112.1及112.2之低頻振動引致的半靜態變形大幅減少。這減少計量裝置110.1至110.6由投影系統計量支撐結構112的半靜態變形造成定位及/或定向變更所引起的測量誤差，因而改良計量裝置110.1至110.6所達成的測量精確度。這最終以有利的方式導致控制製程的精確度改良，及因此改良成像配置101的總成像精確度。
在本實例中，第一計量支撐子結構112.1及第二計量支撐結構112.2以個別振動隔離的方式個別地支撐於荷重承載結構107上。為此，第一計量支撐子結構112.1經由第一振動隔離裝置116.1支撐於荷重承載結構107上，第二計量支撐子結構112.2則經由第二振動隔離裝置116.2支撐於荷重承載結構107上。
第一振動隔離裝置116.1及第二振動隔離裝置116.2各具有在0.5Hz至8.0Hz之振動隔離諧振頻率範圍中的振動隔離諧振頻率。相應的振動隔離諧振頻率較佳介於1.0Hz至6.0Hz、更佳介於2.0Hz至5.0Hz。此外，通常，選擇阻尼比介於5%至60%、較佳介於10%至30%、更佳介於20%至25%。在本實例中，選擇阻尼比15%至35%的振動隔離諧振頻率2.0Hz至6.0Hz用於第一振動隔離裝置116.1及第二振動隔離裝置116.2。在這些頻率範圍及阻尼比下，達成相應計量支撐子結構112.1及112.2之尤其良好的低頻振動隔離，進而有利地減少低頻振動的影響。
尤其有利的是，儘可能將支撐力分別引入相應計量支撐子結構112.1及112.2接近其質量重心(mass center of gravity)112.3及112.4處。此支撐通常導致低頻振動振幅減少。
因此，在本實例中，為達成相應計量支撐子結構112.1及112.2之尤其良好的低頻振動特性，第一計量支撐子結構112.1具有複數個第一荷重承載介面裝置(load bearing interface device)112.5，其接觸第一振動隔離裝置116.1及因此在將第一計量支撐子結構112.1支撐於荷重承載結構107上時用以將支撐力引入第一計量支撐子結構112.1。
此外，第二計量支撐子結構112.2具有複數個第二荷重承載介面裝置112.6，其接觸第二振動隔離裝置116.2及因此在將第二計量支撐子結構112.2支撐於荷重承載結構107上時用以將支撐力引入第二計量支撐子結構112.2。
為達成上述的有利支撐，將第一荷重承載介面裝置112.5配置成其定義第一荷重承載介面平面(load bearing interface plane)P1，該平面係設置為實質上與第一計量支撐子結構112.1的質量重心112.3重合。同樣地，將第二荷重承載介面裝置112.6配置成其定義第二荷重承載介面平面P2，該平面係設置為實質上與第二計量支撐子結構112.2的質量重心112.4重合。
應注意，在光學成像設備101操作期間，計量支撐子結構112.1及112.2的個別(較佳為振動隔離)支撐通常將在個別計量支撐子結構112.1及112.2(及因此在其上支撐之相應計量裝置子群組110.7及110.8)之間在一或多個自由度(其與光學成像設備101之成像誤差有關的)中導致漂移。
因此，在許多情況中，可能需要提供某額外計量配置，以決定在空間中由相應計量支撐子結構以所有自由度(DOF)支撐之計量裝置子群組之間的空間關係；該等計量支撐子結構在用成像設備101(即，以至少一或多個自由度，通常以所有六個自由度)執行的特定成像製程中與成像品質有關。
然而，如上述，因相應支撐子結構112.1及112.2的半靜態變形明顯著減少所達成的好處，及其在成像精確度上以及有關相應子結構最終振動隔離支撐之需求放寬的明顯好處，大幅超越計量系統之此額外工作 量。
因此，如圖2及3中所見，在本具體實施例中，提供參考計量裝置110.9，其經組態以擷取代表第一計量支撐子結構112.1及第二計量支撐子結構112.2之間在所有六個自由度的相對定位(又稱為參考定位)及相對定向(又稱為參考定向)的參考計量資訊。
使用此參考計量資訊，控制單元109(假設有無限剛性的第一及第二計量支撐子結構112.1及112.2)可計算所有計量裝置110.1至110.6在所有六個自由度的實際相對定位及相對定向。
如圖2中所見，參考計量裝置110.9包含第一參考計量單元117.1及第二參考計量單元117.2，其經組態以在提供此參考計量資訊中協作。更準確地說，第一參考計量單元包含複數個感測頭117.1，其在機械上連接至第一計量支撐子結構112.1，且其各者與在機械上直接連接至第二計量支撐子結構112.2之第二參考計量單元的相關聯參考元件117.2協作。
感測頭117.1及相關聯參考元件117.2以相同方式設計並提供上述感測頭115.1及參考元件115.2之相同功能性。因此，為避免重複，請參考上文在這些組件115.1及115.2的背景下提供的解說。
應瞭解，在此同樣地，在本發明的其他具體實施例中，除了編碼器原理外，可單獨使用或以任意組合使用任何其他類型的無接觸測量原理(諸如，干涉測量原理、電容測量原理、感應測量原理等)。然而，亦應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，亦可使用任何合適的接觸式計量配置。作為接觸式工作原理，例如可使用磁致伸縮或電致伸縮工作原理等。尤其，可依據精確度需求，選用工作原理。
如另外在圖2中所見，與習用單件剛體設計相比，投影系統計量支撐結構112的分割設計允許較輕量的設計，其中相應第一及第二計量支撐子結構112.1及112.2僅包含核心結構(core structure)及從此核心結構突出的複數個支撐臂(support arm)。
更準確地說，第一計量支撐子結構112.1包含第一核心結構112.7，而第二計量支撐子結構112.2包含第二核心結構112.8。第一核心結構112.7攜載複數個第一支撐臂112.9，第二核心結構112.8則攜載複數個第二支撐臂112.10。
第一支撐臂112.9之各者在其自由端的範圍中攜載第一計量裝置子群組110.7之感測頭115.1的一或多個。為提供良好的動態特性(及因此，感測頭115.1的高穩定支撐)，將各第一支撐臂112.9設計為較短且剛性的組件。
為此，各第一支撐臂112.9具有第一最大臂尺寸，其介於第一核心結構112.7之第一最大核心結構尺寸的5%至150%。第一最大臂尺寸較佳介於第一最大核心結構尺寸的20%至120%、更佳介於第一最大核心結構尺寸的30%至100%。
相應的第二支撐臂112.10也是同樣的道理。因此，各第二支撐臂112.10較佳具有第二最大臂尺寸，其介於第二核心結構112.8之第二最大核心結構尺寸的5%至150%。第二最大臂尺寸較佳介於第二最大核心結構尺寸的20%至120%、更佳介於第二最大核心結構尺寸的30%至100%。
很明顯地，與習用設計相比，採用計量支撐結構112之此分割設計，尤其在兩個計量支撐子結構112.1及112.2係設置彼此相鄰的中心區中，可省去大量的結構組件或材料。僅需要相應核心結構112.7及112.8分別提供相應計量支撐子結構112.1及112.2的基本結構穩定性，同時除了分別較纖細且輕量但卻高度剛性支撐臂112.9及112.10之外，可省掉任何更多結構元件或組件。因此，與習用單件設計相比，可達成明顯較輕量及最終更剛性的結構。
如從圖2看得更加清楚，投影系統計量支撐結構112定義一組三個正交方向，即寬度方向(x軸)、深度方向(y軸)及高度方向(z軸)。很明顯地，投影系統計量支撐結構112的高度尺寸是投影系統計量支撐結構112在 這三個正交方向之一者中的最大尺寸。因此，就本發明的意義而言，高度方向代表最大尺寸方向。
根據本發明，較佳地且如本實例，選擇計量支撐子結構112.1及112.2之間的分割線，致使第一計量支撐子結構112.1及第二計量支撐子結構112.2在此最大尺寸方向中係設置相鄰。結果，在本實例中，第一計量支撐子結構112.1在高度方向(為最大尺寸方向)中係設置在第二計量支撐子結構上方。
然而，應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，可選擇計量支撐子結構之間之分割線的另一位置。例如，在計量支撐結構的最顯著尺寸中是在寬度方向(即，x軸是最大尺寸方向)及/或深度方向(即，y軸是最大尺寸方向)中，分割較佳致使第一及第二計量支撐子結構係以相同高度水平並排設置。
如圖2中所見，第一計量支撐子結構112.1及第二計量支撐子結構112.2分別在高度方向(即，在z軸為最大尺寸方向的方向中)中，具有尺寸僅為其在其他兩個正交方向(即，在x軸及y軸的方向中)之尺寸的某個分率。此分率較佳介於20%至80%、更佳介於30%至70%、甚至更佳介於40%至60%，藉此在結構穩定性及輕量設計之間達成良好折衷。
應瞭解，可選擇任何所要及適當材料用於相應支撐結構、尤其用於投影系統計量支撐結構112。例如，對於相應的支撐結構，尤其是需要較低重量之較高剛性的支撐結構，可使用如鋁的金屬。應瞭解，較佳取決於支撐結構的類型或功能，選擇支撐結構的材料。
尤其，對於投影光學器件箱結構102.1而言，較佳使用鋼、鋁(Al)、鈦(Ti)、所謂的鐵鎳合金(Invar-alloy)(即Ni佔有33%至36%的鐵鎳合金，如Fe64Ni36)及適當的鎢合金(tungsten alloy)(諸如DENSIMET®及INERMET®複合材料，即具有鎢含量大於90%及NiFe或NiCu黏著劑的重金屬)。
此外，對於投影系統計量支撐結構112而言，亦可有利地使用以下材料，諸如：矽熔滲碳化矽(silicon infiltrated silicon carbide，SiSiC)、碳化矽(SiC)、矽(Si)、碳纖維強化碳化矽(carbon fiber reinforced silicon carbide，C/CSiC)、氧化鋁(Al2O3)、Zerodur®(鋰鋁矽酸鹽玻璃陶瓷)、ULE®玻璃(二氧化鈦矽酸鹽玻璃(titania silicate glass))、石英、堇青石(Cordierite)(一種鎂鐵鋁環矽酸鹽(magnesium iron aluminium cyclosilicate))或另一具有低熱膨脹係數及高彈性模數的陶瓷材料。
在本實例中，投影光學器件箱結構102.1係以具有第一剛性之第一材料的鋼製成。以此方式，與例如以鋁製成的習用支撐結構相比，重量增加三倍，這在習用系統中通常不受支持。然而，由於本實例中遵循的非習用支撐策略，投影光學器件箱結構102.1的重量增加就振動特性而言是有利的。
此外，投影計量支撐結構112以具有第二剛性的第二材料製成，第二剛性比投影光學器件箱結構102.1之鋼材料的第一剛性高。如上文已經描述，投影計量支撐結構112.1之此高剛性是有利的。
應瞭解，使用本具體實施例的微影設備101，可獲得在所有相關自由度(通常在x方向及y方向中)在100pm以下的視線精確度。
如從圖4看得很清楚，採用根據本發明之投影系統計量支撐結構112的分割設計，可實施安裝於相應第一及第二計量支撐子結構112.1及112.2之第一及第二計量裝置子群組110.7及110.8的預測試例行工作。
這可在第一測試總成(test assembly)118中進行，其中第一光學元件群組106.7已經包括所有參考元件115.2的反射鏡106.2、106.3及106.4安裝於與投影光學器件箱結構102.1之對應零件完全相同的測試支撐結構(未顯示)。包括第一計量裝置子群組110.7之所有組件之完全預裝配的第一計量支撐子結構112.1接著支撐於與荷重承載結構107完全相同的測試荷重承載結構119上。
第二測試總成120也是同樣的道理，其中第二光學元件群組106.8已經包括所有參考元件115.2的反射鏡106.1、106.5及106.6安裝於與投影光學器件箱結構102.1之對應零件完全相同的測試支撐結構(未顯示)。包括第二計量裝置子群組110.8之所有組件之完全預裝配的第二計量支撐子結構112.2接著支撐於與荷重承載結構107完全相同的測試荷重承載結構121上。
在測試程序中，在真實操作條下在第一及第二計量裝置子群組110.7及110.8上執行測試例行工作。投影系統計量支撐結構112的分割設計提供對中央設置之計量裝置(尤其諸如第三反射鏡106.3(M3)及第六反射鏡106.6(M6))的容易可接近性，這在習用計量支撐結構的單件設計中幾乎(若要的話)無法接近。此大幅促進計量裝置子群組110.7及110.8的調整及校準。
採用圖1及2的光學成像設備101，可使用決定光學投影系統(使用根據本發明支撐計量系統的方法)之光學元件的狀態資訊之方法的較佳具體實施例，執行將圖案影像轉印至基板上的方法，如下文將參考圖1至5所說明。
在此方法之轉印步驟中，使用光學成像配置101的光學投影單元102，將遮罩103.1上形成的圖案影像轉印於基板104.1上。
為此，在該轉印步驟的擷取步驟S3中，使用擷取光學元件單元及參考單元間之空間關係作為狀態資訊的方法(如上文已經描述)，擷取參與成像製程之組件106.1至106.6、103.1及104.1之間的空間關係。在此擷取步驟S3期間，使用根據本發明的方法支撐計量裝置110.1至110.6，如上文已經描述。
在轉印步驟的控制步驟S4中，依據先前在擷取步驟S3中擷取的空間關係，控制基板台104.2、遮罩台103.2及其他反射鏡106.1至106.5相對於第六反射鏡106.6的定位及/或定向以及第六反射鏡106.6相對於計量單元110.1之計量結構的定位及/或定向，如上文已經描述。在曝光步驟中， 其緊接在控制步驟S4之後或最後與控制步驟S4重疊，接著使用光學成像配置101，將遮罩103.1上形成的圖案影像曝光於基板104.1上。
在控制步驟S4的局部步驟中，在空間中調整先前提供之具有遮罩103.1的遮罩單元103及具有基板104.1的基板單元104。應瞭解，亦可分別在實際定位擷取前的稍後時間點或甚至在曝光步驟前的稍後時間點，將遮罩103.1及基板104.1插入遮罩單元103及基板單元104中。
根據支撐根據本發明之光學投影單元之組件之方法的較佳具體實施例，在步驟S1，首先提供光學投影單元102的組件，及接著在步驟S2，支撐該等組件，如上文已經描述。為此，在該步驟S2中，在光學投影單元102的投影光學器件箱結構102.1內支撐及定位光學投影單元102的反射鏡106.1至106.6。在步驟S4中，接著在相應控制頻寬下，在投影光學器件箱結構102.1中主動支撐反射鏡106.1至106.6，以提供如上文在圖1及2背景中說明的組態。
在擷取步驟S3，使用計量配置110(先前在如上文在圖1至4背景中說明的組態中提供)。應瞭解，參考元件115.2可在更早的時間點與其上設置該等參考元件的相應反射鏡106.1至106.6一起提供。然而，在本發明的其他具體實施例中，參考元件115.2可在實際定位擷取前的稍後時間點與計量配置110的其他組件一起提供。
在擷取步驟S3中，擷取作為光學成像配置101之中央慣性參考的第六反射鏡106.6及基板台104.2、遮罩台103.2以及其他反射鏡106.1至106.5間之實際空間關係，如上文已經描述。
應瞭解，可在整個曝光製程中連續擷取：在第六反射鏡106.6及基板台104.2、遮罩台103.2及其他反射鏡106.1至106.5之間的實際空間關係，以及第六反射鏡106.6相對於計量支撐結構112的實際空間關係，及在計量支撐子結構112.1及112.2之間的實際空間關係。在控制步驟S4中，接著檢索及使用此連續擷取製程的最新結果。
如上述，在控制步驟S4中，接著依據先前在將遮罩103.1上形成的圖案影像曝光於基板104.1上的曝光步驟前擷取之此空間關係，控制基板台104.2、遮罩台103.2及反射鏡106.1至106.6的定位。
【第二具體實施例】
下文中，將參考圖6及圖7說明根據本發明之成像配置201的第二較佳具體實施例，可用該光學成像配置執行根據本發明之方法的較佳具體實施例。光學成像配置201在其基本設計及功能性上大體上對應於光學成像配置101，使得在此主要論及其差異。尤其，同樣的組件已給定同樣的參考符號，且相似的組件給定加上數值100的相同參考數字。除非下文提出明確有所區別的陳述，否則明確參考上文在關於這些組件之第一具體實施例的背景中提出的解說。
在光學成像配置201及光學成像配置101之間的唯一差異在於使用計量配置210之參考計量裝置210.9的概念有所區別。應瞭解，計量配置210可完全取代光學成像配置101中的計量配置110。
如圖6及7中所見，取代直接擷取在第一計量支撐子結構112.1及第二計量支撐子結構112.2之間的相對定位及相對定向(使用具有連接至第一計量支撐子結構112.1之感測頭117.1的參考計量單元及連接至第二計量支撐子結構112.2的相關聯參考元件117.2)，以間接方式完成在第一計量支撐子結構112.1及第二計量支撐子結構112.2之間在所有六個自由度的相對定位及相對定向的決定。
為此，參考計量裝置210.9包含：由複數個感測頭222.1形成的第一相對參考計量單元、由複數個相關聯參考元件222.2形成的第二相對參考計量單元、由第六計量裝置110.6之感測頭115.1形成的第三相對參考計量單元、及由第六計量裝置110.6之相關聯參考元件115.2形成的第四相對參考計量單元。
第一相對參考計量單元的感測頭222.1連接至第一計量支撐子結構112.1，而第二相對參考計量單元的相關聯參考元件222.2連接至(就本發明的意義而言)形成參考單元的第六反射鏡106.6(M6)。感測頭222.1及相關聯參考元件222.2以感測頭115.1及相關聯參考元件115.2的相同方式進行協作，如上文已經詳細描述。因此，就此而言，僅參考上文在第一具體實施例的背景中提供的解說。
因此，第一相對參考計量單元的感測頭222.1及第二相對參考計量單元的相關聯參考元件222.2進行協作，以提供代表第一計量支撐子結構112.1及第六反射鏡106.6(M6)之間在所有六個自由度的第一相對定位(又稱為第一相對參考定位)及第一相對定向(又稱為第一相對參考定向)的第一相對參考計量資訊。
第六計量裝置110.6以如第一具體實施例的背景中所說明的相同方式操作。因此，由第六計量裝置110.6的感測頭115.1形成的第三相對參考計量單元及由第六計量裝置110.6的相關聯參考元件115.2形成的第四相對參考計量單元亦進行協作，以提供代表第二計量支撐子結構112.2及第六反射鏡106.6(M6)之間在所有六個自由度的第二相對定位(又稱為第二相對參考定位)及第二相對定向(又稱為第二相對參考定向)的第二相對參考計量資訊。
控制單元109接著從該第一相對參考計量資訊及該第二相對參考計量資訊導出參考計量資訊(代表第一及第二計量支撐子結構112.1及112.2在所有六個自由度的相對定位及定向)。
應明白，在本發明的其他具體實施例中，參考單元不一定要是光學系統之最大及最慣性的光學元件。而是，可使用成像設備之任何其他合適、較佳充分動態穩定的組件。參考單元較佳由在計量支撐結構112外部的任何此合適組件形成。例如，如所提，其可以是光學投影系統的光學元件之一者。除了此替代選項外，參考單元較佳是光學投影系統之光學元 件當中被支撐以展示最大慣性的光學元件(及因此傾向於是動態最穩定的組件)。
參考單元較佳由成像設備中造成決定光學投影系統之所有光學元件之間在所有六個自由度的相對定位及定向所需之計量或感測器串列(在整個光學投影系統上)之最小平均的組件形成。
應明白，計量系統210的剩餘布局與第一具體實施例的計量系統110完全相同。因此，第一計量支撐子結構112.1另外攜載與第一光學元件子群組106.7相關聯的第一計量裝置子群組110.7。第二計量支撐子結構112.2攜載：由與中央參考單元(由光學元件106.6形成)相關聯的計量裝置110.6形成的第二相對參考計量單元，以及與第二光學元件子群組106.8之剩餘光學元件子群組206.9相關聯的計量裝置子群組210.10(屬於第二計量裝置子群組110.8)。
為使計量系統110對於由第六反射鏡106.6(M6)形成之參考單元的變形的敏感度儘可能降低，將第四相對參考計量單元(由感測頭115.1形成)及空間上相關聯的第二相對參考計量單元(由感測頭222.1形成)設置儘可能接近在一起。其較佳設置在介於參考單元106.6之最大尺寸之0%至20%的距離處。此距離較佳介於參考單元106.6之此最大尺寸的0%至10%、更佳介於0%至5%。在任何情況中，絕對距離較佳介於0mm至80mm、較佳介於0mm至50mm、更佳介於0mm至20mm。
應明白，在本發明的某些具體實施例中，如本具體實施例之背景中說明在某些自由度的相對定位及/或定向資訊的間接決定亦可與如第一具體實施例之背景中說明的直接決定組合。為此，感測頭117.1及相關聯參考元件117.2可用於某些自由度，如圖6中的虛線輪廓所示。
另應瞭解，使用本具體實施例的微影設備201，可獲得在所有相關自由度(通常在x方向及y方向中)在100pm以下的視線精確度。
另應瞭解，在此同樣地，亦可用微影設備201執行如上文在 圖5的背景中說明之根據本發明的方法。
【第三具體實施例】
下文中，將參考圖8說明根據本發明之光學成像配置301的第三較佳具體實施例，可用該光學成像配置執行根據本發明之方法的較佳具體實施例。光學成像配置301在其基本設計及功能性上大體上對應於光學成像配置201，使得在此主要論及其差異。尤其，同樣的組件已給定同樣的參考符號，且相似的組件給定加上數值100的相同參考數字。除非下文提出明確有所區別的陳述，否則明確參考上文在關於這些組件之第二具體實施例的背景中提出的解說。
在光學成像配置201及光學成像配置301之間的主要差異在於投影系統計量支撐結構312的分割設計有所區別。如圖8中所見，投影系統計量支撐結構312被分割成三個子結構，即第一計量支撐子結構312.1、第二計量支撐子結構312.2、及第三計量支撐子結構312.11。
如同在第二具體實施例，第一計量支撐子結構312.1攜載：與第一光學元件子群組306.7相關聯的第一計量裝置子群組310.7，以及與由第二光學元件子群組306.8之光學元件306.6形成之中央參考單元相關聯的第一相對參考計量單元310.9。
亦類似於第二具體實施例，第二計量支撐子結構312.2攜載：與由光學元件306.6形成之中央參考單元相關聯的第二相對參考計量單元310.6，以及與第二光學元件子群組306.8之剩餘光學元件306.9相關聯的第二計量裝置子群組310.10。
此外，以類似於第一具體實施例的方式，第二計量支撐子結構攜載另一參考計量單元310.11，其決定第二計量支撐子結構312.2及第三計量支撐子結構312.11之間在所有六個自由度的相對定位及定向(以上文在第一具體實施例的背景中針對參考計量單元110.9所說明的相同方式)。
最後，第三計量支撐子結構攜載第三計量裝置子群組310.12，其與第三光學元件子群組306.10相關聯並決定第三計量支撐子結構312.11及第三光學元件子群組306.10的光學元件之間在所有六個自由度的相對定位及定向。
作為替代選項，如圖8的虛線輪廓310.13所示，可省略參考計量單元310.11，及第三計量支撐子結構可攜載另一參考計量單元310.13，其決定第三計量支撐子結構312.11及由光學元件306.6形成之中央參考單元之間在所有六個自由度的相對定位及定向(以上文在第二具體實施例的背景中針對參考計量單元210.9所說明的相同方式)。
最後，作為另一替代選項，如圖8中的虛線輪廓310.13所示，可省略參考計量單元310.11，及第一計量支撐子結構312.1(或第三計量支撐子結構312.11)可攜載另一參考計量單元310.13，其決定第三計量支撐子結構312.11及第一計量支撐子結構312.1之間在所有六個自由度的相對定位及定向(以上文在第一具體實施例的背景中針對參考計量單元110.9所說明的相同方式)。
如同所有其他具體實施例，第三計量支撐子結構312.11與第一及第二計量支撐子結構312.1及312.2以一振動隔離方式個別地支撐於荷重承載結構(未顯示)上。
應明白，可使用任何所要數量的光學元件。例如，在本具體實施例中，可提供包含八個光學元件的光學元件群組306。此外，在本具體實施例中，如圖8高度示意性所示，在第一及第二計量支撐子結構312.1及312.2之間的分割係致使其在高度方向(z軸)上彼此上下設置，而在第二及第三計量支撐子結構312.2及312.11之間的分割係致使其在水平平面(xy平面)上設置相鄰(在實質上相同的高度水平處)。此外，應明白，在本發明的其他具體實施例中，可選取任何所要數量之計量支撐子結構的任何其他分割。
應瞭解，使用本具體實施例的微影設備301，可獲得在所有 相關自由度(通常在x方向及y方向中)在1nm以下的視線精確度。
【第四具體實施例】
下文中，將參考圖9說明根據本發明之光學成像配置401的第四較佳具體實施例，可用該光學成像配置執行根據本發明之方法的較佳具體實施例。光學成像配置401在其基本設計及功能性上大體上對應於光學成像配置101，使得在此主要論及其差異。尤其，同樣的組件已給定同樣的參考符號，且相似的組件給定加上數值300的相同參考數字。除非下文提出明確有所區別的陳述，否則明確參考上文在關於這些組件之第二具體實施例的背景中提出的解說。
光學成像配置401及光學成像配置101之間的主要差異在於投影系統計量支撐結構的分割設計有所區別，由於第一及第二光學元件子群組406.7及406.8之稍微不同的配置而選擇該分割設計。更準確地說，第一光學元件子群組406.7的反射鏡M3向上移位(在z方向中)以(比如圖2中所示的第一具體實施例)設置明顯較接近反射鏡M2及M4，而反射鏡M1及M6向下移位(在z方向中)以(比如圖2中所示的第一具體實施例)設置明顯較接近反射鏡M5。因此，在第一及第二光學元件子群組406.7及406.8之間形成較大的本質上空隙區。
如圖9中所見，投影系統計量支撐結構412被分割成三個子結構，即第一計量支撐子結構412.1、第二計量支撐子結構412.2、及第三計量支撐子結構412.11。第三計量支撐子結構412.11設置在第一計量支撐子結構412.1及第二計量支撐子結構412.2之間，以橋接其間的間隙或空隙區。
因此，如同第一具體實施例，第一計量支撐子結構412.1攜載：與第一光學元件子群組406.7相關聯的第一計量裝置子群組410.7，以及決定第一計量支撐子結構412.1及第三計量支撐子結構412.11之間在所有六個自由度之相對定位及定向(以上文在第一具體實施例的背景中針對參考計 量單元110.9所說明的相同方式)的第一參考計量裝置410.9。
此外，以類似於第一具體實施例的方式，第三計量支撐子結構412.11攜載另一參考計量單元410.14，其決定第二計量支撐子結構412.2及第三計量支撐子結構412.11之間在所有六個自由度的相對定位及定向(以上文在第一具體實施例的背景中針對參考計量單元110.9所說明的相同方式)。作為替代選項，第二計量支撐子結構412.2可攜載另一參考計量裝置410.14。
最後，亦類似於第一具體實施例，第二計量支撐子結構412.2攜載與第二光學元件子群組406.8相關聯的第二計量裝置子群組410.8。
因此，第三計量支撐子結構412.11不具有與任何光學元件相關聯的計量裝置子群組，而是僅用作橫跨在第一計量支撐子結構412.1及第二計量支撐子結構412.2之間的間隙或空隙區的輕量及高度剛性橋接單元。
應明白，此處同樣可使用任何所要數量的光學元件。例如，在本具體實施例中，亦可提供包含八個光學元件的光學元件群組。此外，應明白，在本發明的其他具體實施例中，可選取任何所要數量之計量支撐子結構的任何其他分割。
應瞭解，使用本具體實施例的微影設備401，可獲得在所有相關自由度(通常在x方向及y方向中)在1nm以下的視線精確度。
雖然在前文中已說明本發明的具體實施例，其中光學元件獨為反射元件，但應瞭解，在本發明的其他具體實施例中，光學元件單元的光學元件可使用反射、折射或繞射元件或其任何組合。
此外，應瞭解，雖然本發明在上文中主要在微影的背景中進行說明，但本發明亦可用在任何其他類型通常需要較高的成像精確度之光學成像製程的背景中。尤其，本發明可用在任何其他類型以不同波長操作之光學成像製程的背景中。

Claims (77)

  1. 一種光學成像配置，包含：- 一光學投影系統；及- 一支撐結構系統；- 該光學投影系統包含一光學元件群組，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上；- 該支撐結構系統包含一光學元件支撐結構及一計量支撐結構；- 該光學元件支撐結構及該計量支撐結構經組態以一動力平行的方式個別地支撐於一承載結構上；- 該光學元件支撐結構支撐該光學元件群組；- 該計量支撐結構支撐一計量裝置群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的一定位及一定向其中至少一個的狀態資訊；- 該光學元件群組包含一第一光學元件子群組及一第二光學元件子群組；- 該計量裝置群組包含與該第一光學元件子群組相關聯的一第一計量裝置子群組及與該第二光學元件子群組相關聯的一第二計量裝置子群組；- 該計量支撐結構包含一第一計量支撐子結構及一第二計量支撐子結構；- 該第一計量支撐子結構支撐該第一計量裝置子群組；- 該第二計量支撐子結構支撐該第二計量裝置子群組；- 該第一計量支撐子結構、及該第二計量支撐子結構個別地支撐於該支撐結構系統的一荷重承載結構上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學成像配置，其中以下至少一者成立：- 該第一計量支撐子結構經由一第一振動隔離裝置支撐於該荷重承載結構上；及- 該等二計量支撐子結構經由一第二振動隔離裝置支撐於該荷重承載結構上。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之光學成像配置，其中- 該第一振動隔離裝置及該第二振動隔離裝置中的至少一個具有在一振動隔離諧振頻率範圍中的一振動隔離諧振頻率；- 該振動隔離諧振頻率範圍選自一振動隔離諧振頻率範圍群組；- 該振動隔離諧振頻率範圍群組由0.5Hz至8.0Hz之一範圍、1.0Hz至6.0Hz之一範圍、及2.0Hz至5.0Hz之一範圍組成。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該第一計量支撐子結構具有複數個第一荷重承載介面裝置；- 該等第一荷重承載介面裝置經組態以在支撐該第一計量支撐子結構於該荷重承載結構上時，引入支撐力於該第一計量支撐子結構中；- 該等第一荷重承載介面裝置定義一第一荷重承載介面平面；- 該第一荷重承載介面平面設置至少接近該第一計量支撐子結構的一質量重心。
  5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該第二計量支撐子結構具有複數個第二荷重承載介面裝置；- 該等第二荷重承載介面裝置經組態以在支撐該第二計量支撐子結構於該荷重承載結構上時，引入支撐力於該第二計量支撐子結構中；- 該等第二荷重承載介面裝置定義一第二荷重承載介面平面；- 該第二荷重承載介面平面設置至少接近該第二計量支撐子結構的一質量重心。
  6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該計量裝置群組包含至少一個參考計量裝置；- 該至少一個參考計量裝置經組態以擷取參考計量資訊；- 該參考計量資訊代表在該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之光學成像配置，其中- 該至少一個參考計量裝置包含一第一參考計量單元及一第二參考計量單元，其等經組態以在至少一個自由度中於提供該參考計量資訊中協作；- 該第一參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構；- 該第二參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之光學成像配置，其中- 該至少一個參考計量裝置包含一第一相對參考計量單元、一第二相對參考計量單元、一第三相對參考計量單元及一第四相對參考計量單元，其等經組態以在至少一個自由度中於提供該參考計量資訊中協作；- 該第一相對參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構，該第二相對參考計量單元連接至一參考單元；- 該第一相對參考計量單元經組態以與該第二相對參考計量單元協作，以提供代表在該第一計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一第一相對參考定位及一第一相對參考定向其中至少一個的第一相對參考計量資訊；- 該第三相對參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構，該第四相對參考計量單元連接至該參考單元；- 該第三相對參考計量單元經組態以與該第四相對參考計量單元協作，以提供代表在該第二計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一第二相對參考定位及一第二相對參考定向其中至少一個的第二相對參考計量資訊；- 該至少一個參考計量裝置經組態以從該第一相對參考計量資訊及該第二相對參考計量資訊導出該參考計量資訊。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之光學成像配置，其中以下至少一者成立：- 該參考單元選自一參考單元群組，該參考單元群組由該光學成像配置在該計量支撐結構外部之一組件、該等光學元件之一者、該等光學元件當中具有最大質量之一者、及所支撐之該等光學元件當中展示最大慣性之一者所組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在一距離處，該距離為該參考單元之一最大尺寸之一分率(fraction)，該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由0%至20%、0%至10%及0%至5%組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在選自一距離群組的一距離處，該距離群組由0mm至80mm、0mm至50mm及0mm至20mm組成。
  10. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該等計量支撐子結構中的至少一個包含一核心結構及自該核心結構突出的至少一個支撐臂；- 該計量裝置群組包含一計量單元，在機械上連接至該支撐臂的一自由端。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之光學成像配置，其中- 該核心結構具有一最大核心結構尺寸，及- 該至少一個支撐臂具有一最大臂尺寸；- 該最大臂尺寸僅為該最大核心結構尺寸之一分率；- 該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由5%至150%、20%至120%及30%至100%組成。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之光學成像配置，其中- 該計量單元與一相關聯計量單元相關聯；- 該相關聯計量單元連接至該光學成像配置之選自一組件群組的一組件；- 該組件群組由該等光學元件之一者、一參考結構及該等計量支撐子結構之另一者組成。
  13. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該計量裝置群組包含一第三計量裝置子群組，其尤其與該光學元件群組之一第三光學元件子群組相關聯，及- 該計量支撐結構包含一第三計量支撐子結構；- 該第三計量支撐子結構支撐該第三計量裝置子群組；- 其中以下至少一者成立：提供一參考計量裝置，及該第三計量支撐子結構個別地支撐於該支撐結構系統的該荷重承載結構上；- 該至少一個參考計量裝置經組態以擷取進一步參考計量資訊，該進一步參考計量資訊代表在該第三計量支撐子結構及該第一計量支撐子結構與該第二計量支撐子結構兩者之一者之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。
  14. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該計量支撐結構定義一組三個正交方向；- 該計量支撐結構在選自該三個正交方向的一最大尺寸方向中，具有其在該三個正交方向中其尺寸當中的最大尺寸；- 該計量支撐結構被分割以形成該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構，致使該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構在該最大尺寸方向中設置相鄰。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之光學成像配置，其中- 該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構中的至少一個在該最大尺寸方向中，具有一尺寸，其僅為其在該三個正交方向之至少另一者中之尺寸之一分率；- 該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由20%至80%、30%至70%及40%至60%組成。
  16. 如申請專利範圍第14項所述之光學成像配置，其中- 該計量支撐結構定義一高度方向、一寬度方向及一深度方向；- 該最大尺寸方向為該高度方向。
  17. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該等計量支撐子結構中的至少一個由選自一材料群組的一材料製成；- 該材料群組由鋼、鋁(Al)、鈦(Ti)、一鐵鎳合金、一鎢合金、一陶瓷材料、矽熔滲碳化矽(SiSiC)、碳化矽(SiC)、矽(Si)、碳纖維強化碳化矽(C/CSiC)、氧化鋁(Al2O3)、Zerodur®、ULE®玻璃、石英、及堇青石組成。
  18. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之光學成像配置，其中以下至少一者成立：- 提供一控制單元，其經組態以使用該狀態資訊控制該光學成像配置的一主動組件；及- 其經組態藉由使用在一UV範圍中、尤其在一EUV範圍中之一曝光光波長之曝光光而用於微影中；及- 該曝光光波長介於5nm至20nm；及- 該光學元件群組的該等光學元件係反射光學元件。
  19. 一種支撐一光學成像配置之一計量系統的方法，該光學成像配置包含具有一光學元件群組的一光學投影系統，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上，該方法包含- 以一動力平行的方式個別地支撐一計量裝置群組與該光學元件群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的一定位及一定向其中至少一個的狀態資訊；- 支撐該計量裝置群組的步驟包含個別地藉由一第一計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第一計量裝置子群組於一荷重承載結構上，及藉由一第二計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第二計量裝置子群組於該荷重承載結構上；- 該第一計量裝置子群組與該光學元件群組的一第一光學元件子群組相關聯，及該第二計量裝置子群組與該光學元件群組的一第二光學元件子群組相關聯。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之方法，- 其中該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構中的至少一個以一振動隔離方式在一振動隔離頻率下支撐於該荷重承載結構上；- 該振動隔離諧振頻率範圍選自一振動隔離諧振頻率範圍群組；- 該振動隔離諧振頻率範圍群組由0.5Hz至8.0Hz之一範圍、1.0Hz至6.0Hz之一範圍、及2.0Hz至5.0Hz之一範圍組成。
  21. 如申請專利範圍第19或20項所述之方法，其中以下至少一者成立：- 經由複數個第一荷重承載介面裝置引入支撐力於該第一計量支撐子結構中；該等第一荷重承載介面裝置定義一第一荷重承載介面平面；該第一荷重承載介面平面設置至少接近該第一計量支撐子結構的一質量重心；及- 經由複數個第二荷重承載介面裝置引入支撐力於該第二計量支撐子結構中；該等第二荷重承載介面裝置定義一第二荷重承載介面平面；該第二荷重承載介面平面設置至少接近該第二計量支撐子結構的一質量重心。
  22. 如申請專利範圍第19至20項中任一項所述之方法，其中- 經由該計量裝置群組的至少一個參考計量裝置擷取參考計量資訊；- 該參考計量資訊代表在該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中- 使用與該至少一個參考計量裝置之一第二參考計量單元協作的一第一參考計量單元，提供在至少一個自由度的該參考計量資訊；- 該第一參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構；- 該第二參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構。
  24. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中- 使用一第一相對參考計量單元、一第二相對參考計量單元、一第三相對參考計量單元及一第四相對參考計量單元，提供在至少一個自由度的該參考計量資訊；- 該第一相對參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構並與連接至一參考單元的該第二相對參考計量單元協作，以提供代表在該第一計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中之一第一相對參考定位及一第一相對參考定向其中至少一個的第一相對參考計量資訊；- 該第三相對參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構並與連接至該參考單元的該第四相對參考計量單元協作，以提供代表在該第二計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中之一第二相對參考定位及一第二相對參考定向其中至少一個的第二相對參考計量資訊；- 該參考計量資訊從該第一相對參考計量資訊及該第二相對參考計量資訊導出。
  25. 如申請專利範圍第24項所述之方法，其中以下至少一者成立：- 該參考單元選自一參考單元群組，該參考單元群組由該光學成像配置在該計量支撐結構外部之一組件、該等光學元件之一者、該等光學元件當中具有最大質量之一者、及所支撐之該等光學元件當中展示最大慣性之一者所組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在一距離處，該距離為該參考單元之一最大尺寸之一分率，該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由0%至20%、0%至10%及0%至5%組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在選自一距離群組的一距離處，該距離群組由0mm至80mm、0mm至50mm及0mm至20mm組成。
  26. 如申請專利範圍第19至20項中任一項所述之方法，其中- 經由一第三計量支撐子結構支撐該計量裝置群組的一第三計量裝置子群組，其尤其與該光學元件群組之一第三光學元件子群組相關聯；- 其中以下至少一者成立：該第三計量支撐子結構個別地支撐於該荷重承載結構上並且進一步參考計量資訊被擷取；- 該進一步參考計量資訊代表在該第三計量支撐子結構及該第一計量支撐子結構與該第二計量支撐子結構兩者之一者之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。
  27. 一種光學成像配置，包含：- 一光學投影系統；及- 一支撐結構系統；- 該光學投影系統包含一光學元件群組，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上；- 該支撐結構系統包含一光學元件支撐結構及一計量支撐結構；- 該光學元件支撐結構支撐該光學元件群組；- 該計量支撐結構支撐一計量裝置群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的一定位及一定向其中至少一個的狀態資訊；- 該光學元件群組包含一第一光學元件子群組及一第二光學元件子群組；- 該計量裝置群組包含與該第一光學元件子群組相關聯的一第一計量裝置子群組及與該第二光學元件子群組相關聯的一第二計量裝置子群組；- 該計量支撐結構包含一第一計量支撐子結構及一第二計量支撐子結構；- 該第一計量支撐子結構支撐該第一計量裝置子群組於一荷重承載結構上；- 該第二計量支撐子結構支撐該第二計量裝置子群組於該荷重承載結構上；- 該計量裝置群組包含經組態以擷取參考計量資訊的至少一個參考計量裝置；- 該參考計量資訊代表在該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。
  28. 如申請專利範圍第27項所述之光學成像配置，其中- 該至少一個參考計量裝置包含一第一參考計量單元及一第二參考計量單元，其等經組態以在至少一個自由度中於提供該參考計量資訊中協作；- 該第一參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構；- 該第二參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構。
  29. 如申請專利範圍第27或28項所述之光學成像配置，其中- 該至少一個參考計量裝置包含一第一相對參考計量單元、一第二相對參考計量單元、一第三相對參考計量單元及一第四相對參考計量單元，其等經組態以在至少一個自由度中於提供該參考計量資訊中協作；- 該第一相對參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構，該第二相對參考計量單元連接至一參考單元；- 該第一相對參考計量單元經組態以與該第二相對參考計量單元協作，以提供代表在該第一計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一第一相對參考定位及一第一相對參考定向其中至少一個的第一相對參考計量資訊；- 該第三相對參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構，該第四相對參考計量單元連接至該參考單元；- 該第三相對參考計量單元經組態以與該第四相對參考計量單元協作，以提供代表在該第二計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一第二相對參考定位及一第二相對參考定向其中至少一個的第二相對參考計量資訊；- 該至少一個參考計量裝置經組態以從該第一相對參考計量資訊及該第二相對參考計量資訊導出該參考計量資訊。
  30. 如申請專利範圍第29項所述之光學成像配置，其中以下至少一者成立：- 該參考單元選自一參考單元群組，該參考單元群組由該光學成像配置在該計量支撐結構外部之一組件、該等光學元件之一者、該等光學元件當中具有最大質量之一者、及所支撐之該等光學元件當中展示最大慣性之一者所組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在一距離處，該距離為該參考單元之一最大尺寸之一分率，該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由0%至20%、0%至10%及0%至5%組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在選自一距離群組的一距離處，該距離群組由0mm至80mm、0mm至50mm及0mm至20mm組成。
  31. 如申請專利範圍第27至28項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐結構個別地支撐於該支撐結構系統的一荷重承載結構上；- 該第一計量支撐子結構尤其經由一第一振動隔離裝置支撐於該荷重承載結構上；及- 該第二計量支撐子結構尤其經由一第二振動隔離裝置支撐於該荷重承載結構上。
  32. 如申請專利範圍第31項所述之光學成像配置，其中- 該第一振動隔離裝置及該第二振動隔離裝置中的至少一個具有在一振動隔離諧振頻率範圍中的一振動隔離諧振頻率；- 該振動隔離諧振頻率範圍選自一振動隔離諧振頻率範圍群組；- 該振動隔離諧振頻率範圍群組由0.5Hz至8.0Hz之一範圍、1.0Hz至6.0Hz之一範圍、及2.0Hz至5.0Hz之一範圍組成。
  33. 如申請專利範圍第27至28項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該第一計量支撐子結構具有複數個第一荷重承載介面裝置；- 該等第一荷重承載介面裝置經組態以在支撐該第一計量支撐子結構於該荷重承載結構上時，引入支撐力於該第一計量支撐子結構中；- 該等第一荷重承載介面裝置定義一第一荷重承載介面平面；- 該第一荷重承載介面平面設置至少接近該第一計量支撐子結構的一質量重心。
  34. 如申請專利範圍第27至28項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該第二計量支撐子結構具有複數個第二荷重承載介面裝置；- 該等第二荷重承載介面裝置經組態以在支撐該第二計量支撐子結構於該荷重承載結構上時，引入支撐力於該第二計量支撐子結構中；- 該等第二荷重承載介面裝置定義一第二荷重承載介面平面；- 該第二荷重承載介面平面設置至少接近該第二計量支撐子結構的一質量重心。
  35. 如申請專利範圍第27至28項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該等計量支撐子結構中的至少一個包含一核心結構及自該核心結構突出的至少一個支撐臂；- 該計量裝置群組包含一計量單元在機械上連接至該支撐臂的一自由端。
  36. 如申請專利範圍第35項所述之光學成像配置，其中- 該核心結構具有一最大核心結構尺寸，及- 該至少一個支撐臂具有一最大臂尺寸；- 該最大臂尺寸僅為該最大核心結構尺寸之一分率；- 該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由5%至150%、20%至120%及30%至100%組成。
  37. 如申請專利範圍第35項所述之光學成像配置，其中- 該計量單元與一相關聯計量單元相關聯；- 該相關聯計量單元連接至該光學成像配置之選自一組件群組的一組件；- 該組件群組由該等光學元件之一者、一參考結構及該等計量支撐子結構之另一者組成。
  38. 如申請專利範圍第27至28項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該計量裝置群組包含一第三計量裝置子群組，其尤其與該光學元件群組之一第三光學元件子群組相關聯，及- 該計量支撐結構包含一第三計量支撐子結構；- 該第三計量支撐子結構支撐該第三計量裝置子群組；- 該至少一個參考計量裝置經組態以擷取進一步參考計量資訊，該進一步參考計量資訊代表在該第三計量支撐子結構及該第一計量支撐子結構與該第二計量支撐子結構兩者之一者之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個；- 該第三計量支撐子結構尤其個別地支撐於該支撐結構系統的該荷重承載結構上。
  39. 如申請專利範圍第27至28項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該計量支撐結構定義一組三個正交方向；- 該計量支撐結構在選自該三個正交方向的一最大尺寸方向中，具有其在該三個正交方向中其尺寸當中的最大尺寸；- 該計量支撐結構被分割以形成該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構，致使該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構在該最大尺寸方向中設置相鄰。
  40. 如申請專利範圍第39項所述之光學成像配置，其中- 該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構中的至少一個在該最大尺寸方向中，具有一尺寸，其僅為其在該三個正交方向之至少另一者中之尺寸之一分率；- 該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由20%至80%、30%至70%及40%至60%組成。
  41. 如申請專利範圍第39項所述之光學成像配置，其中- 該計量支撐結構定義一高度方向、一寬度方向及一深度方向；- 該最大尺寸方向為該高度方向。
  42. 如申請專利範圍第27至28項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該等計量支撐子結構中的至少一個由選自一材料群組的一材料製成；- 該材料群組由鋼、鋁(Al)、鈦(Ti)、一鐵鎳合金、一鎢合金、一陶瓷材料、矽熔滲碳化矽(SiSiC)、碳化矽(SiC)、矽(Si)、碳纖維強化碳化矽(C/CSiC)、氧化鋁(Al2O3)、Zerodur®、ULE®玻璃、石英、及堇青石組成。
  43. 如申請專利範圍第27至28項中任一項所述之光學成像配置，其中以下至少一者成立：- 提供一控制單元，該控制單元經組態以使用該狀態資訊控制該光學成像配置的一主動組件；及- 其經組態藉由使用在一UV範圍中、尤其在一EUV範圍中之一曝光光波長之曝光光而用於微影中；及- 該曝光光波長介於5nm至20nm；及- 該光學元件群組的該等光學元件係反射光學元件。
  44. 一種使用一計量系統決定一光學成像配置之一光學元件群組之狀態資訊的方法，該光學成像配置包含具有該光學元件群組的一光學投影系統，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上，該方法包含- 個別地支撐一計量裝置群組與該光學元件群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的一定位及一定向其中至少一個的狀態資訊；- 支撐該計量裝置群組的步驟包含藉由一第一計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第一計量裝置子群組於一荷重承載結構上，及藉由一第二計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第二計量裝置子群組於該荷重承載結構上；- 該第一計量裝置子群組與該光學元件群組的一第一光學元件子群組相關聯，及該第二計量裝置子群組與該光學元件群組的一第二光學元件子群組相關聯；- 經由該計量裝置群組的至少一個參考計量裝置擷取參考計量資訊，該參考計量資訊代表在該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個；及- 使用該參考計量資訊、及該計量裝置群組提供的進一步計量資訊決定該狀態資訊。
  45. 如申請專利範圍第44項所述之方法，其中- 使用與該至少一個參考計量裝置之一第二參考計量單元協作的一第一參考計量單元，提供在至少一個自由度的該參考計量資訊；- 該第一參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構；- 該第二參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構。
  46. 如申請專利範圍第44或45項所述之方法，其中- 使用一第一相對參考計量單元、一第二相對參考計量單元、一第三相對參考計量單元及一第四相對參考計量單元，提供在至少一個自由度的該參考計量資訊；- 該第一相對參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構並與連接至一參考單元的該第二相對參考計量單元協作，以提供代表在該第一計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中之一第一相對參考定位及一第一相對參考定向其中至少一個的第一相對參考計量資訊；- 該第三相對參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構並與連接至該參考單元的該第四相對參考計量單元協作，以提供代表在該第二計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中之一第二相對參考定位及一第二相對參考定向其中至少一個的第二相對參考計量資訊；- 該參考計量資訊從該第一相對參考計量資訊及該第二相對參考計量資訊導出。
  47. 如申請專利範圍第46項所述之方法，其中以下至少一者成立：- 該參考單元選自一參考單元群組，該參考單元群組由該光學成像配置在該計量支撐結構外部之一組件、該等光學元件之一者、該等光學元件當中具有最大質量之一者、及所支撐之該等光學元件當中展示最大慣性之一者所組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在一距離處，該距離為該參考單元之一最大尺寸之一分率，該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由0%至20%、0%至10%及0%至5%組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在選自一距離群組的一距離處，該距離群組由0mm至80mm、0mm至50mm及0mm至20mm組成；- 支撐該計量裝置群組的步驟包含個別地藉由一第一計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第一計量裝置子群組於一荷重承載結構上，及藉由一第二計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第二計量裝置子群組於該荷重承載結構上。
  48. 如申請專利範圍第47項所述之方法，- 其中該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構中的至少一個以一振動隔離方式在一振動隔離頻率下支撐於該荷重承載結構上；- 該振動隔離諧振頻率範圍選自一振動隔離諧振頻率範圍群組；- 該振動隔離諧振頻率範圍群組由0.5Hz至8.0Hz之一範圍、1.0Hz至6.0Hz之一範圍、及2.0Hz至5.0Hz之一範圍組成。
  49. 如申請專利範圍第47項所述之方法，其中以下至少一者成立：- 經由複數個第一荷重承載介面裝置引入支撐力於該第一計量支撐子結構中；該等第一荷重承載介面裝置定義一第一荷重承載介面平面；該第一荷重承載介面平面設置至少接近該第一計量支撐子結構的一質量重心；及- 經由複數個第二荷重承載介面裝置引入支撐力於該第二計量支撐子結構中；該等第二荷重承載介面裝置定義一第二荷重承載介面平面；該第二荷重承載介面平面設置至少接近該第二計量支撐子結構的一質量重心。
  50. 如申請專利範圍第44至45項中任一項所述之方法，其中- 經由一第三計量支撐子結構支撐該計量裝置群組的一第三計量裝置子群組，其尤其與該光學元件群組之一第三光學元件子群組相關聯；- 其中以下至少一者成立：該第三計量支撐子結構個別地支撐於該荷重承載結構上並且進一步參考計量資訊被擷取；- 該進一步參考計量資訊代表在該第三計量支撐子結構及該第一計量支撐子結構與該第二計量支撐子結構兩者之一者之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個；- 使用該進一步參考計量資訊決定該狀態資訊。
  51. 一種光學成像方法，包含：- 使用包含一光學元件群組的一光學成像配置在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上，其中，- 在該曝光製程期間，使用一如申請專利範圍第44至50項中任一項所述之方法，使用該光學元件群組的狀態資訊，控制該光學成像配置的一主動組件。
  52. 一種光學成像配置，包含：- 一光學投影系統；及- 一支撐結構系統；- 該光學投影系統包含一光學元件群組，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上；- 該支撐結構系統包含一光學元件支撐結構及一計量支撐結構；- 該光學元件支撐結構支撐該光學元件群組；- 該計量支撐結構支撐一計量裝置群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的一定位及一定向其中至少一個的狀態資訊；- 該光學元件群組包含一第一光學元件子群組及一第二光學元件子群組；- 該計量裝置群組包含與該第一光學元件子群組相關聯的一第一計量裝置子群組及與該第二光學元件子群組相關聯的一第二計量裝置子群組；- 該計量支撐結構包含一第一計量支撐子結構及一第二計量支撐子結構；- 該第一計量支撐子結構支撐該第一計量裝置子群組；- 該第二計量支撐子結構支撐該第二計量裝置子群組；- 該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐結構個別地支撐於該支撐結構系統的一荷重承載結構上；- 該第一計量支撐子結構經由一第一振動隔離裝置支撐於該荷重承載結構上，及/或該第二計量支撐子結構經由一第二振動隔離裝置支撐於該荷重承載結構上。
  53. 如申請專利範圍第52項所述之光學成像配置，其中以下至少一者成立：- 該光學元件支撐結構及該計量支撐結構經組態以一動力平行的方式個別地支撐於一承載結構上。
  54. 如申請專利範圍第52或53項所述之光學成像配置，其中- 該第一振動隔離裝置及該第二振動隔離裝置中的至少一個具有在一振動隔離諧振頻率範圍中的一振動隔離諧振頻率；- 該振動隔離諧振頻率範圍選自一振動隔離諧振頻率範圍群組；- 該振動隔離諧振頻率範圍群組由0.5Hz至8.0Hz之一範圍、1.0Hz至6.0Hz之一範圍、及2.0Hz至5.0Hz之一範圍組成。
  55. 如申請專利範圍第52至53項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該第一計量支撐子結構具有複數個第一荷重承載介面裝置；- 該等第一荷重承載介面裝置經組態以在支撐該第一計量支撐子結構於該荷重承載結構上時，引入支撐力於該第一計量支撐子結構中；- 該等第一荷重承載介面裝置定義一第一荷重承載介面平面；- 該第一荷重承載介面平面設置至少接近該第一計量支撐子結構的一質量重心。
  56. 如申請專利範圍第52至53項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該第二計量支撐子結構具有複數個第二荷重承載介面裝置；- 該等第二荷重承載介面裝置經組態以在支撐該第二計量支撐子結構於該荷重承載結構上時，引入支撐力於該第二計量支撐子結構中；- 該等第二荷重承載介面裝置定義一第二荷重承載介面平面；- 該第二荷重承載介面平面設置至少接近該第二計量支撐子結構的一質量重心。
  57. 如申請專利範圍第52至53項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該計量裝置群組包含至少一個參考計量裝置；- 該至少一個參考計量裝置經組態以擷取參考計量資訊；- 該參考計量資訊代表在該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。
  58. 如申請專利範圍第57項所述之光學成像配置，其中- 該至少一個參考計量裝置包含一第一參考計量單元及一第二參考計量單元，其等經組態以在至少一個自由度中於提供該參考計量資訊中協作；- 該第一參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構；- 該第二參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構。
  59. 如申請專利範圍第57項所述之光學成像配置，其中- 該至少一個參考計量裝置包含一第一相對參考計量單元、一第二相對參考計量單元、一第三相對參考計量單元及一第四相對參考計量單元，其等經組態以在至少一個自由度中於提供該參考計量資訊中協作；- 該第一相對參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構，該第二相對參考計量單元連接至一參考單元；- 該第一相對參考計量單元經組態以與該第二相對參考計量單元協作，以提供代表在該第一計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一第一相對參考定位及一第一相對參考定向其中至少一個的第一相對參考計量資訊；- 該第三相對參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構，該第四相對參考計量單元連接至該參考單元；- 該第三相對參考計量單元經組態以與該第四相對參考計量單元協作，以提供代表在該第二計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一第二相對參考定位及一第二相對參考定向其中至少一個的第二相對參考計量資訊；- 該至少一個參考計量裝置經組態以從該第一相對參考計量資訊及該第二相對參考計量資訊導出該參考計量資訊。
  60. 如申請專利範圍第59項所述之光學成像配置，其中以下至少一者成立：- 該參考單元選自一參考單元群組，該參考單元群組由該光學成像配置在該計量支撐結構外部之一組件、該等光學元件之一者、該該等光學元件當中具有最大質量之一者、及所支撐之該等光學元件當中展示最大慣性之一者組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在一距離處，該距離為該參考單元之一最大尺寸之一分率，該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由0%至20%、0%至10%及0%至5%組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在選自一距離群組的一距離處，該距離群組由0mm至80mm、0mm至50mm及0mm至20mm組成。
  61. 如申請專利範圍第52至53項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該等計量支撐子結構中的至少一個包含一核心結構及自該核心結構突出的至少一個支撐臂；- 該計量裝置群組包含一計量單元在機械上連接至該支撐臂的一自由端。
  62. 如申請專利範圍第61項所述之光學成像配置，其中- 該核心結構具有一最大核心結構尺寸，及- 該至少一個支撐臂具有一最大臂尺寸；- 該最大臂尺寸僅為該最大核心結構尺寸之一分率；- 該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由5%至150%、20%至120%及30%至100%組成。
  63. 如申請專利範圍第61項所述之光學成像配置，其中- 該計量單元與一相關聯計量單元相關聯；- 該相關聯計量單元連接至該光學成像配置之選自一組件群組的一組件；- 該組件群組由該等光學元件之一者、一參考結構及該等計量支撐子結構之另一者組成。
  64. 如申請專利範圍第52至53項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該計量裝置群組包含一第三計量裝置子群組，其尤其與該光學元件群組之一第三光學元件子群組相關聯，及- 該計量支撐結構包含一第三計量支撐子結構；- 該第三計量支撐子結構支撐該第三計量裝置子群組；- 其中以下至少一者成立：提供一參考計量裝置，及該第三計量支撐子結構個別地支撐於該支撐結構系統的該荷重承載結構上；- 該至少一個參考計量裝置經組態以擷取進一步參考計量資訊，該進一步參考計量資訊代表在該第三計量支撐子結構及該第一計量支撐子結構與該第二計量支撐子結構兩者之一者之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。
  65. 如申請專利範圍第52至53項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該計量支撐結構定義一組三個正交方向；- 該計量支撐結構在選自該三個正交方向的一最大尺寸方向中，具有其在該三個正交方向中其尺寸當中的最大尺寸；- 該計量支撐結構被分割以形成該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構，致使該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構在該最大尺寸方向中設置相鄰。
  66. 如申請專利範圍第65項所述之光學成像配置，其中- 該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構中的至少一個在該最大尺寸方向中，具有一尺寸，其僅為其在該三個正交方向之至少另一者中之尺寸之一分率；- 該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由20%至80%、30%至70%及40%至60%組成。
  67. 如申請專利範圍第65項所述之光學成像配置，其中- 該計量支撐結構定義一高度方向、一寬度方向及一深度方向；- 該最大尺寸方向為該高度方向。
  68. 如申請專利範圍第52至53項中任一項所述之光學成像配置，其中- 該等計量支撐子結構中的至少一個由選自一材料群組的一材料製成；- 該材料群組由鋼、鋁(Al)、鈦(Ti)、一鐵鎳合金、一鎢合金、一陶瓷材料、矽熔滲碳化矽(SiSiC)、碳化矽(SiC)、矽(Si)、碳纖維強化碳化矽(C/CSiC)、氧化鋁(Al2O3)、Zerodur®、ULE®玻璃、石英、及堇青石組成。
  69. 如申請專利範圍第52至53項中任一項所述之光學成像配置，其中以下至少一者成立：- 提供一控制單元，其經組態以使用該狀態資訊控制該光學成像配置的一主動組件；及- 其經組態藉由使用在一UV範圍中、尤其在一EUV範圍中之一曝光光波長之曝光光而用於微影中；及- 該曝光光波長介於5nm至20nm；及- 該光學元件群組的該等光學元件係反射光學元件。
  70. 一種支撐一光學成像配置之一計量系統的方法，該光學成像配置包含具有一光學元件群組的一光學投影系統，該光學元件群組經組態以在一曝光製程中使用曝光光沿著一曝光光路徑，將一遮罩的一圖案的一影像轉印至一基板上，該方法包含- 個別地支撐一計量裝置群組與該光學元件群組，該計量裝置群組與該光學元件群組相關聯並經組態以擷取代表該等光學元件之各者在至少一個自由度至所有六個自由度中的一定位及一定向其中至少一個的狀態資訊；- 支撐該計量裝置群組的步驟包含個別地藉由一第一計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第一計量裝置子群組於一荷重承載結構上，及藉由一第二計量支撐子結構支撐該計量裝置群組之一第二計量裝置子群組於該荷重承載結構上；- 該第一計量裝置子群組與該光學元件群組的一第一光學元件子群組相關聯，及該第二計量裝置子群組與該光學元件群組的一第二光學元件子群組相關聯；- 該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構中的至少一個以一振動隔離方式在一振動隔離頻率下支撐於該荷重承載結構上；- 該振動隔離諧振頻率範圍尤其選自一振動隔離諧振頻率範圍群組，該振動隔離諧振頻率範圍群組由0.5Hz至8.0Hz之一範圍、1.0Hz至6.0Hz之一範圍、及2.0Hz至5.0Hz之一範圍組成。
  71. 如申請專利範圍第70項所述之方法，其中- 支撐該計量裝置群組的步驟包含以一動力平行的方式個別地支撐該計量裝置群組與該光學元件群組。
  72. 如申請專利範圍第70至71項中任一項所述之方法，其中以下至少一者- 經由複數個第一荷重承載介面裝置引入支撐力於該第一計量支撐子結構中；該等第一荷重承載介面裝置定義一第一荷重承載介面平面；該第一荷重承載介面平面設置至少接近該第一計量支撐子結構的一質量重心；及- 經由複數個第二荷重承載介面裝置引入支撐力於該第二計量支撐子結構中；該等第二荷重承載介面裝置定義一第二荷重承載介面平面；該第二荷重承載介面平面設置至少接近該第二計量支撐子結構的一質量重心。
  73. 如申請專利範圍第70至71項中任一項所述之方法，其中- 經由該計量裝置群組的至少一個參考計量裝置擷取參考計量資訊；- 該參考計量資訊代表在該第一計量支撐子結構及該第二計量支撐子結構之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。
  74. 如申請專利範圍第73項所述之方法，其中- 使用與該至少一個參考計量裝置之一第二參考計量單元協作的一第一參考計量單元，提供在至少一個自由度的該參考計量資訊；- 該第一參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構；- 該第二參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構。
  75. 如申請專利範圍第73項所述之方法，其中- 使用一第一相對參考計量單元、一第二相對參考計量單元、一第三相對參考計量單元及一第四相對參考計量單元，提供在至少一個自由度的該參考計量資訊；- 該第一相對參考計量單元連接至該第一計量支撐子結構並與連接至一參考單元的該第二相對參考計量單元協作，以提供代表在該第一計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中之一第一相對參考定位及一第一相對參考定向其中至少一個的第一相對參考計量資訊；- 該第三相對參考計量單元連接至該第二計量支撐子結構並與連接至該參考單元的該第四相對參考計量單元協作，以提供代表在該第二計量支撐子結構及該參考單元之間在至少一個自由度至所有六個自由度中之一第二相對參考定位及一第二相對參考定向其中至少一個的第二相對參考計量資訊；- 該參考計量資訊從該第一相對參考計量資訊及該第二相對參考計量資訊導出。
  76. 如申請專利範圍第75項所述之方法，其中以下至少一者成立：- 該參考單元選自一參考單元群組，該參考單元群組由該光學成像配置在該計量支撐結構外部之一組件、該等光學元件之一者、該等光學元件當中具有最大質量之一者、及所支撐之該等光學元件當中展示最大價性之一者所組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在一距離處，該距離為該參考單元之一最大尺寸之一分率，該分率選自一分率範圍群組，該分率範圍群組由0%至20%、0%至10%及0%至5%組成；及- 該第四相對參考計量單元及該第二相對參考計量單元設置在選自一距離群組的一距離處，該距離群組由0mm至80mm、0mm至50mm及0mm至20mm組成。
  77. 如申請專利範圍第70至71項中任一項所述之方法，其中- 經由一第三計量支撐子結構支撐該計量裝置群組的一第三計量裝置子群組，其尤其與該光學元件群組之一第三光學元件子群組相關聯；- 其中以下至少一者成立：該第三計量支撐子結構個別地支撐於該荷重承載結構上並且進一步參考計量資訊被擷取；- 該進一步參考計量資訊代表在該第三計量支撐子結構及該第一計量支撐子結構與該第二計量支撐子結構兩者之一者之間在至少一個自由度至所有六個自由度中的一參考定位及一參考定向其中至少一個。
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